JPH07118010B2

JPH07118010B2 - マスク信号処理回路

Info

Publication number: JPH07118010B2
Application number: JP61244963A
Authority: JP
Inventors: 善之太田; 繁佐々木; 龍哉佐藤; 暢尾崎
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1986-10-15
Filing date: 1986-10-15
Publication date: 1995-12-18
Anticipated expiration: 2010-12-18
Also published as: JPS6398786A

Description

【発明の詳細な説明】〔概要〕画像データが入力され、その画像の所定領域内のみを処
理するために使用するマスク信号処理回路であって、画
素濃度マスク生成手段とマスク情報生成手段および矩形
マスク生成手段の中の何れかを選択してマスク信号を作
成し、動画像データに対しても適切に対応できるマスク
信号処理回路である。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、入力された動画像をディジタル処理するとき
のマスク信号処理回路に関するものである。

〔従来の技術〕

従来の画像処理方式を第３図に示す。

マスクプレーンメモリ321は、処理画像と同じ大きさの
二次元配列を持ったマスクメモリである。座標生成回路
311は、処理対象の画素の画像上の位置を算出して、マ
スクプレーンメモリ321に入力する。マスクプレーンメ
モリ321では、制御部からの指示によってマスク制御信
号を出力する。そして、このマスク制御信号によって、
１画素上の任意の形状の領域内だけの画像処理を行って
いた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、上述した従来方式にあっては、マスクプレー
ンメモリ321のみを使用していた。例えば、画像中で動
いている物体のみにマスクをかけて処理を行う場合、連
続して入力される動画像に対してマスクをかける領域が
変化するため、その動きに追従してマスク信号を作成す
ることが出来なかった。従ってマスクをかける領域が変
化する都度、マスクプレーンメモリ321全体を書き替え
て画像処理を行っていた。

以上のように、従来方式ではマスクプレーンメモリ321
全体を書き替えて画像処理を行っていたので、高速化で
きないという問題点があった。

本発明は、このような点に鑑みて創作されたものであ
り、画像処理を高速化するためのマスク信号処理回路を
提供することを目的としている。

［問題点を解決するための手段］第１図は、本発明のマスク信号処理回路の原理ブロック
図である。

図において、111は画素濃度マスク生成手段、131は第１
マスク信号、141は座標生成手段、131は矩形領域設定手
段、151は矩形マスク生成手段、153は第２マスク信号、
121はマスク情報生成手段、123は第３マスク信号、161
はマスク信号選択手段、163は出力マスク信号で、171は
画像データ選択手段である。

前述の目的を達成するため、本発明は第１図に示す通り
下記の構成とする。

入力された画像データを基にマスク信号を作成し、画像
データとマスク信号とを出力して後段に接続される画像
処理回路に送出することにより、画像をパイプライン処
理を行うように構成した装置に用いられるマスク信号処
理回路であって、前記画像データ中の特定のビットパタ
ーンの画素処理を指示する第１のマスク信号（113）を
生成する画素濃度マスク生成手段（111）と、前記画素
データと共に入力されたクロック及び同期信号を基に前
記画像データの座標を逐次生成する座標生成手段（14
1）と、前記画像データ内の矩形領域を指定するための
矩形領域設定手段（131）と、前記矩形領域設定手段（1
31）の出力と座標生成手段（141）の出力とから、前記
入力画像データの画素が前記矩形領域設定手段（131）
で指定された矩形領域内にあるかどうかを決定し、それ
ぞれに対応した画素の画像処理を指示する第２マスク信
号（153）を生成する矩形マスク生成手段（151）と、入
力された指示信号と、前記画素濃度マスク生成手段（11
1）のマスク信号の入力によって、前記画像データに対
して特定ビットパターンの画素の画像処理を指示する第
３マスク信号（123）を生成するマスク情報生成手段（1
21）と、前記画素濃度マスク生成手段（111）で作成さ
れる第１マスク信号（113）と前記マスク情報生成手段
（121）で生成される第３マスク信号（123）と前記矩形
マスク生成手段（151）で生成される第２マスク信号（1
53）が導入され、それらを入力された指示信号により画
像処理条件に基づいて選択し、或いは論理的に組合わせ
て出力マスク信号（163）を作成して出力するマスク信
号選択手段（161）と、を備えて構成する。

〔作用〕

画素濃度マスク生成手段111には、画像データ入力手段
から画像データが入力され、この画像データから特定の
ビットパターンの画素の画像処理を指示する第１マスク
信号113を作成する。

