JPH0714589B2 - Lapping machine - Google Patents
Lapping machineInfo
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- JPH0714589B2 JPH0714589B2 JP3223472A JP22347291A JPH0714589B2 JP H0714589 B2 JPH0714589 B2 JP H0714589B2 JP 3223472 A JP3223472 A JP 3223472A JP 22347291 A JP22347291 A JP 22347291A JP H0714589 B2 JPH0714589 B2 JP H0714589B2
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- lapping
- disk
- pressure
- workpiece
- displacement
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、シリコン・ウエハ等を
鏡面研摩する際に用いられるラップ盤に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lapping machine used for mirror polishing a silicon wafer or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のラップ盤は、被加工物のウエハ等
を上、下ラップ円盤の間に配設された複数のキャリヤ内
に収納し、キャリヤを遊星機構により公転および自転を
させるとともに、上、下ラップ円盤を互いに反対方向に
回転させる、いわゆる4ウエィ強制駆動方式による共摺
りが行われる。この共摺りとともに上、下ラップ円盤と
被加工物との間にラップ剤が供給されることにより、被
加工物が研摩される。また、被加工物の研摩量を調整す
るため、通常は太陽ギヤの中心部上方にエアシリンダ等
からなる加圧装置が設置され、ラッピングの工程に応じ
て上ラップ円盤への加圧力が調整される。2. Description of the Related Art In a conventional lapping machine, wafers to be processed are housed in a plurality of carriers arranged between upper and lower lapping disks, and the carriers are revolved and rotated by a planetary mechanism. Co-sliding is performed by a so-called 4-way forced drive method in which the upper and lower lap disks are rotated in opposite directions. By supplying the lapping agent between the upper and lower lapping disks and the workpiece together with this co-sliding, the workpiece is polished. In addition, in order to adjust the amount of polishing of the work piece, a pressure device consisting of an air cylinder etc. is usually installed above the center of the sun gear, and the pressure applied to the upper lapping disk is adjusted according to the lapping process. It
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のラップ
盤は、加圧装置により、上、下ラップ円盤と被加工物と
の間の圧力を調整することができるものの、上、下ラッ
プ円盤全面を常時均一に加圧できるとは限らない。すな
わち、遊星として駆動されるキャリヤが円周軌道上に複
数個配置され、さらに各キャリヤの自転軸を中心にした
同心円上に被加工物を複数収納する構造であるため、各
被加工物は均一な圧力で加圧される必要がある。ところ
が、従来の加圧装置では、上ラップ円盤を太陽ギヤの中
心となる位置で球面軸受等を介して押下する構造である
から、各キャリヤを高精度で均一に加圧することが不可
能でもあり、また加圧が不均一となった場合にはそれを
修復することができない。In the conventional lapping disc described above, the pressure between the upper and lower lapping discs and the workpiece can be adjusted by the pressurizing device, but the upper and lower lapping discs are entirely covered. Cannot always be pressed uniformly. That is, since a plurality of carriers driven as planets are arranged on the circumferential orbit and a plurality of workpieces are housed in concentric circles centering on the rotation axis of each carrier, each workpiece is uniform. It is necessary to pressurize with various pressures. However, since the conventional pressurizing device has a structure in which the upper lap disc is pushed down at a position at the center of the sun gear via a spherical bearing or the like, it is not possible to pressurize each carrier uniformly with high accuracy. Moreover, if the pressure becomes uneven, it cannot be repaired.
