JPH07147255A - ガスクーラ - Google Patents
ガスクーラInfo
- Publication number
- JPH07147255A JPH07147255A JP5295435A JP29543593A JPH07147255A JP H07147255 A JPH07147255 A JP H07147255A JP 5295435 A JP5295435 A JP 5295435A JP 29543593 A JP29543593 A JP 29543593A JP H07147255 A JPH07147255 A JP H07147255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- gas cooler
- main body
- fixed
- quartz
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F21/00—Constructions of heat-exchange apparatus characterised by the selection of particular materials
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F9/00—Casings; Header boxes; Auxiliary supports for elements; Auxiliary members within casings
- F28F9/007—Auxiliary supports for elements
- F28F9/013—Auxiliary supports for elements for tubes or tube-assemblies
- F28F9/0131—Auxiliary supports for elements for tubes or tube-assemblies formed by plates
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28D—HEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
- F28D21/00—Heat-exchange apparatus not covered by any of the groups F28D1/00 - F28D20/00
- F28D21/0001—Recuperative heat exchangers
- F28D21/0003—Recuperative heat exchangers the heat being recuperated from exhaust gases
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Drying Of Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 プロセス排気ガス中の水分、塩素ガス等でも
腐食することのないガスクーラを得る。 【構成】 ガスクーラ本体１に、これを冷却する流通経
路２を設け、ガスクーラ本体１内面に固定された障害支
え３ａに障害３を固定し、全体の材質を石英とする。
腐食することのないガスクーラを得る。 【構成】 ガスクーラ本体１に、これを冷却する流通経
路２を設け、ガスクーラ本体１内面に固定された障害支
え３ａに障害３を固定し、全体の材質を石英とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体製造装置の
拡散、酸化、加熱処理の際に反応炉内で加熱された気体
をある程度冷却してから装置の外に排気するためのガス
クーラに関するものである。
拡散、酸化、加熱処理の際に反応炉内で加熱された気体
をある程度冷却してから装置の外に排気するためのガス
クーラに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】特に半導体製造装置の１つである酸化装
置のパイロジェニック装置にガスクーラは多く用いられ
ている。パイロジェニック装置とは、水素と酸素を加
熱、燃焼化合することで水蒸気を発生させ、該水蒸気を
酸化装置内の反応室内に導入し、被処理物の１つである
半導体シリコンウェーハの表面にシリコン酸化膜を生成
するための装置である。
置のパイロジェニック装置にガスクーラは多く用いられ
ている。パイロジェニック装置とは、水素と酸素を加
熱、燃焼化合することで水蒸気を発生させ、該水蒸気を
酸化装置内の反応室内に導入し、被処理物の１つである
半導体シリコンウェーハの表面にシリコン酸化膜を生成
するための装置である。
【０００３】従来の半導体製造装置におけるガスクーラ
について説明する。図３（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ従来
のガスクーラの１例を示す縦断面図及びその左側面図で
ある。ガスクーラはパイロジェニック炉を有する拡散装
置において、生膜に使用したプロセスガスの排気を冷却
する際に使用される。あらかじめ、ガスクーラ本体１の
外側の側面に、水の流通経路２を設け、水を通してガス
クーラ本体１を冷却し、さらにガスクーラ内面は図３に
示す如く、本体１に障害３を固定し、プロセス排気ガス
導入部４から導入され、プロセス排気ガス排気部５より
排気される、排気ガスのガスクーラとの接触面積を大き
くし、排気ガスの冷却をより効果的に行う様にしたもの
である。
について説明する。図３（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ従来
のガスクーラの１例を示す縦断面図及びその左側面図で
ある。ガスクーラはパイロジェニック炉を有する拡散装
置において、生膜に使用したプロセスガスの排気を冷却
する際に使用される。あらかじめ、ガスクーラ本体１の
外側の側面に、水の流通経路２を設け、水を通してガス
クーラ本体１を冷却し、さらにガスクーラ内面は図３に
示す如く、本体１に障害３を固定し、プロセス排気ガス
導入部４から導入され、プロセス排気ガス排気部５より
排気される、排気ガスのガスクーラとの接触面積を大き
くし、排気ガスの冷却をより効果的に行う様にしたもの
である。
【０００４】ガスクーラは、材質が耐熱性のニッケル合
金で、図２に示す様な円筒形状で使用していた。プロセ
ス排気ガスをこのように効果的に冷却することにより、
半導体製造装置の外に排気された排気ガスは、危険性の
無い、取扱いが容易なものとなる。
金で、図２に示す様な円筒形状で使用していた。プロセ
ス排気ガスをこのように効果的に冷却することにより、
半導体製造装置の外に排気された排気ガスは、危険性の
無い、取扱いが容易なものとなる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例にあっては、冷却されたプロセス排気ガス中の水蒸
気は水分となり、さらに排気ガス中の塩酸と混合し、ガ
スクーラを構成するニッケル合金の本体材質を腐食する
ことがあり、この腐食により装置の清浄化に大きな悪影
響を及ぼし、清浄な雰囲気での処理ができないという課
題がある。
来例にあっては、冷却されたプロセス排気ガス中の水蒸
気は水分となり、さらに排気ガス中の塩酸と混合し、ガ
スクーラを構成するニッケル合金の本体材質を腐食する
