JPH07142441A - 遠心乾燥装置 - Google Patents

遠心乾燥装置

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JPH07142441A
JPH07142441A JP5307270A JP30727093A JPH07142441A JP H07142441 A JPH07142441 A JP H07142441A JP 5307270 A JP5307270 A JP 5307270A JP 30727093 A JP30727093 A JP 30727093A JP H07142441 A JPH07142441 A JP H07142441A
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substrate
cassette
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centrifugal drying
centrifugal
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Toshiaki Yamamoto
俊明 山本
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 大径の基板の乾燥用としても十分に小型であ
ると共に、乾燥時間の短縮、静電気による基板への影響
の低減を達成した遠心乾燥装置を提供すること。 【構成】 基板保持カセット20を遠心力作用方向側に
て支承して該基板保持カセットに対して補強作用をなす
カセット支承部材45(62)と、該基板保持カセット
からの基板の脱落を防止する脱落防止手段48とを設
け、以て該基板保持カセットの小型化を可能とし、上記
の効果を得ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、遠心乾燥装置、詳しく
は洗浄後のシリコンウエハー等基板の表面に付着してい
る水分を遠心力により飛散させ、又、空気を基板の表面
に流すことにより基板を乾燥する遠心乾燥装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の遠心乾燥装置として、図
13に示すものが知られている。
【0003】この従来の遠心乾燥装置は、水平面に沿っ
て回転駆動される回転体としてのターンテーブル1と、
該ターンテーブル1の回転中心から偏倚した外周部適宜
位置に取り付けられた複数個のクレードル2すなわちカ
セット保持部材とを備えている。そして、洗浄後のシリ
コンウエハー等の基板3がその主面同士が平行となるよ
うに等ピッチにて整列して複数枚収納された基板保持カ
セット4を各クレードル2に上方から装填し、各クレー
ドル2をこれを枢支した支軸5を中心として鉛直面に沿
って90O 下方へ回動して各基板3の主面を水平状態
に、すなわちターンテーブル1の回転中心1aに対して
直交する状態に保ち、その後ターンテーブル1を回転さ
せるように構成されている。なお、ターンテーブル1に
はスピンドル6の上端部が結合され、該スピンドル6の
他端部にはプーリ7が嵌着されている。そして、モータ
8の出力軸に嵌着された他のプーリ9とこのプーリ7と
にベルト10が掛け回され、モータ8のトルクがターン
テーブル1に付与されて回転駆動される。
【0004】図14及び図15は上記基板保持カセット
4の詳細を示すものであるが、該図から明らかなよう
に、基板3はその全体が該基板保持カセット4内に収容
される。また、図示のように、この基板保持カセット4
は全体として箱状に形成されており、その内側には収容
すべき基板3の枚数分の受け溝4aが並設されており、
各基板3はその外周部にてこれら受け溝4aの各々に係
合し、隣接する基板3同士が互いに接触しないようにな
されている。また、基板保持カセット4には、これを支
え持つための取手46が両側に形成されている。
【0005】図16は上述した遠心乾燥装置に供される
他の基板保持カセット12の縦断面を示すものである。
図示のように、この基板保持カセット12においては、
基板3がその略下半分だけ収容される。なお、該図にお
いて、参照符号12aは各基板3の外周部が係合すべく
該基板保持カセット12に並設された受け溝を示し、
又、参照符号12bは取手を示している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の遠心乾
