JPH07128396A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH07128396A
JPH07128396A JP5272171A JP27217193A JPH07128396A JP H07128396 A JPH07128396 A JP H07128396A JP 5272171 A JP5272171 A JP 5272171A JP 27217193 A JP27217193 A JP 27217193A JP H07128396 A JPH07128396 A JP H07128396A
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Abstract

PURPOSE:To make it possible to easily measure gate leak current without requiring any test jig by providing a plurality of input buffer circuits each having a MOS transistor, a plurality of switch circuits, and a control circuit therefor. CONSTITUTION:At the time of gate leak current test, a test mode switching signal is set at H level with a power supply voltage VDD and a ground potential GND being applied to circuits in an LSI and each CMOS transfer gate circuit 14 is turned on based on an output level H from a buffer circuit 161 and an output level L from an inverter circuit 162. Since each node of each input buffer circuit 121-12n is short-circuited, DC input can be applied simultaneously to all input pins 111 to 11n of the LSI when the terminal of an external LSI tester is connected with any one of the input pins 111 and thereby, the gate leak current can be measured simultaneously.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に係
り、特に大規模集積回路(LSI)における入力バッフ
ァ回路のゲートリーク試験機能を行うためのテスト回路
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a test circuit for performing a gate leak test function of an input buffer circuit in a large scale integrated circuit (LSI).

【0002】[0002]

【従来の技術】LSIのDC試験の1つとして、LSI
の入力バッファ回路のMOSトランジスタのゲートリー
ク電流量の測定を行っている。このゲートリーク試験を
行う方法の1つとして、LSIの各入力ピン毎にLSI
テスタより“H”レベルあるいは“L”レベルに設定
し、この状態での入力バッファ回路毎のゲートリーク電
流を測定している。
2. Description of the Related Art LSI is one of the DC tests for LSI.
The amount of gate leakage current of the MOS transistor of the input buffer circuit is measured. As one of the methods for performing this gate leak test, an LSI is provided for each input pin of the LSI.
The gate leak current for each input buffer circuit in this state is measured by setting it to "H" level or "L" level by the tester.

【0003】しかし、この方法は、各入力ピン毎に測定
条件を設定して測定を行うので、LSIのピン数の増大
に伴い、測定時間が増加する。また、近年のLSIの微
細化加工技術の進歩により高集積化が進み、LSIの入
/出力ピンに接続されている双方向バッファ回路の入/
出力制御を行うために膨大なテストパターンが必要にな
り、このことも測定時間の増加を招いている。
However, according to this method, the measurement condition is set for each input pin and the measurement is performed. Therefore, the measurement time increases as the number of pins of the LSI increases. Further, due to the recent progress in the miniaturization processing technology of LSI, the high integration has been advanced, and the input / output of the bidirectional buffer circuit connected to the input / output pin of the LSI has been advanced.
A huge number of test patterns are required to control the output, which also causes an increase in measurement time.

【0004】前記ゲートリーク試験を行う方法の他の例
として、LSIの各入力ピンをLSI外部で短絡状態に
設定し得るゲートリーク試験用治具を用い、各ピンを短
絡した状態でLSIの全入力ピンにLSIテスタより
“H”レベルあるいは“L”レベルを印加し、全入力バ
ッファ回路のゲートリーク電流を一度に測定するジャイ
アントリークテストが行われる。
As another example of the method for performing the gate leak test, a gate leak test jig capable of setting each input pin of the LSI to a short-circuited state outside the LSI is used, and all pins of the LSI are short-circuited. A giant leak test is performed in which "H" level or "L" level is applied to the input pins from the LSI tester and the gate leak currents of all the input buffer circuits are measured at one time.

【0005】しかし、この方法は、LSIの品種毎にゲ
ートリーク試験用治具を準備する必要があり、LSIの
検査コストや開発期間の増大を招く。また、LSIの入
力ピンとして、入力負荷抵抗が接続されているものとそ
うでないものとが混在している場合には、前記したよう
なゲートリーク試験用治具の修正が必要となり、LSI
の全入力ピンに対して一度に測定することができず、複
数回に分けて測定する必要が生じ、このことも開発期間
の増大を招いている。
However, in this method, it is necessary to prepare a jig for a gate leak test for each type of LSI, which causes an increase in inspection cost of the LSI and an increase in development period. Further, when the input pins of the LSI include those to which the input load resistance is connected and those not to be connected, it is necessary to correct the gate leak test jig as described above.
Since it is not possible to measure all the input pins at once, it is necessary to measure in multiple times, which also leads to an increase in development period.