ことがあり、この腐食により装置の清浄化に大きな悪影
響を及ぼし、清浄な雰囲気での処理ができないという課
題がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のガスクーラは、
プロセス排気ガス中の水分、塩素等で腐食するという従
来技術の課題を解決するために、図１に示すようにガス
クーラ本体１に、これを冷却する水の流通経路２を設
け、ガスクーラ本体１内面に固定された障害支え３ａに
障害３を固定し、全体の材質を石英とするものである。
プロセス排気ガス中の水分、塩素等で腐食するという従
来技術の課題を解決するために、図１に示すようにガス
クーラ本体１に、これを冷却する水の流通経路２を設
け、ガスクーラ本体１内面に固定された障害支え３ａに
障害３を固定し、全体の材質を石英とするものである。
【０００７】
【作 用】このように全体の材質を石英とすることによ
り腐食するおそれがなくなり、清浄な雰囲気での処理が
できることになる。
り腐食するおそれがなくなり、清浄な雰囲気での処理が
できることになる。
【０００８】
【実施例】図１（Ａ）は本発明のガスクーラの１実施例
を示す縦断面図、図１（Ｂ）はそのＢ矢視図、図１
（Ｃ）はそのＣ−Ｃ線矢視断面図、図１（Ｄ）はそのＤ
部詳細図、図１（Ｅ）はそのＥ部詳細図である。ガスク
ーラ本体１は水の流通経路２を有しており、障害３は障
害支え３ａに千鳥足状に固定されている。さらに、ガス
導入口４と、ガス排出口５に近い両端部の障害３は、ガ
スクーラ本体１に固定されている。ガスクーラ本体１
と、水の流通経路２と、障害３と、障害支え３ａはすべ
て石英を使用した構造となっている。図２は本実施例に
よるガスの流通の様子を示す説明図である。ガスはガス
導入口４より入り矢印で示す経路を通ってガス排出口５
から排出されるが、冷却されて排出されることになる。
を示す縦断面図、図１（Ｂ）はそのＢ矢視図、図１
（Ｃ）はそのＣ−Ｃ線矢視断面図、図１（Ｄ）はそのＤ
部詳細図、図１（Ｅ）はそのＥ部詳細図である。ガスク
ーラ本体１は水の流通経路２を有しており、障害３は障
害支え３ａに千鳥足状に固定されている。さらに、ガス
導入口４と、ガス排出口５に近い両端部の障害３は、ガ
スクーラ本体１に固定されている。ガスクーラ本体１
と、水の流通経路２と、障害３と、障害支え３ａはすべ
て石英を使用した構造となっている。図２は本実施例に
よるガスの流通の様子を示す説明図である。ガスはガス
導入口４より入り矢印で示す経路を通ってガス排出口５
から排出されるが、冷却されて排出されることになる。
【０００９】
【発明の効果】以上示すごとく、本発明によれば、従来
構造上石英等の腐食しない材料で作ることのできなかっ
た、ガスクーラを、ガスクーラ本体内部の障害が、該本
体に固定されなくても、該本体に固定された障害支えに
固定されて、従来と同等にガスの流通経路を作り出すこ
とができ、従って、暖められた酸化性のガスが本ガスク
ーラで冷却されても、本体等は石英等の腐食しない材質
で作られているため、腐食せず、清浄な雰囲気での処理
が可能となるものである。
構造上石英等の腐食しない材料で作ることのできなかっ
た、ガスクーラを、ガスクーラ本体内部の障害が、該本
体に固定されなくても、該本体に固定された障害支えに
固定されて、従来と同等にガスの流通経路を作り出すこ
とができ、従って、暖められた酸化性のガスが本ガスク
ーラで冷却されても、本体等は石英等の腐食しない材質
で作られているため、腐食せず、清浄な雰囲気での処理
が可能となるものである。
【図１】（Ａ）は本発明のガスクーラの１実施例を示す
縦断面図である。（Ｂ）はそのＢ矢視図、（Ｃ）はその
Ｃ−Ｃ線矢視断面図、（Ｄ）はそのＤ部詳細図、（Ｅ）
はそのＥ部詳細図である。
縦断面図である。（Ｂ）はそのＢ矢視図、（Ｃ）はその
Ｃ−Ｃ線矢視断面図、（Ｄ）はそのＤ部詳細図、（Ｅ）
はそのＥ部詳細図である。
【図２】本実施例によるガスの流通の様子を示す説明図
である。
である。
【図３】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ従来のガスクーラの
１例を示す縦断面図及びその左側面図である。
１例を示す縦断面図及びその左側面図である。
１ ガスクーラ本体 ２ 水の流通経路 ３ 障害 ３ａ 障害支え ４ ガス導入口 ５ ガス排出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 開発 秀樹 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 山本 哲夫 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 ガスクーラ本体に、これを冷却する流通
経路を設け、ガスクーラ本体内面に固定された障害支え
に障害を固定し、全体の材質を石英としたことを特徴と
するガスクーラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5295435A JPH07147255A (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | ガスクーラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5295435A JPH07147255A (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | ガスクーラ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07147255A true JPH07147255A (ja) | 1995-06-06 |
Family
ID=17820566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5295435A Pending JPH07147255A (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | ガスクーラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07147255A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013027724A (ja) * | 2005-02-23 | 2013-02-07 | Optinose As | 粉体配送装置 |
-
1993
- 1993-11-25 JP JP5295435A patent/JPH07147255A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013027724A (ja) * | 2005-02-23 | 2013-02-07 | Optinose As | 粉体配送装置 |
| US8899229B2 (en) | 2005-02-23 | 2014-12-02 | Optinose As | Powder delivery devices |
| US11571531B2 (en) | 2005-02-23 | 2023-02-07 | OptiNose Inc. | Powder delivery devices |
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