燥装置においては、使用する基板保持カセット4、12
が比較的大型で占有スペースが大きく、しかもこれらを
ターンテーブル1上にて分散して配置しているため、大
径化してきたシリコンウエハー、例えば8インチサイズ
のシリコンウエハーの乾燥用として使用するためには装
置全体を大型化しなければならないという欠点がある。
【0007】また、上記のように大きな基板保持カセッ
ト4、12においては、これに付着する液体が多量とな
ってターンテーブル1を長時間回転させなければ乾燥が
完了せず、また、空気との接触面積が大であることから
ターンテーブル1の回転に伴う空気との摩擦により発生
する静電気の量が多く、基板3にダメージを与える等の
問題がある。
【0008】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みてな
されたものであって、大径の基板の乾燥用としても十分
に小型であると共に、乾燥時間の短縮、静電気による基
板への影響低減を達成した遠心乾燥装置を提供すること
を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数枚の基板
をその主面同士が平行となるように整列して保持し得る
基板保持カセットを、その保持した基板の主面が回転体
の回転中心に対して略直交する状態にて該回転体に装填
し、該回転体を回転駆動することにより前記基板を乾燥
させる遠心乾燥装置において、前記基板保持カセットを
遠心力作用方向側にて支承するカセット支承部材と、前
記基板の前記基板保持カセットからの脱落を防止する脱
落防止手段とを備えたものである。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例としての遠心乾燥装置
について、添付図面を参照しつつ説明する。なお、本発
明に係る遠心乾燥装置は、以下に説明する部分以外は図
13に示した従来の装置と同様に構成されているので、
装置全体としての説明は省略し要部の説明に留める。ま
た、以下の説明において、該従来の遠心乾燥装置の構成
部材と同一または対応する構成部材並びに取り扱う基板
については同じ参照符号を用いている。
【0011】図1は本発明の実施例としての遠心乾燥装
置の縦断面を示すものであるが、該図において、参照符
号20は当該遠心乾燥装置において使用される小型の基
板保持カセットを示している。まず、この基板保持カセ
ット20について詳述する。
【0012】図2及び図3に示すように、この基板保持
カセット20は、その左右方向及び前後方向の夫々にお
いて対称の形状にて形成されており、互いに平行に前後
に伸長して設けられた例えば4本の長手基板支持部材2
1と、該各基板支持部材21の端部間に介装されて該端
部同士を相互結合させる前後一対の平板上の側部材22
とからなる。なお、当該基板保持カセット20は、複数
枚、この場合例えば25枚の基板3をその主面同士が平
行となるように等ピッチにて整列して保持するのである
が、これら各基板3の主面に平行な方向を左右方向、整
列方向を前後方向と称している。図2及び図3から明ら
かなように、これら基板支持部材21及び側部材22は
小ねじ23により締結され、互いに一体化されている。
図3及び図4において、参照符号21aは、該小ねじ2
3が螺合すべく基板支持部材21に形成されたねじ孔を
示すものである。
【0013】ここで、上記各基板支持部材21について
詳述する。
【0014】4本の基板支持部材21は夫々同形状、同
寸法にて形成されており、図3に示すように、その保持
する基板3の外周に沿うように互いに離間して配置され
ている。そして、その断面形状が、一部が突出した円形
となっている。図4から明らかなように、この突出した
部分に、保持すべき基板3の枚数分の受け溝21bが長
手方向に沿って並設されており、各基板3はその外周部
にてこれら受け溝21bの各々に係合し、隣接する基板
3同士が互いに接触しないようになされている。なお、
これら基板支持部材21については、かかる形状に限ら
ず、種々の構成を採用し得る。
【0015】また、上記各基板支持部材21及び側部材
22は、例えばペルフルオロアルコキシふっ素樹脂(P
FA)ポリ四ふっ化エチレン(PTFE)またはポリエ
ーテルエーテルケトン(PEEK)等を素材として形成
される。
【0016】上記した構成の基板保持カセット20にお
いては、その保持する基板3の主面に平行な方向、すな
わち左右方向における最大寸法は、前後両端に具備した
