JPH0714360Y2 - プラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置 - Google Patents
プラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置Info
- Publication number
- JPH0714360Y2 JPH0714360Y2 JP6867689U JP6867689U JPH0714360Y2 JP H0714360 Y2 JPH0714360 Y2 JP H0714360Y2 JP 6867689 U JP6867689 U JP 6867689U JP 6867689 U JP6867689 U JP 6867689U JP H0714360 Y2 JPH0714360 Y2 JP H0714360Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulator
- furnace
- heat treatment
- plasma heat
- protection device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Discharge Heating (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、イオン窒化処理など、グロー放電による熱
処理を行うプラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置に関する
ものである。
処理を行うプラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置に関する
ものである。
〔従来技術〕 プラズマ熱処理炉は、真空炉内に配置される被処理物を
陰極、炉体を陽極として真空中で直流電圧を印加し、発
生するグロー放電によるN2ガス等をイオン化させ、この
イオンを被処理物に衝突させながら被処理物を加熱し、
続いてグロー放電により放電窒化処理を行うものであ
り、陰極となる被処理物を陽極となる炉体に対して絶縁
して保持する必要がある。
陰極、炉体を陽極として真空中で直流電圧を印加し、発
生するグロー放電によるN2ガス等をイオン化させ、この
イオンを被処理物に衝突させながら被処理物を加熱し、
続いてグロー放電により放電窒化処理を行うものであ
り、陰極となる被処理物を陽極となる炉体に対して絶縁
して保持する必要がある。
そのため、従来においては、第3図に示すように、被処
理物Wが載置されるワークテーブル2を、セラミックス
の絶縁物からなる支持管3′,4′を介して絶縁支持して
いる。電源導入部においては、電源導入軸6の先端をワ
ークテーブル2に固定し、基部を絶縁体7により炉体1A
に取付け、テーブル2と絶縁体7との間において電源導
入軸6を取り囲むように支持管3′を配設し、支持管
3′の基部と炉体1Aとの間を絶縁体8で覆うようにされ
ている。なお、9はアーク防止キャップである。
理物Wが載置されるワークテーブル2を、セラミックス
の絶縁物からなる支持管3′,4′を介して絶縁支持して
いる。電源導入部においては、電源導入軸6の先端をワ
ークテーブル2に固定し、基部を絶縁体7により炉体1A
に取付け、テーブル2と絶縁体7との間において電源導
入軸6を取り囲むように支持管3′を配設し、支持管
3′の基部と炉体1Aとの間を絶縁体8で覆うようにされ
ている。なお、9はアーク防止キャップである。
電源導入部以外では、支持管4′のみでワークテーブル
2を絶縁支持するようにされている。
2を絶縁支持するようにされている。
前述のようなプラズマ熱処理炉において、炉内には、取
り除くことができないコンタミネーション(飛散した金
属など)があり、これがグロー放電によりスーティング
Sとして炉内の陰極、陽極、絶縁物を問わず付着する。
この付着物は電気的導通性があり、陰極と陽極を絶縁し
ている部分に付着した場合、短絡していることになり、
グロー放電が起こらなくなる。そのため、スーティング
により絶縁物としての役割を果たさなくなると、支持管
3′,4′等の取替えを行う必要があり、メンテナンスの
面などからスーティングによる短絡を防止することが望
まれている。
り除くことができないコンタミネーション(飛散した金
属など)があり、これがグロー放電によりスーティング
Sとして炉内の陰極、陽極、絶縁物を問わず付着する。
この付着物は電気的導通性があり、陰極と陽極を絶縁し
ている部分に付着した場合、短絡していることになり、
グロー放電が起こらなくなる。そのため、スーティング
により絶縁物としての役割を果たさなくなると、支持管
3′,4′等の取替えを行う必要があり、メンテナンスの
面などからスーティングによる短絡を防止することが望
まれている。
なお、グロー放電装置の被処理物支持装置として、特開
昭49―61793号には、加工物テーブルとセラミック支持
管の接続部にグローの侵入(スパッタリング金属層の形
成)を防ぐ形状を形成し、セラミック支持管の内部にお
ける陽極基板上を絶縁材料層で被覆し、陽極基板と加工
物テーブルとの間にアークが発生するのを防止し、かつ
電極および絶縁物をグロー放電から遮閉するようにした
ものが提案されているが、構造が複雑、高価となる問題
がある。
昭49―61793号には、加工物テーブルとセラミック支持
管の接続部にグローの侵入(スパッタリング金属層の形
成)を防ぐ形状を形成し、セラミック支持管の内部にお
ける陽極基板上を絶縁材料層で被覆し、陽極基板と加工
物テーブルとの間にアークが発生するのを防止し、かつ
電極および絶縁物をグロー放電から遮閉するようにした
ものが提案されているが、構造が複雑、高価となる問題
がある。
また、実開昭53-90018号には、絶縁支持台上に絶縁円板
