JPH07109646B2 - Method of manufacturing magnetic head - Google Patents
Method of manufacturing magnetic headInfo
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- JPH07109646B2 JPH07109646B2 JP62334620A JP33462087A JPH07109646B2 JP H07109646 B2 JPH07109646 B2 JP H07109646B2 JP 62334620 A JP62334620 A JP 62334620A JP 33462087 A JP33462087 A JP 33462087A JP H07109646 B2 JPH07109646 B2 JP H07109646B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、高保磁力を有する磁気記録媒体に高密度記録
再生を行なうに好適な磁気ヘッドの製造方法に関する。The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head suitable for performing high density recording / reproduction on a magnetic recording medium having a high coercive force.
〈発明の概要〉 本発明は高透磁率を有する金属酸化物磁性材料ブロック
の磁気ギャップ構成面を鏡面研磨し、更にシュウ酸が0.
5〜1.5wt％含有されたリン酸のエッチング液によりエッ
チングした後、その磁気ギャップ構成面上にクロム又は
２酸化ケイ素から成る疑似磁気ギャップ防止膜を形成
し、その疑似磁気ギャップ防止膜上に高透磁率、高飽和
磁束密度の合金磁性材料薄膜を形成して、磁気ヘッドを
製造するというものである。<Outline of the Invention> The present invention is a mirror-polished surface of the magnetic gap of the metal oxide magnetic material block having a high magnetic permeability, further oxalic acid 0.
After etching with an etching solution of phosphoric acid containing 5 to 1.5 wt%, a pseudo magnetic gap prevention film made of chromium or silicon dioxide is formed on the magnetic gap forming surface, and a high magnetic gap prevention film is formed on the pseudo magnetic gap prevention film. The magnetic head is manufactured by forming an alloy magnetic material thin film having magnetic permeability and high saturation magnetic flux density.
〈従来技術〉 従来、高保磁力特性を有する磁気記録媒体に高密度記録
再生を行なうためのバルクタイプの磁気ヘッドとしては
特公昭61-61164号公報に開示されているようないわゆる
メタルインギャップヘッド（Metal In Gap Head）のよ
うなものがある。<Prior Art> Conventionally, as a bulk type magnetic head for performing high density recording / reproducing on a magnetic recording medium having a high coercive force characteristic, a so-called metal in-gap head as disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-61164 ( There is something like Metal In Gap Head).
従来のメタルインギャップヘッドの製造方法について第
14図ないし第23図に従い説明を行う。Regarding the conventional method for manufacturing a metal in-gap head
The description will be made with reference to FIGS. 14 to 23.
初めに、第14図及び第15図に従い溝加工工程について説
明する。First, the groove processing step will be described with reference to FIGS. 14 and 15.
酸化物磁性材料ブロック12、12′に外部巻き線溝13、1
3′とガラス充填溝14、14′を形成する。External winding grooves 13, 1 in oxide magnetic material blocks 12, 12 '
3'and glass filling grooves 14, 14 'are formed.
さらに、他方のブロックには内部巻き線溝15を形成す
る。Further, the inner winding groove 15 is formed in the other block.
次に、第16図及び第17図に従い、トラック溝加工工程に
ついて説明する。Next, the track groove processing step will be described with reference to FIGS. 16 and 17.
磁気ギャップ構成面16、16′と、テープ摺動面17、17′
を鏡面状に研磨し、所定のトラック幅を得るためのトラ
ック溝18、18′を形成後、磁気ギャップ構成面16の表面
付近の加工変質層をエッチングにより除去する。Magnetic gap forming surfaces 16 and 16 'and tape sliding surfaces 17 and 17'
Is mirror-polished to form track grooves 18 and 18 'for obtaining a predetermined track width, and then the work-affected layer near the surface of the magnetic gap constituting surface 16 is removed by etching.
続いて、第18図及び第19図に図示するごとく高飽和磁束
密度特性を有する合金磁性材料薄膜をスパッタリング法
等により形成する。Subsequently, as shown in FIGS. 18 and 19, an alloy magnetic material thin film having a high saturation magnetic flux density characteristic is formed by a sputtering method or the like.
第20図はその要部断面図を示す。FIG. 20 shows a sectional view of the main part.
