JPH07141702A - Optical disk inspecting device - Google Patents

Optical disk inspecting device

Info

Publication number
JPH07141702A
JPH07141702A JP28954693A JP28954693A JPH07141702A JP H07141702 A JPH07141702 A JP H07141702A JP 28954693 A JP28954693 A JP 28954693A JP 28954693 A JP28954693 A JP 28954693A JP H07141702 A JPH07141702 A JP H07141702A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
defect
slice level
area
optical disc
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28954693A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shunji Uejima
俊司 上島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP28954693A priority Critical patent/JPH07141702A/en
Publication of JPH07141702A publication Critical patent/JPH07141702A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To detect desired fine defects without recording and reproducing signals in a separate state by setting a variable slice level linked with a base line light quantity for the photodetection signal of a laser beam. CONSTITUTION:The laser beam from a laser beam source 1 is detected by a photodetector 4 via a converging lens 2 and an optical disk 3 and the defect detection is executed by a means 5. A photodetector light quantity signal 10 detected by the photodetector 4 is inputted to a base line light quantity judging circuit 14 in a defect detecting means 5. The light quantity level of the deflectless part of the optical disk is judged within this circuit 14 and a signal is sent as the base line light quantity to a slice level setting circuit 15. The fluctuating slice level is set in accordance with the base line light quantity and the bright slice level and dark slice level are sent to the defect detecting circuit 16. The dark defect and bright defect are detected by using the bright slice level and dark slice level for the photodetector light quantity signal 10 in this circuit 16.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】本発明に於ける詳細な説明を、次の項目に
従って記載する。
A detailed description of the present invention will be given in accordance with the following items.

【0002】[0002]

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクの検査装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disc inspection apparatus.

【0003】[0003]

【従来の技術】光ディスク検査装置について、以下図を
参照しながら説明する。
2. Description of the Related Art An optical disk inspection apparatus will be described below with reference to the drawings.

【0004】図2は基本的な光ディスク検査装置の構
成、図14、図15、図16は、欠陥検出手段5で光デ
ィスクの欠陥検出を行う過程の波形を示したものであ
る。
FIG. 2 shows the structure of a basic optical disk inspection apparatus, and FIGS. 14, 15 and 16 show waveforms in the process of detecting a defect of an optical disk by the defect detecting means 5.

【0005】図2において、光ディスク3に照射させる
ためのレーザービームを発生させるレーザー光源1と、
光ディスク3にレーザービームを収束させるための収束
レンズ2と、光ディスク3を透過したレーザービームを
受光する受光素子4と、光ディスク3を透過したレーザ
ビームの受光信号を処理する欠陥検出手段5から構成さ
れていた。
In FIG. 2, a laser light source 1 for generating a laser beam for irradiating the optical disc 3,
It is composed of a converging lens 2 for converging a laser beam on the optical disc 3, a light receiving element 4 for receiving the laser beam transmitted through the optical disc 3, and a defect detecting means 5 for processing a light reception signal of the laser beam transmitted through the optical disc 3. Was there.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、光ディスク
検査を行うに当たり、微細欠陥検出を誤検出をせずに安
定的に行うことは、光ディスク内透過率変動等の影響に
より困難であった。
However, in the optical disc inspection, it is difficult to detect fine defects stably without erroneous detection due to the influence of fluctuations in transmittance in the optical disc.

【0007】以下に欠陥検出手段5における課題につい
て記す。
The problems in the defect detecting means 5 will be described below.

【0008】図14からわかるとおり、光ディスクの欠
陥箇所でないエリアであっても、変動したレーザービー
ム光量10が(以下ベースライン光量と呼ぶ)得られる
場合があり、明欠陥21が発生した場合であっても、ベ
ースライン光量の変動幅の中に隠れ、明スライスレベル
22では、明欠陥21を検出する事はできなかった。同
様に、暗欠陥20も暗スライスレベル24では、欠陥検
出する事は不可能であった。
As can be seen from FIG. 14, a varied laser beam light amount 10 (hereinafter referred to as a baseline light amount) may be obtained even in an area which is not a defective portion of an optical disk, and a case where a bright defect 21 occurs. However, the bright defect 21 could not be detected at the bright slice level 22 because it was hidden in the fluctuation range of the baseline light amount. Similarly, the dark defect 20 cannot be detected at the dark slice level 24.

【0009】また、図15で示すようなピットエリア明
欠陥91は、ミラーレベル、ランドレベルより受光光量
が小さいために、明スライスレベル22では、欠陥の検
出を行うことはできない。同様に、グルーブエリア暗欠
陥90、ミラーエリア暗欠陥92は、ピットレベルより
受光光量が大きいために、暗スライスレベル24では欠
陥の検出を行うことは不可能であった。
Further, the pit area bright defect 91 as shown in FIG. 15 has a smaller amount of received light than the mirror level and the land level, and therefore the defect cannot be detected at the bright slice level 22. Similarly, since the groove area dark defect 90 and the mirror area dark defect 92 have a larger amount of received light than the pit level, it is impossible to detect the defect at the dark slice level 24.

【0010】また、図16で示すとおり、ユーザエリア
において、ユーザエリア明欠陥スライスレベル123で
は、ユーザエリア明微細欠陥129は検出されないが、
ユーザエリア明欠陥127は検出される。同様に、ユー
ザエリア暗微細欠陥130は、ユーザエリア暗欠陥スラ
イスレベル124では検出されず、ユーザエリア暗欠陥
128は、ユーザエリア暗欠陥スライスレベル124で
検出される。しかしながら、特に厳しく検査を行いたい
データ領域(以下、管理エリアという)に発生した、管
理エリア明微細欠陥125は、ユーザ明欠陥スライスレ
ベル123で検出する事はできない。同様に、管理エリ
ア暗微細欠陥126は、ユーザ暗欠陥スライスレベル1
24で検出する事はできず、得られる欠陥検出信号13
3で示される欠陥のみが検出されることとなる。
Further, as shown in FIG. 16, in the user area, the user area bright defect 129 is not detected at the user area bright defect slice level 123,
The user area bright defect 127 is detected. Similarly, the user area dark defect 130 is not detected at the user area dark defect slice level 124, and the user area dark defect 128 is detected at the user area dark defect slice level 124. However, the management area bright micro-defects 125 generated in a data area (hereinafter, referred to as a management area) which is to be particularly strictly inspected cannot be detected at the user bright defect slice level 123. Similarly, the management area dark fine defects 126 are the user dark defect slice level 1
The defect detection signal 13 obtained cannot be detected by 24.
Only the defect indicated by 3 will be detected.