【0004】特に、各キャリヤにセットされる研摩前の
被加工物の厚みに大きなばらつきがあると、厚い被加工
物のみに加圧力が集中してしまう。このように被加工物
への加圧力の調整が不十分であると、ラッピングされた
被加工物の平行度、平面度に悪影響をおよぼし、歩留り
が低下するという問題がある。本発明は上記問題点を解
決するためになされたもので、その目的とするところ
は、上、下ラップ円盤による被加工物各部への加圧を調
整可能にして高精度な研摩を可能にしたラップ円盤を提
供することにある。In particular, if there is a large variation in the thickness of the workpiece before polishing set on each carrier, the pressing force concentrates only on the thick workpiece. If the adjustment of the pressure applied to the work piece is insufficient as described above, the parallelism and flatness of the lapped work piece are adversely affected, and the yield decreases. The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to make it possible to adjust the pressure applied to each part of the workpiece by the upper and lower lap disks to enable highly accurate polishing. To provide a lap disc.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明は、上、下ラップ円盤間に被加工物を載
置し、上ラップ円盤を下方へ加圧しながら、上、下ラッ
プ円盤を相互に反対方向に回転駆動するラップ盤におい
て、上ラップ円盤上の複数箇所に設置され、上ラップ円
盤を下方に押圧するアクチュエータと、下ラップ円盤の
複数箇所に設置され、下ラップ円盤に加えられた圧力ま
たは/および圧力による下ラップ円盤の変位を検出する
センサと、センサの検出値から下ラップ円盤の圧力分布
を求める手段と、得られた圧力分布に基づき、被加工物
各部における圧力分布が均一となるように、前記各アク
チュエータの動作信号を生成する手段とを備えたことを
特徴とする。In order to achieve the above object, the first invention is to place a workpiece between the upper and lower lapping disks and press the upper lapping disk downward while In the lapping machine that drives the lower lapping disks to rotate in opposite directions, actuators that are installed at multiple points on the upper lapping disk, press the upper lapping disk downward, and are installed at multiple points on the lower lapping disk. A sensor that detects the pressure applied to the disk and / or the displacement of the lower lap disk due to the pressure, a means for obtaining the pressure distribution of the lower lap disk from the detection value of the sensor, and each part of the workpiece based on the obtained pressure distribution And a means for generating an operation signal of each of the actuators so that the pressure distribution in (1) becomes uniform.
【0006】第2の発明は、上、下ラップ円盤間に被加
工物を載置し、上ラップ円盤を下方へ加圧しながら、
上、下ラップ円盤を相互に反対方向に回転駆動するラッ
プ盤において、上ラップ円盤上の複数箇所に設置され、
上ラップ円盤を下方に押圧するアクチュエータと、下ラ
ップ円盤の複数箇所に設置され、下ラップ円盤に加えら
れた圧力または/および圧力による下ラップ円盤の変位
を検出するセンサと、センサの検出値から下ラップ円盤
の圧力分布または/および変位分布を求める手段と、得
られた圧力分布または/および変位分布に基づき、被加
工物各部を均一な厚みに仕上げるための被加工物各部の
圧力分布を算出し、前記各アクチュエータの動作信号を
生成する手段とを備えたことを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, a workpiece is placed between the upper and lower lapping discs and the upper lapping disc is pressed downward,
In the lapping machine that drives the upper and lower lapping disks to rotate in opposite directions, they are installed at multiple points on the upper lapping disk,
An actuator that presses the upper lap disc downward, a sensor that is installed at multiple locations on the lower lap disc, and that detects the pressure applied to the lower lap disc and / or the displacement of the lower lap disc due to the pressure, and the detected value of the sensor A means for obtaining the pressure distribution and / or displacement distribution of the lower lapping disk, and the pressure distribution of each part of the workpiece to finish each part of the workpiece to a uniform thickness based on the obtained pressure distribution and / or displacement distribution And a means for generating an operation signal of each of the actuators.
【0007】[0007]
【作用】第1の発明においては、下ラップ円盤の複数箇
所に設置されたセンサが下ラップ円盤の圧力または/お
よび変位を検出すると、その検出値から下ラップ円盤の
圧力分布が求められ、さらに得られた圧力分布に基づ
き、被加工物各部の圧力分布が均一となるようなアクチ
ュエータの動作信号が生成される。この動作信号によ
り、上ラップ円盤上の複数箇所に設置されたアクチュエ
ータが作動して上ラップ円盤を下方に押圧し、被加工物
各部の圧力分布が均一になる。In the first aspect of the invention, when the sensors installed at a plurality of positions on the lower lap disc detect the pressure or / and the displacement of the lower lap disc, the pressure distribution of the lower lap disc is obtained from the detected values, and Based on the obtained pressure distribution, an actuator operation signal that makes the pressure distribution of each part of the workpiece uniform is generated. By this operation signal, actuators installed at a plurality of positions on the upper lapping disk actuate to press the upper lapping disk downward, and the pressure distribution in each part of the workpiece becomes uniform.
