JPH07117506B2 - Ｘ線分光分析装置 - Google Patents
Ｘ線分光分析装置Info
- Publication number
- JPH07117506B2 JPH07117506B2 JP2293032A JP29303290A JPH07117506B2 JP H07117506 B2 JPH07117506 B2 JP H07117506B2 JP 2293032 A JP2293032 A JP 2293032A JP 29303290 A JP29303290 A JP 29303290A JP H07117506 B2 JPH07117506 B2 JP H07117506B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- scanning
- analysis
- area
- ray
- Prior art date
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- Expired - Fee Related
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
本発明は、Ｘ線分光分析装置の微小領域分析技術に関す
る。
る。
分析試料上の或る微小領域における特定元素について分
析を行う場合、上記微小領域を含む一定領域を電子ビー
ムで走査して、高倍率の電子像を映出し、電子像を観察
しながら、分析したい微小領域を指定することで、電子
ビームを指定された微小領域に照射され、Ｘ線分光器で
波長走査し、当該微小領域を分析しているが、このＸ線
分析時に従来は電子ビームを固定して照射いるために、
電子ビームの軸にずれがあった場合、微小なずれがあっ
ても、電子ビームの照射域が当該微小領域の中心から離
れてしまい、分析点の元素の最大濃度と異なる濃度が測
定されていて、適正な分析結果を得ることができないと
云う問題が発生する。 上記のような問題を発生させないためには、電子ビーム
の電子光学系を非常に精密に調整しておく必要がある。
また、当該微小領域を指定する際に、高倍率の電子像を
測定観察し、電子ビーム照射点を精密に設定しなければ
ならないために、非常に注意力が要求され、分析する者
の負担が大きい上、操作に長時間かかると云う問題があ
った。
析を行う場合、上記微小領域を含む一定領域を電子ビー
ムで走査して、高倍率の電子像を映出し、電子像を観察
しながら、分析したい微小領域を指定することで、電子
ビームを指定された微小領域に照射され、Ｘ線分光器で
波長走査し、当該微小領域を分析しているが、このＸ線
分析時に従来は電子ビームを固定して照射いるために、
電子ビームの軸にずれがあった場合、微小なずれがあっ
ても、電子ビームの照射域が当該微小領域の中心から離
れてしまい、分析点の元素の最大濃度と異なる濃度が測
定されていて、適正な分析結果を得ることができないと
云う問題が発生する。 上記のような問題を発生させないためには、電子ビーム
の電子光学系を非常に精密に調整しておく必要がある。
また、当該微小領域を指定する際に、高倍率の電子像を
測定観察し、電子ビーム照射点を精密に設定しなければ
ならないために、非常に注意力が要求され、分析する者
の負担が大きい上、操作に長時間かかると云う問題があ
った。
本発明は、微小領域の精密分析をより簡単に行えるよう
にすることを目的とする。
にすることを目的とする。
Ｘ線分光分析装置において、電子ビームを分析試料上の
任意の分析領域で走査させる電子ビーム走査手段と、電
子ビームが照射された分析試料から放出される電子を検
出しCRT画面上に電子線像を映写する手段と、CRT画面上
の電子線像で上記分析領域を設定する電子ビーム走査領
域設定手段と、試料から放出されるＸ線を分光する手段
と、分光した特性Ｘ線を検出する手段とを備え、上記設
定された領域を電子ビームで繰返し走査しながら、上記
Ｘ線分光手段を波長走査するようにした。
任意の分析領域で走査させる電子ビーム走査手段と、電
子ビームが照射された分析試料から放出される電子を検
出しCRT画面上に電子線像を映写する手段と、CRT画面上
の電子線像で上記分析領域を設定する電子ビーム走査領
域設定手段と、試料から放出されるＸ線を分光する手段
と、分光した特性Ｘ線を検出する手段とを備え、上記設
定された領域を電子ビームで繰返し走査しながら、上記
Ｘ線分光手段を波長走査するようにした。
分析領域を走査する電子ビームの走査域を２次電子，反
射電子等の放射電子線像の上で任意に設定できるように
することで、試料面の指定微小領域の電子像を任意の倍
率で画面に表示することが可能となり、分析したい微小
領域を電子像上の中央に位置させることが容易になる。
従って、分析したい微小領域に、電子ビームをより正確
に照射することが可能となり、測定精度がより向上す
る。更に、当該微小領域にあたる部分を、電子ビームで
２次元走査を行いつつ、Ｘ線分光器で目的元素の特性Ｘ
線波長近傍を波長走査することで、電子ビームの分析指
