JPH0714643U - シリコンウエハー洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本考案は、シリコンウェハーの洗浄工程にて、
純水の溶存酸素を除去するようにした、シリコンウェハ
ーの洗浄装置を提供することを目的とする。 【構成】外部から供給される純水が貯えられるバッファ
タンク１３と、該バッファタンクの下方に配設され、純
水洗浄すべきシリコンウェハーが挿入され且つバッファ
タンク下部から純水が散布されるＱＤＲ槽１４とを含ん
でいる、シリコンウェハー洗浄装置１０において、バッ
ファタンク１４内に、超音波振動板１７と、Ｎ₂ガス発
泡管１８が配設されるように、シリコンウェハー洗浄装
置１０を構成する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、シリコンウェハー洗浄工程にて、ＨＦ処理後に、該シリコンウェハ ー全体を洗浄用純水で洗浄するための洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

一般に、ＩＣ等の半導体装置を製造する場合、シリコンウェハーの洗浄工程に おいて、シリコンウェハーの洗浄が行なわれる。

【０００３】 このシリコンウェハーの洗浄は、先づＨＦ処理によって、表面の酸化膜を除去 して、Ｓｉを露出させた後、該シリコンウェハー全体を純水により洗浄し、その 後スピンナーにより乾燥させるようにしている。

【０００４】 このようなシリコンウェハー洗浄装置としては、例えば図２に示すように構成 された、所謂ＱＤＲ（クイック・ダウン・リンス）方式の洗浄装置が知られてい る。即ち、図２において、ＱＤＲ洗浄装置１は、バルブ２ａを有する純水供給管 ２を介して純水が供給され、且つバルブ３ａを有するＮ₂供給管３からＮ₂ガスが 導入される、バッファタンク４と、該バッファタンク４の下方に配設されたＱＤ Ｒ槽５とから構成されている。

【０００５】 該ＱＤＲ槽５は、上縁の周囲にオーバーフロー用の排水溝５ａを備えていると 共に、底部に、バルブ６ａを介して、排水管６が接続されている。さらに、該排 水管６は、上記排水溝５ａにも接続されている。

【０００６】 このような構成の洗浄装置１によれば、まづ純水洗浄すべきシリコンウェハー （図示せず）をＱＤＲ槽５内に挿入すると共に、バルブ２ａを開放して、バッフ ァタンク４内に、純水を導入しておく。この状態から、バルブ３ａを開放して、 バッファタンク４内にＮ₂ガスを導入すると共に、バッファタンク４の下部に接 続された散水管４ａのバルブを開放する。これにより、バッファタンク４内の純 水は、Ｎ₂ガスの圧力によって、該散水管４ａから、ＱＤＲ槽５に対して、散布 されることになる。かくして、該ＱＤＲ槽５内に挿入されたシリコンウェハーの 純水洗浄が行なわれ得る。尚、バッファタンク４内には、純水供給管２を介して 、常に純水が満たされるようになっている。

【０００７】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、このようなシリコンウェハーの洗浄装置１においては、バッフ ァタンク４に導入される純水中には、溶存酸素が含まれている。このため、洗浄 すべきシリコンウェハーの表面が酸化してしまうことになる。従って、シリコン ウェハー表面に対してパターン形成を行なう際に、不良発生の原因になり、該シ リコンウェハーを使用して製造される半導体デバイスの特性劣化が生ずることに なる。かくして、製品歩留まりが低下してしまうという問題があった。

【０００８】 本考案は、以上の点に鑑み、シリコンウェハーの洗浄工程にて、純水の溶存酸 素を除去するようにした、シリコンウェハーの洗浄装置を提供することを目的と している。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

上記目的は、本考案によれば、外部から供給される純水が貯えられるバッファ タンクと、該バッファタンクの下方に配設され、純水洗浄すべきシリコンウェハ ーが挿入され且つバッファタンク下部から純水が散布されるＱＤＲ槽とを含んで いる、シリコンウェハー洗浄装置において、バッファタンク内に、超音波振動板 及び／またはＮ₂ガス発泡管が配設されていることを特徴とする、シリコンウェ ハー洗浄装置により、達成される。

【００１０】

【作用】

上記構成によれば、バッファタンク内に貯えられた純水が、超音波振動板によ る超音波発振と、Ｎ₂ガス発泡管によるＮ₂バブリングによって、溶存酸素が気化 することになる。これにより、バッファタンク下部から取り出されてＱＤＲ槽に 散布される純水は、溶存酸素が除去された状態になる。従って、ＱＤＲ槽内に挿 入されたシリコンウェハーは、溶存酸素が除去された純水によって洗浄され得る ことになる。かくして、シリコンウェハーの表面は、純水洗浄によって酸化して しまうようなことはなく、洗浄され得ることになる。

