JPH0712777A - ミクロカラム分離技術における試料導入を制御するための方法及びその方法を使用するサンプリング装置 - Google Patents

ミクロカラム分離技術における試料導入を制御するための方法及びその方法を使用するサンプリング装置

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JPH0712777A
JPH0712777A JP6101977A JP10197794A JPH0712777A JP H0712777 A JPH0712777 A JP H0712777A JP 6101977 A JP6101977 A JP 6101977A JP 10197794 A JP10197794 A JP 10197794A JP H0712777 A JPH0712777 A JP H0712777A
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    • G01N27/44791—Microapparatus

Abstract

(57)【要約】 【目的】感度を上げることのできるサンプリング装置の
提供 【構成】試料が、電解質液チャネル(12)と試料の供給(1
3)と排出(14)のチャネルからなるサンプリング装置(3)
中へプラグとして注入される、キャピラリ電気泳動にお
ける試料導入方法及びその方法を使用する装置。供給(1
3)と排出(14)のチャネルは、各々の供給口(15)と排出口
(16)で電解質液チャネル(12)中に放流する。口(15)と口
(16)の間の距離は、幾何学的に試料体積(17)を規定す
る。電解質液チャネル(12)中への試料プラグの注入は、
試料の最も低い電気泳動可動性を持つ成分が試料体積内
に含有されているのに充分に長い程度に少なくともわた
る時限にわたり供給(13)と排出(14)のチャネルにわたっ
て電界を設けることにより、動電的に実施される。供給
(13)と排出(14)のチャネルの、電解質緩衝液に関する流
れ抵抗は、電解質液チャネル(12)のその流れ抵抗より少
なくとも約５％低い。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電解液緩衝液と多少濃
縮された試料がキャピラリチャネルシステムを通過して
送られ、そして異なる電気泳動可動性を持つ成分からな
る上記試料がサンプリング装置中へ試料プラグとして注
入され、そのサンプリング装置は少なくとも電解質緩衝
液のためのチャネルと上記試料のための供給チャネルと
排出チャネルからなり、上記電解質チャネルと、上記試
料のための供給チャネルと排出チャネルは互いに交わ
り、そして上記供給チャネルと排出チャネルの各々は上
記電解質チャネルに対して傾斜しておりそしてその各々
の供給口と排出口で上記電解質チャネル中に開口してお
り、上記供給口と上記排出口との間の距離は試料体積を
幾何学的に決めている、ミクロカラム分離技術、特にキ
ャピラリ電気泳動（ＣＥ）における試料導入を制御する
ための方法に関する。
【０００２】又、本発明は電解質緩衝液のためのチャネ
ルと、試料のための供給チャネルと排出チャネルと試料
を上記体積中に動電的に注入するための手段からなるサ
ンプリング装置であって、供給チャネルと排出チャネル
の各々は各々の供給口と排出口において上記電解質チャ
ネル中に開口し、それらの口は試料体積が幾何学的に規
定されるように互いに関して配置され、上記供給チャネ
ルと排出チャネルの各々は上記チャネルピースの縦方向
の伸長線に対して傾いているサンプリング装置に関す
る。
【０００３】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】ミクロカ
ラム分離技術、特にキャピラリ電気泳動は、センサー又
は化学分析システムの部分として使用される非常に興味
のある分離技術になった。これのための主たる理由は、
分離技術としての方法の高い効率である。キャピラリ電
気泳動において通常使用されるサンプリング法は：注入
ブロック内への、隔膜を介してのシリンジを使用する試
料の注入、試料ループを使用する場合と使用しない場合
の注入バルブの使用、そして試料リザーバ中へのキャピ
ラリ管の一端の浸漬：それにより試料は重力流れによ
り、過圧又は減圧により、又は電気浸透及び／又は電気
移動により導入される。
【０００４】Journal of Chromatography,452,(1988)61
2-622 には、試料バルブ法はキャピラリ電気泳動のため
の最も適したサンプリング法であると記述されている
が、試料の注入の無バルブ装置も記述されている。記載
されている装置は、電極室とサンプリング装置の間を連
続している鋳型キャピラリブロックからなる。電極室で
