JPH07118888A - 電気アルミニウムめっき方法 - Google Patents
電気アルミニウムめっき方法Info
- Publication number
- JPH07118888A JPH07118888A JP26200193A JP26200193A JPH07118888A JP H07118888 A JPH07118888 A JP H07118888A JP 26200193 A JP26200193 A JP 26200193A JP 26200193 A JP26200193 A JP 26200193A JP H07118888 A JPH07118888 A JP H07118888A
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- Japan
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- halide
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 水分由来の含酸素不純物を含有する、アルミ
ニウムハロゲン化物３０〜８０モル％とオニウムハロゲ
ン化物７０〜２０モル％との混合溶融塩に金属塩化物を
添加して処理し、アルミニウムハロゲン化物５０〜８０
モル％とオニウムハロゲン化物５０〜２０モル％の組成
物に調製して得られた混合溶融塩をめっき浴として使用
することにより電気アルミニウムめっきを行う方法。 【効果】 生産性よく、常に良好なめっき状態を有する
アルミニウムめっき皮膜が得られる。
ニウムハロゲン化物３０〜８０モル％とオニウムハロゲ
ン化物７０〜２０モル％との混合溶融塩に金属塩化物を
添加して処理し、アルミニウムハロゲン化物５０〜８０
モル％とオニウムハロゲン化物５０〜２０モル％の組成
物に調製して得られた混合溶融塩をめっき浴として使用
することにより電気アルミニウムめっきを行う方法。 【効果】 生産性よく、常に良好なめっき状態を有する
アルミニウムめっき皮膜が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルミニウムハロゲン
化物とオニウムハロゲン化物とを含有するめっき浴を用
いて効率的にアルミニウム電気めっきを行う方法に関す
る。
化物とオニウムハロゲン化物とを含有するめっき浴を用
いて効率的にアルミニウム電気めっきを行う方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】電気アルミニウムめっきは、アルミニウ
ムの酸素に対する親和力が大きく、標準電極電位が水素
より卑であるので、水溶液系で行うことは困難である。
このため、従来より電気アルミニウムめっきは、非水溶
液系のめっき浴、特に有機溶媒系のめっき浴を用いて行
われている。
ムの酸素に対する親和力が大きく、標準電極電位が水素
より卑であるので、水溶液系で行うことは困難である。
このため、従来より電気アルミニウムめっきは、非水溶
液系のめっき浴、特に有機溶媒系のめっき浴を用いて行
われている。
【０００３】この有機溶媒系のめっき浴としては、三塩
化アルミニウムとＬｉＡｌＨ4またはＬｉＨとをエ−テ
ルに溶解したものや三塩化アルミニウムとＬｉＡｌＨ4
とをテトラヒドロフランに溶解したものが代表的な例で
ある（例えば、Ｄ．Ｅ．Ｃｏｕｃｈ ら；Ｊ．Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｃｈｅｍ．，９９巻，（６），２３４頁）。しか
し、これらのめっき浴はいずれも浴中に非常に活性なＬ
ｉＡｌＨ4またはＬｉＨを含んでいるため、酸素や水分
が存在すると、それらと反応して分解し、電流効率が低
下したり、浴の寿命が短くなる問題があった。また、使
用する有機溶媒の沸点が低く、爆発や燃焼の危険性が高
いという問題点を有している。
化アルミニウムとＬｉＡｌＨ4またはＬｉＨとをエ−テ
ルに溶解したものや三塩化アルミニウムとＬｉＡｌＨ4
とをテトラヒドロフランに溶解したものが代表的な例で
ある（例えば、Ｄ．Ｅ．Ｃｏｕｃｈ ら；Ｊ．Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｃｈｅｍ．，９９巻，（６），２３４頁）。しか
し、これらのめっき浴はいずれも浴中に非常に活性なＬ
ｉＡｌＨ4またはＬｉＨを含んでいるため、酸素や水分
が存在すると、それらと反応して分解し、電流効率が低