【0008】第2の発明においては、下ラップ円盤の複
数箇所に設置されたセンサが下ラップ円盤の圧力または
/および変位を検出すると、その検出値から下ラップ円
盤の圧力分布または/および変位分布が求められ、さら
に、得られた圧力分布または/および変位分布に基づ
き、被加工物各部を均一な厚みに仕上げるためのアクチ
ュエータ動作信号が生成される。この動作信号により、
上ラップ円盤上の複数箇所に設置されたアクチュエータ
が作動して上ラップ円盤を下方に押圧し、被加工物各部
の圧力分布が調整される。In the second invention, when the sensors installed at a plurality of positions on the lower lap disc detect the pressure or / and the displacement of the lower lap disc, the pressure distribution and / or the displacement distribution of the lower lap disc are detected from the detected values. Based on the obtained pressure distribution and / or displacement distribution, an actuator operation signal for finishing each part of the workpiece to a uniform thickness is generated. By this operation signal,
Actuators installed at a plurality of locations on the upper lap disc actuate to press the upper lap disc downward, and the pressure distribution of each part of the workpiece is adjusted.
【0009】[0009]
【実施例】以下、図に沿って本発明の実施例を説明す
る。図1は第1の発明に係るラップ盤の全体の構成を模
式的に示す説明図である。図において、1は上ラップ円
盤、2は下ラップ円盤、3はキャリヤであり、それぞれ
動力伝達要素を介して変速部4に接続されている。変速
部4はモータ5に接続されており、モータ5が駆動され
ることにより、上、下ラップ円盤1,2、キャリヤ3は
周知の4ウエィ強制駆動がおこなわれる。また、上ラッ
プ円盤1の中心部1cには、加圧装置6が接続されてお
り、中心部1cを下方へ押圧してラッピングの工程ごと
にキャリヤ3内に収納されている被加工物7を所定の圧
力で加圧する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view schematically showing the overall structure of the lapping machine according to the first invention. In the figure, 1 is an upper lap disc, 2 is a lower lap disc, and 3 is a carrier, which are connected to a transmission unit 4 via power transmission elements, respectively. The speed change unit 4 is connected to a motor 5, and when the motor 5 is driven, the well-known 4-way forced drive of the upper and lower lap disks 1 and 2 and the carrier 3 is performed. Further, a pressurizing device 6 is connected to the central portion 1c of the upper lapping disk 1 and presses the central portion 1c downward to remove the workpiece 7 stored in the carrier 3 for each lapping process. Pressurize at a specified pressure.
【0010】さらに、上ラップ円盤1の上部の複数箇所
には、上方から上ラップ円盤1を押圧するアクチュエー
タ8が設置されており、上ラップ円盤1をその設置位置
ごとに押圧して被加工物7に加える圧力を調整する。な
お、詳しく図示しないが、アクチュエータ8は、上ラッ
プ円盤1の回転と同期して一緒に回転させる構造とする
ことも、あるいは上ラップ円盤1の回転とは無関係に静
止する構造とすることも任意である。このアクチュエー
タ8としては、圧電素子、シリンダ、バネ機構、マグネ
ット機構等が用いられる。Further, actuators 8 for pressing the upper lap disk 1 from above are installed at a plurality of positions on the upper lap disk 1, and the upper lap disk 1 is pressed at each installation position to be processed. Adjust the pressure applied to 7. Although not shown in detail, the actuator 8 may be configured to rotate together with the rotation of the upper lapping disc 1 or may be stationary regardless of the rotation of the upper lapping disc 1. Is. As the actuator 8, a piezoelectric element, a cylinder, a spring mechanism, a magnet mechanism or the like is used.