【0006】一方、DRAMなどのLSIにおいては、
機能試験を行うためのテスト回路をLSIに内蔵するこ
とにより、LSIテスターの簡素化を図る技術が知られ
ており、これに準じてLSIのゲートリーク試験を行う
ためのテスト回路をLSIに内蔵することが考えられる
が、LSIの入力回路部に固有の各種の問題点を解決
し、適切な回路構成を工夫する必要がある。
On the other hand, in LSI such as DRAM,
There is known a technique for simplifying an LSI tester by incorporating a test circuit for performing a functional test in the LSI, and a test circuit for performing a gate leak test of the LSI is incorporated in the LSI according to this. However, it is necessary to solve various problems peculiar to the input circuit section of the LSI and devise an appropriate circuit configuration.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
半導体集積回路は、LSIの複数の入力バッファ回路の
ゲートリーク電流を同時に測定する場合に、LSIの品
種毎にゲートリーク試験用治具を準備する必要があり、
LSIの検査コストや開発期間の増大を招くという問題
があった。
As described above, in the conventional semiconductor integrated circuit, when the gate leakage currents of a plurality of LSI input buffer circuits are simultaneously measured, a gate leakage test jig is provided for each LSI type. Need to prepare,
There is a problem in that the inspection cost of the LSI and the development period increase.

【0008】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、ゲートリーク試験用治具を必要とせずに、L
SIの入力バッファ回路のゲートリーク電流を短時間で
容易に測定し得る半導体集積回路を提供することを目的
とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to obtain an L
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of easily measuring the gate leak current of an SI input buffer circuit in a short time.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、複数個の信号入力端子と、この複数個の信号入力端
子に対応して各入力ノードが接続され、上記各入力ノー
ドにゲートが接続されたMOSトランジスタを有する複
数個の入力バッファ回路と、この複数個の入力バッファ
回路の各入力ノード間を短絡し得るように挿入された複
数個のスイッチ回路と、この複数個のスイッチ回路をス
イッチ制御するためのテストモード切換信号が与えら
れ、このテストモード切換信号に基づいて前記複数個の
スイッチ回路をそれぞれオフ状態あるいはそれぞれオン
状態に制御する制御回路とを具備することを特徴とす
る。
In a semiconductor integrated circuit of the present invention, a plurality of signal input terminals are connected to respective input nodes corresponding to the plurality of signal input terminals, and gates are connected to the respective input nodes. A plurality of input buffer circuits having connected MOS transistors, a plurality of switch circuits inserted so as to short-circuit between the input nodes of the plurality of input buffer circuits, and a plurality of switch circuits are provided. A test mode switching signal for switch control is provided, and a control circuit for controlling each of the plurality of switch circuits into an off state or an on state based on the test mode switching signal is provided.

【0010】[0010]

【作用】通常動作時には、テストモード切換信号に基づ
いて各スイッチ回路をそれぞれオフ状態に制御すること
により、各入力バッファ回路の動作が可能になる。ゲー
トリーク電流試験時には、テストモード切換信号に基づ
いて各スイッチ回路をそれぞれオン状態に制御すること
により、複数の入力バッファ回路の各入力ノード相互が
短絡状態になるので、LSIの入力バッファ回路のゲー
トリーク電流を短時間で測定することが可能になる。
In normal operation, each input buffer circuit can be operated by controlling each switch circuit to the off state based on the test mode switching signal. During the gate leak current test, the respective input nodes of the plurality of input buffer circuits are short-circuited by controlling each switch circuit to the ON state based on the test mode switching signal. It becomes possible to measure the leak current in a short time.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図1は、本発明のLSIにおける入力回路
部の第1実施例を示している。このLSIにおいて、1
11〜11nは複数個の信号入力ピン、121〜12n
は上記複数個の信号入力ピンに対応して接続されている
複数個の入力バッファ回路であり、それぞれ例えばCM
OSインバータ回路13が二段接続されており、その出
力ノードはLSI内部回路に接続されている。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the input circuit section in the LSI of the present invention. In this LSI, 1
11 to 11n are a plurality of signal input pins, 121 to 12n
Is a plurality of input buffer circuits connected corresponding to the plurality of signal input pins, each of which is, for example, a CM.
The OS inverter circuit 13 is connected in two stages, and its output node is connected to the LSI internal circuit.

【0012】14…は前記複数個の入力バッファ回路1
21〜12nの各入力ノード間を短絡し得るように挿入
された複数個のスイッチ回路である。本例では、任意の
1個の入力バッファ回路の入力ノードと別の1個の入力
バッファ回路の入力ノードとの間に1個づつ例えばCM
OSトランスファゲート回路が接続され、入力バッファ
回路121〜12nの各入力ノード間を順次接続する
(全体としてリング状に接続する)ように構成されてい
る。
Reference numeral 14 denotes the plurality of input buffer circuits 1
It is a plurality of switch circuits inserted so that each input node of 21 to 12n can be short-circuited. In this example, one CM is provided between the input node of any one input buffer circuit and the input node of another one input buffer circuit, for example, CM.
An OS transfer gate circuit is connected, and the input nodes of the input buffer circuits 121 to 12n are sequentially connected (they are connected in a ring shape as a whole).