下したり、浴の寿命が短くなる問題があった。また、使
用する有機溶媒の沸点が低く、爆発や燃焼の危険性が高
いという問題点を有している。
【０００４】更に他の例として、トリエチルアルミニウ
ムとフッ化ナトリウムをトルエンに溶解しためっき浴も
提案（Ｒ．Ｓｕｃｈｅｎｔｒｕｎｋ，Ｚ．Ｗｅｒｋｓｔ
ｏｆｆｔｅｃｈ．，１２巻，１９０頁）されている。し
かしながら、この場合も危険性の高いトリエチルアルミ
ニウムの取扱いが非常に問題であり、実用化は困難であ
ると考えられている。
ムとフッ化ナトリウムをトルエンに溶解しためっき浴も
提案（Ｒ．Ｓｕｃｈｅｎｔｒｕｎｋ，Ｚ．Ｗｅｒｋｓｔ
ｏｆｆｔｅｃｈ．，１２巻，１９０頁）されている。し
かしながら、この場合も危険性の高いトリエチルアルミ
ニウムの取扱いが非常に問題であり、実用化は困難であ
ると考えられている。
【０００５】また最近では、特開昭６２−７０５９２号
公報、特開平１−２７２７８８号及び同１−２７２７９
０号公報等に、アルミニウムハロゲン化物と、アルキル
ピリジニウムハロゲン化物、四級アンモニウム塩、１−
アルキルまたは１，３−ジアルキルイミダゾリウムハロ
ゲン化物等のオニウムハロゲン化物とからなる溶融塩を
めっき浴として用いる電気アルミニウムめっき法が提案
されている。しかしながら、これらめっき浴は、水分の
混入によってめっき状態が大きく変化するため、一定の
めっき条件で行っても常に均一なめっき被膜が得られる
とは限らない。
公報、特開平１−２７２７８８号及び同１−２７２７９
０号公報等に、アルミニウムハロゲン化物と、アルキル
ピリジニウムハロゲン化物、四級アンモニウム塩、１−
アルキルまたは１，３−ジアルキルイミダゾリウムハロ
ゲン化物等のオニウムハロゲン化物とからなる溶融塩を
めっき浴として用いる電気アルミニウムめっき法が提案
されている。しかしながら、これらめっき浴は、水分の
混入によってめっき状態が大きく変化するため、一定の
めっき条件で行っても常に均一なめっき被膜が得られる
とは限らない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、アルミ
ニウムハロゲン化物とオニウムハロゲン化物とからなる
めっき浴において、生産性よく常に安定した状態で再使
用でき、且つ良好なめっき状態を有するアルミニウムめ
っき皮膜を得る電気めっき方法を提供することを目的と
する。
ニウムハロゲン化物とオニウムハロゲン化物とからなる
めっき浴において、生産性よく常に安定した状態で再使
用でき、且つ良好なめっき状態を有するアルミニウムめ
っき皮膜を得る電気めっき方法を提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、水
分由来の含酸素不純物を含有する、アルミニウムハロゲ
ン化物５０〜８０モル％とオニウムハロゲン化物５０〜
２０モル％との混合溶融塩に、金属塩化物処理したもの
をそのままめっき浴として使用するか、あるいは水分由
来の含酸素不純物を含有する、アルミニウムハロゲン化
物３０〜５０モル％とオニウムハロゲン化物７０〜５０
モル％との混合溶融塩に金属塩化物処理をした後、アル
ミニウムハロゲン化物５０〜８０モル％とオニウムハロ
ゲン化物５０〜２０モル％の組成物に調製して得られた
混合溶融塩をめっき浴として使用して電気アルミニウム
めっきをするものである。
分由来の含酸素不純物を含有する、アルミニウムハロゲ
ン化物５０〜８０モル％とオニウムハロゲン化物５０〜
２０モル％との混合溶融塩に、金属塩化物処理したもの
をそのままめっき浴として使用するか、あるいは水分由
来の含酸素不純物を含有する、アルミニウムハロゲン化
物３０〜５０モル％とオニウムハロゲン化物７０〜５０
モル％との混合溶融塩に金属塩化物処理をした後、アル
ミニウムハロゲン化物５０〜８０モル％とオニウムハロ
ゲン化物５０〜２０モル％の組成物に調製して得られた
混合溶融塩をめっき浴として使用して電気アルミニウム
めっきをするものである。
【０００８】本発明で使用するアルミニウムハロゲン化
物の例としては、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニ
ウムなどが挙げられる。また、本発明で使用するオニウ
ムハロゲン化物としては、テトラエチルアンモニウムブ
ロミド、トリメチルエチルアンモニウムクロリド等の四
級アンモニウム塩、ブチルピリジニウムクロリド等のピ