【0011】そこで、微細欠陥の検出を行うために、厳
しい明スライスレベル131の設定を行った場合、管理
エリア明微細欠陥125の検出が可能となるが、同時に
検出を必要としない、ユーザエリア明微細欠陥129の
検出が行われてしまう。同様に、厳しい暗スライスレベ
ル132の設定を行った場合、管理エリア暗微細欠陥1
26の検出が可能となるが、同時に検出を必要としな
い、ユーザエリア暗微細欠陥130の検出が行われ、得
られる欠陥検出信号は134となる。
Therefore, if a strict bright slice level 131 is set in order to detect fine defects, the management area bright fine defects 125 can be detected, but at the same time, the user area bright is not required to be detected. The fine defects 129 are detected. Similarly, when the strict dark slice level 132 is set, the management area dark fine defects 1
Although it is possible to detect 26, the user area dark microscopic defect 130, which does not require detection at the same time, is detected, and the defect detection signal obtained is 134.

【0012】従って、このような問題に対応するため、
最終的に別工程の検査で、実使検査として、信号の記
録、再生を行い基本信号と再生信号の比較を行う事によ
り、欠陥検出することを余儀なくされていた。
Therefore, in order to deal with such a problem,
Finally, in a separate inspection, as a practical use inspection, it was inevitable to detect a defect by recording and reproducing a signal and comparing the basic signal and the reproduced signal.

【0013】そこで本発明は前記の問題を解決するもの
であり、その目的とするところは、別工程で、信号を記
録、再生する事なく、目的とする微細欠陥を検出する能
力を向上させるところにある。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and an object thereof is to improve the ability to detect a target fine defect without recording or reproducing a signal in a separate step. It is in.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】 (1)光ディスクに照射させるためのレーザービームを
発生させるレーザー光源と、光ディスクにレーザービー
ムを収束させるための収束レンズと、光ディスクにより
変化したレーザービーム光量を受光する受光素子と、レ
ーザービーム光量を受光した受光素子の受光信号を処理
する装置を含む光ディスク検査装置において、前記レー
ザービームの受光信号に対し、ベースライン光量に連動
した可変スライスレベルを設定し欠陥検出を行うことを
可能としたものである。
Means for Solving the Problems (1) A laser light source for generating a laser beam for irradiating an optical disc, a converging lens for converging the laser beam on the optical disc, and a laser beam light amount changed by the optical disc. In an optical disc inspection apparatus including a light-receiving element and a device for processing a light-receiving signal of a light-receiving element that receives a laser beam light amount, a variable slice level linked to the baseline light amount is set for the laser beam light-receiving signal to detect defects. It was possible to do.

【0015】(2)(1)の検査装置において、ベース
ライン光量が変動する光ディスクで、ベースライン光量
の変化に対応した変動スライスレベルを設定する事によ
り、欠陥検出を行うことを可能としたものである。
(2) In the inspection device of (1), it is possible to detect defects by setting a fluctuating slice level corresponding to a change in the baseline light amount in an optical disc in which the baseline light amount fluctuates. Is.

【0016】(3)(1)の検査装置において、欠陥の
無い光ディスクであってもプリフォーマットエリアによ
り、受光素子のレーザービーム受光光量が異なるディス
クについて、それぞれのプリフォーマットエリアに対し
独立のスライスレベルを設定し、欠陥検出を行うもので
ある。
(3) In the inspection apparatus of (1), even if there is no defect in the optical disc, the slice level of the laser beam received by the light receiving element differs depending on the preformat area. Is set to detect defects.

【0017】(4)(1)の検査装置において、同一光
ディスク内で、エリアによって異なった検査レベルを必
要とする検査装置で、レーザービーム受光素子の受光信
号に対し、エリアによって、少なくとも2つ以上の欠陥
検出スライスレベルを設けることにより、エリアにより
異なった検査レベルを可能としたものである。
(4) In the inspection device of (1), the inspection device requires different inspection levels depending on the area in the same optical disk, and at least two or more depending on the area for the received light signal of the laser beam receiving element. By providing the defect detection slice level of, it is possible to have different inspection levels depending on the area.

【0018】[0018]

【作用】本発明では、ベースライン光量変化に埋もれて
しまう微細欠陥検出の為、ベースライン光量変化に対応
した、変動スライスレベルを用いる事により、微細欠陥
の検出が可能となる。
In the present invention, since the fine defect which is buried in the change in the baseline light amount is detected, the fine defect can be detected by using the variable slice level corresponding to the change in the baseline light amount.

【0019】また、光ディスクのプリマスターエリア毎
によるベースライン光量の違いに埋もれてしまう微細欠
陥を検出するため、プリマスターエリア毎に異なったス
ライスレベルを設定する事により、プリマスターエリア
によって異なったベースライン光量に埋もれてしまう微
細欠陥の検出を可能とした。
Further, in order to detect fine defects buried in the difference in the baseline light amount depending on each premaster area of the optical disc, different slice levels are set for each premaster area. It is possible to detect minute defects that are buried in the line light amount.

【0020】また、同一光ディスク内でエリアにより、
検出を必要としない欠陥の非検出と、検出を必要とする
微細欠陥の検出を行うため、エリアによって異なったス
ライスレベルを設ける事により、検出を必要とする欠陥
のみの検出を可能とした。
In addition, according to the area in the same optical disc,
In order to detect non-detection of defects that do not require detection and to detect micro defects that require detection, by providing different slice levels depending on the area, it is possible to detect only defects that require detection.

【0021】[0021]

【実施例】【Example】

(実施例1)実施例1では、請求項1と請求項2の光デ
ィスクによるレーザービーム光量変化の、ベースライン
光量変動に合わせ、欠陥検出を行うためのスライスレベ
ルをベースライン光量の変動に合わせ、変動スライスレ
ベルにより、欠陥検出を行う実施例について説明を行
う。
(Embodiment 1) In the embodiment 1, according to the variation of the laser beam light quantity by the optical disk of claim 1 and the variation of the baseline light quantity, the slice level for defect detection is adjusted to the variation of the baseline light quantity, An example in which the defect detection is performed based on the variable slice level will be described.

【0022】以下、図面を参照しながら、本発明の実施
例について説明する。図2は、基本的な透過型光ディス
ク検査装置の構成図、図3は図2の欠陥検出手段の回路
ブロック図、図4は図3の欠陥検出手段での信号波形を
示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 2 is a block diagram of a basic transmission type optical disc inspection apparatus, FIG. 3 is a circuit block diagram of the defect detecting means of FIG. 2, and FIG. 4 is a signal waveform in the defect detecting means of FIG.

【0023】図2において、光ディスク3に照射させる
ためのレーザービームを発生させるレーザー光源1、光
ディスク3にレーザービームを収束させるための収束レ
ンズ2、光ディスク3、光ディスク3を透過したレーザ
ービームを受光する受光素子4、受光素子4で受光され
た信号から欠陥検出を行う欠陥検出手段5から構成され
る。
In FIG. 2, a laser light source 1 for generating a laser beam for irradiating the optical disc 3, a converging lens 2 for converging the laser beam on the optical disc 3, an optical disc 3, and a laser beam transmitted through the optical disc 3 are received. The light receiving element 4 is composed of a defect detecting means 5 for detecting a defect from a signal received by the light receiving element 4.