電解質溶液は電極と接触している。キャピラリ管には評
価エレクトロニクスと接続している測定電極がある。サ
ンプリング装置は、キャピラリ管に対して垂直に伸長し
ている二つのフィーダと接続しているキャピラリ管の拡
張部分からなる。キャピラリ管の縦方向の伸長に沿った
二つのフィーダの互いのオフセット配置は、サンプリン
グ装置がダブルＴ型のキャピラリ構造を持つようになっ
ている。
【０００５】試料はシリンジを介してサンプリング装置
内に導入される。注入体積は、キャピラリ管に沿って離
れて二つのフィーダが配置されている距離により幾何学
的に規定される。キャピラリ管中の電解質溶液と試料の
移送は、キャピラリ管に沿って各々の電極の間に適用さ
れている電界により実施される。ダブルＴ型サンプリン
グ装置の長所は、注入バルブを使用しても得られる長所
であるが、希釈試料イオン種の濃縮効果である。しか
し、フィーダにわたる電界グラジエントが存在しないと
いうものの、試料が既にサンプリング位置を離れている
時にフィーダからの試料成分がキャピラリ管中に拡散す
るかも知れないということがあり得る。無制御にキャピ
ラリ管に入る試料成分の量は、各々の試料成分の拡散係
数と可動性による。かくして、検出器においては、注入
した試料液体の多少拡大プラグが到着するだけでなく、
電解質と電界における各々の成分の拡散係数と可動性に
よっては、試料液体の各々のプラグの前後又は間の電解
質が試料成分の予測できない量で「汚染」される。検出
器に到達するこれらの試料成分の予測できない量は、決
して好ましいものではなく、検出シグナルの高ノイズの
原因になり、その結果検出限界を顕著に減少せしめる。
【０００６】Analytical Chemistry, 1992年, 64,1926-
1932頁にはキャピラリ電気泳動装置が記載されておりそ
してその装置では、キャピラリの一端を試料リサーバ中
に浸漬しそしてキャピラリの両方の末端を通過する電圧
を適用して、試料を動電的に注入する。電界では試料
は、動電的に移送されそしてキャピラリ電気泳動装置の
チャネルシステム中へＴ−ジャンクションにおいて注入
される。しかしながら、この方法は試料成分の電気泳動
可動性における違いに由来する実際の試料のバイアスを
誘導する。かくして、導入された試料は、原試料と同じ
組成を持たないことが頻繁にある。更に、導入された試
料の量が判らないことが非常に頻繁にあるので、内部標
準を定量分析のために使用しなければならない。
【０００７】従って、本発明の目的は、ミクロカラム分
離分技術における、そして更に特定するとキャピラリ電
気泳動（ＣＥ）における試料導入を制御するための方
法；そして上述の従来技術の欠点を克服するサンプリン
グ装置を提供することである。試料の体積は幾何学的に
規定されなければならない。注入された試料組成は、リ
ザーバ中の試料の原組成と異なっていてはいけない。キ
ャピラリ管中への試料液体の制御できない導入は顕著に
減少されるべきだろう。仮にキャピラリ管中への試料液
体の望ましくない漏れを全体として回避できないなら
ば、少なくともそれが予測できそして制御できる状態で
のみ起こるという準備がされていなければならない。
【０００８】本発明の方法とサンプリング装置は、例え
ば Sensors and Actuators B, 10(1993)107-116に記載
されているような微小分析概念を容易に実現できるべき
でもある。そこには、水性溶媒の、チャネルと動電的ポ
ンプの間の溶媒流の無バルブスイッチングを使用する、
シリコン基体上に集積された多重流系の概念が記載され
ている。同様な概念は、例えば、Analytical Chemistr
y,Vol.64,No.17,1992年,9月1 日号,1926-1932頁に記載
されている。キャピラリ電気泳動を基礎にした上述の微
小化した化学分析システムは、キャピラリ電気泳動を基
礎にした上述の微小化化学分析システムは、平面のガラ
ス基体中にミクロ機械加工された、複雑な多重キャピラ
リチャネルからなる。溶媒と試料の移送は、動電効果
（電気浸透及び／又は電気泳動）に由来して起こる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
方法によって特徴付けられる方法の段階からなる、キャ
ピラリ電気泳動におけるサンプル導入を制御するための
方法により解決される：電解液緩衝液と多少濃縮された
試料がキャピラリチャネルシステムを通過して送られ、
そして異なる電気泳動可動性を持つ成分からなる上記試
料がサンプリング装置中へ試料プラグとして注入され、
そのサンプリング装置は少なくとも電解質緩衝液のため
のチャネルと上記試料のための供給チャネルと排出チャ
ネルからなり、上記電解質チャネルと、上記試料のため
の供給チャネルと排出チャネルは互いに交わり、そして