【0011】下ラップ円盤2には、下ラップ円盤2が被
加工物7を介して受ける圧力および加圧方向の変位を複
数位置で検出するセンサ11が設置されている。センサ
11としては、例えば歪ゲージを用いた6分力テーブル
等がある。これらセンサ11の検出値は、コントローラ
12へ送られる。なお、センサ11からコントローラ1
2への検出値の送出は、図示しないがFM通信等の非接
触の通信手段が用いられる。コントローラ12は、セン
サ11が圧力値を検出した場合は圧力値をそのまま用
い、変位を検出した場合は予め用意しておいた変換テー
ブル等を用いて変位を圧力に変換し、下ラップ円盤2全
体についての圧力分布を求める。なお、この下ラップ円
盤2全体の圧力分布は、ほぼそのままで上ラップ円盤1
の圧力分布とみなすことができる。The lower lap disk 2 is provided with a sensor 11 for detecting the pressure applied to the lower lap disk 2 via the workpiece 7 and the displacement in the pressing direction at a plurality of positions. The sensor 11 is, for example, a 6-component force table using a strain gauge. The detection values of these sensors 11 are sent to the controller 12. In addition, from the sensor 11 to the controller 1
Although not shown, a non-contact communication means such as FM communication is used to send the detected value to the communication unit 2. When the sensor 11 detects a pressure value, the controller 12 uses the pressure value as it is, and when a displacement is detected, it converts the displacement into a pressure using a conversion table or the like prepared in advance, and the lower lapping disk 2 as a whole. For the pressure distribution. It should be noted that the pressure distribution of the entire lower lapping disc 2 is almost the same as that of the upper lapping disc 1.
Can be regarded as the pressure distribution of.
【0012】こうして求められた圧力分布と、その工程
で加圧装置6により加圧された設定圧力とを比較し、検
出圧力の方が設定圧よりも小さい部分については、その
位置に該当するアクチュエータ8の加圧力を増大させ
る。また、検出圧力の方が設定圧よりも大きい部分につ
いては、その位置に該当するアクチュエータ8の加圧力
を減少させる。すなわち、コントローラ12は、設定圧
を基準にして、常に検出圧力が設定圧に等しくなるよう
に、アクチュエータ8の加圧力をフィードバック制御す
る。なお、下ラップ円盤2における圧力と変位の分布に
ついては、相互の変換が可能であるので、下ラップ円盤
2の変位を一定とするように制御することもできる。The pressure distribution thus obtained is compared with the set pressure applied by the pressurizing device 6 in that step, and for the portion where the detected pressure is smaller than the set pressure, the actuator corresponding to that position Increase the pressing force of 8. Further, for a portion where the detected pressure is higher than the set pressure, the pressure applied to the actuator 8 corresponding to that position is decreased. That is, the controller 12 performs feedback control of the pressure applied to the actuator 8 so that the detected pressure is always equal to the set pressure with reference to the set pressure. Since the distributions of pressure and displacement in the lower lap disc 2 can be mutually converted, the displacement of the lower lap disc 2 can be controlled to be constant.
【0013】なお、実施例ではセンサ11の取付け位置
を下ラップ円盤2にしたが、上ラップ円盤1に取り付け
ることもできる。また、実施例では上ラップ円盤1を加
圧するために加圧装置6と圧力微調整用のアクチュエー
タ8を設置したが、加圧装置6を除去しアクチュエータ
8のみで全体を加圧することもできる。図2は、これら
の動作を系統的に示すフローチャートである。図におい
て、最初に被加工物7のセット等の準備が完了したとこ
ろで、ラップ盤駆動用のモータ5を起動する(S1)。Although the sensor 11 is mounted on the lower lapping disk 2 in the embodiment, it may be mounted on the upper lapping disk 1. Further, in the embodiment, the pressurizing device 6 and the actuator 8 for fine pressure adjustment are installed to pressurize the upper lapping disk 1. However, the pressurizing device 6 may be removed and the entire actuator 8 may be pressurized. FIG. 2 is a flowchart systematically showing these operations. In the figure, when preparation for setting the workpiece 7 is completed first, the lapping machine driving motor 5 is started (S1).
【0014】次いで、加圧装置6およびアクチュエータ
8を作動させて、上ラップ円盤1を加圧してラッピング
を開始する(S2)。このとき、上ラップ円盤1と下ラ
ップ円盤2の間の各被加工物7へ加わる圧力の総和が設
定圧力となる。次に、下ラップ円盤2に設置されている
複数のセンサ11により、下ラップ円盤2へ被加工物7
を介して加えられた圧力および圧力によって生じる下ラ
ップ円盤2の変位が検出されて、コントローラ12へ送
られる(S3)。ここで取り込まれた検出値が圧力であ
ればそのまま用い、変位であれば圧力に変換して、下ラ
ップ円盤2全体についての圧力分布を求める(S4)。
さらに、求めた圧力分布とその時点の設定圧とを比較し
て両者の差を求める(S5)。Next, the pressurizing device 6 and the actuator 8 are operated to pressurize the upper lapping disk 1 to start lapping (S2). At this time, the total pressure applied to each workpiece 7 between the upper lapping disc 1 and the lower lapping disc 2 is the set pressure. Next, the plurality of sensors 11 installed on the lower lap disk 2 causes the workpiece 7 to be transferred to the lower lap disk 2.