を設け、この絶縁円板とテーブル脚との間に水平方向の
クサビ状スリットを形成し、このスリットによりアーク
放電や異常なグロー放電を防止すると共に、絶縁円板に
より絶縁支持台がグロー放電によるスパッタリングで汚
染されるのを防止するようにしたものが提案されている
が、前記クサビ状スリットの開口部に付着物が堆積して
開口部が塞がれると絶縁円板は取換えなければならない
問題がある。
を設け、この絶縁円板とテーブル脚との間に水平方向の
クサビ状スリットを形成し、このスリットによりアーク
放電や異常なグロー放電を防止すると共に、絶縁円板に
より絶縁支持台がグロー放電によるスパッタリングで汚
染されるのを防止するようにしたものが提案されている
が、前記クサビ状スリットの開口部に付着物が堆積して
開口部が塞がれると絶縁円板は取換えなければならない
問題がある。
この考案は、前述のような問題点を解消すべくなされた
もので、その目的は、比較的簡単な構成でスーティング
による短絡を防止でき、取換えおよびメンテナンスの不
要なプラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置を提供すること
にある。
もので、その目的は、比較的簡単な構成でスーティング
による短絡を防止でき、取換えおよびメンテナンスの不
要なプラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置を提供すること
にある。
本考案は、第1図に示すように、真空炉1内に、被処理
物Wが載置されるワークテーブル2を絶縁物からなる支
持部材3,4を介して配置し、炉体1Aを陽極、ワークテー
ブル2を陰極としてグロー放電を発生させるプラズマ熱
処理炉において、前記絶縁物からなる支持部材3,4に、
側方に突出する電気的に中性なリング状の円板5Aを支持
部材下端の絶縁体8から所定の間隔をおいて設けて構成
する。
物Wが載置されるワークテーブル2を絶縁物からなる支
持部材3,4を介して配置し、炉体1Aを陽極、ワークテー
ブル2を陰極としてグロー放電を発生させるプラズマ熱
処理炉において、前記絶縁物からなる支持部材3,4に、
側方に突出する電気的に中性なリング状の円板5Aを支持
部材下端の絶縁体8から所定の間隔をおいて設けて構成
する。
支持部材3,4の上部には、アーク防止カバー10が設けら
れているので、カバー5は支持部材3,4の下部に設け
る。また、カバー5はセラミックス製とし、円板5Aの突
出長さは十分な長さ(支持部材3,4の径の3倍以上)と
する。
れているので、カバー5は支持部材3,4の下部に設け
る。また、カバー5はセラミックス製とし、円板5Aの突
出長さは十分な長さ(支持部材3,4の径の3倍以上)と
する。
スーティッグSは、ガス流れにさらされている部分によ
く発生するが、円板5Aがあるため、ガス流れが遮られ、
カバー5の下部にスーティングが発生しない。
く発生するが、円板5Aがあるため、ガス流れが遮られ、
カバー5の下部にスーティングが発生しない。
支持部材3,4の上部にはスーティングSが発生するが、
カバー5の下部に発生しないため、スーティングによる
短絡を防止できる。
カバー5の下部に発生しないため、スーティングによる
短絡を防止できる。
これは、第2図に示すように、プラズマ窒化炉の例であ
り、真空炉1内にワークテーブル2を二台設置し、直流
電源11によりそれぞれに直流電圧を印加できるようにさ
れている。また、排気弁12により炉内を真空にし、ボン
ベ13によりN2ガス等を炉内に供給し、放射温度計14によ
り被処理物Wの温度を検出し、制御盤15により直流電源
11を制御するようにされている。
り、真空炉1内にワークテーブル2を二台設置し、直流
電源11によりそれぞれに直流電圧を印加できるようにさ
れている。また、排気弁12により炉内を真空にし、ボン
ベ13によりN2ガス等を炉内に供給し、放射温度計14によ
り被処理物Wの温度を検出し、制御盤15により直流電源
11を制御するようにされている。
電源導入部の支持部材3は絶縁物であるセラミックス製
の管とし、その他の支持部材4はセラミックス製の棒と
する。カバー5もセラミックス製とし、円筒状の基部5B
とこの軸方向略中央部で水平に一体的に突出するリング
状の円板5Aから構成する。そして、円板5Aは絶縁体8か
ら所定の間隔をおいて配設されている。
の管とし、その他の支持部材4はセラミックス製の棒と
する。カバー5もセラミックス製とし、円筒状の基部5B
とこの軸方向略中央部で水平に一体的に突出するリング
状の円板5Aから構成する。そして、円板5Aは絶縁体8か
ら所定の間隔をおいて配設されている。
第3図に示すように、従来においては、ワークテーブル
2と支持部材3′,4′との接続部におけるワークテーブ
ル角部からアーク放電aが発生していたが、このアーク
放電が発生しないように、接続部を軟鋼製のアーク防止
カバー10で覆うと共に、このカバー10を介して支持部材
3,4をワークテーブル2に固定する。
2と支持部材3′,4′との接続部におけるワークテーブ
ル角部からアーク放電aが発生していたが、このアーク
放電が発生しないように、接続部を軟鋼製のアーク防止
カバー10で覆うと共に、このカバー10を介して支持部材
3,4をワークテーブル2に固定する。
前述のとおり、本考案は、絶縁物からなるワークテーブ
ルの支持部材に、電気的中性なリング状の円板を支持部
材下端の絶縁体から所定の間隔をおいて取付け、このカ
バーの下部にスーティングが発生しないようにし、か
つ、カバーと絶縁体との開口部が塞がらないようにした
ため、比較的簡単な構成で安価な装置によりスーティン
グによる短絡を防止でき、部材の取換およびメンテナン
スを不要とすることができる。
ルの支持部材に、電気的中性なリング状の円板を支持部
材下端の絶縁体から所定の間隔をおいて取付け、このカ
バーの下部にスーティングが発生しないようにし、か
