JPH07158856A - 加熱調理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 調理室内に良質の蒸気を安定して供給できる
加熱調理装置を提供すること。 【構成】 調理室１の底壁１ａを熱放射面として構成
し、底壁１ａに水又は温水を霧状に噴霧する噴霧ノズル
１０を設けてあるので、底壁１ａに噴霧ノズル１０から
水又は温水を霧状に噴霧することにより、水の液体微粒
子を該底壁１ａに接触させて瞬時に気化させ調理室１内
で良質の蒸気を直接発生することができ、蒸気発生を瞬
時に行えるため蒸気供給を連続的に且つ安定して行え
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被調理品に解凍，蒸し
等の調理を行う加熱調理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の加熱調理装置を開示する
ものとして特開平１−３１４８１５号公報が知られてい
る。

【０００３】同公報に開示された装置は、箱型の調理室
と、調理室の上下内面に形成された赤外線放射層と、調
理室の上下外面に置かれた面ヒータと、調理室内の中央
部に配置された食品載置用の容器と、調理室内に水蒸気
を供給するヒータ内蔵のボイラとから構成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来装置では、
ボイラで生成した水蒸気を管路を通じて調理室内に供給
する構造にあるため、ボイラから調理室に至る過程で蒸
気が凝縮し易く、調理室内に良質の蒸気を安定して供給
することが難しい問題点があり、調理室内での蒸気分布
に偏りができて解凍，蒸し等の仕上がり状態が悪化し易
い問題点がある。

【０００５】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、調理室内に良質の蒸気を
安定して供給できる加熱調理装置を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、調理室の壁面一部を熱放射面と
して構成された加熱調理装置において、上記発熱部に蒸
気用液体を霧状に噴霧する少なくとも１つの液体噴霧機
を設けたことを特徴としている。

【０００７】請求項２の発明は、請求項１記載の加熱調
理装置において、熱放射面を調理室の底壁で構成し、ま
た液体噴霧機を該底壁に鋭角をもって対向配置したこと
を特徴としている。

【０００８】請求項３の発明は、請求項１又は２記載の
加熱調理装置において、液体噴霧機からの噴霧形状を円
錐状としたことを特徴としている。

【０００９】請求項４の発明は、請求項１乃至３何れか
１項記載の加熱調理装置において、調理室内にヒータを
配置したことを特徴としている。

【００１０】請求項５の発明は、請求項１乃至４何れか
１項記載の加熱調理装置熱放射面を加熱する手段として
電磁誘導加熱器を用いたことを特徴としている。

【００１１】請求項６の発明は、請求項１乃至５記載何
れか１項記載の加熱調理装置において、調理室の壁面に
開閉可能な排気口を設けたことを特徴としている。

【００１２】請求項７の発明は、請求項１乃至６何れか
１項記載の加熱調理装置において、調理室内に空気対流
を発生させる対流手段を設けたことを特徴としている。

【００１３】請求項８の発明は、請求項１乃至６記載の
加熱調理装置において、調理室内に外気を導入しこれを
調理室を通じて外部に排気する外気導入・排気手段を設
けたことを特徴としている。

【００１４】

【作用】請求項１の発明では、調理室の壁面一部に設け
られた熱放射面に液体噴霧機から蒸気用液体を霧状に噴
霧することにより、液体微粒子を熱放射面に接触させて
気化し調理室内で直接蒸気を発生できる。また、蒸気用
液体を霧状に噴霧しているので液体微粒子を熱放射面に
均等に接触させて蒸気発生を瞬時に行える。

【００１５】請求項２の発明では、熱放射面が調理室の
底壁で構成されているので噴霧液体を無駄なく気化で
き、液垂れ等を生じることがない。他の作用は請求項１
の発明と同様である。

【００１６】請求項３の発明では、噴霧形状を円錐状と
することで液体微粒子をより広い範囲で均等に熱放射面
に接触できる。他の作用は請求項１又は２の発明と同様
である。

【００１７】請求項４の発明では、ヒータ熱を利用して
蒸気を飽和域から過熱域に変えることができる。他の作
用は請求項１乃至３の発明と同様である。

【００１８】請求項５の発明では、電磁誘導により熱放
射面のみを的確に加熱できる。他の作用は請求項１乃至
４の発明と同様である。

【００１９】請求項６の発明では、排気口の開閉により
調理室内の圧力を変化させ蒸気発生量をコントロールで
きる。他の作用は請求項１乃至５の発明と同様である。

【００２０】請求項７の発明では、調理室内に空気対流
を発生させることで、蒸気発生を促進させ、且つ調理室
内の蒸気分布等を均一化できる。他の作用は請求項１乃
至６と同様である。