上記供給チャネルと排出チャネルの各々は上記電解質チ
ャネルに対して傾斜しておりそしてその各々の供給口と
排出口で上記電解質チャネル中に開口しており、上記供
給口と上記排出口との間の距離は試料体積を幾何学的に
決めている、ミクロカラム分離技術、特にキャピラリ電
気泳動（ＣＥ）における試料導入を制御するための方法
であって；上記試料の最も低い電気泳動可動性を持つ最
も遅い成分が上記幾何学的に規定される体積内に含有さ
れているのに充分に長い程度に少なくともわたる時限に
わたり上記試料供給チャネルと排出チャネルにわたり電
界を設けることにより、上記試料プラグの電解質チャネ
ル中への注入が動電的に実施されることを特徴とする方
法。
【００１０】更に特定すると、ミクロカラム分離技術、
特にキャピラリ電気泳動（ＣＥ）において試料を導入す
るための方法が提供され、そしてその方法では電解質緩
衝液と多少濃縮された試料をキャピラリチャネルシステ
ムを通過して移送する。試料は、少なくとも電解質緩衝
液のためのチャネルと試料のための供給チャネルと排出
チャネルからなるサンプリング装置中へ試料プラグとし
て注入される。電解質緩衝液のためのチャネルと試料の
ための供給チャネルと排出チャネルは互いに交わる。試
料のための供給チャネルと排出チャネルは各々、それぞ
れの供給口と排出口で開口する。供給口と排出口の間の
距離は、幾何学的に試料体積を規定する。供給チャネル
と排出チャネルの各々は電解質チャネルに対して傾斜し
ている。電解質チャネル中への試料プラグの注入は、上
記試料の最も低い電気泳動可動性を持つ最も遅い成分が
上記幾何学的に規定される体積内に含有されているのに
充分に長い程度に少なくともわたる時限にわたり上記試
料供給チャネルと排出チャネルにわたり電界を設けるこ
とにより、動電的に実施される。この方法により、注入
された試料プラグの組成は実際の試料組成を反映するこ
とになる。
【００１１】別の好ましい段階では、試料プラグの注入
の直後、電解質緩衝液が供給チャネル中と排出チャネル
中に、各々の供給口と排出口において一定時限にわたり
進入するようにし、そしてその一定時限は少なくとも、
試料プラグ内の最も遅い成分の供給口から検出器への移
動時間の量になる。かくして試料を各々の供給チャネル
と排出チャネル中に押し戻しそして実質的に試料が、供
給口と排出口を通過して送られる電解質緩衝液中へ制御
できないで拡散するのを防止する。更にその方法は、電
解質緩衝液内の試料組成を制御することを可能にする。
【００１２】サンプリング装置の改善に関する目的は、
下記の装置により解決される：電解質緩衝液のためのチ
ャネルと、試料のための供給チャネルと排出チャネルと
試料を上記体積中に動電的に注入するための手段からな
るサンプリング装置であって、供給チャネルと排出チャ
ネルの各々は各々の供給口と排出口において上記電解質
チャネル中に開口し、それらの口は試料体積が幾何学的
に規定されるように互いに関して配置され、上記供給チ
ャネルと排出チャネルの各々は上記チャネルピースの縦
方向の伸長線に対して傾いているサンプリング装置にお
いて；その上記供給チャネルと上記排出チャネルの各々
が、上記電解質緩衝液に関して流れるための抵抗を持
ち、それは上記電解質チャネルの流れるための各々の抵
抗より約５％少ない流れるための抵抗を持つことを特徴
とするサンプリング装置。
【００１３】特に、サンプリング装置は、電解質チャネ
ルと、試料のための供給チャネルと排出チャネルからな
り、その供給チャネルと排出チャネルの各々は各々の供
給口と排出口において上記電解質チャネル中に開口す
る。それらの口は試料体積が幾何学的に規定されるよう
に互いに関して配置される。供給チャネルと排出チャネ
ルの各々は電解質チャネルの縦方向の伸長線に対して傾
いている。試料体積中に試料を動電的に注入するための
手段がそこに提供される。上記電解質緩衝液に関しての
上記供給チャネルと上記排出チャネルの流れるための抵
抗は電解質チャネルの流れるための各々の抵抗より少な
くとも約５％少ない。
【００１４】
【実施例】図１ないし４を参照して本発明を更に説明す
る。図１と図２には、ミクロカラム分離装置、さらに特
定すると電気泳動分離装置の実施態様が図示されてい
る。それは基部１と蓋部２からなる。基部１は、ガラ
ス、単結晶シリコン又は他の半導体製造で既知の材料、
又は適当なポリマー材料から製造されていてよい。蓋部
２は好ましくはガラスから製造されている。基部１は、
その表面中にエッチングされた、ミクロ機械加工された
又は他の方法によって設けられたチャネルシステム４か
らなる。半導体製造から知られている技術が、基部１の
表面中にチャネルシステムを作製するのに適用されるの
が好ましい。蓋部２は、チャネルシステム４と連結して