リジニウム塩、１ーエチルー３ーメチルイミダゾリウム
クロリド等のイミダゾリウム塩、エチルトリブチルホス
ホニウムブロミド等のホスホニウム塩などが挙げられ
る。
物の例としては、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニ
ウムなどが挙げられる。また、本発明で使用するオニウ
ムハロゲン化物としては、テトラエチルアンモニウムブ
ロミド、トリメチルエチルアンモニウムクロリド等の四
級アンモニウム塩、ブチルピリジニウムクロリド等のピ
リジニウム塩、１ーエチルー３ーメチルイミダゾリウム
クロリド等のイミダゾリウム塩、エチルトリブチルホス
ホニウムブロミド等のホスホニウム塩などが挙げられ
る。
【０００９】電気アルミニウムめっき浴としては、アル
ミニウムハロゲン化物５０〜８０モル％とオニウムハロ
ゲン化物５０〜２０モル％の混合溶融塩を用いるが、オ
ニウムハロゲン化物は吸湿性が高いため、めっき操作を
長時間行うことによって、めっき物及び／またはめっき
雰囲気中の水を不純物として含有することがある。この
水は、めっき条件下でハロゲン化水素及び含酸素不純物
を生成する。
ミニウムハロゲン化物５０〜８０モル％とオニウムハロ
ゲン化物５０〜２０モル％の混合溶融塩を用いるが、オ
ニウムハロゲン化物は吸湿性が高いため、めっき操作を
長時間行うことによって、めっき物及び／またはめっき
雰囲気中の水を不純物として含有することがある。この
水は、めっき条件下でハロゲン化水素及び含酸素不純物
を生成する。
【００１０】金属塩化物による処理はアルミニウムハロ
ゲン化物３０〜８０モル％とオニウムハロゲン化物７０
〜２０モル％、好ましくはアルミニウムハロゲン化物３
０〜５０モル％とオニウムハロゲン化物７０〜５０モル
％との混合溶融塩に金属塩化物を添加し、反応させた
後、含酸素不純物を含む固形物を除去することによって
行う。
ゲン化物３０〜８０モル％とオニウムハロゲン化物７０
〜２０モル％、好ましくはアルミニウムハロゲン化物３
０〜５０モル％とオニウムハロゲン化物７０〜５０モル
％との混合溶融塩に金属塩化物を添加し、反応させた
後、含酸素不純物を含む固形物を除去することによって
行う。
【００１１】金属塩化物としては、当該処理により、酸
化アルミニウムより安定な酸化物を生成する金属の塩化
物が有効である。具体的には、三塩化チタン、四塩化チ
タン、三塩化バナジウム、五塩化ニオブ、五塩化タンタ
ル、六塩化タングステン、三塩化モリブデン、五塩化モ
リブデン、三塩化ランタン等の金属塩化物が挙げられ
る。
化アルミニウムより安定な酸化物を生成する金属の塩化
物が有効である。具体的には、三塩化チタン、四塩化チ
タン、三塩化バナジウム、五塩化ニオブ、五塩化タンタ
ル、六塩化タングステン、三塩化モリブデン、五塩化モ
リブデン、三塩化ランタン等の金属塩化物が挙げられ
る。
【００１２】金属塩化物処理はめっき浴として用いられ
るアルミニウムハロゲン化物５０〜８０モル％とオニウ
ムハロゲン化物５０〜２０モル％の組成の混合溶融塩を
そのまま処理してもよいが、金属塩化物の添加前に、ア
ルミニウムハロゲン化物濃度を低下させることは、再生
効率が上昇するためさらに有効である。金属塩化物添加
を行う前のアルミニウムハロゲン化物濃度の低下は、オ
ニウムハロゲン化物および／または低アルミニウムハロ
ゲン化物組成物の添加によって行うことができる。ここ
で、金属塩化物処理時の組成は、アルミニウムハロゲン
化物３０〜５０モル％、オニウムハロゲン化物７０〜５
０モル％が望ましい。アルミニウムハロゲン化物の濃度
が３０モル％以下の場合は、組成物の粘度が高く、オニ
ウムハロゲン化物の種類によっては固化することがある
ため好ましくない。
るアルミニウムハロゲン化物５０〜８０モル％とオニウ
ムハロゲン化物５０〜２０モル％の組成の混合溶融塩を
そのまま処理してもよいが、金属塩化物の添加前に、ア
ルミニウムハロゲン化物濃度を低下させることは、再生
効率が上昇するためさらに有効である。金属塩化物添加
を行う前のアルミニウムハロゲン化物濃度の低下は、オ
ニウムハロゲン化物および／または低アルミニウムハロ
ゲン化物組成物の添加によって行うことができる。ここ
で、金属塩化物処理時の組成は、アルミニウムハロゲン
化物３０〜５０モル％、オニウムハロゲン化物７０〜５
０モル％が望ましい。アルミニウムハロゲン化物の濃度
が３０モル％以下の場合は、組成物の粘度が高く、オニ
ウムハロゲン化物の種類によっては固化することがある