【００２１】請求項８の発明では、調理室内に外気を導
入しこれを排気することで、請求項７の発明と同様の空
気対流を得ることができ、また調理室内の臭気等を外部
に排出できる。他の作用は請求項１乃至６の発明と同様
である。

【００２２】

【実施例】図１には本発明の第１実施例に係る加熱調理
装置の断面概略図を示してある。同図において、１は方
形状の調理室であり、底壁１ａ以外の壁面１ｂを非磁性
のステンレス等の良伝熱材から形成され、また底壁１ａ
を鉄，ニッケル等の磁性材または磁性を持つステンレス
等から形成されている。

【００２３】２は電磁誘導コイル、３はその電源ユニッ
トであり、電磁誘導コイル２は調理室１の底壁１ａの下
面中央に接合配置されている。本実施例ではこの電磁誘
導コイル２及び電源ユニット３により電磁誘導加熱器が
構成され、また電磁誘導コイル２と接する底壁１ａで熱
放射面が構成されている。

【００２４】４は底面を開口した方形状のカバー体であ
り、調理室１，電磁誘導コイル２及び電源ユニット３を
被覆している。

【００２５】５は調理室１及びカバー体４の壁面に貫通
形成された排気口であり、該排気口５の外側には手動開
閉可能な扉５ａが設けられている。

【００２６】６は調理室１内に配置されたサーミスタ等
から成る室内温度検知用の温度センサ、７は調理室１内
の略中央に外部から取出自在に配置された調理台、８は
調理室１の中央上部に配置された遠赤外線等の加熱ヒー
タ、９は反射板である。調理台７は蒸気の流通を考慮し
パンチングメタルや金網等から形成してある。

【００２７】１０は水又は温水を霧状に噴霧する噴霧ノ
ズルであり、調理室１及びカバー体４の壁面に斜め下向
き、詳しくは底壁１ａに対し鋭角（図示例では約２５
度）をもって対向配置されている。図２にも示すように
この噴霧ノズル１０による噴霧形状は円錐状で、底壁１
ａに対する噴霧エリアＺは電磁誘導コイル２と重層する
範囲内でほぼ楕円形となる。

【００２８】１１は噴霧ノズル１０の下流側に接続され
たヒータ内蔵の加熱器、１２は加熱器１１の下流側に接
続された電磁弁、１３は電磁弁１２の下流側に接続され
た圧力ポンプ、１４は圧力ポンプ１３の下流側に接続さ
れた浄水器である。浄水器１４の下流側には水道の蛇口
や貯水タンク等が接続され、圧力ポンプ１３の作動によ
り水が供給され内部のフィルタ及び吸着材等により水の
浄化が図られる。

【００２９】図３には上記装置の電気系回路図を示して
ある。同図において、２１はマイクロコンピュータ構成
のコントローラ、２２は電磁誘導コイル２への給電を制
御する駆動回路、２３は加熱ヒータ８への給電を制御す
る駆動回路、２４は加熱器１１内のヒータ２５への給電
を制御する駆動回路、２６は電磁弁１２への給電を制御
する駆動回路、２７は圧力ポンプ１３への給電を制御す
る駆動回路である。また、２８は運転スイッチ、２９は
運転モード選択器、３０は運転時間設定器、６は先に述
べた温度センサである。

【００３０】コントローラ２１はＣＰＵ，ＲＡＭ及びＲ
ＯＭ等を具備しており、後述する調理制御のプログラム
をＲＯＭに格納している。また、上記の各駆動回路２
２，２３，２４，２６，２７はコントローラ２１からの
制御信号に基づいて夫々作動制御される。

【００３１】次に、図４乃至図６を参照して本実施例装
置の動作を説明する。本実施例の加熱調理装置は主に解
凍調理，蒸し調理及び解凍・加熱調理を可能としてお
り、各調理モードを運転モード選択器２９にて任意に選
択できるようになっている。

【００３２】同装置における解凍調理は、調理台７に被
調理品を入れ、被調理品に見合った解凍時間を運転時間
設定器３０で設定した後、運転スイッチ２８を投入する
ことにより実施される。