座標生成手段141では、既述の同期源手段から供給され
るクロック及び同期信号を基に画像上の画素の位置を算
出し、矩形領域設定手段131では、画像内の矩形領域を
指定し、それぞれの出力を矩形マスク生成手段151に入
力する。そして矩形マスク生成手段151では、画素が矩
形領域内にあるかどうかを決定して、第２マスク信号15
1を作成する。

また、マスク情報生成手段121では、座標生成手段141の
出力及び画素濃度マスク生成手段111出力の第１マスク
情報の入力によって、入力画像に対して新領域内の特定
ビットパターンの画素の画像処理を指示する第３マスク
信号123を作成する。

マスク信号選択手段161には、画素濃度マスク生成手段1
11で作成される第１マスク信号113、マスク情報生成手
段121で作成される第３マスク信号123、矩形マスク生成
手段151で作成される第２マスク信号153が入力され、そ
れらを任意に選択して出力マスク信号163を作成する。

ここで、前記の「選択」とは第１マスク信号113（画素
濃度マスク生成回路出力）、第２マスク信号123（マス
ク情報生成手段の出力）、第３マスク信号153（矩形生
成手段の出力）の中からマスク信号を一つだけ選び出す
ことであるが、「論理的に組合せて」とは下記のように
処理することを指す。即ち、例えば、第３マスク信号に
関係なく、第１マスク信号と第２マスク信号との論理積
の信号を得ること、第１マスク信号と第２マスク信号と第３マスク信号との
三者の論理和の信号を得ること、である。

本発明にあっては、画素濃度マスク生成手段111とマス
ク情報生成手段121および矩形マスク生成手段151が導入
され、それらを画像データ中の画像処理条件に基づいて
選択して出力マスク信号163を作成しているので、画像
処理が高速化できる。

〔実施例〕

以下、図面に基づいて本発明の実施例について詳細に説
明する。

第２図は、本発明の一実施例におけるマスク信号処理回
路の構成を示す。

I.実施例と第１図との対応関係ここで、本発明の実施例と第１図との対応関係を示して
おく。

画素濃度マスク生成手段111は、画素濃度マスク生成回
路211に相当する。

第１マスク信号113は、画素濃度マスク生成回路211から
の出力に相当する。

マスク情報生成手段121は、マスクプレメモリ221に相当
する。

第３マスク信号123は、マスクプレーンメモリ221からの
出力に相当する。

矩形領域設定手段131は、レジスタ231,レジスタ233,レ
ジスタ235,およびレジスタ237に相当する。

座標生成手段141は、カウンタ241,カウンタ243に相当す
る。

矩形マスク生成手段151は、矩形マスク生成回路251,比
較回路253,比較回路255,比較回路257および比較回路259
に相当する。

第２マスク信号153は矩形マスク生成回路251からの出力
に相当する。

マスク信号選択手段161は、セレクタ261に相当する。

出力マスク信号163は、セレクタ261からの出力に相当す
る。

画素データ選択手段171は、セレクタ271,レジスタ273,
およびレジスタ275に相当する。

II.実施例の構成以上のような対応関係があるものとして、以下本発明の
実施例について説明する。

第２図における画像処理回路は、例えばパイプライン方
式をとった処理モジュール群の一つである。この画像処
理モジュールには、画像全データが入力され、マスクを
生成し、対象画像データを選択して、次のモジュールへ
結果を出力する。

画像データは、画素濃度マスク生成回路211とセレクタ2
71に入力される。

画素濃度マスク生成回路211からの出力は、セレクタ261
とマスクプレーンメモリ221に入力される。このマスク
プレーンメモリ221からの出力は、セレクタ261に入力さ
れる。

カウンタ241には、クロックと画像の水平同期信号が入
力され、その出力はマスクプレーンメモリ221,比較回路
253,比較回路257に導入される。カウンタ243には、画像
の水平同期信号と垂直同期信号が入力されて、その出力
は、マスクプレーンメモリ221,比較回路255,比較回路25
9に導入される。

４つのレジスタ231〜237の出力は、比較回路253〜259に
入力される。

比較回路253〜259の出力は矩形マスク生成回路251に導
入されて、矩形マスク生成回路251の出力は、セレクタ2
61に入力される。レジスタ273,レジスタ275の出力はセ
レクタ271に入力される。

更に、セレクタ271では、セレクタ261の出力も導入さ
れ、セレクタ261,セレクタ271の出力は、次段のモジュ
ールへ入力される。

また、画素濃度マスク生成回路211,マスクプレーンメモ
リ221,レジスタ231〜237,セレクタ261,セレクタ271,レ
ジスタ273,レジスタ275は、外部の制御部（図示せず）
からの指示によって制御される。

