JPH0714409U - 多芯光ファイバ組立体 - Google Patents

多芯光ファイバ組立体

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JPH0714409U
JPH0714409U JP4203993U JP4203993U JPH0714409U JP H0714409 U JPH0714409 U JP H0714409U JP 4203993 U JP4203993 U JP 4203993U JP 4203993 U JP4203993 U JP 4203993U JP H0714409 U JPH0714409 U JP H0714409U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 予めメタライズを施してから半田を用いて接
合する高温度域で使用する多芯光ファイバ組立体におい
て、Vブロックに加工した複数個を並列に刻設した高精
度なV溝のピッチ、整列度が半田付をも高精度であるこ
とが求められている。 【構成】 複数個のV溝を並列に刻設したVブロックの
V溝上に光ファイバを載置し、光ファイバを挟持するよ
うにVブロック上を蓋で覆いこの蓋をVブロックに固定
してなる多芯光ファイバ組立体であって、光ファイバの
先端をVブロックおよび蓋の端面より突出させ、光ファ
イバの突出する部分と、Vブロックおよび蓋の光ファイ
バの突出側の端面にそれぞれメタライズを施し、この部
分を半田付けしてなる多芯光ファイバ組立体とした。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、多芯光ファイバ組立体に関し、受光または発光素子組立体や光電変 換などの半導体装置と接続するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来のVブロック多芯ファイバ組立体110 は、図6に示すように、複数個のV 溝101 を並列に刻設したセラミック材のVブロック102 のV溝101 上にファイバ 103 を載置し、Vブロック102 上をセラミック材の蓋104 で覆いファイバ103 を Vブロック102 と蓋104 とで挟持し、ファイバ103 を接着剤105 で固定していた 。また、他の金属部材に接合するためにVブロック102 と蓋104 の側面にメタラ イズ106 を施し、ファイバ103 の端面部分は光学研磨面107 としてある。
【0003】 Vブロック102 のV溝101 は、溝ピッチおよび整列度が非常に高精度であり、 溝ピッチおよび整列度は共にSMファイバの場合、±0.001mm 以下を要求される ことが多く、そして外周にはメタライズ106 を施してパッケージへの組み込みの 際半田を用いて固定していた。この精度はファイバ103 をV溝101 に密着しファ イバ103 の整列を得ることで、ファイバ103 のピッチや整列度がV溝101 のピッ チや整列度とすることを可能としている。
【0004】 接着組立の場合、パッケージへの組込みなどの製造工程での高温度域ではファ イバのピッチ、整列度が変わってしまうため、接着剤の替わりに半田が用いられ るが、半田を用いるためVブロックのV溝にメタライズし、また、V溝に載置す る部分のファイバにもメタライズを施して組立てる。 メタライズを施した箇所は、部分的にメッキ厚がバラつくため、組立後ファイ バのピッチおよび整列度がV溝のピッチおよび整列度と一致しなくなる。このメ ッキ厚のバラつきはVブロックとファイバメタライズで合わせて10μm以上はあ り、V溝の精度が全く無駄となる。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
予めメタライズを施してから半田を用いて接合するVブロック多芯ファイバ組 立体において、Vブロックに加工した複数個並列に刻設した高精度なV溝のピッ チ、整列度が半田付け後も高精度であることが求められている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
そこで、本考案は、上記の事情に鑑み、Vブロックに加工した複数個並列に刻 設した高精度なV溝のピッチ、整列度が半田付け後も高精度とすべく、複数個の V溝を並列に刻設したVブロックのV溝上に光ファイバを載置し、光ファイバを 挟持するようにVブロック上を蓋で覆いこの蓋をVブロックに固定してなる多芯 光ファイバ組立体であって、光ファイバの先端をVブロックおよび蓋の端面より 突出させ、光ファイバの突出する部分と、Vブロックおよび蓋の光ファイバの突 出側の端面にそれぞれメタライズを施し、この部分を半田付けしてなる多芯光フ ァイバ組立体とした。
【0007】
【作用】
本考案は、光ファイバをVブロックおよび蓋の端面より突出するように設定し 、光ファイバの突出する部分と、Vブロックおよび蓋の光ファイバの突出側の端 面にそれぞれメタライズを施し、この部分を半田付けするので、多芯ファイバ組 立体で高精度な光ファイバのピッチおよび整列度の提供が可能であり、また半田 付けにより接合することから信頼性の高い気密封止を行うことができる。
【0008】
【実施例】
本考案を添付する図面に示す具体的な実施例に基づいて以下詳細に説明する。 この多芯光ファイバ組立体10は、図1に示すように、Vブロック2の一面に高 精度なV溝1を複数個並列に刻設してあり、被覆から光ファイバ3を並列に突設 した多芯ファイバアレイ11の光ファイバ3をV溝1に載置し、光ファイバ3をV ブロック2と蓋4とで挟持してなる。
【0009】 この多芯光ファイバ組立体10に対向して受光または発光組立体12が配置される 。 この受光または発光素子組立体12は、受光または発光素子のアレイ13と、受光 または発光素子のアレイ13の前面のレンズアレイ14と、受光または発光素子のア レイ13の後面のキャリア15とよりなる。
【0010】 この多芯光ファイバ組立体10と受光または発光素子組立体12とは、図2に示す ように、この両者の組み合わせでパッケージ16に入れて多芯光ファイバ組立体10 は、半田17にて固着してある。 ここで、多芯光ファイバ組立体10は、図3に示すように、多芯ファイバアレイ 11を、Vブロック2と蓋4にて挟持して固定してある。Vブロック2と蓋4の材 質はセラミックで、アルミナ、ジルコニアなどを用いる。