【００３３】図４に示すように、運転スイッチ投入後は
電磁誘導コイル２への給電が開始され、同時に電磁弁１
２が開き且つ圧力ポンプ１３が作動する（図４のステッ
プｓ１〜ｓ３）。

【００３４】これにより、電磁誘導コイル２からの磁束
が磁性材から成る底壁１ａを通過してその内部に渦電流
が発生し、磁性材自体の固有抵抗に基づくジュール熱が
該底壁１ａで発生して、その熱が調理室１の他の壁面１
ｂに伝わる。また、噴霧ノズル１０から底壁１ａに向か
って水が霧状に噴霧され、これが加熱状態の底壁１ａに
接すると同時に気化して調理室１内に蒸気が満たされ、
調理台７上の被調理品が該蒸気よって解凍調理される。

【００３５】ちなみに、上記の発熱量及び噴霧量は電磁
誘導コイル２の給電値及び圧力ポンプ１３の通電間隔を
変化させることで適宜調整される。また、噴霧ノズル１
０に送り込まれる水を加熱器１１で予め熱しておけば、
上記の蒸気発生をより瞬時に行うことができる。

【００３６】運転当初に設定された時間が経過すると、
電磁誘導コイル２への給電が停止し、且つ電磁弁１２が
閉じられて圧力ポンプ１３が停止し、解凍調理が完了す
る（図４のステップｓ４，ｓ５）。調理後は調理台７を
調理室１から抜き出し被調理品を取り出せばよい。

【００３７】また、同装置における蒸し調理は、調理台
７に被調理品を入れ、被調理品に見合った蒸し時間を運
転時間設定器３０で設定した後、運転スイッチ２８を投
入することにより実施される。

【００３８】図５に示すように、運転スイッチ投入後は
電磁誘導コイル２への給電と加熱ヒータｓ２への給電が
開始され、同時に電磁弁１２が開き且つ圧力ポンプ１３
が作動する（図５のステップｓ１〜ｓ４）。

【００３９】これにより、電磁誘導コイル２からの磁束
が磁性材から成る底壁１ａを通過してその内部に渦電流
が発生し、磁性材自体の固有抵抗に基づくジュール熱が
該底壁１ａで発生して、その熱が調理室１の他の壁面１
ｂに伝わると共に、加熱ヒータ８により調理室１内が加
温される。また、噴霧ノズル１０から底壁１ａに向かっ
て水が霧状に噴霧され、これが加熱状態の底壁１ａに接
すると同時に気化して調理室１内に蒸気が満たされると
共に該蒸気がヒータ熱により飽和域から過熱域に変化
し、調理台７上の被調理品が該過熱蒸気（解凍時よりも
温度が高い蒸気）よって蒸し調理される。

【００４０】ちなみに、上記の発熱量及び噴霧量は電磁
誘導コイル２，加熱ヒータ８の給電値及び圧力ポンプ１
３の通電間隔を変化させることで適宜調整される。ま
た、蒸し調理時の調理室１内の温度、即ち過熱蒸気の温
度は温度センサ６により検知され、これが電磁誘導コイ
ル２及び加熱ヒータ８のオンオフ作動或いは能力調整に
フィードバックされ所定温度に管理される。また、熱放
射面の面温度を検知する温度センサを設け、その温度検
知に基づき上記電磁弁１２を開閉制御することにより噴
霧量を制御したり、或いは上記電磁誘導コイル２及び加
熱ヒータ８の加熱量を制御することによっても調理室１
内温度及び蒸気発生量を調整することが可能となる。更
に、噴霧ノズル１０に送り込まれる水を加熱器１１で予
め熱しておけば、上記の蒸気発生をより瞬時に行うこと
ができる。

【００４１】運転当初に設定された時間が経過すると、
電磁誘導コイル２及び加熱ヒータ８への給電が停止し、
且つ電磁弁１２が閉じられて圧力ポンプ１３が停止し、
蒸し調理が完了する（図５のステップｓ４，ｓ５）。調
理後は調理台７を調理室１から抜き出し被調理品を取り
出せばよい。

【００４２】更に、同装置における解凍・加熱調理は、
調理台７に被調理品を入れ、被調理品に見合った解凍・
加熱時間を運転時間設定器３０で設定した後、運転スイ
ッチ２８を投入することにより実施される。