The pressure applied via and the displacement of the lower lap disk 2 caused by the pressure is detected and sent to the controller 12 (S3). If the detected value taken in here is the pressure, it is used as it is, and if it is the displacement, it is converted into pressure, and the pressure distribution for the entire lower lapping disk 2 is obtained (S4).
Further, the obtained pressure distribution is compared with the set pressure at that time to obtain the difference between the two (S5).
【0015】次に、両者の差に応じて、該当する位置の
アクチュエータ8を駆動させて、圧力分布が設定圧と等
しくなるように調整する(S6)。次いでS3へ進む。
このようにして、第1の発明の実施例では、コントロー
ラ12の制御により、キャリヤ3内に収納されている各
被加工物7は常時設定された圧力に保たれて高精度のラ
ッピングがおこなわれる。その結果、平行度、平面度と
も充分なものが得られ、同時に歩留りも向上する。Next, according to the difference between the two, the actuator 8 at the corresponding position is driven to adjust the pressure distribution to be equal to the set pressure (S6). Then, the process proceeds to S3.
In this way, in the embodiment of the first aspect of the invention, the workpieces 7 housed in the carrier 3 are always kept at the set pressure under the control of the controller 12, and highly accurate lapping is performed. . As a result, sufficient parallelism and flatness are obtained, and at the same time, the yield is improved.
【0016】次に第2の発明の実施例について説明す
る。第2の発明の実施例の全体構成は、図1に示した第
1の発明の実施例と同じであり、異なるところは、コン
トローラ12での制御内容である。コントローラ12
は、センサ11が検出した圧力値、変位値から、下ラッ
プ円盤2全体についての圧力分布および変位分布を求め
て、ラッピング後の非加工物7の目標厚みとを比較する
とともに、変位分布の平均値との偏差を求める。Next, an embodiment of the second invention will be described. The overall configuration of the second embodiment of the present invention is the same as that of the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1, and the difference lies in the control content of the controller 12. Controller 12
Calculates the pressure distribution and the displacement distribution for the entire lower lapping disc 2 from the pressure value and the displacement value detected by the sensor 11, compares the pressure distribution and the target thickness of the non-working object 7 after lapping, and calculates the average of the displacement distribution. Calculate the deviation from the value.
【0017】求められた変位の偏差が正、すなわち被加
工物7の厚みが大きい場合は、その大きさに応じてその
位置に該当するアクチュエータ8の加圧力を増大させ
る。また、変位の偏差が負、すなわち被加工物7の厚み
が小さい場合は、それに応じて該当するアクチュエータ
8の加圧力を減少させる。さらに、下ラップ円盤2の各
部の変位から、非加工物7が目標とする厚みに到達した
場合、その位置のアクチュエータ8の加圧を停止する。
すなわち、コントローラ12は、被加工物7の最初の厚
みや、その後のラッピングの進行により変化する下ラッ
プ円盤2の厚み方向の微小な変位に着目し、被加工物7
の厚みが常に一定になるように、各アクチュエータ8の
加圧力をフィードバック制御する。When the deviation of the displacement thus found is positive, that is, when the thickness of the workpiece 7 is large, the pressing force of the actuator 8 corresponding to that position is increased according to the size. When the deviation of displacement is negative, that is, when the thickness of the workpiece 7 is small, the pressing force of the corresponding actuator 8 is decreased accordingly. Further, when the non-workpiece 7 reaches the target thickness due to the displacement of each part of the lower lap disk 2, the pressurization of the actuator 8 at that position is stopped.
That is, the controller 12 pays attention to the initial thickness of the workpiece 7 and the minute displacement in the thickness direction of the lower lap disc 2 that changes with the progress of lapping thereafter.
The pressure of each actuator 8 is feedback-controlled so that the thickness of the actuator is always constant.