側部材22の最大幅寸法B1 (図3参照)がそれであ
り、この最大寸法B1 は、同じ方向における基板3の外
形寸法、すなわち直径Dよりも小さく設定されている。
なお、図3に示すように、この最大寸法B1 は側部材2
2の上半部分の幅寸法であり、下半部分の幅寸法B2
該上半部分よりも更に小さく設定されている。また、図
3において、符号Hは基板保持カセット20の高さを示
すものであるが、この高さHに関しては、基板2の直径
Dの約1/4以下に設定されている。
【0017】上記のように小型の基板保持カセット20
を使用することによって、当該遠心乾燥装置に関し、大
径の基板の乾燥用としても十分に小型化できる。また、
小型の基板保持カセット20は、これに付着してくる液
体の量が少ないことから、乾燥が迅速に行われると共
に、空気との接触面積が小さい故に、基板3に対して悪
影響を及ぼす静電気の発生を抑えることが出来るもので
ある。
【0018】ところで、図2及び図3に示すように、上
記基板保持カセット20には、取手25が設けられてい
る。詳しくは、この取手25は、基板3の整列方向すな
わち前後方向における端部をなす両側部材22の外側面
上に夫々2つずつ配置されており、且つ、小ねじ26に
よって該側部材22に締結されている。このように、取
手25を、基板3の主面に平行な方向すなわち左右方向
において突設することをせず、基板3の整列方向である
前後方向において突出するように設けたので、基板保持
カセット20の該左右方向における最大寸法が前述した
寸法B1 以上となることがない。
【0019】なお、上記取手25は、作業者自身が上記
基板保持カセット20を持つ際にここを把持するほか、
当該基板保持カセット20を遠心乾燥装置等に対して自
動的に搬入、搬出する装置によって支え持つ際に利用さ
れる。
【0020】すなわち、この搬入、搬出を行う装置は本
発明に係る遠心乾燥装置と併設され、上記基板保持カセ
ット20をその取手25にて吊支するハンガー部材29
(図2に図示)を具備して該基板保持カセット20を保
持する保持手段(ハンガー部材29以外は図示せず)
と、この保持手段を所定経路に沿って移動させることに
よって基板保持カセット20を遠心乾燥装置に対して出
し入れすべく搬送する搬送手段(図示せず)とを備えて
いる。なお、図2に示すように、ハンガー部材29はそ
の爪部29aにて取手25に係合する。
【0021】なお、本実施例においては、上記基板保持
カセット20が、基板支持部材21、側部材22及び取
手25の各部材を小ねじ等を用いて互いに組み付けてな
るが、この他、該基板保持カセット20を全体的に一体
成型することも可能である。このように一体成型品とす
ることにより、該基板保持カセットからの塵埃(パーテ
ィクル)の発生が少なくなる。
【0022】次に、本発明に係る遠心乾燥装置に装備さ
れて上記した基板保持カセット20が着脱自在に装填さ
れるカセット保持部材としてのクレードル31について
説明する。
【0023】図1に示すように、クレードル31は複数
設けられ、回転体としてのターンテーブル1上であって
その回転中心1aから偏倚した位置に設けられている。
また、これらクレードル31は、ターンテーブル1の回
転中心1aに関して対称に振り分けて配置されている。
【0024】なお、図1に示すように、ターンテーブル
1は、上部にて開口した円筒状のケーシング34により
囲僥されており、該開口部を開閉する蓋体35が設けら
れている。また、この蓋体35は当該遠心乾燥装置の本
体部分を構成するフレーム36にヒンジ37により回動
自在(矢印Lにて示している)に取り付けられており、
図示せぬシリンダーによって駆動力を付与されて開閉運
動を行う。
【0025】図1において実線及び二点鎖線にて示すよ
うに、各クレードル31は、その保持する基板3の主面
がターンテーブル1の回転中心1aに対して略直行する
状態になる位置と略平行となる他の位置との間で回動可
能(図1において矢印Mにて示している)となってい
る。詳しくは、クレードル31はその端部にてシャフト
39に嵌着されており、該シャフト39はターンテーブ
ル1に対して回転自在に取り付けられている。そして、
該シャフト39を回転駆動することによってクレードル
31を上記2つの位置の間において回動させ且つ位置決
めする位置決め手段としてのシリンダ(図示せず)が設
けられている。
【0026】ここで、クレードル31の構成について詳
述する。
【0027】図5及び図6に示すように、クレードル3