【0024】欠陥検出手段5内部は、図3で示すとお
り、受光素子4で検出された受光素子光量信号10が、
ベースライン光量判断回路14に入力され、ベースライ
ン光量判断回路14内で、光ディスクの欠陥の無い部分
の光量レベルを判断し、ベースライン光量として、スラ
イスレベル設定回路15に信号を送る。スライスレベル
設定回路15では、ベースライン光量に基づいて変動し
たスライスレベルを設定し欠陥検出回路16に、図4の
示す明スライスレベル22、暗スライスレベル24を送
る。欠陥検出回路16では、受光素子光量信号10に対
し、明スライスレベル22、暗スライスレベル24をか
けることにより暗欠陥20、明欠陥21が検出される。
Inside the defect detecting means 5, as shown in FIG. 3, the light receiving element light amount signal 10 detected by the light receiving element 4 is
It is input to the baseline light amount determination circuit 14, and the light amount level of the defect-free portion of the optical disc is determined in the baseline light amount determination circuit 14, and a signal is sent to the slice level setting circuit 15 as the baseline light amount. The slice level setting circuit 15 sets a slice level that has changed based on the baseline light amount, and sends the bright slice level 22 and the dark slice level 24 shown in FIG. 4 to the defect detection circuit 16. In the defect detection circuit 16, the dark defect 20 and the bright defect 21 are detected by multiplying the light receiving element light amount signal 10 by the bright slice level 22 and the dark slice level 24.

【0025】図4は、欠陥検出回路16の内部で確認で
きる、信号波形を示したもので、ベースライン光量の変
動に対し、変動した明スライスレベル22、と変動した
暗スライスレベル24を、受光素子光量信号10にかけ
ることにより、暗欠陥20、明欠陥21の検出が安定的
に検出できることが確認できる。
FIG. 4 shows the signal waveforms that can be confirmed inside the defect detection circuit 16. The light slice level 22 that has changed and the dark slice level 24 that has changed are received with respect to the change in the baseline light amount. It can be confirmed that the dark defect 20 and the bright defect 21 can be detected stably by applying the element light amount signal 10.

【0026】さらに、受光素子光量信号10と、明スラ
イスレベル22と暗スライスレベル24の同期をとる事
により、更に精度の高い欠陥検出を行う事ができる。
Furthermore, by synchronizing the light receiving element light amount signal 10 with the bright slice level 22 and the dark slice level 24, it is possible to detect defects with higher accuracy.

【0027】また、欠陥の検出に当たっては、明欠陥ス
ライスレベルと、暗欠陥スライスレベルを併用して実施
例を述べたが、いずれか片方を用いた検査装置であって
も、本発明の意図とする変動スライスレベルを設定し欠
陥検出を行う事が可能である。
Further, in detecting the defect, the embodiment has been described in which the bright defect slice level and the dark defect slice level are used in combination. However, even if the inspection device uses either one, the intention of the present invention is not limited. It is possible to detect a defect by setting a variable slice level to be set.

【0028】(実施例2)実施例2では、請求項1、請
求項2、請求項3の光ディスク透過率の変化による光量
変化に伴う、ベースライン光量変化に対応した、変動ス
ライスレベルの採用と、光ディスクのプリフォーマット
エリアによって異った透過率を示す光ディスクに対し、
エリア毎に異なったスライスレベルを設定した、欠陥検
出の実施例について説明する。
(Embodiment 2) In Embodiment 2, a variable slice level corresponding to a change in the baseline light quantity due to a change in the light quantity due to the change in the optical disc transmittance of claims 1, 2 and 3 is adopted. , For optical disks that show different transmittance depending on the pre-formatted area of the optical disk,
An example of defect detection in which different slice levels are set for each area will be described.

【0029】以下、図面を参照しながら、本発明の実施
例について説明する。図5は、光ディスクの外観図、図
2は基本的な透過型光ディスク検査装置の構成図、図1
3は図2の欠陥検出手段の回路ブロック図、図1は図2
の欠陥検出手段での信号波形を示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 5 is an external view of an optical disc, FIG. 2 is a block diagram of a basic transmission type optical disc inspection apparatus, and FIG.
3 is a circuit block diagram of the defect detecting means of FIG. 2, and FIG. 1 is FIG.
3 shows a signal waveform in the defect detecting means of FIG.

【0030】図5は、光ディスクの外観を示したもので
ある。光ディスク43は、グルーブエリア40、ピット
エリア41、ミラーエリア42のプリフォーマットエリ
アから構成され、欠陥検査実行時には、受光素子4の受
光する光量は、それぞれのプリフォーマットエリアの透
過率が異なるために、それぞれのプリフォーマットエリ
アの透過率の影響を受けたレーザービーム光量が、受光
素子4に入射される事になる。従って、光ディスク検査
実行時には、欠陥の発生のみに限定される事なく、種々
の変動した反射光量が、受光素子4に入射される。
FIG. 5 shows the appearance of the optical disc. The optical disc 43 is composed of pre-format areas including a groove area 40, a pit area 41, and a mirror area 42. At the time of performing a defect inspection, the light amount received by the light receiving element 4 has different transmittances in the respective pre-format areas. The light amount of the laser beam affected by the transmittance of each preformat area is incident on the light receiving element 4. Therefore, when the optical disc inspection is executed, various reflected light amounts are incident on the light receiving element 4 without being limited to the occurrence of defects.

【0031】図2は透過型光ディスク検査装置の構成図
である。構成については、実施例1と同様であるためこ
こでの説明は省略する。
FIG. 2 is a block diagram of a transmission type optical disc inspection apparatus. Since the configuration is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted here.

【0032】欠陥検出手段5内部は、図13で示すブロ
ックから構成され、受光素子4で検出された受光素子光
量信号10が、ベースライン光量判断回路150に入力
され、ベースライン光量判断回路150内で、光ディス
クの欠陥の無い部分のミラーエリアベースライン光量1
57、グルーブエリアベースライン光量158、ピット
エリアベースライン光量159を判断し、それぞれのミ
ラーエリア、グルーブエリア、ピットエリア信号156
を、スライスレベル切り替え用ゲート回路154に信号
を送る。
The inside of the defect detecting means 5 is composed of the blocks shown in FIG. 13, and the light receiving element light amount signal 10 detected by the light receiving element 4 is input to the baseline light amount judging circuit 150, and inside the baseline light amount judging circuit 150. Then, the mirror area baseline light intensity 1 of the part of the optical disc where there is no defect
57, the groove area base line light amount 158 and the pit area base line light amount 159 are determined, and the respective mirror area, groove area and pit area signals 156 are determined.
To the slice level switching gate circuit 154.

【0033】一方、べースライン光量判断回路150で
設定された、ミラーレベルベースライン光量157に基
づき、ミラースライスレベル設定回路151では、図1
(a)で示す、ミラーレベルでの変動明スライスレベル
141A、変動暗スライスレベル142Aが設定され、
スライスレベル切り替え回路154に信号が送られる。
On the other hand, on the basis of the mirror level baseline light quantity 157 set by the base line light quantity judging circuit 150, the mirror slice level setting circuit 151
The variable bright slice level 141A and the variable dark slice level 142A at the mirror level shown in (a) are set,
A signal is sent to the slice level switching circuit 154.