【００４３】図６に示すように、運転スイッチ投入後は
電磁誘導コイル２への給電が開始され、同時に電磁弁１
２が開き且つ圧力ポンプ１３が作動する（図６のステッ
プｓ１〜ｓ３）。

【００４４】これにより、電磁誘導コイル２からの磁束
が磁性材から成る底壁１ａを通過してその内部に渦電流
が発生し、磁性材自体の固有抵抗に基づくジュール熱が
該底壁１ａで発生して、その熱が調理室１の他の壁面１
ｂに伝わる。また、噴霧ノズル１０から底壁１ａに向か
って水が霧状に噴霧され、これが加熱状態の底壁１ａに
接すると同時に気化して調理室１内に蒸気が満たされ、
調理台７上の被調理品が該蒸気よって解凍調理される。

【００４５】ちなみに、上記の発熱量及び噴霧量は電磁
誘導コイル２の給電値及び圧力ポンプ１３の通電間隔を
変化させることで適宜調整される。また、噴霧ノズル１
０に送り込まれる水を加熱器１１で予め熱しておけば、
上記の蒸気発生をより瞬時に行うことができる。

【００４６】解凍調理に要する時間が経過すると電磁誘
導コイル２への給電が停止し、且つ電磁弁１２が閉じら
れて圧力ポンプ１３が停止し、続いて加熱ヒータｓ２へ
の給電が開始される（図６のステップｓ４〜ｓ６）。

【００４７】これにより、調理台７上にある解凍後の被
調理品が加熱ヒータ８の放射熱によって加熱調理され、
該被調理品に焼き目等が付けられる。ちなみに、加熱調
理時の調理室１内の温度は温度センサ６により検知さ
れ、これが加熱ヒータ８のオンオフ作動或いは能力調整
にフィードバックされ所定温度に管理される。

【００４８】加熱調理に要する時間が経過すると、加熱
ヒータ８への給電が停止し、解凍・加熱調理が完了する
（図６のステップｓ７，ｓ８）。調理後は調理台７を調
理室１から抜き出し被調理品を取り出せばよい。

【００４９】このように本実施例装置では、調理室１の
底壁１ａのみを電磁誘導によって発熱させこれに噴霧ノ
ズル１０から水を霧状に噴霧しているので、水微粒子を
底壁１ａとの接触させて気化し調理室１内で直接蒸気を
発生できる。

【００５０】また、水を霧状に、しかも円錐状に噴霧し
ているので、水の微粒子を底壁１ａに広い範囲で均等に
接触させて蒸気発生を瞬時に行うことができ、連続的且
つ安定した蒸気供給が可能が行える。

【００５１】更に、噴霧ノズル１０に送り込まれる水を
加熱器１１で予め熱しておけば、気化に要する熱エネル
ギーを低減し、蒸気発生をより一層瞬時に行って良質の
蒸気を得ることができる。

【００５２】更にまた、排気口５の扉５ａを開放するこ
とにより、蒸気発生時の調理室１内の圧力を低減させて
蒸気発生を促進することもできる。

【００５３】更にまた、底壁１ａの発熱量及び水又は温
水の噴霧量を調整することで、蒸気発生量は勿論のこ
と、蒸気の質をもコントロールできる利点がある。

【００５４】図７には本発明の第２実施例に係る加熱調
理装置の概略断面図を示してある。本実施例は、噴霧ノ
ズル取付位置の上方に給気口１５を形成し、該給気口１
５に送風機１６を取り付けると共に、送風機１６により
導入された外気を底壁１ａの一側に導くダクト１７を設
け、排気口を給気口１５と対向する面に移行させたもの
である。他の構成は第１実施例と同様であるため同一符
号を用いその説明を省略する。

【００５５】本実施例装置では、排気口５ａの扉５ａを
開けた状態で送風機１５を作動させることにより、外部
から導入した空気をダクト１７によって調理室１の下部
に導き、これを調理室１を通じて排気口５から外部に排
気することができる。

【００５６】つまり、蒸気発生時に送風機１６を作動さ
せれば、調理室１内で発生する対流により蒸気発生を促
進させ、且つ調理室１内の蒸気分布を均一化することが
でき、調理の仕上がり状態を向上させることができる。
また、調理室１内に篭もった臭気を排気口５を通じて外
部に排出することができる利点もある。送風機１６によ
る外気導入はあくまでも空気対流にあるため送風量は小
さなものでよい。