1は、略直方体状に形成されて上部にて開口したケース
41を有している。なお、該両図に示すように、ケース
41の下面には断面形状がL字状の補強部材42が固着
されている。図5に示すように、このケース41の一端
には張出部41aが設けられており、該張出部41aに
はボス41b(図6にも示す)が固設され、該ボス41
bが前述したシャフト39に嵌合し、且つ、キー等によ
って該シャフト39に固定されている。
【0028】図6から明らかなように、上記ケース41
の底部であって左右両側には、当該クレードル31内に
収容される前述の基板保持カセット20を遠心力作用方
向側、すなわち遠心力が指向する方向側において支承す
る一対のカセット支承部材45が固設されている。該両
カセット支承部材45は互いに同形状、同寸法にて形成
されており、その材質として例えば、前述した基板保持
カセット20と同様のもの(PFA、PTFE、PEE
K等)が選定される。図7はこのカセット支承部材45
の斜視図であるが、該図から特に明らかなように、該カ
セット支承部材45は比較的長く形成されており、図5
に示すようにケース41の略全長にわたって延在するよ
うに設けられている。なお、図6及び図7に示すよう
に、カセット支承部材45の両端部であって背面側に
は、その平坦な底面45aに対して垂直な平面45bが
形成されており、該平面45bがケース41の左右両内
側面に当接している。また、該両平面45bにより挟ま
れる背面側は凹部45cとなっている。
【0029】図6及び図7に示すように、上記カセット
支承部材45の内側部には上下2段の平坦な支承面45
e及び45fが形成されており、基板保持カセット20
は、その具備した4本の基板支持部材21がこの支承面
45e、45fによって略全長にわたって支承されてい
る。この構成により、基板保持カセット20はカセット
支承部材45によってその底面側略全域にわたって均等
に支承され、該カセット支承部材45により補強される
状態となる。
【0030】図5及び図6に示すように、クレードル3
1のケース41には、その上部に、左右一対の基板受け
部材48が取り付けられている。なお、該両基板受け部
材48は互いに同形状、同寸法にて形成されており、そ
の材質として例えば、上記カセット支承部材45及び基
板保持カセット20と同様のもの(PFA、PTFE、
PEEK等)が使用される。図8はこの基板受け部材4
8の斜視図であるが、該図から特に明らかなように、該
基板受け部材48は全体として略矩形板状に形成されて
いる。そして、図5から明らかなように、各基板3の整
列方向において延在して設けられている。図6及び図8
に示すように、上記基板受け部材48には、各基板3の
外周部が係合する受け溝48aがその長手方向に沿って
並設されている。
【0031】クレードル31が図1において二点鎖線に
て示すように下方に回動した際に、上記の基板受け部材
48は、基板保持カセット20から各基板3が脱落する
のを防止する脱落防止手段として作用する。このような
脱落防止手段を設け、しかも、前述したカセット支承部
材45により基板保持カセット20の補強作用をなして
いることから、該基板保持カセット20を前記のように
小型なものとすることが可能となっている。
【0032】なお、前述したように、上記基板受け部材
48は、基板3を該基板3の主面に平行な方向において
挟むように複数、この場合一対設けられている。このよ
うに、複数の基板受け部材48を以て基板3を挟むよう
に受けているので、基板3が安定し、脱落を確実に防止
することが出来る。また、図6から明らかなように、該
基板受け部材48は、遠心力作用方向に対して略垂直に
して基板3の中心を通る仮想直線50上若しくはその近
傍に配置される。かかる構成の故、基板3の脱落を防止
すべく、最も有効に受ける状態となっている。
【0033】ここで、クレードル31に対する上記基板
受け部材48の取付け構造について詳述する。
【0034】図8に示すように、基板受け部材48の背
面側に段差部48bが形成されており、図6にも示すよ
うにこの段差部48bを以てクレードル31のケース4
1の上縁に載置するように配設している。なお、図5に
も示すように、ケース41の上縁部には外方に向って伸
びる拡径部41dが形成されているが、基板受け部材4
8が設けられ部分については範囲R(図5参照)に亘っ
て該拡径部41dは除かれている。
【0035】図5及び図6に示すように、基板受け部材
48との間にケース41の上部を挟むように矩形状の取