いるスルーホールＲ、Ｓ、Ｄ、Ｗを備えておりそしてキ
ャピラリ管の末端を収容しそして保持するために適応さ
せてある。蓋部２は、チャネルシステムを通過して流れ
る試料の光検出システム、例えば蛍光検出システム、又
は吸光検出システム、又は屈折率変化検出システムの部
分である光導波管のためのいろいろなポートも備えてい
る。それらポートはサンプリング装置３の後のチャネル
システム４に沿って分布しており、装置３で試料が電解
質緩衝液中に導入されかくしてチャネルシステム４に沿
った異なる位置での測定を可能にする。
【００１５】電解質緩衝液と多少濃縮された試料の移送
は、電界により実施されるのが好ましい。そしてその電
界は、電解質緩衝液のためのリザーバ(reservor)Ｒと廃
物レセプタクル(receptacle)Ｗ各々の電極の間と、試料
のための各々の供給源Ｓと排出レセプタクルＤに備えた
電極の間の電位を切り替えることにより発生させられ
る。
【００１６】図３と４には、図１の円で囲んだサンプリ
ング装置が拡大して図示してある。それは図１のフロー
インジェクション分析システムの部分であり、そのシス
テムは動電的原理に基づいており、試料の電気泳動分析
を可能にする。サンプリング装置３はキャピラリチャネ
ルシステム４の集積部分でありそしてリザーバＲと検出
器５ないし８の後にある廃物レセプタクルＷと、そして
分析されるべき試料のための供給レセプタクルＳと排出
レセプタクルＤと接続している。図３と４では、説明し
易くするために、リザーバＲとレセプタクルＷ、ＳとＤ
を図示せず、単に矢印により象徴的に示し、同時にその
矢印はチャネルシステム４における液流の方向を示して
いる。
【００１７】図３には、サンプリング装置の１番目の実
施態様例が示されている。それはチャネルピース２２か
らなり、その一端は電解質緩衝液のためのリザーバＲと
接続し、そして他方の縦方向の延長方向では試料の電気
泳動分離が行われるキャピラリチャネルと接続しそして
それは検出器に至り最後に廃物レセプタクルＷに至って
いる。サンプリング装置は試料のための供給レセプタク
ルＳと接続する供給チャネル２３と、排出レセプタクル
Ｄに至る排出チャネル２４に接続している。供給チャネ
ル２３と排出チャネル２４はチャネルピース２の縦伸長
方向に対して傾斜しており，好ましくはそれらはチャネ
ルピースと一緒になってダブルＴ構造を形成するように
大体垂直に配置されている。供給チャネルＳと排出チャ
ネルＤの各々は供給口２５と排出口２６の各々でチャネ
ルピース中２２中に開口している。図３によると、供給
口２５と排出口２６は、試料体積２７が後記で更に詳細
に説明されるように幾何学的に規定されるように、チャ
ネルピース２２において縦方向に互いに間隔をおいて配
置されている。排出チャネル２４は、そのチャネル２５
と排出チャネル２６が互いに反対位置に配置されるよう
に、供給チャネル２３の縦方向内に直接配置されていて
もよいと理解されるべきである。その場合には、サンプ
リング装置のチャネルは、ダブルＴ構造を形成しない
が、普通の十字構造で配置されている。
【００１８】既に上述したように、液体、即ち電解質緩
衝液と試料には電界が適用され、その結果、電解質緩衝
液のためのリザーバＲと廃物レセプタクルＷ、及び試料
のための供給源レセプタクルＳと排出レセプタクルＤ各
々において異なる電圧が生じる。例えば、陽電圧をリザ
ーバＲにそして陰電圧を廃物レセプタクルＷに適用する
と、電解質緩衝液は動電的にリザーバＲからキャピラリ
チャネルシステムを通過して廃物レセプタクルＷへ移送
される。チャネルピース２２中に試料を導入するため
に、例えば、試料のための供給源レセプタクルＳは陽電
圧に維持されそして排出レセプタクルＤは陰電圧に維持
される。得られた電界では、試料は供給源レセプタクル
Ｓから排出レセプタクルＤへ動電的に移送される。図３
では流れ方向は、矢印Ｓ、ＶとＤにより示される。この
方法により、一方の末端上では供給口２５により他方の
末端上では排出口２６により限定される、チャネルピー
ス２２の部分２７は、試料で充填される。かくして、サ
ンプリング装置３のチャネルピース２２のサンプルを充
填した部分２７は、動電的に注入した試料プラグの体積
を規定し、それは図３中ではハッチングにより示されて
いる。換言すれば、試料プラグの体積２７は、間隔をお
いた供給口２５と排出口２６により幾何学的に限定され
る。チャネルピース２２と供給チャネル２３と排出チャ
ネル２４が通常の十字を形成するように、供給口２５と
排出口２６が対立して位置している上述の場合、交差の
寸法と体積が試料体積を決定する。かくして、その場合
は試料体積はチャネル２２、２３と２４の各々の断面積
のみにより規定される。
【００１９】試料体積２７中の試料の組成ががリザーバ
Ｒ中の実際の試料組成を反映することを保証するために