【0013】15はテストモード切換信号が外部から入
力する1個の制御ピンであり、この制御ピン15からテ
ストモード切換信号が与えられ、このテストモード切換
信号に基づいて前記複数個のCMOSトランスファゲー
ト14…をそれぞれオフ状態あるいはそれぞれオン状態
に制御する制御回路が設けられている。
Numeral 15 is one control pin to which a test mode switching signal is inputted from the outside, and a test mode switching signal is given from this control pin 15, and the plurality of CMOS transfer gates are supplied based on this test mode switching signal. A control circuit is provided to control 14 ...

【0014】この制御回路は、前記制御ピン15からの
テストモード切換信号入力を受け、その出力信号を前記
各CMOSトランスファゲート回路14…のNMOSト
ランジスタTNのゲートに供給するバッファ回路161
と、前記各CMOSトランスファゲート回路14…に対
応して設けられ、それぞれ上記バッファ回路161の出
力信号を受けて反転し、それぞれの出力信号を対応して
前記各CMOSトランスファゲート回路14…のPMO
SトランジスタTPのゲートに供給する複数個のインバ
ータ回路162…と、前記制御ピン15と接地電位(G
ND)ノードとの間に接続されたプルダウン用の抵抗素
子Rとを有する。
This control circuit receives a test mode switching signal input from the control pin 15 and supplies the output signal to the gates of the NMOS transistors TN of the CMOS transfer gate circuits 14 ...
, Corresponding to the CMOS transfer gate circuits 14 ..., Receiving and inverting the output signals of the buffer circuits 161 respectively, and corresponding PMOs of the CMOS transfer gate circuits 14 ...
A plurality of inverter circuits 162 supplied to the gate of the S transistor TP, the control pin 15 and the ground potential (G
ND) node and a resistance element R for pull-down connected to the node.

【0015】上記制御ピン15、制御回路および前記複
数個のCMOSトランスファゲート回路14…は、ゲー
トリーク電流試験回路17を形成している。上記実施例
のLSIにおいて、通常動作時には、LSI内の回路に
電源電圧VDDおよび接地電位GNDが与えられた状態
で、テストモード切換信号が“L”レベルに設定され、
バッファ回路161の出力レベル“L”およびインバー
タ回路162…の出力レベル“H”に基づいて各CMO
Sトランスファゲート回路14…がそれぞれオフ状態に
制御される。これにより、各入力バッファ回路121〜
12nが動作可能状態になる。
The control pin 15, the control circuit and the plurality of CMOS transfer gate circuits 14 ... Form a gate leak current test circuit 17. In the LSI of the above embodiment, during normal operation, the test mode switching signal is set to the "L" level with the power supply voltage VDD and the ground potential GND being applied to the circuit in the LSI.
Based on the output level "L" of the buffer circuit 161 and the output level "H" of the inverter circuits 162 ...
Each of the S transfer gate circuits 14 ... Is controlled to an off state. As a result, each input buffer circuit 121 to
12n becomes operable.

【0016】これに対して、ゲートリーク電流試験時に
は、LSI内の回路に電源電圧VDDおよび接地電位GN
Dが与えられた状態でテストモード切換信号が“H”レ
ベルに設定され、バッファ回路161の出力レベル
“H”およびインバータ回路162…の出力レベル
“L”に基づいて各CMOSトランスファゲート回路1
4…がそれぞれオン状態に制御される。
On the other hand, during the gate leak current test, the power supply voltage VDD and the ground potential GN are applied to the circuits in the LSI.
The test mode switching signal is set to the “H” level in the state where D is applied, and each CMOS transfer gate circuit 1 is set based on the output level “H” of the buffer circuit 161 and the output level “L” of the inverter circuit 162.
4 ... are controlled to be in the ON state.

【0017】これにより、各入力バッファ回路121〜
12nの各入力ノード相互が短絡状態になるので、LS
Iの入力ピン111〜11nのいずれか1つに外部のL
SIテスターの端子を接続することにより、LSIの全
入力ピン111〜11nに対して、同時にDC入力を印
加してゲートリーク電流を一度に測定することが可能に
なる。
As a result, each input buffer circuit 121-
Since the 12n input nodes are short-circuited to each other, LS
External L to any one of I input pins 111 to 11n
By connecting the terminals of the SI tester, it becomes possible to simultaneously apply the DC input to all the input pins 111 to 11n of the LSI and measure the gate leak current at one time.