【0034】同様に、べースライン光量判断回路150
で設定された、ランドレベルベースライン光量158
(今回の実施例では、グルーブ部分では、オンランドに
トラッキングを行うためランドレベルとなる)に基づ
き、ランドスライスレベル設定回路152では、図1
(b)で示す、ランドレベルでの変動明スライスレベル
141C、変動暗スライスレベル142Cが設定され、
スライスレベル切り替え回路154に信号が送られる。
Similarly, the base line light amount judgment circuit 150
Land level baseline light intensity 158 set by
In the present embodiment, the land slice level setting circuit 152 uses the land level in FIG.
The variable bright slice level 141C and the variable dark slice level 142C at the land level shown in (b) are set,
A signal is sent to the slice level switching circuit 154.

【0035】同様に、べースライン光量判断回路150
で設定された、ピットレベルベースライン光量159に
基づき、ピットスライスレベル設定回路153では、図
1(a)の示す、ピットレベルでの変動明スライスレベ
ル141B、変動暗スライスレベル142Bが設定さ
れ、スライスレベル切り替え回路154に信号が送られ
る。
Similarly, the base line light amount judgment circuit 150
The pit slice level setting circuit 153 sets the variable bright slice level 141B and the variable dark slice level 142B at the pit level as shown in FIG. A signal is sent to the level switching circuit 154.

【0036】スライスレベル切り替え用ゲート回路15
4では、ベースライン光量判断回路150で判定した、
エリア信号156に基づき、図1で示す、ミラーエリア
での変動明スライスレベル141A、変動暗スライスレ
ベル142A、ピットエリアでの変動明スライスレベル
141B、変動暗スライスレベル142B、ランドレベ
ルでの変動明スライスレベル141C、変動暗スライス
レベル142C、がそれぞれ選択され、変動明スライス
レベル141、変動暗スライスレベル142が、設定さ
れ、欠陥検出回路155に信号が送られる。
Slice level switching gate circuit 15
In 4, the determination was made by the baseline light amount determination circuit 150,
Based on the area signal 156, the variable bright slice level 141A in the mirror area, the varying dark slice level 142A, the varying bright slice level 141B in the pit area, the varying dark slice level 142B, and the varying bright slice in the land level shown in FIG. The level 141C and the varying dark slice level 142C are selected, the varying bright slice level 141 and the varying dark slice level 142 are set, and a signal is sent to the defect detection circuit 155.

【0037】欠陥検出回路155では、図1(c)で示
すとおり受光素子光量信号10に対し変動明スライスレ
ベル141、変動暗スライスレベル142がかけられ
る。従って、変動明スライスレベル141では、ピット
部明微細欠陥144、ミラー部明微細欠陥147、ラン
ド部明微細欠陥143の欠陥検出が可能となり、明欠陥
信号149Aが得られる。同様に受光素子光量信号10
に対し変動暗スライスレベル142では、ピット部暗微
細欠陥146、ランド部暗微細欠陥145、ミラー部暗
微細欠陥148の欠陥検出が可能となり、暗欠陥信号1
49Bが得られる。
In the defect detection circuit 155, the variable light slice level 141 and the variable dark slice level 142 are applied to the light receiving element light amount signal 10 as shown in FIG. Therefore, at the variable bright slice level 141, it becomes possible to detect the pit light fine defects 144, the mirror light fine defects 147, and the land light fine defects 143, and the bright defect signal 149A is obtained. Similarly, the light receiving element light amount signal 10
On the other hand, in the variable dark slice level 142, it becomes possible to detect defects of the pit dark fine defects 146, the land dark fine defects 145, and the mirror dark fine defects 148, and the dark defect signal 1
49B is obtained.

【0038】よって、明欠陥信号149A、暗欠陥信号
149Bの和として、欠陥信号149を得る事が可能と
なる。
Therefore, the defect signal 149 can be obtained as the sum of the bright defect signal 149A and the dark defect signal 149B.

【0039】更に、スライスレベル切り替え回路154
のスライスレベル切り替えタイミングを調整する事によ
り、より安定的に、欠陥の検出が行える事となる。
Further, the slice level switching circuit 154
By adjusting the slice level switching timing of, the defect can be detected more stably.

【0040】また、欠陥の検出に当たっては、明欠陥ス
ライスレベルと、暗欠陥スライスレベルを併用して実施
例を述べたが、いずれか片方を用いた検査装置であって
も、本発明の意図とする異なったスライスレベルの変動
スライスレベルを合成したスライスレベルによる欠陥検
出を行う事が可能である。
Further, in detecting the defect, the embodiment has been described by using the bright defect slice level and the dark defect slice level together, but even if the inspection apparatus uses either one, the intention of the present invention is as follows. It is possible to detect a defect by a slice level obtained by combining variable slice levels of different slice levels.

【0041】(実施例3)実施例3では、請求項1と請
求項3のプリフォーマット状態により反射光量変化に伴
う、ベースライン光量変化に対応した、2つ以上のスラ
イスレベルを採用した欠陥検出の実施例について説明す
る。
(Third Embodiment) In the third embodiment, the defect detection adopting two or more slice levels corresponding to the change in the amount of reflected light due to the change in the amount of reflected light due to the preformatted states of claims 1 and 3. An example will be described.

【0042】以下、図面を参照しながら、本発明の実施
例について説明する。図5は、光ディスクの外観図、図
6は基本的な、反射型光ディスク検査装置の構成図、図
7は図6の欠陥検出手段5の回路ブロック図、図8は図
7の欠陥検出手段での信号波形を示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 5 is an external view of an optical disc, FIG. 6 is a basic configuration diagram of a reflection type optical disc inspection apparatus, FIG. 7 is a circuit block diagram of the defect detecting means 5 of FIG. 6, and FIG. 8 is a defect detecting means of FIG. The signal waveform of is shown.

【0043】図5は、光ディスクの一例の外観を示した
ものである。光ディスクは、グルーブエリア40、ピッ
トエリア41、ミラーエリア42のプリフォーマットエ
リアから構成され、欠陥検査実行時には、受光素子4の
受光する光量は、それぞれのプリフォーマットエリアの
反射率が異なるために、それぞれのプリフォーマットエ
リアの反射率の影響を受けた反射光量が、受光素子4に
入射される事になる。従って、光ディスク検査実行時に
は、欠陥の発生のみに限定される事なく、種々の変動し
た反射光量が、受光素子4に入射される。
FIG. 5 shows the appearance of an example of an optical disc. The optical disc is composed of preformatted areas including a groove area 40, a pit area 41, and a mirror area 42. At the time of performing a defect inspection, the light amount received by the light receiving element 4 is different because the preformatted areas have different reflectances. The amount of reflected light that is affected by the reflectance of the pre-formatted area is incident on the light receiving element 4. Therefore, when the optical disc inspection is executed, various reflected light amounts are incident on the light receiving element 4 without being limited to the occurrence of defects.