【0011】 多芯ファイバアレイ11は、複数本を並列に並べて、被覆部18より突出した光フ ァイバ3はVブロック2のV溝1より突出する長さに設定してある。 Vブロック2の上面には複数個のV溝1が並列に並べて刻設してある。V溝1 間のピッチとV溝1の整列度は、高精度に加工してある。この精度の程度により 多芯光ファイバ組立体10の光ファイバ3のピッチと整列度が決まる。
【0012】 Vブロック2の後部は光ファイバ3の被覆部18を受け入れできるように段部19 が形成してある。 また、蓋4は前記Vブッロク2の上面に載置して、光ファイバ3をVブロック 2と蓋4とで挟持できる大きさに形成し、その後部は光ファイバ3の被覆部19を 受け入れできるように段部20に形成してある。
【0013】 光ファイバ3は、Vブロック2のV溝1上に載置し、その被覆部18は段部19上 に載置し、蓋4をVブロック2上に載置し、その段部20に被覆部11を受け入れさ せ、Vブロック2と蓋4とで光ファイバ3を挟持する。 この際、光ファイバ3をVブロック2に精度よく保持するために、光ファイバ 3のVブロック2および蓋4の端面から突出する部分と、Vブロック2および蓋 4の光ファイバ3の突出側端面のみにそれぞれメタライズ21・22・23を施す。メ タライズ21・22・23材としては、WまたはMo−Mnなどを用いる。
【0014】 上記のようにしてなる光ファイバ3、Vブロック2および蓋4を図4に示すよ うにして組み立てる。 まず、図4(a) に示すように、Vブロック2のV溝1に光ファイバ3をメタラ イズ21を施した部分を突出させて載置し、被覆部18を段部19上に載置する。蓋4 をVブロック2上面に載せ、被覆部18を段部20に受け入れさせ、光ファイバ3を Vブロック2と蓋4とで挟持させる。
【0015】 次に、図4(b) に示すように、光ファイバ3が突出しメタライズ21・22・23が 施された部分を半田付け24により固定する。 続いて、図4(c) に示すように、突出した光ファイバ3の半田付け24された部 分を光ファイバ3端面を光が通過できるように、光学研磨面25とし、Vブロック 2と蓋4との隙間に接着剤26を充填し、被覆部も接着剤26で固着する。この接着 剤26での固着は半田付け24より前に行ってもよい。
【0016】 上述の構造により、Vブロック2のV溝1にはメタライズを施さず、V溝1の ピッチおよび整列度を維持したままで半田付け24を可能とし、高温度域での光フ ァイバ3のピッチ、整列度がVブロック2の精度と同一の状態とした信頼性の高 い多芯光ファイバ組立体の提供ができる。 この他の実施例として、図5に示すように、Vブロック2の先端上面角部に面 取り27を施し、蓋4の先端下面角部に面取り28を施して、ファイバ3の先端部と 面取り27・28部にメタライズ21・22・23を施し、そこを半田付け24することがで きる。他は前記実施例と全く同じである。
【0017】
【考案の効果】 本考案は、上述のように、複数個のV溝を並列に刻設したVブロックのV溝上 に光ファイバを載置し、光ファイバを挟持するようにVブロック上を蓋で覆いこ の蓋をVブロックに固定してなる多芯光ファイバ組立体であって、光ファイバの 先端をVブロックおよび蓋の端面より突出させ、光ファイバの突出する部分と、 Vブロックおよび蓋の光ファイバの突出側の端面にそれぞれメタライズを施し、 この部分を半田付けしてなる多芯光ファイバ組立体であるので、VブロックのV 溝のピッチおよび整列度を維持したままで半田付けを可能とし、高温度域での光 ファイバのピッチ、整列度がVブロックの精度と同一の状態とした信頼性の高い 多芯光ファイバ組立体の提供ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案のVブロック多芯ファイバ組立体と受光
または発光組立体との斜視図である。
【図2】本考案のVブロック多芯ファイバ組立体と受光
または発光組立体とをパッケージに入れてVブロック多
芯ファイバ組立体を半田でパッケージに固着した状態を
示す側面図である。
【図3】本考案の光ファイバとVブロックと蓋との分解
斜視図である。
【図4】本考案のVブロック多芯ファイバ組立体の組立
工程を示す3面図である。
【図5】他の実施例のVブロック多芯ファイバ組立体の
縦断面図である。
【図6】従来のVブロック多芯ファイバ組立体の斜視図
である。
【符号の説明】
1…V溝 2…Vブロック 3…光ファイバ 4…蓋 21・22・23…メタライズ 24…半田

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個のV溝を並列に刻設したVブロッ
    クのV溝上に光ファイバを載置し、光ファイバを挟持す
    るようにVブロック上を蓋で覆いこの蓋をVブロックに
    固定してなる多芯光ファイバ組立体であって、光ファイ
    バの先端をVブロックおよび蓋の端面より突出させ、光
    ファイバの突出する部分と、Vブロックおよび蓋の光フ
    ァイバの突出側の端面にそれぞれメタライズを施し、こ
    の部分を半田付けしてなる多芯光ファイバ組立体。
JP1993042039U 1993-07-30 1993-07-30 多芯光ファイバ組立体 Expired - Fee Related JP2598745Y2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5230822U (ja) * 1975-08-18 1977-03-04
WO1998044369A1 (fr) * 1997-03-27 1998-10-08 Ngk Insulators, Ltd. Reseau de fibres etanche et procede de fabrication d'un reseau de fibres etanche
JP2002214478A (ja) * 2001-01-18 2002-07-31 Kyocera Corp 光ファイバ用フェルール及びその加工方法及びそれを用いた光ファイバ端末
WO2019189680A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 アダマンド並木精密宝石株式会社 光ファイバアレイ

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