III、実施例の動作第２図において、画像データ入力手段からの画像データ
は、先ず画素濃度マスク生成回路211に入力される。

画素濃度マスク生成回路211では、入力画素の特定のビ
ットパターン、例えば１画素が256（＝2⁸）段階の濃度
階調を持つものとすると、各画素の濃度階調は８ビット
の符号パターンで表せるが、この符号パターンで表され
た濃度階調のうち特定の濃度階調の画素だけを次段で画
像処理する。即ち抽出したり除去したりすることを指示
する“1"または“0"による指示信号、即ちマスク（制
御）信号を出力する。

カウンタ241からは、同期源手段からのクロック及び同
期信号を基に入力画素の水平方向の座標が出力され、そ
の出力はマスクプレーンメモリ221,比較回路253,比較回
路257に入力される。同様に、カウンタ243からは、入力
画素の垂直方向の座標が出力され、その出力は、マスク
プレーンメモリ221,比較回路255,比較回路259に入力さ
れる。

矩形マスクは、左上点および右下点を指定することによ
って決定される。制御部からの指示により、矩形の左上
点の水平方向座標および垂直方向座標が、それぞれレジ
スタ231,レジスタ233に格納される。そして、レジスタ2
31の出力は比較回路253に入力されて、レジスタ233の出
力は比較回路255に入力される。

同様に、矩形の右下点の水平方向座標および垂直方向座
標が、それぞれレジスタ235,レジスタ237に格納され
る。そして、レジスタ235の出力は比較回路257に入力さ
れて、レジスタ237の出力は比較回路259に入力される。

比較回路253では、画素の水平方向座標と矩形の左上点
の水平方向座標とを比較して、（矩形の左上点の水平方向座標）＞（画素の水平方向座
標）ならば “1"を出力する。

比較回路255では、画素の垂直方向座標と矩形の左上点
の垂直方向座標とを比較して、（矩形の左上点の垂直方向座標）＞（画素の垂直方向座
標）ならば “1"を出力する。

比較回路257では、画素の水平方向座標と矩形の右下点
の水平方向座標とを比較して、（矩形の右下点の水平方向座標）＜（画素の水平方向座
標）ならば “1"を出力する。

比較回路259では、画素の垂直方向座標と矩形の右下点
の垂直方向座標とを比較して、（矩形の右下点の垂直方向座標）＜（画素の垂直方向座
標）ならば “1"を出力する。

比較回路253〜比較回路259の結果は、矩形マスク生成回
路251に入力される。矩形マスク生成回路251では、入力
に一つ以上“1"がある時、画素が矩形外にあると判断し
て、矩形マスク信号を作成する。

マスクプレーンメモリ221は、既述の外部制御部から入
力される画像処理すべき画素の存在する既述の矩形領域
と異なる新領域を指示する指示信号に従って、或いは特
定のビットパターンの画素の画像処理を指示する画素濃
度マスク生成回路211の出力、および既述の同期源手段
からの供給されるクロック及び同期信号を基に、画像デ
ータ中の画素の画像上の位置を算出するカウンタ241,24
3で構成される座標生成手段141の出力によって、前記新
領域内の特定のビットパターンの画素の画像処理を指示
する第３マスク信号を出力する。

以上の画素濃度マスク生成回路211,マスクプレーンメモ
リ221,矩形マスク生成回路251によって作成されたマス
ク信号は、セレクタ261によって、何れか一つを選択す
る。

レジスタ273,レジスタ275は外部制御部からの指示によ
り、入力画像の値を出力する代わりにマスク信号が“1"
及び“0"の場合にあるビットパターンの画素データを出
力することも出来る。

一般に画像処理を実行する際に、実際にどのような形状
のマスクパターンを用いているのかを確認したい場合が
あり、通常制御部からのウインドウメモリあるいは抽出
領域メモリの内容を読取り、制御部にあるディスプレイ
に表示して見ることが多い。この場合入力画像とマスク
領域を重ね合わせることが出来ないため、マスク領域を
吟味しにくい。即ち、画像処理の出力側においたディス
プレイでマスク領域を重ね合わせた画像を見ることはで
きるが、論理積回路を用いて入力画像データを加工して
いるので、マスク領域は濃度０のため入力画像が位場合
には非常に見にくい。

この点本願発明では、マスク領域やマスク領域外の部分
に対して、レジスタ273,275を利用して任意の濃度を指
定できるので、簡単且つ明瞭に入力画像と重ね合わせて
マスク領域を確認できる効果がある。