【0044】図6は反射型光ディスク検査装置の構成図
であり、光ディスク3に照射させるためのレーザービー
ムを発生させるレーザー光源1、光ディスク3にレーザ
ービームを収束させるための収束レンズ2、光ディスク
3、光ディスクから反射したレーザービームを受光素子
4に反射するためのビームスプリッタ6、光ディスクか
ら反射したレーザービームを受光する受光素子4、受光
素子4で受光された信号から欠陥検出を行う欠陥検出手
段5から構成される。
FIG. 6 is a block diagram of a reflection type optical disc inspection apparatus, which includes a laser light source 1 for generating a laser beam for irradiating the optical disc 3, a converging lens 2 for converging the laser beam on the optical disc 3, an optical disc 3, From the beam splitter 6 for reflecting the laser beam reflected from the optical disk to the light receiving element 4, the light receiving element 4 for receiving the laser beam reflected from the optical disk, and the defect detecting means 5 for detecting a defect from the signal received by the light receiving element 4. Composed.

【0045】欠陥検出手段5内部は、図7で示す回路ブ
ロックから構成され、受光素子4で検出された受光素子
光量信号10が、ベースライン光量判断回路72に入力
され、ベースライン光量判断回路72内で、光ディスク
の欠陥の無い部分のミラーエリアベースライン光量、グ
ルーブエリアベースライン光量、ピットエリアベースラ
イン光量を判断し、それぞれのベースライン光量とし
て、スライスレベル切り替え用ゲート回路73に信号を
送る。
The inside of the defect detecting means 5 is composed of the circuit block shown in FIG. 7, and the light receiving element light amount signal 10 detected by the light receiving element 4 is input to the baseline light amount judging circuit 72, and the baseline light amount judging circuit 72. Among them, the mirror area baseline light quantity, the groove area baseline light quantity, and the pit area baseline light quantity of the defect-free portion of the optical disc are determined, and a signal is sent to the slice level switching gate circuit 73 as the respective baseline light quantities.

【0046】スライスレベル切り替え用ゲート回路73
では、ミラーエリアベースライン光量に基づきミラーエ
リアゲート信号64、グルーブエリアベースライン光量
に基づきグルーブエリアゲート信号63、ピットエリア
ベースライン光量に基づきピットエリアゲート信号6
2、をそれぞれ作成し、ミラーレベル欠陥ゲート回路7
7、ランドレベル欠陥ゲート回路78(今回の説明で
は、グルーブエリアでオンランドにトラッキングした場
合を想定し、説明するために信号レベルは、ランドレベ
ルとして受光素子4に入力される事となる。逆に、イン
グルーブでトラキングを行った場合には、得られる信号
レベルは、グルーブレベルとなる。)、ピットレベル欠
陥ゲート回路79に信号が送られる。
Slice level switching gate circuit 73
Then, the mirror area gate signal 64 based on the mirror area baseline light quantity, the groove area gate signal 63 based on the groove area baseline light quantity, and the pit area gate signal 6 based on the pit area baseline light quantity.
2, respectively, and the mirror level defect gate circuit 7
7. Land level defective gate circuit 78 (In the present description, assuming that tracking is performed on land in the groove area, the signal level will be input to the light receiving element 4 as a land level for the sake of description. When the tracking is performed in the in-groove, the obtained signal level becomes the groove level.), And the signal is sent to the pit level defect gate circuit 79.

【0047】次に、欠陥検出回路、欠陥ゲート回路の動
作を図8を併用して説明する。
Next, the operation of the defect detection circuit and the defect gate circuit will be described with reference to FIG.

【0048】ミラーレベル欠陥検出回路74では、受光
素子光量信号10の入力に対し、ミラーエリア明欠陥ス
ライスレベル81、ミラーエリア暗欠陥スライスレベル
82によりコンパレートし欠陥検出を行う。ところが、
この時点ではミラーエリア暗欠陥スライスレベル82に
より、欠陥でないグルーブエリア40、ピットエリア4
1の全域が欠陥として検出される事となる。そこで、ミ
ラーレベル欠陥ゲート回路77により、ミラーレベル欠
陥検出信号65とミラーエリア欠陥検出用ゲート信号6
4の積を得る事により、ミラーエリア欠陥検出信号68
としてミラーエリアの欠陥のみの信号が得られる。
In the mirror level defect detection circuit 74, the input of the light receiving element light amount signal 10 is compared with the mirror area bright defect slice level 81 and the mirror area dark defect slice level 82 to perform defect detection. However,
At this point, the mirror area dark defect slice level 82 causes the non-defective groove area 40 and pit area 4
The whole area of 1 will be detected as a defect. Therefore, the mirror level defect gate circuit 77 causes the mirror level defect detection signal 65 and the mirror area defect detection gate signal 6 to be detected.
By obtaining the product of 4, the mirror area defect detection signal 68
As a signal of only the defect in the mirror area can be obtained.

【0049】同様に、ランドレベル欠陥検出回路75で
は、受光素子光量信号10の入力に対し、グルーブエリ
ア明欠陥スライスレベル83、グルーブエリア暗欠陥ス
ライスレベル84によりコンパレートし欠陥検出を行
う。ところが、この時点では、グルーブエリア明欠陥ス
ライスレベルにより、欠陥でないミラーエリア42の全
域が欠陥として検出される。また、グルーブエリア暗欠
陥スライスレベル84により、欠陥でないピットエリア
41の全域も欠陥として検出される事となる。そこで、
ランドレベル欠陥ゲート回路78により、ランドレベル
欠陥検出信号66とランドエリア欠陥検出用ゲート信号
63の積を得る事により、グルーブエリア欠陥検出信号
69として、グルーブエリアの欠陥のみの信号が得られ
る。
Similarly, the land level defect detection circuit 75 performs defect detection by comparing the input of the light receiving element light amount signal 10 with the groove area bright defect slice level 83 and the groove area dark defect slice level 84. However, at this point, the entire non-defective mirror area 42 is detected as a defect by the groove area bright defect slice level. Further, the entire groove area dark defect slice level 84 also detects the entire non-defective pit area 41 as a defect. Therefore,
By obtaining the product of the land level defect detection signal 66 and the land area defect detection gate signal 63 by the land level defect gate circuit 78, only the groove area defect signal can be obtained as the groove area defect detection signal 69.