【００５７】また、空気対流のみを目的とする場合には
必ずしも外気を導入する必要はなく、この場合には給気
口１５を排除して同様の送風機又はモータ駆動の撹拌羽
根等を調理室１内に配置、或いは調理室１内の一側に出
入口を有する仕切板を設け該仕切板の内側に送風機を配
置して内部空気の対流を行うようにするとよい。

【００５８】図８には本発明の第３実施例に係る加熱調
理装置の部分概略図を示してある。本実施例装置は、ダ
クト１７の上下位置に２つの噴霧ノズル１０を配置した
もので、上側の噴霧ノズル１０の傾斜角度は下側のもの
よりも大きく、共に底壁１ａの同一箇所に水又は温水を
霧状に噴霧できるようになっている。ちなみに両噴霧ノ
ズル１０には各々専用の加熱器と電磁弁と圧力ポンプが
接続されている。他の構成は第２実施例と同様であるた
め同一符号を用いその説明を省略する。

【００５９】本実施例装置では、使用する噴霧ノズル１
０の本数によって底壁１ａに対する噴霧量、即ち蒸気発
生量をコントロールできる利点がある。噴霧ノズル１０
の数は３以上であってもよく、使用するノズル数に応じ
て底壁１ａの発熱量を設定すれば気化不良等を生じる虞
れもない。

【００６０】図９には本発明の第４実施例に係る加熱調
理装置の部分概略図を示してある。本実施例装置は、底
壁１ａの両側上方に２つの噴霧ノズル１０を対称に配置
したもので、共に底壁１ａの同一箇所に水又は温水を霧
状に噴霧できるようになっている。ちなみに両噴霧ノズ
ル１０には各々専用の加熱器と電磁弁と圧力ポンプが接
続されている。他の構成は第２実施例と同様であるため
同一符号を用いその説明を省略する。得られる作用，効
果は第３実施例と同様である。

【００６１】ここで、上述した各実施例装置の他の使用
方法について図１０を参照して説明する。

【００６２】解凍を除く蒸し調理，解凍・加熱調理等で
は調理完了直後は調理室１内の温度が高いため、続いて
解凍等の低温調理を行う場合には調理室１内の温度が下
がるまで同調理を待機する必要がある。

【００６３】先に述べた水又は温水にはそれ相当の気化
熱を要するので、調理室１内の温度ｔが設定温度ｔｓよ
りも高いときに電磁弁１２を開き且つ圧力ポンプ１３を
作動させれば（図１０のステップｓ１〜ｓ３）、噴霧さ
れた水又は温水の気化作用により調理室１内の温度を簡
単に且つ短時間で降下させることができる。調理室１の
温度が所定の設定温度ｔｓまで降下したところで電磁弁
１２を閉じ且つ圧力ポンプ１３を停止させれば（図１０
のステップｓ４〜ｓ６）、続けて他の調理を続行でき温
度降下に要した時間を有効利用できる。

【００６４】この降温処理は専用のボタンを設けて該ボ
タン操作に基づいて実施させるようにする他、複数の調
理を記憶できるタイプのものであれば調理間で必要に応
じて実施させることも可能である。また、第３，第４実
施例のように複数の噴霧ノズル１０を有するタイプのも
のであれば、上記の降温処理をより短時間で実行でき
る。

【００６５】以上、各実施例では調理室の底壁を熱放射
面として構成したものを示したが、該熱放射面は底壁以
外の側壁や上壁等で構成されていてもよく、噴霧ノズル
の向きをこれに合わせれば同様の蒸気発生を行える。ま
た、図１１に示すように調理室１の側壁下部外面に第２
の電磁誘導コイル２′を接合配置し、同壁部分を第２の
熱放射面としてこれに底壁部分と同時に噴霧ノズル１０
から水又は温水を噴霧するようにしてもよい。更に、熱
放射面を加熱する手段として電磁誘導加熱器を示した
が、該加熱手段は面状ヒータ等の他の熱源で代用しても
よい。

【００６６】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１の発明で
は、調理室の壁面一部で構成された熱放射面に液体噴霧
機から蒸気用液体を霧状に噴霧することにより、液体微
粒子を該熱照射面に接触させて瞬時に気化させ、調理室
内で良質の蒸気を直接発生することができ、蒸気発生を
瞬時に行えるため蒸気供給を連続的に且つ安定して行え
る利点がある。