ため好ましくない。
【００１３】添加する金属塩化物の量は、めっき浴中の
含酸素不純物に対し０．１〜２倍モルが望ましい。添加
量が０．１倍モル以下の場合には、含酸素不純物の除去
が十分でないため好ましくない。また、添加量が２倍モ
ルを越える場合には、余剰の金属塩化物を除去するのに
時間とエネルギーを要し好ましくない。反応温度は、室
温〜１００℃の範囲が好ましい。１００℃を越える場合
には、温度上昇の効果があまり見られないことと、混合
溶融塩の分解等の可能性があるため好ましくない。反応
は、金属塩化物添加後５時間以内に終了する。
含酸素不純物に対し０．１〜２倍モルが望ましい。添加
量が０．１倍モル以下の場合には、含酸素不純物の除去
が十分でないため好ましくない。また、添加量が２倍モ
ルを越える場合には、余剰の金属塩化物を除去するのに
時間とエネルギーを要し好ましくない。反応温度は、室
温〜１００℃の範囲が好ましい。１００℃を越える場合
には、温度上昇の効果があまり見られないことと、混合
溶融塩の分解等の可能性があるため好ましくない。反応
は、金属塩化物添加後５時間以内に終了する。
【００１４】金属塩化物添加前にアルミニウムハロゲン
化物濃度を低下させた場合には、アルミニウムハロゲン
化物５０〜８０モル％とオニウムハロゲン化物５０〜２
０モル％のめっき浴組成に戻し、電気アルミニウムめっ
きに供する。組成の変更は、所定量のアルミニウムハロ
ゲン化物を添加することによって行う。余剰の金属塩化
物および生成した金属酸化物は、反応終了後叉は組成調
製後にろ過によって除去する。ろ過は、０．５μｍ程度
の粒子をろ別できるフィルターを用いることが好まし
い。
化物濃度を低下させた場合には、アルミニウムハロゲン
化物５０〜８０モル％とオニウムハロゲン化物５０〜２
０モル％のめっき浴組成に戻し、電気アルミニウムめっ
きに供する。組成の変更は、所定量のアルミニウムハロ
ゲン化物を添加することによって行う。余剰の金属塩化
物および生成した金属酸化物は、反応終了後叉は組成調
製後にろ過によって除去する。ろ過は、０．５μｍ程度
の粒子をろ別できるフィルターを用いることが好まし
い。
【００１５】電気アルミニウムめっきは、陽極にアルミ
ニウム板、陰極に導電性を有する被めっき物を使用す
る。めっき条件として、直流もしくはパルス電流によ
り、浴温０〜１５０℃、電流密度０．０１〜５０Ａ／ｄ
ｍ2 で行うと電流効率がよく、かつ均一なめっきを得る
ことができる。めっきは、乾燥不活性ガス雰囲気下で行
うことが好ましい。
ニウム板、陰極に導電性を有する被めっき物を使用す
る。めっき条件として、直流もしくはパルス電流によ
り、浴温０〜１５０℃、電流密度０．０１〜５０Ａ／ｄ
ｍ2 で行うと電流効率がよく、かつ均一なめっきを得る
ことができる。めっきは、乾燥不活性ガス雰囲気下で行
うことが好ましい。
【００１６】
【実施例】以下に、実施例を挙げて、本発明を更に具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 参考例 乾燥窒素雰囲気下で合成した、１−エチル−３−メチル
イミダゾリウムクロリド１４７ｇ（１モル）と三塩化ア
ルミニウム２８９ｇ（２モル）とからなる三塩化アルミ
ニウム濃度６７モル％の溶融塩に水を９ｇ（２ｗｔ％）
添加して含酸素不純物を含む混合溶融塩を４４５ｇ調製
した。
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 参考例 乾燥窒素雰囲気下で合成した、１−エチル−３−メチル
イミダゾリウムクロリド１４７ｇ（１モル）と三塩化ア
ルミニウム２８９ｇ（２モル）とからなる三塩化アルミ
ニウム濃度６７モル％の溶融塩に水を９ｇ（２ｗｔ％）
添加して含酸素不純物を含む混合溶融塩を４４５ｇ調製
した。
【００１７】比較例１ この溶融塩をめっき浴として、陽極をアルミニウム板、
陰極を銅板として、浴温６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2
の条件で電解を行ったところ、銅板上にはアルミニウム
皮膜は得られず、黒色の表面になった。
陰極を銅板として、浴温６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2
の条件で電解を行ったところ、銅板上にはアルミニウム
皮膜は得られず、黒色の表面になった。
【００１８】実施例１ 参考例に記載の水２ｗｔ％を添加した６７モル％の溶融