【0050】同様に、ピットレベル欠陥検出回路76で
は、受光素子光量信号10の入力に対し、ピットエリア
明欠陥スライスレベル85、ピットエリア暗欠陥スライ
スレベル86によりコンパレートし欠陥検出を行う。と
ころが、この時点ではピットエリア明欠陥スライスレベ
ル85により、ミラーエリア42とグルーブエリア40
の全域が欠陥として検出される事となるため、ピットレ
ベル欠陥ゲート回路79により、ピットレベル欠陥検出
信号67とピットエリア欠陥検出用ゲート信号62の積
が、ピットエリア欠陥検出信号70としてピットエリア
の欠陥のみの信号が得られる。
Similarly, the pit level defect detection circuit 76 compares the input of the light receiving element light amount signal 10 with the pit area bright defect slice level 85 and the pit area dark defect slice level 86 to detect a defect. However, at this point, the mirror area 42 and the groove area 40 are changed by the pit area bright defect slice level 85.
Therefore, the product of the pit level defect detection signal 67 and the pit area defect detection gate signal 62 is obtained by the pit level defect gate circuit 79 as the pit area defect detection signal 70 of the pit area. Only the defect signal is obtained.

【0051】更に、スライスレベル切り替え用ゲート回
路73のゲート信号発生タイミングを調整する事によ
り、より安定的に、欠陥の検出が行える事となる。
Further, by adjusting the gate signal generation timing of the slice level switching gate circuit 73, the defect can be detected more stably.

【0052】また、欠陥の検出に当たっては、明欠陥ス
ライスレベルと、暗欠陥スライスレベルを併用して実施
例を述べたが、いずれか片方を用いた検査装置であって
も、本発明の意図とする異なったスライスレベルを設定
し欠陥検出を行う事が可能である。
Further, in detecting the defect, the embodiment is described by using the bright defect slice level and the dark defect slice level together. However, even if it is an inspection apparatus using either one, the intention of the present invention is obtained. It is possible to set different slice levels to detect defects.

【0053】(実施例4)実施例4では、請求項1と請
求項4の、同一光ディスク内でエリアにより異なったス
ライスレベルを必要とする検査装置で、レーザービーム
受光素子の受光信号に対し、少なくても2つ以上の欠陥
検出スライスレベルを設ける事により、欠陥検出を行う
実施例について説明を行う。
(Fourth Embodiment) In the fourth embodiment, in the inspection device according to the first and the fourth embodiments, which requires different slice levels depending on the area in the same optical disk, the received signal of the laser beam receiving element is An embodiment in which defect detection is performed by providing at least two defect detection slice levels will be described.

【0054】以下、図面を参照しながら、本発明の実施
例について説明する。図9は異なった検査スライスレベ
ルを必要とした光ディスクに、エリア分けを示した光デ
ィスク外観の一例、図10は、基本的な反射型光ディス
ク検査装置の構成、図11は欠陥検出手段の回路ブロッ
ク図、図12は図11の欠陥検出回路での信号波形を示
す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 9 is an example of the appearance of an optical disc showing area division for optical discs that require different inspection slice levels, FIG. 10 is the configuration of a basic reflection type optical disc inspection device, and FIG. 11 is a circuit block diagram of defect detection means. 12 shows signal waveforms in the defect detection circuit of FIG.

【0055】図9に示す光ディスクは、管理エリア10
0と、ユーザエリア101から構成される。
The optical disc shown in FIG. 9 has a management area 10
0 and the user area 101.

【0056】図10の反射型光ディスク検査装置の構成
は、光ディスク3に照射させるためのレーザービームを
発生させるレーザー光源1と、光ディスク3にレーザー
ビームを収束させるための収束レンズ2と、光ディスク
3と、光ディスク3から反射したレーザービームを受光
素子4に照射させるために、レーザービームを反射させ
るためのビームスプリッタ6と、光ディスク3から反射
したレーザービームを受光するための受光素子4と、受
光素子4で受光された信号から欠陥検出を行う欠陥検出
回路5と、光ディスク3上の検査位置を検出するため走
査位置検出手段7から構成される。
The structure of the reflection type optical disc inspection apparatus shown in FIG. 10 includes a laser light source 1 for generating a laser beam for irradiating the optical disc 3, a converging lens 2 for converging the laser beam on the optical disc 3, and an optical disc 3. A beam splitter 6 for reflecting the laser beam reflected from the optical disk 3 to the light receiving element 4, a light receiving element 4 for receiving the laser beam reflected from the optical disk 3, and a light receiving element 4 It is composed of a defect detection circuit 5 for detecting a defect from a signal received by and a scanning position detecting means 7 for detecting an inspection position on the optical disc 3.

【0057】次に、動作を図を参照しながら説明する。Next, the operation will be described with reference to the drawings.

【0058】欠陥検出手段5内部は、図11で示す回路
ブロックから構成され、走査位置検出手段7で検出され
た走査位置信号110が、走査位置検出回路112に入
力され、走査位置検出回路112内で光ディスクの検査
位置を判断し、スライスレベル設定回路114で設定す
るための走査位置情報113を発生させる。スライスレ
ベル設定回路114では、走査位置情報113に基づい
て、管理エリア100を走査中は、管理エリア明欠陥ス
ライスレベル121、管理エリア暗欠陥スライスレベル
122がそれぞれ設定され、欠陥検出回路116に管理
エリア100のスライスレベルとして設定され、受光素
子4で検出された受光素子光量信号10に対し欠陥検出
を行い、管理エリア明スライスレベル121により、管
理エリア微細明欠陥125の検出が行われる。また、管
理エリア暗スライスレベル122により、管理エリア微
細暗欠陥126の欠陥検出が可能となる。
The inside of the defect detecting means 5 is composed of the circuit block shown in FIG. 11, and the scanning position signal 110 detected by the scanning position detecting means 7 is inputted to the scanning position detecting circuit 112, and the inside of the scanning position detecting circuit 112 is shown. Then, the inspection position of the optical disk is determined, and the scanning position information 113 for setting by the slice level setting circuit 114 is generated. In the slice level setting circuit 114, a management area bright defect slice level 121 and a management area dark defect slice level 122 are respectively set during scanning of the management area 100 based on the scanning position information 113, and the defect detection circuit 116 is set in the management area. The defect level is set for the slice level of 100 and the defect detection is performed on the light receiving element light amount signal 10 detected by the light receiving element 4, and the management area fine bright defect 125 is detected by the management area bright slice level 121. Further, the management area dark slice level 122 enables defect detection of the management area fine dark defect 126.

【0059】一方、ユーザエリア101を走査中は、ユ
ーザエリア明欠陥スライスレベル123、ユーザエリア
暗欠陥スライスレベル124がそれぞれ設定され、欠陥
検出回路116にユーザエリア101のスライスレベル
として設定され、受光素子4で検出された受光素子光量
信号10に対し欠陥検出を行い、ユーザエリア明欠陥ス
ライスレベル123により、ユーザエリア明欠陥127
の検出が行われる。また、ユーザエリア暗欠陥スライス
レベル124により、ユーザエリア暗欠陥128が検出
される。
On the other hand, while scanning the user area 101, the user area bright defect slice level 123 and the user area dark defect slice level 124 are set respectively, and are set as the slice level of the user area 101 in the defect detection circuit 116, and the light receiving element is set. The defect detection is performed on the light receiving element light amount signal 10 detected in step 4, and the user area bright defect 127 is detected by the user area bright defect slice level 123.
Is detected. Further, the user area dark defect slice level 124 detects the user area dark defect 128.