供給チャネル２３と排出チャネル２４にわたる電界は、
幾何学的に規定された試料体積２７が充填されそして最
も低い電気泳動可動性を持つ試料成分を含有するのに充
分な時限に少なくともわたって維持される。この最小時
限ｔmin は、等式 ｔmin ＝ｄ／μi ・Ｅにより与えら
れる。この等式では、ｄは供給口と排出口が間隔をおい
ている距離を表し；μi （その成分ｉについては後記で
更に詳しく説明する。）は試料の最も遅い成分ｉの全可
動性であり；Ｅは電圧差に由来する供給口２５と排出口
２６を横断する電界強度を表す。
【００２０】試料の電気泳動分析を実施する際には、第
１に電解質緩衝液がリザーバＲから廃物レセプタクルＷ
へ移送されるように、リザーバＲと廃物レセプタクルＷ
の間に電界が設定される。化学分析システムのチャネル
システムが電解質緩衝液により充填された後、チャネル
ピース２２中への試料の注入を開始する。その目的のた
めに、試料が供給源レセプタクルＳから供給チャネル２
３を通過し、チャネルピース２２を介して排出チャネル
２４中に、次いで排出レセプタクルＤ上に動電的に移送
されるように、電界が供給源レセプタクルＳと排出レセ
プタクルＳの間に設定される。試料が注入されている間
は、リザーバＲと廃物レセプタクルＷの間の電界のスイ
ッチは切られているか、又は電位は試料が上述の経路だ
けに沿って移送されるように選択されると理解される。
供給口２５と排出口２６の間の試料体積２７が試料で充
填されることを保証するように選択された注入時限の
後、供給源レセプタクルＳと排出レセプタクルＲの間の
電界のスイッチは切断される。同時にリザーバＲと廃物
レセプタクルＷの間の電界は、試料体積２７中に包含さ
れる試料が検出器と廃物レセプタクルＷの方向に移送さ
れるように再び活動化される。試料がチャネルシステム
を移送されている間に、それは電界中で電気泳動的に分
離される。
【００２１】電解質緩衝液が供給口２５と排出口２６を
通過して移送されている間の、試料成分の電解質緩衝液
中への漏れと拡散の問題は、電界が供給源レセプタクル
Ｓと排出レセプタクルＤの間に適用されていないとして
も、一定時間（この一定時間は少なくとも、試料プラグ
内の最も遅い成分ｉの供給口２５から各々の検出器への
移動時間ｔi の量になる。) にわたり供給口２５と排出
口２６の各々において電解質緩衝液を供給チャネル２３
と排出チャネル２４中へ進行させることを可能にするこ
とにより解決される。かくして、試料は供給チャネル２
３と排出チャネル２４中へ押し返されそして供給口２５
と排出口２６を通過して移送される電解質緩衝液中への
制御できない拡散を実質的に防止できる。
【００２２】試料の最も遅い成分の移動時間Ｔi は、分
離長Ｌと、試料の最も遅い成分ｉの全可動性μi とその
経路Ｌにそって作用する電界強度Ｅ’の積の商として定
義され、そしてそれは式 Ｔi ＝Ｌ／（μi ・Ｅ’）に
より与えられる。この等式において分離長Ｌ（図１を参
照）は、試料成分ｉが供給口２５と各々の活動化した検
出器５−８の間を移動する距離であり、成分の全可動性
μi は、成分の電気泳動可動性μi,epと試料全体の電気
浸透可動性μeoの和である。検出が実施される時限は試
料の最も遅い成分の移動時間と比較すると非常に短いの
で無視できる。
【００２３】電解質緩衝液を供給チャネル２３と排出チ
ャネル２４中へ進行させるためには、図３に図示したサ
ンプリング装置の実施態様例では、供給源レセプタクル
Ｓと排出レセプタクルＤの電圧はスイッチオンされ、そ
の電界は電解質緩衝液のためのリザーバＲにおける電圧
とは異なり、かくして適当な大きさの電圧差が設定され
る。電解質緩衝液が陽電圧から陰電圧へ移送される場合
は、供給源レセプタクルＳと排出レセプタクルＤにおけ
る電位は、リザーバＲにおける陽電圧に関して陰が選択
される。陰電圧から陽電圧への電解質の移送の場合は、
供給源レセプタクルＳと排出レセプタクルＤの電位は、
リザーバＲに関して陽が選択される。
【００２４】リザーバＲと、供給源レセプタクルＳと排
出レセプタクルＤの間の電位差は、得られた電界が少な
くとも約０．１Ｖ／ｃｍの量になる電界強度を持つよう
に選択される。
【００２５】電解質緩衝液を供給チャネル１３と排出チ
ャネル１４中に進行させることができる別の試みは図４
に図示されている。図示したサンプリング装置３の構造
は、基本的には図４中のそれに該当する。それは２本の
サイドチャネル１３，１４を持つチャネルピース１２か
らなる。サイドチャネルは、約５°ないし約１７５°に
なる角度でチャネルピース１２の縦方向の伸長線に関し
て傾斜しているが、しかし、好ましくはチャネルピース
１２に関して大体垂直に配置されている。サイドチャネ
ルは、供給口１５と排出口１６の各々でチャネルピース