塩４４５ｇをガラス製反応器に投入後、五塩化モリブデ
ン１７１ｇ（０．６モル）を添加した。反応器を８０℃
に加熱し、４時間反応を行った後、０．５μｍのフィル
ターを用い、固形物をろ別した。このものをめっき浴と
して、陽極をアルミニウム板、陰極を銅板として、浴温
６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2の条件で電解を行ったと
ころ、銅板上には白色の良好なアルミニウム皮膜が得ら
れた。
塩４４５ｇをガラス製反応器に投入後、五塩化モリブデ
ン１７１ｇ（０．６モル）を添加した。反応器を８０℃
に加熱し、４時間反応を行った後、０．５μｍのフィル
ターを用い、固形物をろ別した。このものをめっき浴と
して、陽極をアルミニウム板、陰極を銅板として、浴温
６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2の条件で電解を行ったと
ころ、銅板上には白色の良好なアルミニウム皮膜が得ら
れた。
【００１９】実施例２ 実施例１において、五塩化モリブデン１７１ｇ添加を五
塩化ニオブ１６９ｇ（０．６モル）添加に変更した以外
は、同様な操作を行った。処理した溶融塩をめっき浴と
して、陽極をアルミニウム板、陰極を銅板として、浴温
６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2の条件で電解を行ったと
ころ、銅板上には白色の良好なアルミニウム皮膜が得ら
れた。
塩化ニオブ１６９ｇ（０．６モル）添加に変更した以外
は、同様な操作を行った。処理した溶融塩をめっき浴と
して、陽極をアルミニウム板、陰極を銅板として、浴温
６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2の条件で電解を行ったと
ころ、銅板上には白色の良好なアルミニウム皮膜が得ら
れた。
【００２０】実施例３ 参考例に記載の、水２ｗｔ％を添加した６７モル％の溶
融塩４４５ｇをガラス製反応器に投入後、１−エチル−
３−メチルイミダゾリウムクロリド１７６ｇ（１．２モ
ル）を加え、三塩化アルミニウム濃度４８モル％の溶融
塩を調製した。さらに、五塩化モリブデン１７１ｇ
（０．６モル）を添加した。反応器を５０℃に加熱し、
４時間反応を行った後、０．５μｍのフィルターを用
い、固形物をろ別した。
融塩４４５ｇをガラス製反応器に投入後、１−エチル−
３−メチルイミダゾリウムクロリド１７６ｇ（１．２モ
ル）を加え、三塩化アルミニウム濃度４８モル％の溶融
塩を調製した。さらに、五塩化モリブデン１７１ｇ
（０．６モル）を添加した。反応器を５０℃に加熱し、
４時間反応を行った後、０．５μｍのフィルターを用
い、固形物をろ別した。
【００２１】処理を行った溶融塩に、三塩化アルミニウ
ム３２０ｇ（２．４モル）を投入し、三塩化アルミニウ
ム濃度６７モル％の溶融塩に調製し直した。このものを
めっき浴として、陽極をアルミニウム板、陰極を銅板と
して、浴温６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2の条件で電解
を行ったところ、銅板上には白色の良好なアルミニウム
皮膜が得られた。
ム３２０ｇ（２．４モル）を投入し、三塩化アルミニウ
ム濃度６７モル％の溶融塩に調製し直した。このものを
めっき浴として、陽極をアルミニウム板、陰極を銅板と
して、浴温６０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ2の条件で電解
を行ったところ、銅板上には白色の良好なアルミニウム
皮膜が得られた。
【００２２】比較例２ 実施例３において、五塩化モリブデン１７１ｇの添加を
行わなかった以外は同様な操作を行った。電解を行った
ところ、銅板上にはアルミニウム皮膜は得られず、黒色
の表面となった。
行わなかった以外は同様な操作を行った。電解を行った
ところ、銅板上にはアルミニウム皮膜は得られず、黒色
の表面となった。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、アルミニウムハロゲン
化物とオニウムハロゲン化物とからなるめっき浴を再生
し、これを用いて生産性よく常に良好なめっき状態を有
するアルミニウムめっき皮膜を得ることができる。
化物とオニウムハロゲン化物とからなるめっき浴を再生
し、これを用いて生産性よく常に良好なめっき状態を有