付プレート52が設けられており、該取付プレート52
はその下部において基板受け部材48と共にケース41
に対して小ねじ53により締結されている。また、取付
プレート51の上部は基板受け部材48に対して小ねじ
53により締結されている。なお、図8から明らかなよ
うに、基板受け部材48には、これら小ねじ53が挿通
される挿通孔48dが形成されている。
【0036】続いて、上記した構成の遠心乾燥装置の動
作を簡単に説明する。
【0037】まず、図1において、チャンバー34上に
設けられた蓋体35をこれを作動させるシリンダ(図示
せず)により開かせる。そして、他のシリンダ(図示せ
ず)の作動を以て各クレードル31を上方に回動させて
待機させる。
【0038】この状態において、乾燥すべき基板3を収
容した基板保持カセット20を該クレードル31内に入
れ、該クレードル31の底部に設けられたカセット支承
部材45上に載置する。この時、クレードル31に設け
られた基板受け部材48の各受け溝48aに各基板3を
係合させる。
【0039】次に、上記の各シリンダを逆作動させ、各
クレードル31を下方に回動させると共に、チャンバー
34上の蓋体35を閉じる。このようにクレードル31
が下方に回動することによって各基板3はその主面がタ
ーンテーブル1の回転中心1a(図1参照)に対して略
垂直となる。この状態でターンテーブル1を回転駆動す
る。これによって各基板3に遠心力が作用し、基板3の
表面に付着している液体が飛散する。
【0040】各基板3の表面から液体が取り除かれて乾
燥が完了したら、ターンテーブル1を停止する。そし
て、クレードル31を上方に回動させると共に、蓋体3
5を開く。この状態で基板3をこれを保持した基板保持
カセット20と共に回収する。
【0041】なお、クレードル31に対する基板保持カ
セット20の搬入及び搬出は従来の基板保持カセットと
同様に単時間に簡単にこれを行うことができる。
【0042】ところで、本実施例においては、基板保持
カセット20からの基板3の脱落を防止する手段として
基板受け部材48を設けているが、この他の脱落防止手
段として例えば、クレードル31自体に専用の蓋体(図
示せず)を開閉自在に設けることが考えられる。しかし
ながら、このように蓋体を設けると、構成が比較的複雑
になると共に、基板保持カセット20の出し入れの都度
この蓋体を操作しなければならず、時間的ロスの増大を
招来する。
【0043】なお、本実施例においては、取り扱われる
基板3が、例えばその直径が8インチ(約200mm)
のシリコンウエハーであるが、これより大径あるいは小
径のシリコンウエハーを扱う場合には基盤保持カセット
20の諸寸法を適宜増減させることは勿論のこと、本実
施例におけるような円形ではない基板を扱う場合にはそ
れに応じて各部寸法等を変化させることは言及するまで
もない。
【0044】 また、本実施例の遠心乾燥装
置は、ターンテーブル1の回転中心1aが重力方向と略
一致する状態にて設置されるが、この他、回転中心が水
平となる遠心乾燥装置に関しても本発明を適用すること
が可能である。
【0045】図9は、図1に示した遠心乾燥装置にカセ
ット部材として装備されるべき他のクレードル61を示
すものである。なお、当該クレードル61は、以下に説
明する部分以外は図5乃至図8に基づいて説明したクレ
ードル31と同様に構成されているので、クレードル全
体としての説明は省略し要部の説明に留める。また、以
下の説明において、該クレードル31の構成部分と同一
の構成部分については同じ参照符号を用いている。
【0046】図9に示すように、当該クレードル61に
おいては、基板保持カセット20を遠心力作用方向側に
おいて支承すべく一対設けられたカセット支承部材62
が、上記クレードル31が具備するカセット支承部材4
5とは異なっている。なお、これら一対のカセット支承
部材62は互いに同形状、同寸法にて形成されており、
上記クレードル31と同様の材質にて成形されている。
【0047】図10乃至図12に当該カセット支承部材
62の詳細を示す。該各図から明らかなように、該カセ
ット支承部材62には上下2段の平坦な支承面62a及
び62bが形成されており、図9に示すように、基板保
持カセット20は、その具備した4本の基板支持部材2
1がこれら支承面62a、62bによって略全長に亘っ
て支承される。
【0048】カセット支承部材62には、上記支承面6
2bの近傍に、その底面62cに対して垂直に伸長する
基板受部62dが形成されており、該基板受部62dの