定点からの外れがなくなり、この電子ビームによる２次
元走査を行っている間のＸ線分光走査により、設定され
た微小領域内で目的元素の最大濃度が検出されることに
なり、正確な分析を行うことができる。
射電子等の放射電子線像の上で任意に設定できるように
することで、試料面の指定微小領域の電子像を任意の倍
率で画面に表示することが可能となり、分析したい微小
領域を電子像上の中央に位置させることが容易になる。
従って、分析したい微小領域に、電子ビームをより正確
に照射することが可能となり、測定精度がより向上す
る。更に、当該微小領域にあたる部分を、電子ビームで
２次元走査を行いつつ、Ｘ線分光器で目的元素の特性Ｘ
線波長近傍を波長走査することで、電子ビームの分析指
定点からの外れがなくなり、この電子ビームによる２次
元走査を行っている間のＸ線分光走査により、設定され
た微小領域内で目的元素の最大濃度が検出されることに
なり、正確な分析を行うことができる。
図に本発明に一実施例を示す。図において、１は電子ビ
ーム２を形成する電子銃、３は電子ビーム２を集光する
コンデンサレンズ、4a,4bは収束された電子ビームをＸ
軸方向及びＹ軸方向に偏向して分析試料Ｓ上を走査させ
る走査用偏向コイル、５は走査される電子ビーム２を分
析試料Ｓ上に合焦させる対物レンズ、６は電子ビーム２
の照射により分析試料Ｓから放射される２次電子或は反
射電子を検出する検出器である。７は検出器６の検出信
号である放射電子信号を増幅し観察用CRT8に輝度変調信
号として送信するアンプである。 ９は電子ビーム２の照射により分析試料Ｓから放射され
るＸ線を分光するＸ線分光器である。分光されたＸ線
は、Ｘ線検出器10で検出される。 走査用偏向コイル4a,4bは、電子ビーム２を高速で分析
試料上においてX,Y軸方向に高速で走査させ、分析試料
の放射電子線像を絶えずCRT8に映している。CRT8の電子
線像上で電子ビームの走査領域の指定を行い、その指定
によりコンピュータ11で偏向コイル4a,4bを制御し、電
子ビーム２を分析試料面の指定された任意の領域で走査
させる。このことにより分析試料上の任意の微小領域を
自由に拡大して観察することができる。所望の微小領域
が画面で確認できるまで拡大し、所望の微小領域を画面
の中心に配置させるように試料Ｓを移動させ或は電子ビ
ーム偏向信号のバイアスを設定した後、その状態で電子
ビームによる走査を続けながら、Ｘ線分光器９で目的元
素の特性Ｘ線波長近傍を波長走査する。 上記のように各装置を制御しながら測定することで、Ｘ
線分光器９の１走査の間に、電子ビームによる試料面の
走査が高速で何回も繰り返されることとなる。Ｘ線分光
器９の波長走査が、電子ビームによる微小領域内の走査
が１回行われる毎に、１ピッチだけ波長駆動されるよう
にコンピュータ11で制御を行う。このようにすること
で、検出するＸ線波長を少しづつ変えながら、試料面の
指定された微小領域全体の特性Ｘ線強度を何回も測定す
る。コンピュータ11は電子ビームによる試料面微小領域
の一回の走査における各特性Ｘ線検出信号の積分値を記
憶して行く。 このようにして得られたＸ線検出信号から、各特性Ｘ線
強度の最大値を索出すると、それが所望の微小領域にお
ける目的元素の濃度を与えることになる。
ーム２を形成する電子銃、３は電子ビーム２を集光する
コンデンサレンズ、4a,4bは収束された電子ビームをＸ
軸方向及びＹ軸方向に偏向して分析試料Ｓ上を走査させ
る走査用偏向コイル、５は走査される電子ビーム２を分
析試料Ｓ上に合焦させる対物レンズ、６は電子ビーム２
の照射により分析試料Ｓから放射される２次電子或は反
射電子を検出する検出器である。７は検出器６の検出信
号である放射電子信号を増幅し観察用CRT8に輝度変調信
号として送信するアンプである。 ９は電子ビーム２の照射により分析試料Ｓから放射され
るＸ線を分光するＸ線分光器である。分光されたＸ線
は、Ｘ線検出器10で検出される。 走査用偏向コイル4a,4bは、電子ビーム２を高速で分析
試料上においてX,Y軸方向に高速で走査させ、分析試料
の放射電子線像を絶えずCRT8に映している。CRT8の電子
線像上で電子ビームの走査領域の指定を行い、その指定
によりコンピュータ11で偏向コイル4a,4bを制御し、電
子ビーム２を分析試料面の指定された任意の領域で走査
させる。このことにより分析試料上の任意の微小領域を
自由に拡大して観察することができる。所望の微小領域
が画面で確認できるまで拡大し、所望の微小領域を画面
の中心に配置させるように試料Ｓを移動させ或は電子ビ
ーム偏向信号のバイアスを設定した後、その状態で電子
ビームによる走査を続けながら、Ｘ線分光器９で目的元
素の特性Ｘ線波長近傍を波長走査する。 上記のように各装置を制御しながら測定することで、Ｘ
線分光器９の１走査の間に、電子ビームによる試料面の
走査が高速で何回も繰り返されることとなる。Ｘ線分光
器９の波長走査が、電子ビームによる微小領域内の走査
が１回行われる毎に、１ピッチだけ波長駆動されるよう
にコンピュータ11で制御を行う。このようにすること