つ、カバーと絶縁体との開口部が塞がらないようにした
ため、比較的簡単な構成で安価な装置によりスーティン
グによる短絡を防止でき、部材の取換およびメンテナン
スを不要とすることができる。
第1図は、この考案に係る絶縁物保護装置を示す断面
図、第2図はプラズマ窒化炉に適用した例を示す概略
図、第3図は従来の絶縁支持部を示す断面図である。 1……真空炉、2……ワークテーブル 3,4……支持部材、5……カバー 5A……円板、6……電源導入軸 7,8……絶縁体、9……アーク防止キャップ 10……アーク防止カバー 11……直流電源、12……排気弁 13……ボンベ、14……放射温度計 15……制御盤
図、第2図はプラズマ窒化炉に適用した例を示す概略
図、第3図は従来の絶縁支持部を示す断面図である。 1……真空炉、2……ワークテーブル 3,4……支持部材、5……カバー 5A……円板、6……電源導入軸 7,8……絶縁体、9……アーク防止キャップ 10……アーク防止カバー 11……直流電源、12……排気弁 13……ボンベ、14……放射温度計 15……制御盤
Claims (1)
- 【請求項1】真空炉内に、被処理物が載置されるワーク
テーブルを絶縁物からなる支持部材を介して配置し、炉
体を陽極、ワークテーブルを陰極としてグロー放電を発
生させるプラズマ熱処理炉において、 前記絶縁物からなる支持部材に、側方に突出する電気的
に中性なリング状の円板を支持部材下端の絶縁体から所
定の間隔をおいて設けて構成したことを特徴とするプラ
ズマ熱処理炉の絶縁物保護装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6867689U JPH0714360Y2 (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | プラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6867689U JPH0714360Y2 (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | プラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0311054U JPH0311054U (ja) | 1991-02-01 |
JPH0714360Y2 true JPH0714360Y2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=31603315
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6867689U Expired - Lifetime JPH0714360Y2 (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | プラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0714360Y2 (ja) |
-
1989
- 1989-06-13 JP JP6867689U patent/JPH0714360Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0311054U (ja) | 1991-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4334621B2 (ja) | ウエハ支持装置 | |
KR102099483B1 (ko) | 절연구조 및 절연방법 | |
US5387326A (en) | Method and arrangement for stabilizing an arc between an anode and a cathode particularly for vacuum coating devices | |
JP2002530857A (ja) | 半導体ウェーハ処理システムにおいてrf戻り電流経路制御を行う装置 | |
TW201438054A (zh) | 用於離子植入裝置之高壓電極的絕緣結構 | |
JPH0714360Y2 (ja) | プラズマ熱処理炉の絶縁物保護装置 | |
JPS6441132A (en) | Vacuum interrupter | |
JP5048538B2 (ja) | 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置 | |
US5059757A (en) | Gas shrouded electrode for a plasma carburizing furnace | |
JPH051895Y2 (ja) | ||
JP2571421B2 (ja) | プラズマ浸炭熱処理炉 | |
JPH0342608Y2 (ja) | ||
JPH0719081Y2 (ja) | イオン源 | |
JP2559123Y2 (ja) | 真空アーク蒸着装置 | |
JP2540492B2 (ja) | イオン源用ア−クチヤンバ−装置 | |
JPS5936384B2 (ja) | イオン源装置 | |
JPH017972Y2 (ja) | ||
KR810001183B1 (ko) | 전자총 구조체 | |
JPH0541491Y2 (ja) | ||
JPH0195455A (ja) | 高ドーズイオン注入装置 | |
JPS5989770A (ja) | イオンスパツタリング装置 | |
JPH0131280B2 (ja) | ||
KR0117111Y1 (ko) | 세라믹 절연체의 오염방지장치 | |
JPS5920751Y2 (ja) | 電子顕微鏡等の試料加熱装置 | |
JPH04354863A (ja) | 真空アーク蒸発源 |