【0018】この場合、正常なLSI(良品)では、各
入力バッファ回路121〜12nの各ゲートリーク電流
が0Aであり、若し、ゲートリーク電流が流れるLSI
があれば、それは不良品である。
In this case, in a normal LSI (non-defective product), each gate leak current of each input buffer circuit 121 to 12n is 0 A, and if the gate leak current flows, an LSI.
If there is, it is defective.

【0019】従って、LSIの各入力ピン毎に入力バッ
ファ回路毎のゲートリーク電流を測定する場合のように
各入力ピン毎に測定条件を設定する必要がなくなり、L
SIのピン数が増大しても、測定時間は1ピン分の測定
時間で済む。
Therefore, it is not necessary to set the measurement condition for each input pin as in the case of measuring the gate leak current for each input buffer circuit for each input pin of the LSI, and L
Even if the number of SI pins increases, the measurement time for one pin is sufficient.

【0020】ところで、LSIの各信号入力端子のうち
の少なくとも1個あるいは各入力バッファ回路の各入力
ノードのうちの少なくとも1つに、ゲートリーク電流試
験を行う際に支障を与えるおそれがある他の回路が接続
されている場合がある。この場合も本発明を適用できる
ように、ゲートリーク電流試験を行う際、他の回路がゲ
ートリーク電流試験に支障を与えないようにする必要が
ある。
By the way, at least one of the signal input terminals of the LSI or at least one of the input nodes of the input buffer circuits may interfere with the gate leak current test. The circuit may be connected. In this case as well, it is necessary to prevent other circuits from interfering with the gate leak current test when performing the gate leak current test so that the present invention can be applied.

【0021】従来、ゲートリーク電流試験を行う際に支
障となる他の回路が接続されている例として、代表的
に、信号入力ピンにプルアップ用あるいはプルダウン用
の抵抗素子が接続されている場合、信号入力ピンに双方
向バッファ回路の出力バッファ回路の出力ノードが接続
されている場合が挙げられる。
[0021] Conventionally, as an example in which another circuit that is a hindrance when performing a gate leak current test is connected, typically, a resistance element for pulling up or pulling down is connected to a signal input pin. , The case where the output node of the output buffer circuit of the bidirectional buffer circuit is connected to the signal input pin.

【0022】さらに、入力バッファ回路の入力ノード・
出力ノード間に帰還回路が接続されている場合にも、こ
れらの回路がゲートリーク電流試験を行う際に支障とな
ることがある。
Further, the input node of the input buffer circuit
Even if a feedback circuit is connected between the output nodes, these circuits may interfere with the gate leak current test.

【0023】図2は、本発明のLSIにおける入力回路
部の第2実施例を示している。このLSIにおいては、
図1に示したLSIと比べて、ある一部の入力バッファ
回路121の入力ノードと電源電位(VDD)ノードとの
間にPMOSトランジスタ21からなる負荷抵抗素子が
接続され、他の一部の入力バッファ回路122の入力ノ
ードとGNDノードとの間にNMOSトランジスタ22
からなる負荷抵抗素子が接続されている点と、ゲートリ
ーク電流試験回路17のバッファ回路161の出力信号
が上記PMOSトランジスタ21のゲートに供給され、
上記バッファ回路161の出力信号をインバータ回路2
3により反転させた信号が前記NMOSトランジスタ2
2のゲートに供給されている点が異なり、その他は同じ
であるので、図1中と同一符号を付している。
FIG. 2 shows a second embodiment of the input circuit section in the LSI of the present invention. In this LSI,
Compared with the LSI shown in FIG. 1, a load resistance element composed of a PMOS transistor 21 is connected between an input node of a part of the input buffer circuit 121 and a power supply potential (VDD) node, and another part of the input is connected. The NMOS transistor 22 is provided between the input node of the buffer circuit 122 and the GND node.
Is connected to the gate of the PMOS transistor 21, and the output signal of the buffer circuit 161 of the gate leakage current test circuit 17 is supplied to the gate of the PMOS transistor 21.
The output signal of the buffer circuit 161 is converted into the inverter circuit 2
The signal inverted by 3 is applied to the NMOS transistor 2
Since they are supplied to the second gate and are otherwise the same, the same reference numerals as in FIG. 1 are given.

【0024】このLSIにおける動作は、基本的には図
1に示したLSIと同様であるが、入力バッファ回路の
入力ノードに接続されている負荷抵抗素子用のPMOS
トランジスタ21およびNMOSトランジスタ22の動
作状態が、ゲートリーク電流試験回路の各CMOSトラ
ンスファゲート回路14…のオン/オフ状態に逆対応し
て同期して制御される。
The operation of this LSI is basically the same as that of the LSI shown in FIG. 1, but the PMOS for the load resistance element connected to the input node of the input buffer circuit is used.
The operating states of the transistor 21 and the NMOS transistor 22 are controlled in synchronization with the ON / OFF states of the CMOS transfer gate circuits 14 ... In the gate leak current test circuit.