するアルミニウムめっき皮膜を得ることができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 水分由来の含酸素不純物を含有する、ア
ルミニウムハロゲン化物５０〜８０モル％とオニウムハ
ロゲン化物５０〜２０モル％との混合溶融塩に、金属塩
化物処理し、得られた混合溶融塩をめっき浴として使用
することを特徴とする電気アルミニウムめっき方法。 - 【請求項２】 水分由来の含酸素不純物を含有する、ア
ルミニウムハロゲン化物３０〜５０モル％とオニウムハ
ロゲン化物７０〜５０モル％との混合溶融塩に、金属塩
化物処理し、アルミニウムハロゲン化物５０〜８０モル
％とオニウムハロゲン化物５０〜２０モル％の組成物に
調製して得られた混合溶融塩をめっき浴として使用する
ことを特徴とする電気アルミニウムめっき方法。 - 【請求項３】 金属塩化物が、処理生成物として酸化ア
ルミニウムより安定な酸化物を生成する金属の塩化物で
ある請求項１及び請求項２に記載のめっき方法。 - 【請求項４】 金属塩化物処理が、混合溶融塩中の含酸
素不純物に対し、０．１〜２倍モルの金属塩化物を加
え、室温〜１００℃で反応させた後、固形物をろ過して
除去する請求項１及び請求項２に記載のめっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26200193A JPH07118888A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 電気アルミニウムめっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26200193A JPH07118888A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 電気アルミニウムめっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07118888A true JPH07118888A (ja) | 1995-05-09 |
Family
ID=17369638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26200193A Withdrawn JPH07118888A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 電気アルミニウムめっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07118888A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001075193A1 (fr) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Japan Science And Technology Corporation | Procede d'electrodeposition de tantale |
| JP2006161154A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Hitachi Metals Ltd | 電解アルミニウムめっき液 |
-
1993
- 1993-10-20 JP JP26200193A patent/JPH07118888A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001075193A1 (fr) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Japan Science And Technology Corporation | Procede d'electrodeposition de tantale |
| JP2006161154A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Hitachi Metals Ltd | 電解アルミニウムめっき液 |
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Legal Events
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