中に開口する供給チャネル１３と排出チャネル１４であ
る。好ましくは供給口１５と排出口１６はチャネルピー
スで互いに間隔をおいて配置されておりそして試料体積
１７を限定する。それらが互いに間隔を置いている距離
は、典型的には約０μｍないし約３ｃｍ、最も好ましく
は０μｍないし約３ｍｍであり、その場合値０は供給口
と排出口が互いに対立して配置されていることを示す。
チャネルピース１２は、電解質緩衝液のためのリザーバ
Ｒと廃物レセプタクルＷと連結している。供給チャネル
１３は試料のための供給源レセプタクルＳと連結してお
り、一方排出チャネル１４は排出レセプタクルＤと連結
している。
【００２６】サンプリング装置３は電気泳動化学分析シ
ステムの部分であって基本的には図３に図示したサンプ
リング装置と同様に機能する。しかし、電解質緩衝液が
供給チャネル１３と排出チャネル１４中に進行できるよ
うに、これら二つのチャネルの抵抗を減少させることが
できる。特に供給チャネル１３と排出チャネル１４の各
々は、電解質緩衝液に関して、電解質チャネル１２の流
れるための抵抗より約５％低い流れるための抵抗を持
つ。驚くべきことに、供給チャネル１３と排出チャネル
１４の流れるための抵抗の減少は、試料成分が供給口１
５と排出口１６の各々を通過して移送されている時に、
その試料成分の電解質緩衝液中への漏れと拡散の増加を
招かない。その代わりに、適用した電界が電解質緩衝液
のチャネル１３と１４中への対流を起こすはずがない時
ですら、サイドチャネル１３と１４の流れるための抵抗
の減少はその対流を起こす。かくして、試料成分の漏れ
と拡散は顕著に減少し、検出されたシグナルのノイズは
減少する。その結果、検出限界である分析システムの感
度は増加する。供給チャネル１３と排出チャネル１４の
流れるための抵抗は、それら各々のチャネルの長さを減
少させることにより又はそれら各々の巾ｗを拡大させる
ことにより減少させることができる。供給チャネル１３
と排出チャネル１４の流れるための抵抗の減少を、供給
口１５と排出口１６の巾ｐより少なくとも約２倍大きい
巾をそれらチャネルに与えることにより実施するのが好
ましい。そのようにすると供給チャネル１３と排出チャ
ネル１４の各々はほぼビンの形をしていて、ビンの頸が
供給口１５又は排出口１６になる。
【００２７】一方、供給チャネル１３と排出チャネル１
４が直接チャネルピース１２中に注いで、それらの末端
（この末端はチャネルピース１２に直ぐ隣接してい
る。）が各々の供給口１５と排出口１６になっていて、
そこからチャネルが各々の中間ピース１３′と１４′に
わたってチャネルの口巾ｐからチャネルの最終口巾ｗへ
次第に増加し、供給口１５と排出口１６も縦方向延長ｌ
を持つようになっていることも可能である。これらの縦
方向延長ｌは、少なくとも供給口１５と排出口１６各々
の巾ｐに該当する。供給口１５と排出口１６の巾ｐが縦
方向延長ｌに沿って一定であると、有利である。好まし
い実施態様では、供給口１５と排出口１６の巾ｐが、そ
れらがチャネルピース１２の巾ｂに大体該当するように
選択される。
【００２８】チャネルピース１２の深さ（それはチャネ
ルシステムの深さに該当すべきである。）と供給チャネ
ル１３と排出チャネル１４の深さは典型的には約０．１
μｍないし約１００μｍである。ビンの頸様の供給口１
５と排出口１６の深さはほぼそれらチャネルの深さに該
当する。
【００２９】本発明のサンプリング装置３は、ミクロ分
析チップの部分である実施態様例を参考にして説明し
た。それは、キャピラリ管から製造される電気泳動化学
分析の部分である、キャピラリ管の配置でもあり得る
が、サンプリング装置はガラス、半導体材料、又は適当
なポリマー中に設定されているキャピラリチャネルシス
テム中へ組み込まれる。供給チャネルと排出チャネルと
各々の供給口と排出口からなるチャネルシステムは、平
面状の基体中にエッチング又はミクロ機械加工又は注型
（ポリマー基体の場合）、又は他の方法で設置されるの
が有利である。その製造のために最も適当なものは、半
導体製造又はミクロ機械素子でよく確立された技術であ
る。
【００３０】規定した最小の時間にわたる試料の動電的
注入でもって注入した試料の体積を幾何学的に規定する
構造上の組み合わせは、試料体積の制御を信頼できるも
のにしそして試料体積内に含有される試料の組成がリザ
ーバ中の試料の原組成を反映することを保証できるよう
にする。本発明に従う、方法とサンプリング装置の別の
改良は、試料成分の電解質緩衝液中への無制御の漏れと
拡散の顕著な減少を可能にする。かくして、依然として
起きている電解質緩衝液中の試料の濃縮は試料の原濃度
の３％以下に止まる。この方法により、検出された電気
泳動シグナルのノイズは減少しそして検出限界は増加す