【0025】つまり、通常動作時(テストモード切換信
号が“L”レベル)には、バッファ回路161の出力レ
ベル“L”に基づいてPMOSトランジスタ21がオン
状態に制御され、インバータ回路23の出力レベル
“H”に基づいてNMOSトランジスタ22がオン状態
に制御され、各入力バッファ回路の動作が可能になる。
That is, during the normal operation (the test mode switching signal is at "L" level), the PMOS transistor 21 is controlled to be in the ON state based on the output level "L" of the buffer circuit 161, and the output level of the inverter circuit 23. The NMOS transistor 22 is controlled to be in the ON state based on "H", and the operation of each input buffer circuit becomes possible.

【0026】また、ゲートリーク電流試験時(テストモ
ード切換信号が“H”レベル)には、バッファ回路16
1の出力レベル“H”に基づいてPMOSトランジスタ
21がオフ状態に制御され、インバータ回路23の出力
レベル“L”に基づいてNMOSトランジスタ22がオ
フ状態に制御され、ゲートリーク電流試験が可能にな
る。
During the gate leak current test (the test mode switching signal is at "H" level), the buffer circuit 16
The PMOS transistor 21 is controlled to the off state based on the output level "H" of 1 and the NMOS transistor 22 is controlled to the off state based on the output level "L" of the inverter circuit 23, enabling the gate leak current test. .

【0027】従って、図2に示したLSIにおいては、
LSIの各入力ピンとして、入力負荷抵抗が接続されて
いるものとそうでないものとが混在している場合でも、
LSIの全入力ピン111〜11nに対してゲートリー
ク電流を一度に測定することが可能になる。
Therefore, in the LSI shown in FIG.
Even if some of the input pins of the LSI are connected to input load resistors and some are not,
It becomes possible to measure the gate leak current for all the input pins 111 to 11n of the LSI at one time.

【0028】また、従来はLSIの各入力ピンをLSI
外部で短絡状態に設定し得るゲートリーク試験用治具を
用いる場合にLSIの品種毎にゲートリーク試験用治具
を準備する必要があったことと比べて、その必要がなく
なり、LSIの検査コストの削減、LSIの開発期間の
短縮を図ることが可能になる。
Conventionally, each input pin of the LSI is connected to the LSI.
Compared with the need to prepare a gate leak test jig for each type of LSI when using a gate leak test jig that can be set to a short-circuit state externally, this is no longer necessary, and the LSI inspection cost And the development period of the LSI can be shortened.

【0029】図3は、図2に示したLSIの入力バッフ
ァ回路の変形例として、例えば水晶振動子が外付けされ
る入力ピン113に接続されたCMOSインバータ回路
を用いた発振回路の帰還回路を制御する例を示してい
る。
FIG. 3 shows, as a modification of the input buffer circuit of the LSI shown in FIG. 2, a feedback circuit of an oscillation circuit using a CMOS inverter circuit connected to an input pin 113 to which a crystal oscillator is externally attached. The example which controls is shown.

【0030】この場合、初段のCMOSインバータ回路
31の入力ノードと出力ノードとの間には帰還回路用の
PMOSトランジスタ32とNMOSトランジスタ33
とが並列に挿入されており、通常動作時(テストモード
切換信号が“L”レベル)には、バッファ回路161の
出力レベル“L”に基づいてPMOSトランジスタ32
がオン状態に制御され、インバータ回路34の出力レベ
ル“H”に基づいてNMOSトランジスタ33がオン状
態に制御されるものとする。そして、ゲートリーク電流
試験時には、バッファ回路161の出力レベル“H”に
基づいてPMOSトランジスタ32がオフ状態に制御さ
れ、インバータ回路34の出力レベル“L”に基づいて
NMOSトランジスタ33がオフ状態に制御されること
により、発振回路の初段のCMOSインバータ回路31
に対するゲートリーク電流試験が可能になる。
In this case, the PMOS transistor 32 and the NMOS transistor 33 for the feedback circuit are provided between the input node and the output node of the first stage CMOS inverter circuit 31.
Are inserted in parallel, and during normal operation (the test mode switching signal is at “L” level), the PMOS transistor 32 based on the output level “L” of the buffer circuit 161.
Are turned on, and the NMOS transistor 33 is turned on based on the output level “H” of the inverter circuit 34. During the gate leak current test, the PMOS transistor 32 is controlled to be off based on the output level “H” of the buffer circuit 161, and the NMOS transistor 33 is controlled to be off based on the output level “L” of the inverter circuit 34. As a result, the CMOS inverter circuit 31 at the first stage of the oscillation circuit
The gate leakage current test for