【0018】図3は、これらの動作を系統的に示すフロ
ーチャートである。図において、最初に被加工物7のセ
ット等の準備が完了したところで、ラップ盤駆動用のモ
ータ5を起動する(S11)。次いで、加圧装置6およ
びアクチュエータ8を作動させて、上ラップ円盤1を加
圧してラッピングを開始する(S12)。次に、下ラッ
プ円盤2に設置されている複数のセンサ11により、下
ラップ円盤2へ被加工物7を介して加えられた圧力およ
び変位が検出されて、コントローラ12へ送られる(S
13)。FIG. 3 is a flow chart systematically showing these operations. In the figure, when preparation such as setting of the workpiece 7 is completed first, the lapping machine driving motor 5 is started (S11). Next, the pressurizing device 6 and the actuator 8 are operated to pressurize the upper lapping disc 1 to start lapping (S12). Next, the pressure and displacement applied to the lower lap disk 2 via the workpiece 7 are detected by the plurality of sensors 11 installed in the lower lap disk 2 and sent to the controller 12 (S
13).
【0019】ここで取り込まれた検出値が変位であれば
そのまま用い、圧力であれば変位に変換して、下ラップ
円盤2全体についての変位分布を求める(S14)。さ
らに、求めた変位分布とその工程において設定されてい
る被加工物7の厚みとを比較して両者の差を求める(S
15)。次に、両者の差に応じて、該当する位置のアク
チュエータ8を駆動させ、変位分布が設定厚みに対応す
るように調整する(S16)。次いでS13へ進む。If the detected value taken in here is a displacement, it is used as it is, and if it is a pressure, it is converted into a displacement to obtain a displacement distribution for the entire lower lapping disk 2 (S14). Further, the obtained displacement distribution is compared with the thickness of the workpiece 7 set in the process to obtain the difference between the two (S
15). Next, the actuator 8 at the corresponding position is driven according to the difference between the two, and the displacement distribution is adjusted so as to correspond to the set thickness (S16). Then, the process proceeds to S13.
【0020】このようにして、第2の発明の実施例で
は、コントローラ12の制御により、キャリヤ3内に収
納されている各被加工物7が常時均一な厚みに保たれな
がらラッピングされる。その結果、高精度のラッピング
がおこなわれて平行度、平面度とも充分なものが得ら
れ、歩留りも向上する。特に、ラッピング前の各被加工
物7の間に厚みにばらつきがある場合であっても、ラッ
ピングの終了時点ではそれぞれが均一で同一な厚みとな
る。また、上記各発明のそれぞれの特性を考慮して、ラ
ッピングの工程によっては第1の発明と第2の発明の制
御を切り換えるようにすることも可能である。In this way, in the embodiment of the second aspect of the invention, the workpieces 7 housed in the carrier 3 are lapped by the control of the controller 12 while always maintaining a uniform thickness. As a result, highly accurate lapping is performed, sufficient parallelism and flatness are obtained, and the yield is also improved. In particular, even if there is a variation in the thickness between the workpieces 7 before lapping, they are uniform and have the same thickness at the end of lapping. Further, it is also possible to switch the control of the first invention and the control of the second invention depending on the lapping process in consideration of the characteristics of each of the above inventions.
【0021】[0021]
【発明の効果】以上述べたように第1の発明によれば、
被加工物各部における圧力や変位が検出され、加工物各
部の圧力分布が常に均一になるようにアクチュエータが
作動することにより、被加工物が均一に研摩される。そ
の結果、被加工物の平面度および平行度が良くなり、歩
留りが向上する。第2の発明によれば、被加工物各部に
おける圧力や変位が検出され、それに基づいてアクチュ
エータが作動して、被加工物各部が均一な厚みに仕上げ
られる。その結果、被加工物の平面度および平行度が良
くなり、歩留りが向上する。As described above, according to the first invention,
The pressure and displacement in each part of the workpiece are detected, and the actuator is operated so that the pressure distribution in each part of the workpiece is always uniform, whereby the workpiece is uniformly ground. As a result, the flatness and parallelism of the workpiece are improved, and the yield is improved. According to the second aspect of the present invention, the pressure and displacement in each part of the work piece are detected, and the actuator is actuated based on the detected pressure or displacement to finish each part of the work piece to a uniform thickness. As a result, the flatness and parallelism of the workpiece are improved, and the yield is improved.