【００１１】

【実施例】

以下、図面に示した実施例に基づいて、本考案を詳細に説明する。 図１は、本考案によるシリコンウェハー洗浄装置の一実施例を示している。図 １において、シリコンウェハー洗浄装置１０は、バルブ１１ａを有する純水供給 管１１を介して純水が供給され、且つバルブ１２ａを有するＮ₂供給管１２から Ｎ２ ガスが導入される、バッファタンク１３と、該バッファタンク１３の下方 に配設されたＱＤＲ槽１４とから構成されている。

【００１２】 該ＱＤＲ槽１４は、上縁の周囲にオーバーフロー用の排水溝１４ａを備えてい ると共に、底部に、バルブ１５ａ，１６ａを介して、排水管１５，１６が接続さ れている。さらに、該排水管１５は、上記排水溝１４ａにも接続されている。

【００１３】 以上の構成は、図２に示した従来のシリコンウェハー洗浄装置１と同様の構成 であるが、本考案によるシリコンウェハー洗浄装置１０においては、さらに、バ ッファタンク１３内の底部付近に、超音波振動板１７とＮ₂ガス発泡管１８とが 配設されている。

【００１４】 この超音波振動板１７は、図示しない駆動回路によって駆動されることにより 、超音波発振を行なうようになっている。また、Ｎ₂ガス発泡管１８は、バルブ １８ａを介して、Ｎ₂ガス供給管１２に接続されている。

【００１５】 尚、好ましくは、ＱＤＲ槽１４も、その底部付近に、Ｎ₂ガス発泡管１９を備 えており、該Ｎ₂ガス発泡管１９は、同様にして、バルブ１９ａを介して、Ｎ₂ガ ス供給管１２に接続されている。

【００１６】 本考案実施例によるシリコンウェハー洗浄装置１０によれば、まず純水洗浄す べきシリコンウェハー（図示せず）をＱＤＲ槽１４内に挿入すると共に、バルブ １１ａを開放して、バッファタンク１３内に、純水を導入しておく。ここで、超 音波振動板１７を駆動して、バッファタンク１３内の純水を超音波発振させると 共に、バルブ１８ａを開放することにより、Ｎ₂ガス発泡管１８から、Ｎ₂ガスの 気泡をバッファタンク１３内に放出し、Ｎ₂バブリングを行なう。これにより、 バッファタンク１３内の純水中に含まれる溶存酸素は、気化して、Ｎ₂ガスと共 に、バッファタンク１３から排出される。

【００１７】 この状態から、バルブ１２ａを開放して、バッファタンク１３内にＮ₂ガスを 導入すると共に、バッファタンク１３の下部に接続された散水管１３ａのバルブ を開放する。これにより、バッファタンク１３内の純水は、Ｎ₂ガスの圧力によ って、該散水管１３ａから、ＱＤＲ槽１４に対して、散布されることになる。か くして、該ＱＤＲ槽１４内に挿入されたシリコンウェハーの純水洗浄が行なわれ 得る。尚、バッファタンク１３内には、純水供給管１１を介して、常に純水が満 たされるようになっている。

【００１８】 さらに、この実施例においては、ＱＤＲ槽１４内の洗浄に使用した純水は、一 部が、排水管１６を介して排水されると共に、他の一部が、排水管１５を介して 回収され、再利用され得るようになっている。このため、ＱＤＲ槽１４内の底部 付近にも、Ｎ₂ガス発泡管１９が備えられていて、ＱＤＲ槽１４内に溜った純水 に対して、Ｎ₂ガス発泡管１９からのＮ₂ガスの気泡によって、Ｎ₂バブリングが 行なわれ、溶存酸素が除去される。このようにして溶存酸素が除去された純水は 、排水管１５を介して回収され、再利用され得るようになっている。

【００１９】 尚、上述した実施例においては、バッファタンク１３内に、超音波振動板１７ 及びＮ₂ガス発泡管１８が備えられているが、該バッファタンク１３内の純水中 の溶存酸素を除去するためには、超音波振動板１７及びＮ₂ガス発泡管１８の何 れか一方だけでもよく、他方は省略され得る。

【００２０】

【考案の効果】

以上述べたように、本考案によれば、シリコンウェハーの洗浄工程にて、純水 の溶存酸素を除去するようにした、シリコンウェハーの洗浄装置が提供され得る ことになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案によるシリコンウェハー洗浄装置の一実
施例を示す概略図である。

【図２】従来のシリコンウェハー洗浄装置の一例を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０ シリコンウェハー洗浄装置 １１ 純水供給管 １２ Ｎ₂ガス供給管 １３ バッファタンク １４ ＱＤＲ槽 １５ 回収用排水管 １６ 排水管 １７ 超音波振動板 １８ Ｎ₂ガス発泡管 １９ Ｎ₂ガス発泡管

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 外部から供給される純水が貯えられるバ
   ッファタンクと、該バッファタンクの下方に配設され、
   純水洗浄すべきシリコンウェハーが挿入され且つバッフ
   ァタンク下部から純水が散布されるＱＤＲ槽とを含んで
   いる、シリコンウェハー洗浄装置において、 バッファタンクに、超音波振動板及び／またはＮ₂ガス
   発泡管が配設されていることを特徴とする、シリコンウ
   ェハー洗浄装置。