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のサンプリング装置からなる基部と蓋部
を重ねたミクロカラム分離装置の蓋の上からの線図
【図２】図１のミクロカラム分離装置の切断線IIの断面
図
【図３】図１のミクロカラム分離装置の円で囲んだ部分
の拡大図
【図４】サンプリング装置の２番目の実施態様
【符号の説明】
Ｒ──電解質緩衝液のリザーバ Ｗ──廃物レセプタクル Ｓ──供給源レセプタクル Ｄ──排出レセプタクル １──基部 ２──蓋部 ３──サンプリング装置 ４──チャネルシステム ５ないし８──検出器 １２──チャネルピース １３──供給チャネル １４──排出チャネル １５──供給口 １６──排出口 １７──試料体積 ２２──チャネルピース ２３──供給チャネル ２４──排出チャネル ２５──供給口 ２６──排出口 ２７──試料体積
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ディ．ジェド ハリスン カナダ国，エドモントン ティ５アール 162，151ス ストリート 8932 (72)発明者 カルロ エス．エッフェンハウゼル ドイツ連邦共和国，79756 ヴァイル ア ム ライン，シュツアケルシュトラーセ 18

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電解液緩衝液と多少濃縮された試料がキ
    ャピラリチャネルシステムを通過して送られ、そして異
    なる電気泳動可動性を持つ成分からなる上記試料がサン
    プリング装置中へ試料プラグとして注入され、そのサン
    プリング装置は少なくとも電解質緩衝液のためのチャネ
    ルと上記試料のための供給チャネルと排出チャネルから
    なり、上記電解質チャネルと、上記試料のための供給チ
    ャネルと排出チャネルは互いに交わり、そして上記供給
    チャネルと排出チャネルの各々は上記電解質チャネルに
    対して傾斜しておりそしてその各々の供給口と排出口で
    上記電解質チャネル中に放流しており、上記供給口と上
    記排出口との間の距離は試料体積を幾何学的に決めてい
    る、ミクロカラム分離技術、特にキャピラリ電気泳動
    （ＣＥ）における試料導入を制御するための方法であっ
    て；上記試料の最も低い電気泳動可動性を持つ最も遅い
    成分が上記幾何学的に定義される体積内に含有されてい
    るのに充分に長い程度に少なくともわたる時限にわたり
    上記試料供給チャネルと排出チャネルにわたり電界を設
    けることにより、上記試料プラグの電解質チャネル中へ
    の注入が動電的に実施されることを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 上記時限が、式ｔmin ＝ｄ／（μi ・
    Ｅ）（式中、ｄは上記供給口と排出口の間の距離を表
    し、μi は上記の最も遅い成分の全動電的可動性であり
    そしてＥは供給源チャネルと排出チャネル間にわたる電
    界強度を表す。）により定義される時間に少なくとも相
    当する請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 上記電解質緩衝液と上記試料が動電的に
    送られ、そして更に上記試料プラグの注入の後直ちに上
    記電解質緩衝液が上記供給チャネル中と上記排出チャネ
    ル中に、上記各々の供給口と排出口において一定時限に
    わたり進入するようにし、そしてその一定時限は少なく
    とも、試料プラグ内の最も遅い成分の供給口から検出器
    への移動時間になり、かくして上記試料を上記の各々の
    供給チャネルと排出チャネル中に押し戻しそして上記試
    料が、上記供給口と排出口を通過して送られる上記電解
    質緩衝液中へ制御できないで拡散するのを実質的に防止
    する請求項１又は２記載の方法。
  4. 【請求項４】 上記時限内に上記試料供給チャネルと排
    出チャネル内の上記試料が電圧を受け、それは上記電解
    質緩衝液のためのリザーバにおける電圧とは異なり、か
    くして上記電解質緩衝液が上記供給チャネル内と上記排
    出チャネル内へ進入できるように電圧を設定してある請
    求項３記載の方法。
  5. 【請求項５】 上記電圧の差異が、形成された電界強度
    が少なくとも０．１Ｖ／ｃｍになるように選択してある
    請求項４記載の方法。
  6. 【請求項６】 上記電解質緩衝液が、上記供給チャネル
    と排出チャネル内を流れるための抵抗を減らすことによ
    り、上記供給チャネルと排出チャネル内へ進入できるよ
    うにしてある請求項３記載の方法。