【００６７】請求項２の発明によれば、熱放射面が調理
室の底壁で構成されているので液垂れ等を生じることな
く噴霧液体を無駄なく気化でき、気化不良を防止して蒸
気発生を効率よく行える利点がある。他の効果は請求項
１の発明と同様である。

【００６８】請求項３の発明によれば、噴霧形状を円錐
状とすることで液体微粒子をより広い範囲で均等に熱放
射面に接触させ、蒸気発生効率を高められる利点があ
る。他の効果は請求項１又は２の発明と同様である。

【００６９】請求項４の発明によれば、ヒータ熱を利用
して蒸気を飽和域から過熱域に変えることができ、被調
理品の種類に応じて蒸気の質をコントロールできる利点
がある。他の効果は請求項１乃至３の発明と同様であ
る。

【００７０】請求項５の発明によれば、電磁誘導により
熱放射面のみを的確に加熱できるので、蒸気発生が確実
であり、ランニングコストの低減にも貢献できる利点が
ある。他の効果は請求項１乃至４の発明と同様である。

【００７１】請求項６の発明によれば、排気口の開閉に
より調理室内の圧力を変化させることで蒸気発生量を簡
単にコントロールできる利点がある。他の効果は請求項
１乃至５の発明と同様である。

【００７２】請求項７の発明によれば、調理室内に空気
対流を発生させることで、蒸気発生を促進させ、且つ調
理室内の蒸気分布等を均一化して、調理の仕上がり状態
を向上できる利点がある。他の効果は請求項１乃至６と
同様である。

【００７３】請求項８の発明では、調理室内に外気を導
入しこれを排気することで、請求項７の発明と同様の作
用を得ることができ、また調理室内の臭気等を外部に排
出して次調理への影響を排除できる利点がある。他の効
果は請求項１乃至６の発明と同様である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る加熱調理装置の概略
断面図

【図２】噴霧形状及び噴霧エリアを示す図

【図３】電気系回路図

【図４】解凍調理のフローチャート

【図５】蒸し調理のフローチャート

【図６】解凍・加熱調理のフローチャート

【図７】本発明の第２実施例に係る加熱調理装置の概略
断面図

【図８】本発明の第３実施例に係る加熱調理装置の部分
概略図

【図９】本発明の第４実施例に係る加熱調理装置の部分
概略図

【図１０】降温処理のフローチャート

【図１１】熱放射面の他の例を示す加熱調理装置の部分
概略図

【符号の説明】

１…調理室、１ａ…底壁、２，２′…電磁誘導コイル、
５…排気口、８…加熱ヒータ、１０…噴霧ノズル、１３
…圧力ポンプ、２１…コントローラ、１５…給気口、１
６…送風機。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 調理室の壁面一部を熱放射面として構成
   された加熱調理装置において、 上記熱放射面に蒸気用液体を霧状に噴霧する少なくとも
   １つの液体噴霧機を設けた、 ことを特徴とする加熱調理装置。
2. 【請求項２】 熱放射面を調理室の底壁で構成し、また
   液体噴霧機を該底壁に鋭角をもって対向配置した、 ことを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置。
3. 【請求項３】 液体噴霧機からの噴霧形状を円錐状とし
   た、 ことを特徴とする請求項１又は２記載の加熱調理装置。
4. 【請求項４】 調理室内にヒータを配置した、 ことを特徴とする請求項１乃至３何れか１項記載の加熱
   調理装置。
5. 【請求項５】 熱放射面を加熱する手段として電磁誘導
   加熱器を用いた、 ことを特徴とする請求項１乃至４何れか１項記載の加熱
   調理装置。
6. 【請求項６】 調理室の壁面に開閉可能な排気口を設け
   た、 ことを特徴とする請求項１乃至５記載何れか１項記載の
   加熱調理装置。
7. 【請求項７】 調理室内に空気対流を発生させる対流手
   段を設けた、 ことを特徴とする請求項１乃至６何れか１項記載の加熱
   調理装置。
8. 【請求項８】 調理室内に外気を導入しこれを調理室を
   通じて外部に排気する外気導入・排気手段を設けた、 ことを特徴とする請求項１乃至６記載の加熱調理装置。