【0060】従って、この検査では、管理エリアは、厳
しいスライスレベル、管理エリア明欠陥スライスレベル
121、管理エリア暗欠陥スライスレベル122によ
り、管理エリア微細明欠陥125、管理エリア微細暗欠
陥126の検出ができる。一方ユーザエリアでは、ラフ
なスライスレベル、ユーザエリア明欠陥スライスレベル
123、ユーザエリア暗欠陥スライスレベル124が設
定されるために、ユーザエリア明欠陥127、ユーザエ
リア暗欠陥128は検出されるものの、ユーザエリア微
細明欠陥129、ユーザエリア微細暗欠陥130は検出
されず、欠陥検出信号117が得られる事となる。
Therefore, in this inspection, in the management area, the management area fine bright defect 125 and the management area fine dark defect 126 are detected by the severe slice level, the management area bright defect slice level 121, and the management area dark defect slice level 122. it can. On the other hand, in the user area, since the rough slice level, the user area bright defect slice level 123, and the user area dark defect slice level 124 are set, the user area bright defect 127 and the user area dark defect 128 are detected, but the user The area fine bright defect 129 and the user area fine dark defect 130 are not detected, and the defect detection signal 117 is obtained.

【0061】実施例4では、管理エリア100とユーザ
エリア101を例に取って説明したが、本発明は同心円
状のエリア区分に限定されるものでなく、少なくとも2
つ以上のエリアに対し、異なったスライスレベルを用い
ることにより、欠陥を検出するものであり、そのエリア
としては放射状のエリア区分であったり、同心円と放射
状の合成であったり、前記によらない正方形のエリアに
も対応可能である。
In the fourth embodiment, the management area 100 and the user area 101 have been described as an example, but the present invention is not limited to concentric area division, and at least two areas are provided.
Defects are detected by using different slice levels for three or more areas.The area is a radial area division, a concentric circle and a radial combination, or a square not depending on the above. It can also be used in other areas.

【0062】また、欠陥の検出に当たっては、明欠陥ス
ライスレベルと、暗欠陥スライスレベルを併用して実施
例を述べたが、いずれか片方を用いた検査装置であって
も、本発明の意図とする異なったスライスレベルを設定
し欠陥検出を行う事が可能である。
Further, in detecting the defect, the embodiment has been described in which the bright defect slice level and the dark defect slice level are used in combination. It is possible to set different slice levels to detect defects.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、光デ
ィスクの検査において、変動スライスレベルまたは、光
ディスクのプリフォーマットエリアに対しそれぞれ異な
ったスライスレベルを設ける、あるいは、光ディスクの
エリアにより異なったスライスレベルを設ける事によ
り、以下に記載される効果を有する。
As described above, according to the present invention, when inspecting an optical disc, different slice levels are provided for the variable slice level or the pre-formatted area of the optical disc, or different slice levels are provided for different areas of the optical disc. By setting the level, the following effects can be obtained.

【0064】光ディスク3の検査を行うに当たり、変動
スライスレベルを用いる事により、ベースライン光量変
動の中に埋もれてしまう微細欠陥の検出を、再現性良く
安定的に検出可能である。
By using the variable slice level when inspecting the optical disk 3, it is possible to stably detect the fine defects buried in the fluctuation of the baseline light amount with good reproducibility.

【0065】また、光ディスクのプリフォーマットエリ
アにより、異なったスライスレベルを設ける事により、
光ディスクのプリフォーマットによるベースライン光量
変動に埋もれ、検出不可能であった欠陥の検出が可能で
ある。
Further, by providing different slice levels depending on the preformat area of the optical disc,
It is possible to detect an undetectable defect that is buried in the fluctuation of the baseline light amount due to the pre-formatting of the optical disc.

【0066】また、光ディスクの複数のエリアによっ
て、異なった検査レベルを設定する場合において、エリ
アに対応した異なった検査レベルを用いて検査を行う事
により、1回の検査で、エリア毎に異なった検査レベル
で検査する事が可能である。
Further, when different inspection levels are set for a plurality of areas of the optical disk, the inspection is performed using different inspection levels corresponding to the areas. It is possible to inspect at the inspection level.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の変動スライスレベルを用いた
欠陥検出波形図。
FIG. 1 is a defect detection waveform diagram using a variable slice level according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例である光ディスクの欠陥検査を
行う基本的な透過型検査装置の構成図。
FIG. 2 is a configuration diagram of a basic transmission type inspection apparatus for inspecting a defect of an optical disc which is an embodiment of the present invention.

【図3】本発明による実施例の光ディスクの変動スライ
スレベルを用いた検査装置のブロック図。
FIG. 3 is a block diagram of an inspection apparatus using a variable slice level of an optical disc according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明による実施例の変動スライスレベルを用
いた際の欠陥検出波形図。
FIG. 4 is a defect detection waveform diagram when a variable slice level according to an embodiment of the present invention is used.

【図5】本発明の実施例である一例として用いた光ディ
スク外観図。
FIG. 5 is an external view of an optical disc used as an example that is an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例である光ディスクの欠陥検査を
行う基本的な反射型検査装置の構成図。
FIG. 6 is a configuration diagram of a basic reflection type inspection apparatus for inspecting a defect of an optical disc according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明による実施例の光ディスクのスライスレ
ベル切り替え機能を用いた検査装置のブロック図。
FIG. 7 is a block diagram of an inspection apparatus using a slice level switching function of an optical disc according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明による実施例のスライスレベル切り替え
を用い欠陥検出を行う欠陥検出波形図。
FIG. 8 is a defect detection waveform diagram for performing defect detection using slice level switching according to an embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施例である一例として用いた管理エ
リア、ユーザーエリアを示した光ディスク外観図。
FIG. 9 is an external view of an optical disc showing a management area and a user area used as an example that is an embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施例である光ディスクの欠陥検査
を行う基本的な反射型検査装置の構成図。
FIG. 10 is a configuration diagram of a basic reflection type inspection apparatus for inspecting a defect of an optical disc according to an embodiment of the present invention.

【図11】本発明による実施例で、ディスク検査位置に
よりスライスレベル切り替え機能を用いた検査装置のブ
ロック図。
FIG. 11 is a block diagram of an inspection apparatus using a slice level switching function according to a disk inspection position in an embodiment according to the present invention.

【図12】本発明による実施例で、光ディスク位置によ
りスライスレベル切り替えを用い欠陥検出を行う欠陥検
出波形図。
FIG. 12 is a defect detection waveform diagram in which defect detection is performed using slice level switching according to the optical disc position in the embodiment according to the present invention.

【図13】本発明による実施例で、光ディスクのプリフ
ォーマットエリアによってスライスレベル切り替え機能
を用いた検査装置のブロック図。
FIG. 13 is a block diagram of an inspection apparatus using a slice level switching function according to a preformatted area of an optical disc in an embodiment according to the present invention.