【0031】図4は、本発明のLSIにおける入力回路
部の第3実施例を示している。このLSIにおいては、
図1に示したLSIと比べて、入力バッファ回路12
1、122に対応して出力バッファ回路421、422
が接続された双方向バッファ回路が用いられ、この双方
向バッファ回路が信号入/出力ピン411、412に接
続されている点と、ゲートリーク電流試験回路における
CMOSトランスファゲート回路14のPMOSトラン
ジスタ制御用のインバータ回路162の出力信号が上記
双方向バッファ回路の出力バッファ回路421、422
の動作(活性/非活性)制御ノードに供給されている点
が異なり、その他は同じであるので、図1中と同一符号
を付している。
FIG. 4 shows a third embodiment of the input circuit section in the LSI of the present invention. In this LSI,
Compared with the LSI shown in FIG. 1, the input buffer circuit 12
Output buffer circuits 421 and 422 corresponding to
Is used, and the bidirectional buffer circuit is connected to the signal input / output pins 411 and 412, and for controlling the PMOS transistor of the CMOS transfer gate circuit 14 in the gate leakage current test circuit. The output signal of the inverter circuit 162 is output buffer circuits 421 and 422 of the bidirectional buffer circuit.
1 is the same as that in FIG. 1, and is the same as that in FIG.

【0032】このLSIにおける動作は、基本的には図
1に示したLSIと同様であるが、双方向バッファ回路
の出力バッファ回路421、422の活性/非活性状態
が、ゲートリーク電流試験回路の各CMOSトランスフ
ァゲート回路14…のオフ/オン状態に対応して同期し
て制御される。
The operation of this LSI is basically the same as that of the LSI shown in FIG. 1, but the active / inactive state of the output buffer circuits 421 and 422 of the bidirectional buffer circuit is the same as that of the gate leak current test circuit. The CMOS transfer gate circuits 14 ... Are synchronously controlled corresponding to the off / on state.

【0033】つまり、通常動作時(テストモード切換信
号が“L”レベル)には、インバータ回路162の出力
レベル“H”に基づいて出力バッファ回路421、42
2が活性状態に制御され、各双方向バッファ回路の双方
向動作が可能になる。
That is, during the normal operation (the test mode switching signal is at "L" level), the output buffer circuits 421, 42 are based on the output level "H" of the inverter circuit 162.
2 is controlled to the active state, and the bidirectional operation of each bidirectional buffer circuit becomes possible.

【0034】また、ゲートリーク電流試験時(テストモ
ード切換信号が“H”レベル)には、インバータ回路1
62の出力レベル“L”に基づいて出力バッファ回路4
21、422が非活性状態に制御されるので、各双方向
バッファ回路は強制的に入力バッファ回路121、12
2のみ動作が可能になり、ゲートリーク電流試験が可能
になる。
During the gate leak current test (the test mode switching signal is at "H" level), the inverter circuit 1
The output buffer circuit 4 based on the output level "L" of 62.
Since 21, 422 are controlled to be inactive, each bidirectional buffer circuit is forced to input buffer circuits 121, 12.
Only 2 can be operated, and a gate leak current test can be performed.

【0035】従って、図4に示したLSIにおいては、
従来は双方向バッファ回路の入/出力制御を行うために
膨大なテストパターンが必要であったことと比べて、測
定時間の短縮、LSIの検査コストの削減、LSIの開
発期間の短縮を図ることが可能になる。
Therefore, in the LSI shown in FIG.
To reduce the measurement time, reduce the LSI inspection cost, and shorten the LSI development period compared with the conventional method that required enormous test patterns to control the input / output of the bidirectional buffer circuit. Will be possible.

【0036】なお、上記各実施例では、複数個のスイッ
チ回路をスイッチ制御するためのテストモード切換信号
が外部から制御ピンを経て入力したが、これに限らず、
少なくとも1個の外部ピンからの入力に基づいてLSI
内部でテストモード切換信号を生成するように変更して
もよい。
In each of the above embodiments, the test mode switching signal for controlling the switching of the plurality of switch circuits is input from the outside through the control pin, but the present invention is not limited to this.
LSI based on input from at least one external pin
It may be modified to internally generate the test mode switching signal.

【0037】また、本発明に係るゲートリーク電流試験
回路の具体的構成は、上記各実施例に限らず、種々の変
形実施が可能である。また、本発明は、上記各実施例を
任意に組み合わせるように実施してもよく、信号入力端
子群を複数のブロックに分け、各ブロック単位で上記各
実施例のように実施してもよい。
The specific configuration of the gate leakage current test circuit according to the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various modifications can be made. Further, the present invention may be implemented by arbitrarily combining the above-described embodiments, or the signal input terminal group may be divided into a plurality of blocks and each block may be implemented as in the above-described embodiments.