頂部には、各基板3の外周部が係合する多数の受け溝6
2eが並設されている。そして、図9から明らかなよう
に、基板保持カセット20が該カセット支承部材62に
より支承された状態において、各基板3は該受け溝62
eに係合して保持され、基板保持カセット20(の基板
支持部材21に形成された受け溝21b)から離脱する
ようになされている。なお、このとき、各基板3は、上
方に配設された基板受け部材48の受け溝48aにも係
合する。このように、基板3をクレードル61内に装填
したときに各受け溝によりしっかりと支える構成の故、
基板3が安定し、高速回転による良好な乾燥状態が得ら
れる。また、各基板3が基板保持カセット20からカセ
ット支承部材62に受け渡された状態で遠心乾燥が行わ
れるから、該基板保持カセット20の摩耗が抑えられ
る。
【0049】なお、図10及び図11に示すように、カ
セット支承部材62には、該カセット支承部材62をク
レードル本体としてのケース41に対して締結するため
のボルト(図示せず)が挿通される挿通孔62fが形成
されている。また、上記した各支承面62a、62bよ
りも低い位置に底面が位置する凹部62gが形成され、
該凹部62gの底面には貫通孔62hが形成されてい
る。これら凹部62g及び貫通孔62hは、基板保持カ
セット20がその保持した基板3と共に該カセット支承
部材62上に載置されたときに、該基板保持カセット2
0及び基板3から滴下する液体を集めてクレードル61
の下方に落とすためのものである。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による遠心
乾燥装置においては、基板保持カセットを遠心力作用方
向側にて支承して該基板保持カセットに対する補強作用
をなすカセット支承部材と、該基板保持カセットからの
基板の脱落を防止する脱落防止手段を有し、以て、該基
板保持カセットの小型化を可能としている。具体的に
は、保持する基板の主面に平行な方向における該基板保
持カセットの最大寸法を該方向における基板の外形寸法
よりも小としている。このように小型の基板保持カセッ
トの使用を可能としたため、大径の基板の乾燥用として
も十分に小型化できるという効果がある。また、小型の
基板保持カセットは、これに付着する液体の量が少ない
ことから乾燥が迅速に行われると共に、空気との接触面
積が小さい故に、基板に悪影響を及ぼす静電気の発生を
抑えることができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の実施例としての遠心乾燥装置
の縦断面図である。
【図2】図2は、図1に示した遠心乾燥装置に装填され
るべき基板保持カセット及び該カセットに保持された基
板を示す一部断面を含む側面図である。
【図3】図3は、図2に示した基板保持カセット及び基
板の、半断面を含む正面図である。
【図4】図4は、図2及び図3に示した基板保持カセッ
トが具備する基板支持部材とこれにより保持される基板
の一部を示す斜視図である。
【図5】図5は、図1に示した遠心乾燥装置が具備した
カセット保持部材としてのクレードルと該クレードルに
収容された基板保持カセットを示す縦断面図である。
【図6】図6は、図5に関するA−A矢視図である。
【図7】図7は、図5及び図6に示したクレードルに設
けられたカセット支承部材を示す斜視図である。
【図8】図8は、図5及び図6に示したクレードルに設
けられた脱落防止手段としての基板受け部材の斜視図で
ある。
【図9】図9は、図1に示した遠心乾燥装置にカセット
保持部材として装備されるべき他のクレードルと該クレ
ードルに収容された基板保持カセットを示す縦断面図で
ある。
【図10】図10は、図9に示したクレードルが具備す
るカセット支承部材の側面図である。
【図11】図11は、図10に関するE−E矢視図であ
る。
【図12】図12は、図10に関するF−F矢視図であ
る。
【図13】図13は、従来の遠心乾燥装置の縦断面図で
ある。
【図14】図14は、図13に示した遠心乾燥装置に装
填されるべき基板保持カセットの縦断面図である。
【図15】図15は、図14に関するC−C断面図であ
る。
【図16】図16は、図13に示した遠心乾燥装置に装
填されるべき他の基板保持カセットの縦断面図である。
【符号の説明】
1 ターンテーブル(回転体) 1a 回転中心 3 基板 8 モータ 20 基板保持カセット 21 基板支持部材 22 側部材 25 取手 29 ハンガー部材 31、61 クレードル(カセット保持部