【図14】従来検査装置の実施例で、ベースライン変動
に埋もれてしまう欠陥波形図。
FIG. 14 is a defect waveform diagram which is buried in a baseline fluctuation in the example of the conventional inspection apparatus.

【図15】従来検査装置の実施例で、光ディスクのプリ
フォーマット信号に埋もれてしまう欠陥波形図。
FIG. 15 is a defect waveform diagram which is buried in a preformatted signal of an optical disc in an example of a conventional inspection apparatus.

【図16】従来検査装置の実施例で、同一のスライスレ
ベルを用いた際の問題点を示した欠陥波形図。
FIG. 16 is a defect waveform diagram showing a problem when the same slice level is used in the embodiment of the conventional inspection apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:レーザー光源 2:収束レンズ 3:光ディスク 4:受光素子4 5:欠陥検出回路 6:ビ−ムスプリッタ 10:受光素子光量信号入力 141:変動明スライスレベル 142:変動暗スライスレベル 147:ミラーエリア明欠陥 148:ミラーエリア暗欠陥 143:グルーブエリア明欠陥 145:グルーブエリア暗欠陥 144:ピットエリア明欠陥 146:ピットエリア暗欠陥 149:欠陥検出信号 1: Laser light source 2: Converging lens 3: Optical disk 4: Light receiving element 4 5: Defect detection circuit 6: Beam splitter 10: Light receiving element light amount signal input 141: Fluctuating bright slice level 142: Fluctuating dark slice level 147: Mirror area Bright defect 148: Mirror area dark defect 143: Groove area bright defect 145: Groove area dark defect 144: Pit area bright defect 146: Pit area dark defect 149: Defect detection signal

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光ディスクに照射させるためのレーザー
ビームを発生させるレーザー光源と、光ディスクにレー
ザービームを収束させるための収束レンズと、光ディス
クにより変化したレーザービーム光量を受光する受光素
子と、レーザービーム光量を受光した受光素子の受光信
号を処理する装置、を含む光ディスク検査装置におい
て、前記レーザービームの受光信号に対し、可変スライ
スレベルを設定し欠陥検出を行うことを特徴とした光デ
ィスク検査装置。
1. A laser light source for generating a laser beam for irradiating an optical disc, a converging lens for converging the laser beam on the optical disc, a light receiving element for receiving the laser beam light amount changed by the optical disc, and a laser beam light amount. An optical disc inspecting device, comprising: a device for processing a light receiving signal of a light receiving element that has received a light beam, wherein a variable slice level is set for the light receiving signal of the laser beam to detect a defect.
【請求項2】 請求項1の検査装置において、欠陥の無
い箇所でも受光素子が受光したレーザービーム光量が変
動する光ディスクで、欠陥の無い箇所のレーザービーム
光量変化に、対応した変動スライスレベルを設定し、欠
陥検出を行うことを特徴とした光ディスク検査装置。
2. The inspection apparatus according to claim 1, wherein in the optical disc in which the light amount of the laser beam received by the light receiving element fluctuates even in a defect-free portion, a fluctuating slice level corresponding to a change in the laser beam light amount in the defect-free portion is set. Then, an optical disc inspection apparatus characterized by performing defect detection.
【請求項3】 請求項1の検査装置において、欠陥の無
い光ディスクであってもエリアにより、受光素子のレー
ザービーム受光光量が異なるディスクについて、それぞ
れのエリアに対し独立のスライスレベルを設定し、欠陥
検出を行うことを特徴とした光ディスク検査装置。
3. The inspection apparatus according to claim 1, wherein even for an optical disk having no defect, an independent slice level is set for each area of the disk having a different amount of light received by the laser beam of the light receiving element depending on the area, and a defect level is set. An optical disk inspection device characterized by performing detection.
【請求項4】 請求項1の検査装置において、同一光デ
ィスク内で、エリアによって異なった検査レベルを必要
とする検査装置で、レーザービーム受光素子の受光信号
に対し、少なくとも2つ以上の欠陥検出スライスレベル
を設けることを特徴とした光ディスク検査装置。
4. The inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection apparatus requires different inspection levels depending on areas within the same optical disc, and at least two or more defect detection slices are provided for a light reception signal of a laser beam light receiving element. An optical disk inspection device characterized by providing a level.
JP28954693A 1993-11-18 1993-11-18 Optical disk inspecting device Pending JPH07141702A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28954693A JPH07141702A (en) 1993-11-18 1993-11-18 Optical disk inspecting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28954693A JPH07141702A (en) 1993-11-18 1993-11-18 Optical disk inspecting device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07141702A true JPH07141702A (en) 1995-06-02

Family

ID=17744650

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28954693A Pending JPH07141702A (en) 1993-11-18 1993-11-18 Optical disk inspecting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07141702A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7339870B2 (en) 2003-12-25 2008-03-04 Hitachi, Ltd. Optical disk apparatus and data reproducing method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7339870B2 (en) 2003-12-25 2008-03-04 Hitachi, Ltd. Optical disk apparatus and data reproducing method
US7724625B2 (en) 2003-12-25 2010-05-25 Hitachi, Ltd. Optical disk apparatus and data reproducing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5646415A (en) Apparatus for detecting a defect of an optical disc based on sensor outputs for adjacent positions
JPH01313741A (en) Method and device for inspecting surface of disk
GB2196115A (en) Optical pickup device
US4958083A (en) Inspecting apparatus capable of accurately inspecting an object
JPH07141702A (en) Optical disk inspecting device
US5909413A (en) Optical pickup apparatus having crosstalk balance and tilt correction
JPS60200112A (en) Optical detection of shape error
US4647196A (en) Surface flaw detection method
KR100416497B1 (en) Pattern Inspection System
US6956802B2 (en) Aperture ratio measuring apparatus for optical recording medium with pre-pits
JPH01260348A (en) Surface inspector for glass disc
JPH07286967A (en) Inspecting method and inspecting device for optical disk
JPS62291550A (en) Apparatus for inspecting optical disk
JP2623576B2 (en) Optical disk inspection method
JPH04363649A (en) Defect inspection method of optical information recording medium
JP3066758B2 (en) Optical information recording method
KR100438783B1 (en) Method for detecting disc
JPS61104440A (en) Method and device for detecting deffect of recording medium with no contact
JP4283203B2 (en) Land pre-pit amplitude evaluation method and apparatus, and land pre-pit amplitude measurement method and apparatus
JP4115764B2 (en) Semiconductor laser device characteristic evaluation method and semiconductor laser device characteristic inspection apparatus
JPH0618439A (en) Inspection unit
JPS60256945A (en) Optical disc check device
JPS60154635A (en) Apparatus for inspecting pattern defect
JP2974804B2 (en) Optical correlation processing method
JP2652887B2 (en) Method for measuring the size of group defect on optical disc