【0038】また、上記各実施例では、MOS型LSI
を示したが、本発明は、アナログ・デジタル混在型LS
IにおいてMOS型入力バッファ回路部のゲートリーク
電流試験を行う場合にも適用可能である。
In each of the above embodiments, the MOS type LSI is used.
However, the present invention is not limited to the analog / digital mixed type LS.
It is also applicable to the case of performing the gate leak current test of the MOS type input buffer circuit section in I.

【0039】また、上記各実施例では、パッケージング
終了後のLSIを想定し、外部端子として外部ピンを示
したが、本発明はこれに限らず、外部端子として導電性
バンプを使用するようなLSIや、外部端子として信号
入力パッドが相当するウエハープロセス終了後のLSI
チップ領域に対してゲートリーク電流試験を行う場合に
も適用可能である。
Further, in each of the above-mentioned embodiments, the external pins are shown as the external terminals assuming the LSI after packaging is completed, but the present invention is not limited to this, and conductive bumps are used as the external terminals. LSIs and LSIs after the wafer process, which corresponds to signal input pads as external terminals
It is also applicable when performing a gate leak current test on a chip region.

【0040】ウエハー状態でLSIチップ領域のゲート
リーク電流試験を行う場合には、図5に示すように、各
入力バッファ回路の入力側に接続されている入力ゲート
を保護する(入力ピンからの静電入力を電源電位あるい
は接地電位に逃がして入力ゲートを静電破壊から防止す
る)ためのダイオードをゲートリーク電流試験で兼用す
るようにしてもよく、これにより、前記各実施例のよう
なゲートリーク電流試験用のスイッチ回路や制御回路の
付加を省略することが可能になる。
When performing a gate leak current test in the LSI chip area in a wafer state, as shown in FIG. 5, the input gate connected to the input side of each input buffer circuit is protected (static from the input pin). The gate for leaking the input current to the power supply potential or the ground potential to prevent the input gate from being damaged by electrostatic discharge may also be used in the gate leak current test. It becomes possible to omit the addition of the switch circuit and the control circuit for the current test.

【0041】即ち、第1のパッド51と各入力バッファ
回路の入力ノードとの間にそれぞれ入力ゲート保護用と
してドレイン・ゲート・基板相互が接続されたPMOS
トランジスタ53を接続し、入力バッファ回路の入力ノ
ードと第2のパッド52との間にそれぞれ入力ゲート保
護用としてドレイン・ゲート・基板相互が接続されたN
MOSトランジスタ54を接続する。この場合、上記P
MOSトランジスタ53のドレイン・基板領域を他の内
部回路の基板領域とは電気的に分離して形成しておき、
上記NMOSトランジスタ54のドレイン・基板領域を
他の内部回路の基板領域とは電気的に分離して形成して
おくものとする。
That is, a PMOS in which the drain / gate / substrate are connected to each other for input gate protection between the first pad 51 and the input node of each input buffer circuit.
The transistor 53 is connected, and the drain, gate, and substrate are connected to each other for input gate protection between the input node of the input buffer circuit and the second pad 52.
The MOS transistor 54 is connected. In this case, P
The drain / substrate region of the MOS transistor 53 is formed to be electrically separated from the substrate regions of other internal circuits.
It is assumed that the drain / substrate region of the NMOS transistor 54 is electrically separated from the substrate regions of other internal circuits.

【0042】そして、ウエハー状態でゲートリーク電流
試験を行う際には、第1のパッド51を開放状態(フロ
ーティング)にし、第2のパッド52に所要のDC電圧
を印加することにより、各入力バッファ回路の入力側に
それぞれ接続されている入力ゲート保護用のNMOSト
ランジスタ54のPN接合および入力経路に直列に挿入
されている入力保護抵抗(図示せず)を介して各入力バ
ッファ回路の入力ノードに一斉にDC入力を印加するこ
とが可能になる。
When the gate leak current test is performed in the wafer state, the first pad 51 is opened (floating) and a required DC voltage is applied to the second pad 52, whereby each input buffer is To the input node of each input buffer circuit via the PN junction of the input gate protection NMOS transistor 54 connected to the input side of the circuit and the input protection resistor (not shown) inserted in series in the input path. It becomes possible to apply DC inputs all at once.

【0043】上記ゲートリーク電流試験以外の時には、
第1のパッド51に電源電位VDD、第2のパッド52に
接地電位GNDを印加することにより、PMOSトラン
ジスタ53およびNMOSトランジスタ54によるゲー
ト保護動作が可能になる。
At times other than the above gate leak current test,
By applying the power supply potential VDD to the first pad 51 and the ground potential GND to the second pad 52, the gate protection operation by the PMOS transistor 53 and the NMOS transistor 54 becomes possible.