材) 41 ケース 45、62 カセット支承部材 48 基板受け部材(脱落防止手段)

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数枚の基板をその主面同士が平行とな
    るように整列して保持し得る基板保持カセットを、その
    保持した基板の主面が回転体の回転中心に対して略直交
    する状態にて該回転体に装填し、該回転体を回転駆動す
    ることにより前記基板を乾燥させる遠心乾燥装置におい
    て、前記基板保持カセットを遠心力作用方向側にて支承
    するカセット支承部材と、前記基板の前記基板保持カセ
    ットからの脱落を防止する脱落防止手段とを備えたこと
    を特徴とする遠心乾燥装置。
  2. 【請求項2】 前記基板保持カセットは前記回転体の回
    転中心から偏倚した位置に装填されることを特徴とする
    請求項1記載の遠心乾燥装置。
  3. 【請求項3】 前記回転体には、前記基板保持カセット
    を着脱自在に収容保持するカセット保持部材が、前記基
    板の主面が前記回転体の回転中心に対して略直交する状
    態になる位置と他の位置との間で移動可能に設けられ、
    前記カセット支承部材及び脱落防止手段が該カセット保
    持部材上に設けられていることを特徴とする請求項1又
    は請求項2記載の遠心乾燥装置。
  4. 【請求項4】 前記脱落防止手段は、前記基板の整列方
    向において延在して設けられて前記基板の外周部が係合
    する複数の受け溝が長手方向に沿って並設された基板受
    け部材からなることを特徴とする請求項1乃至請求項3
    のうちいずれか1記載の遠心乾燥装置。
  5. 【請求項5】 前記基板受け部材は、前記基板を該基板
    の主面に平行な方向において挟むように複数設けられて
    いることを特徴とする請求項4記載の遠心乾燥装置。
  6. 【請求項6】 前記基板受け部材は、遠心力作用方向に
    対して略垂直にして前記基板の中心を通る仮想直線上若
    しくはその近傍に配置されていることを特徴とする請求
    項4又は請求項5記載の遠心乾燥装置。
  7. 【請求項7】 前記基板保持カセットは、その保持する
    基板の主面に平行な方向における最大寸法が該方向にお
    ける基板の外形寸法よりも小となされていることを特徴
    とする請求項1乃至請求項6のうちいずれか1記載の遠
    心乾燥装置。
  8. 【請求項8】 前記基板保持カセットは、略平行に且つ
    前記基板の外周に沿うべく互いに離間して配置されると
    共に各々に前記基板の外周部が係合する複数の受け溝が
    長手方向に沿って並設された複数の基板支持部材と、該
    基板支持部材の端部間に介装されて該端部同士を相互結
    合させる側部材とからなることを特徴とする請求項1乃
    至請求項7のうちいずれか1記載の遠心乾燥装置。
  9. 【請求項9】 前記カセット支承部材は前記基板支持部
    材を支承することを特徴とする請求項8記載の遠心乾燥
    装置。
  10. 【請求項10】 前記カセット支承部材には、前記基板
    の外周部が係合する複数の受け溝が並設され、前記基板
    保持カセットが該カセット支承部材により支承された状
    態において前記基板が該受け溝に係合すると共に該基板
    保持カセットから離脱するようになされていることを特
    徴とする請求項1乃至請求項9のうちいずれか1記載の
    遠心乾燥装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6027574A (en) * 1997-08-07 2000-02-22 Applied Materials, Inc. Method of drying a substrate by lowering a fluid surface level
JP2005509280A (ja) * 2001-10-03 2005-04-07 東京エレクトロン株式会社 複数の半導体基板の高圧加工用チャンバ
JP2006249580A (ja) * 2005-02-10 2006-09-21 Tokyo Electron Ltd 薄膜の積層構造、その形成方法、成膜装置及び記憶媒体

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