で、検出するＸ線波長を少しづつ変えながら、試料面の
指定された微小領域全体の特性Ｘ線強度を何回も測定す
る。コンピュータ11は電子ビームによる試料面微小領域
の一回の走査における各特性Ｘ線検出信号の積分値を記
憶して行く。 このようにして得られたＸ線検出信号から、各特性Ｘ線
強度の最大値を索出すると、それが所望の微小領域にお
ける目的元素の濃度を与えることになる。
本発明によれば、所望の微小領域をCRT画面の中央に観
察できる程度まで拡大して映すことが可能になったこと
で、電子ビームを所望の微小領域に確実に照射すること
ができるようになり、その領域を電子ビームで走査しな
がらＸ線分光測定を行うので、分析領域が例え微小領域
であっても、電子ビームがその領域の元素分布の中心か
ら外れることなく、目的元素の分析を高精度で行うこと
が可能になった。
察できる程度まで拡大して映すことが可能になったこと
で、電子ビームを所望の微小領域に確実に照射すること
ができるようになり、その領域を電子ビームで走査しな
がらＸ線分光測定を行うので、分析領域が例え微小領域
であっても、電子ビームがその領域の元素分布の中心か
ら外れることなく、目的元素の分析を高精度で行うこと
が可能になった。
図は本発明の一実施例の構成図である。 Ｓ……試料、１……電子銃、２……電子ビーム、３……
コンデンサレンズ、4a,4b……走査用偏向コイル、５…
…対物レンズ、６……反射電子検出器、７……アンプ、
８……CRT、９……分光器、10……Ｘ線検出器、11……
コンピュータ。
コンデンサレンズ、4a,4b……走査用偏向コイル、５…
…対物レンズ、６……反射電子検出器、７……アンプ、
８……CRT、９……分光器、10……Ｘ線検出器、11……
コンピュータ。
Claims (1)
- 【請求項１】電子ビームを分析試料上の任意の分析領域
で走査させる電子ビーム走査手段と、電子ビームが照射
された分析試料から放出される電子を検出しCRT画面上
に電子線像を映写する手段と、CRT画面上の電子線像で
上記分析領域を設定する電子ビーム走査領域設定手段
と、試料から放出されるＸ線を分光する手段と、分光し
た特性Ｘ線を検出する手段とを備え、上記設定された領
域を電子ビームで繰返し走査しながら、上記Ｘ線分光手
段を波長走査するようにしたことを特徴とするＸ線分光
分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2293032A JPH07117506B2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | Ｘ線分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2293032A JPH07117506B2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | Ｘ線分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04166753A JPH04166753A (ja) | 1992-06-12 |
| JPH07117506B2 true JPH07117506B2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=17789611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2293032A Expired - Fee Related JPH07117506B2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | Ｘ線分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07117506B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2666251B2 (ja) * | 1985-12-13 | 1997-10-22 | 株式会社島津製作所 | 荷電粒子線走査型分析装置 |
-
1990
- 1990-10-30 JP JP2293032A patent/JPH07117506B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04166753A (ja) | 1992-06-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071218 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081218 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091218 Year of fee payment: 14 |
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