【0044】なお、上記各パッド51、52に所要の電
位を印加する方法としては、ウエハー状態ではLSIテ
スターのプローバーのプローブカードの針から印加し、
アセンブリ時には例えばボンディングワイヤにより上記
各パッドを電源用あるいは接地用の外部端子に接続すれ
ばよい。
As a method of applying a required electric potential to each of the pads 51 and 52, in the wafer state, the electric potential is applied from the probe card of the prober of the LSI tester,
At the time of assembly, the above pads may be connected to external terminals for power supply or ground by bonding wires, for example.

【0045】[0045]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、ゲート
リーク試験用治具を必要とせずに、LSIの入力バッフ
ァ回路のゲートリーク電流を短時間で容易に測定し得る
半導体集積回路を実現することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to realize a semiconductor integrated circuit capable of easily measuring the gate leak current of an input buffer circuit of an LSI in a short time without the need for a jig for a gate leak test. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係るLSIの入力回路部
を示す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an input circuit unit of an LSI according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例に係るLSIの入力回路部
を示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an input circuit unit of an LSI according to a second embodiment of the present invention.

【図3】図2のLSIの入力回路部の変形例を示す回路
図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a modification of the input circuit unit of the LSI shown in FIG.

【図4】本発明の第3実施例に係るLSIの入力回路部
を示す回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an input circuit section of an LSI according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4実施例に係るLSIの入力回路部
を示す回路図。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an input circuit section of an LSI according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】従来のLSIの入力回路部を示す回路図。FIG. 6 is a circuit diagram showing an input circuit section of a conventional LSI.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

111〜11n…信号入力ピン、121〜12n…入力
バッファ回路、13,23,31,34…CMOSイン
バータ回路、14…スイッチ回路(CMOSトランスフ
ァゲート回路)、15…制御ピン、161…制御回路用
バッファ回路、162…制御回路用インバータ回路、1
7…ゲートリーク電流試験回路、411,412…信号
入/出力ピン、421,422…出力バッファ回路、2
1,32,TP…PMOSトランジスタ、22,33、
TN…NMOSトランジスタ、R…抵抗素子。
111-11n ... Signal input pins, 121-12n ... Input buffer circuits, 13, 23, 31, 34 ... CMOS inverter circuits, 14 ... Switch circuits (CMOS transfer gate circuits), 15 ... Control pins, 161 ... Control circuit buffers Circuit, 162 ... Inverter circuit for control circuit, 1
7 ... Gate leak current test circuit, 411, 412 ... Signal input / output pin, 421, 422 ... Output buffer circuit, 2
1, 32, TP ... PMOS transistors, 22, 33,
TN ... NMOS transistor, R ... Resistance element.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数個の信号入力端子と、 この複数個の信号入力端子に対応して各入力ノードが接
続され、上記各入力ノードにゲートが接続されたMOS
トランジスタを有する複数個の入力バッファ回路と、 この複数個の入力バッファ回路の各入力ノード間を短絡
し得るように挿入された複数個のスイッチ回路と、 この複数個のスイッチ回路をスイッチ制御するためのテ
ストモード切換信号が与えられ、このテストモード切換
信号に基づいて前記複数個のスイッチ回路をそれぞれオ
フ状態あるいはそれぞれオン状態に制御する制御回路と
を具備することを特徴とする半導体集積回路。
1. A MOS having a plurality of signal input terminals, each input node connected to the plurality of signal input terminals, and a gate connected to each input node.
A plurality of input buffer circuits having transistors, a plurality of switch circuits inserted so that each input node of the plurality of input buffer circuits can be short-circuited, and a switch control circuit for the plurality of switch circuits. And a control circuit for controlling each of the plurality of switch circuits into an off state or an on state based on the test mode switching signal.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 さらに、前記複数個の信号入力端子のうちの少なくとも
1個あるいは前記複数個の入力バッファ回路の各入力ノ
ードのうちの少なくとも1つに接続された所定の回路を
具備し、 前記入力バッファ回路のゲートリーク電流試験を行う
際、前記制御回路は、前記テストモード切換信号に基づ
いて前記複数個のスイッチ回路をそれぞれオン状態に制
御すると共に前記所定の回路が上記ゲートリーク電流試
験に支障を与えない状態に制御することを特徴とする半
導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further connected to at least one of the plurality of signal input terminals or at least one of input nodes of the plurality of input buffer circuits. When performing a gate leak current test of the input buffer circuit, the control circuit controls each of the plurality of switch circuits to be in an ON state based on the test mode switching signal, and A semiconductor integrated circuit, characterized in that a predetermined circuit is controlled so as not to interfere with the gate leakage current test.
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KR100428792B1 (en) * 2002-04-30 2004-04-28 삼성전자주식회사 Voltage measurement device tolerant of undershooting or overshooting input voltage of pad

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