セレクタ271では、制御部からの制御信号とセレクタ261
からのマスク信号が入力され、操作すべき画像データと
前述のビットパターンとについて選択される。

本発明では、画像の制御信号と同時にマスク信号を次段
のプロセッサに送り、この信号のオン／オフを判断して
画像処理を実行するしないを制御するので、動画像情報
についても対応でき、また対象物が存在する大まかな領
域を矩形として設定し、連続して入力される動画像の帰
線期間において矩形マスクや濃度マスクの値を変更でき
るので高速な画像処理ができる。

次段モジュールへは、セレクタ271で得られた画像デー
タとセレクタ261で作成されたマスク信号が送られ、次
の処理が行われる。

IV、実施例のまとめこのように、画素濃度マスク生成回路211,マスクプレー
ンメモリ221,矩形マスク生成回路251の中から適切な方
法を選択して、マスク信号を作成する。そして、そのマ
スク信号を基にして，画像データの中から操作対象の画
像データを選択する。

従って、画像処理が高速化できる。

V.発明の変形態様なお、上述した本発明の実施例にあっては、マスク信号
作成のために矩形領域を設定したが、他にも円領域、台
形領域などのような簡単な形状を設定することができ
る。

また「1.実施例と第１図との対応関係」において、第１
図と本発明との対応関係を説明しておいたが、これに限
られることなく、各種の変形態様があることは当業者で
あれば容易に推考できるであろう。

〔発明の効果〕

本発明によれば、画像の制御信号と同時にマスク信号を
次段のプロセッサに送り、この信号のオン／オフを判断
して画像処理を実行するしないを制御するので、動画像
情報についても対応でき、また対象物が存在する大まか
な領域を矩形として設定し、パイプライン処理により連
続して入力される動画像の帰線期間という短い時間であ
っても、矩形マスクや濃度マスクの値のみの変更でマス
ク信号を作成できるので、高速な画像処理ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のマスク信号処理回路の原理ブロック
図、第２図は本発明の一実施例によるマスク信号処理回路の
構成ブロック図、第３図は従来のマスク信号生成方式の構成図である。図において、 111は画素濃度マスク生成手段 113は第１マスク信号 121はマスク情報生成手段、 123は第３マスク信号、 131は矩形領域設定手段、 141は座標生成手段、 151は矩形マスク生成手段、 153は第２マスク信号、 161はマスク信号選択手段、 163は出力マスク信号、 171は画素データ選択手段、 211は画素濃度マスク生成回路、 221はマスクプレーンメモリ、 231,233,235,237はレジスタ、 241,243はカウンタ、 251は矩形マスク生成回路、 253,255,257,259は比較回路、 261,271はセレクタ 273,275はレジスタである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者佐藤龍哉神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地富士通株式会社内 (72)発明者尾崎暢神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地富士通株式会社内 (56)参考文献特開昭60−146366（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−169985（ＪＰ，Ａ)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】入力された画像データを基にマスク信号を
作成し、画像データとマスク信号とを出力して後段に接
続される画像処理回路に送出することにより、画像をパ
イプライン処理を行うように構成した装置に用いられる
マスク信号処理回路であって、前記画像データ中の特定のビットパターンの画素処理を
指示する第１のマスク信号（113）を生成する画素濃度
マスク生成手段（111）と、前記画素データと共に入力されたクロック及び同期信号
を基に前記画像データの座標を逐次生成する座標生成手
段（141）と、前記画像データ内の矩形領域を指定するための矩形領域
設定手段（131）と、前記矩形領域設定手段（131）の出力と座標生成手段（1
41）の出力とから、前記入力画像データの画素が前記矩
形領域設定手段（131）で指定された矩形領域内にある
かどうかを決定し、それぞれに対応した画素の画像処理
を指示する第２マスク信号（153）を生成する矩形マス
ク生成手段（151）と、入力された指示信号と、前記画素濃度マスク生成手段
（111）のマスク信号の入力によって、前記画像データ
に対して特定ビットパターンの画素の画像処理を指示す
る第３マスク信号（123）を生成するマスク情報生成手
段（121）と、前記画素濃度マスク生成手段（111）で作成される第１
マスク信号（113）と前記マスク情報生成手段（121）で
生成される第３マスク信号（123）と前記矩形マスク生
成手段（151）で生成される第２マスク信号（153）が導
入され、それらを入力された指示信号により画像処理条
件に基づいて選択し、或いは論理的に組合わせて出力マ
スク信号（163）を作成して出力するマスク信号選択手
段（161）と、を備えて構成したことを特徴とするマスク信号処理回路。