【図1】第1の発明の実施例における全体の構成を模式
的に示した説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing the overall configuration of an embodiment of the first invention.
【図2】第1の発明の実施例の動作を示すフローチャー
トである。FIG. 2 is a flow chart showing the operation of the embodiment of the first invention.
【図3】第2の発明の実施例の動作を示すフローチャー
トである。FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the embodiment of the second invention.
1 上ラップ円盤 2 下ラップ円盤 3 キャリヤ 4 変速部 5 モータ 6 加圧装置 7 被加工物 8 アクチュエータ 11 センサ 12 コントローラ 1 Upper Lap Disk 2 Lower Lap Disk 3 Carrier 4 Speed Change Section 5 Motor 6 Pressurizing Device 7 Workpiece 8 Actuator 11 Sensor 12 Controller
Claims (2)
し、上ラップ円盤を下方へ加圧しながら、上、下ラップ
円盤を相互に反対方向に回転駆動するラップ盤におい
て、 上ラップ円盤上の複数箇所に設置され、上ラップ円盤を
下方に押圧するアクチュエータと、 下ラップ円盤の複数箇所に設置され、下ラップ円盤に加
えられた圧力または/および圧力による下ラップ円盤の
変位を検出するセンサと、 センサの検出値から下ラップ円盤の圧力分布を求める手
段と、 得られた圧力分布に基づき、被加工物各部における圧力
分布が均一となるように、前記各アクチュエータの動作
信号を生成する手段と、 を備えたことを特徴とするラップ盤。1. A lapping machine in which a workpiece is placed between the upper and lower lapping disks, and the upper and lower lapping disks are rotationally driven in opposite directions while pressing the upper lapping disk downward. Actuators installed at multiple points on the disk to press the upper lap disk downwards, and actuators installed at multiple points on the lower lap disk to detect pressure applied to the lower lap disk and / or displacement of the lower lap disk due to pressure Sensor, a means for obtaining the pressure distribution of the lower lapping disk from the detection value of the sensor, and the operation signal of each actuator is generated based on the obtained pressure distribution so that the pressure distribution in each part of the workpiece becomes uniform. A lapping machine characterized by including a means for doing.
し、上ラップ円盤を下方へ加圧しながら、上、下ラップ
円盤を相互に反対方向に回転駆動するラップ盤におい
て、 上ラップ円盤上の複数箇所に設置され、上ラップ円盤を
下方に押圧するアクチュエータと、 下ラップ円盤の複数箇所に設置され、下ラップ円盤に加
えられた圧力または/および圧力による下ラップ円盤の
変位を検出するセンサと、 センサの検出値から下ラップ円盤の圧力分布または/お
よび変位分布を求める手段と、 得られた圧力分布または/および変位分布に基づき、被
加工物各部を均一な厚みに仕上げるための被加工物各部
の圧力分布を算出し、前記各アクチュエータの動作信号
を生成する手段と、 を備えたことを特徴とするラップ盤。2. A lapping machine in which a workpiece is placed between the upper and lower lapping disks and the upper and lower lapping disks are rotationally driven in opposite directions while pressing the upper lapping disk downward. Actuators that are installed at multiple locations on the disk and press the upper lap disk downward, and pressures applied to the lower lap disk and / or displacement of the lower lap disk due to pressure applied to the lower lap disk are detected. Sensor and a means for obtaining the pressure distribution and / or displacement distribution of the lower lapping disk from the detected value of the sensor, and based on the obtained pressure distribution and / or displacement distribution, for finishing each part of the workpiece to a uniform thickness A lapping machine comprising: means for calculating a pressure distribution of each part of the workpiece and generating an operation signal of each actuator.
Priority Applications (1)
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JP3223472A JPH0714589B2 (en) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | Lapping machine |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP3223472A JPH0714589B2 (en) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | Lapping machine |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0542475A JPH0542475A (en) | 1993-02-23 |
JPH0714589B2 true JPH0714589B2 (en) | 1995-02-22 |
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Family Applications (1)
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JP3223472A Expired - Fee Related JPH0714589B2 (en) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | Lapping machine |
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JP (1) | JPH0714589B2 (en) |
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- 1991-08-08 JP JP3223472A patent/JPH0714589B2/en not_active Expired - Fee Related
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