  7. 【請求項７】 上記供給チャネルと排出チャネルの長さ
    を減らすか又は各々の巾を増やすかすることのいずれか
    により、流れるための上記抵抗を減少する請求項６記載
    の方法。
  8. 【請求項８】 上記供給口と排出口より少なくとも約２
    倍大きい巾を上記供給チャネルと排出チャネルの各々に
    与えることにより、上記供給チャネルと排出チャネルの
    流れるための抵抗を減少する請求項７記載の方法。
  9. 【請求項９】 上記供給チャネルと排出チャネルの上記
    供給口と排出口が、少なくとも上記供給口と排出口の約
    上記巾に該当する縦方向の伸長度を持ち、そしてその上
    記巾が上記供給口と排出口の伸長に沿って大体一定に保
    たれている請求項９記載の方法。
  10. 【請求項１０】 上記供給口と排出口の上記巾が、それ
    らが上記チャネルピースの巾に大体該当するように選択
    されている請求項９記載の方法。
  11. 【請求項１１】 上記供給チャネルと排出チャネルを各
    々の口部と共に持つキャピラリチャネルの上記システム
    が、ガラス、又は半導体材料、又は適当なポリマー、又
    は同様のものから造られた平面状の基体中に、エッチン
    グ又はミクロ機械加工又は他の方法で設置してある前記
    の請求項いずれかに記載の方法。
  12. 【請求項１２】 電解質緩衝液のためのチャネル（１
    ２；２２）と、試料のための供給チャネル（１３；２
    ３）と排出チャネル（１４；２４）と試料を上記体積中
    に動電的に注入するための手段からなるサンプリング装
    置であって、供給チャネル（１３；２３）と排出チャネ
    ル（１４；２４）の各々は各々の供給口（１５；２５）
    と排出口（１６；２６）において上記電解質チャネル
    （１２；２２）中に開口し、それらの口〔（１５；２
    ５）と（１６；２６）〕は試料体積（１７；２７）が幾
    何学的に規定されるように互いに関して配置され、上記
    供給チャネル（１３；２３）と排出チャネル（１４；２
    ４）の各々は上記チャネルピース（１２；２２）の縦方
    向の伸長線に対して傾いているサンプリング装置におい
    て；その上記供給源チャネル（１３；２３）と上記排出
    チャネル（１４；２４）の各々が、上記電解質緩衝液に
    関して流れるための抵抗を持ち、それは上記電解質チャ
    ネル（１３；２３）の流れるための各々の抵抗より約５
    ％少ない流れるための抵抗を持つことを特徴とするサン
    プリング装置。
  13. 【請求項１３】 上記供給チャネル（１３；２３）と排
    出チャネル（１４；２４）の各々が、上記供給口（１
    ５；２５）と排出口（１６；２６）の巾より少なくとも
    約２倍大きい巾を持つ請求項１２記載のサンプリング装
    置。
  14. 【請求項１４】 供給チャネル（１３；２３）と排出チ
    ャネル（１４；２４）各々の上記供給口（１５；２５）
    と排出口（１６；２６）が、上記供給口（１５；２５）
    と排出口（１４；２４）の少なくとも上記巾（ｐ）に大
    体該当する縦方向の伸長長（ｌ）を持ち、そしてその上
    記巾（ｗ）が上記供給口（１５；２５）と排出口（１
    ６；２６）の伸長線に沿って大体一定である請求項１３
    記載のサンプリング装置。
  15. 【請求項１５】 上記供給口（１５；２５）と排出口
    （１６；２６）の上記巾（ｐ）が、上記チャネルピース
    （１２；２２）の巾（ｂ）に大体該当する請求項１４記
    載のサンプリング装置。
  16. 【請求項１６】 チャネルが約０．１μｍないし約１０
    ０μｍの深さを持つ請求項１５記載のサンプリング装
    置。
  17. 【請求項１７】 上記供給口（１５；２５）と上記排出
    口（１６；２６）が約０μｍないし約３ｃｍ、好ましく
    は０μｍないし３ｍｍまでの距離で互いに離れて配置し
    てある請求項１２ないし１６のいずれかに記載のサンプ
    リング装置。
  18. 【請求項１８】 上記供給チャネル（１３；２３）と上
    記排出チャネル（１４；２４）各々が、それぞれが約５
    °ないし約１７５°、好ましくは約９０°になる角度で
    上記チャネルピース（１２；２２）の上記縦方向の伸長
    線に関して傾斜しておりそして更に上記供給チャネル
    （１３；２３）と上記排出チャネル（１４；２４）が互
    いに大体平行に伸長している請求項１２ないし１７記載
    のサンプリング装置。
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