このようにして得られた２つのブロックのそれぞれの磁
気ギャップ構成面16上にスパッタリング等により２酸化
ケイ素（SiO2）等の非磁性材料を約0.3μｍ程度形成し
た後、２つのブロックを第21図のように突き合わせガラ
ス20を配し、加熱・溶着する。そして、このようにして
得られた第22図に示すようなブロックのテープ摺動面17
にＲ研磨により曲率をつけ、点線21に沿って切断するこ
とにより、第23図に示すような磁気ヘッドが得られる。A non-magnetic material such as silicon dioxide (SiO 2 ) is formed to a thickness of about 0.3 μm on the magnetic gap constituting surface 16 of each of the two blocks thus obtained by sputtering or the like, and then the two blocks are placed at the 21st position. Arrange the butt glass 20 as shown in the figure, heat and weld. Then, the tape sliding surface 17 of the block as shown in FIG.
A curvature is imparted to the surface by R polishing and cutting is performed along the dotted line 21 to obtain a magnetic head as shown in FIG.
〈発明が解決しようとする問題点〉 上記従来のような製造方法により得られた磁気ヘッドに
おいては、例えば磁気記録媒体と磁気ヘッドの相対速度
が3.14m/s、磁気記録媒体に保磁力が概略1500エルステ
ッドのメタルテープを用いたような条件のもとでは疑似
磁気ギャップ効果により第24図に示すように再生出力の
周波数特性に約3dB程度の再生出力のうねりが現われる
という問題点があった。<Problems to be Solved by the Invention> In the magnetic head obtained by the above conventional manufacturing method, for example, the relative speed between the magnetic recording medium and the magnetic head is 3.14 m / s, and the coercive force of the magnetic recording medium is roughly Under the condition where a 1500 Oersted metal tape is used, there is a problem that the reproduction output frequency characteristic shows a swell of about 3 dB due to the pseudo magnetic gap effect as shown in FIG.
このような再生出力のうねりの原因としては、合金磁性
材料薄膜の形成初期の部分の軟磁気特性が極めて悪いた
め、非磁性材料と同様の効果を呈して、いわゆる疑似磁
気ギャップとして作用していると考えられている。又、
従来のようにリン酸100％のエッチング液でのエッチン
グによる表面粗さにも起因している。As a cause of such a undulation of the reproduction output, since the soft magnetic property of the alloy magnetic material thin film in the initial stage of formation is extremely poor, it exhibits the same effect as a non-magnetic material and acts as a so-called pseudo magnetic gap. It is believed that. or,
This is also caused by the surface roughness caused by etching with an etching solution containing 100% phosphoric acid as in the past.
〈問題を解決するための手段〉 本発明は上記従来の磁気ヘッドの問題点を除去すること
を目的とし、本発明では、高透磁率の酸化物磁性材料ブ
ロックのギャップ対向面を鏡面研磨する工程と、その鏡
面研磨したギャップ対向面をシュウ酸（HOCOCOOH）が0.
5〜1.5wt％含有されたリン酸（H3PO4）のエッチング液
でエッチングする工程と、そのエッチングしたギャップ
対向面上にクロム（Cr）又は２酸化ケイ素（SiO2）から
成る疑似磁気ギャップ防止膜を形成する工程と、その疑
似磁気ギャップ防止膜上に高透磁率、高飽和磁束密度の
合金磁性材料薄膜を形成する工程とを含んだ磁気ヘッド
の製造方法としている。<Means for Solving the Problem> The present invention aims to eliminate the above-mentioned problems of the conventional magnetic head, and in the present invention, the step of mirror-polishing the gap facing surface of the oxide magnetic material block of high magnetic permeability. Oxalic acid (HOCOCOOH) on the mirror-polished gap facing surface.
Etching with an etching solution of phosphoric acid (H 3 PO 4 ) containing 5 to 1.5 wt%, and a pseudo magnetic gap made of chromium (Cr) or silicon dioxide (SiO 2 ) on the facing surface of the etched gap. The magnetic head manufacturing method includes a step of forming an anti-magnetic film and a step of forming an alloy magnetic material thin film having high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density on the pseudo magnetic gap prevention film.
〈作用〉 そして上記のごとく構成されてなる磁気ヘッドの製造方
法は次のように作用する。<Operation> The method of manufacturing the magnetic head having the above-described structure operates as follows.
すなわち、本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、第
１に、高透磁率の酸化物磁性材料ブロックのギャップ対
向面を鏡面研磨した後、その鏡面研磨したギャップ対向
面をシュウ酸が0.5〜1.5wt％含有されたリン酸のエッチ
ング液でエッチングすることにより、従来のものよりも
表面粗さを改善して、酸化物磁性材料ブロック側の加工
変質層を除去することができる。That is, according to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, first, after mirror-polishing a gap-opposing surface of an oxide magnetic material block having a high magnetic permeability, the mirror-polishing gap-opposing surface is coated with oxalic acid at 0.5 to 0.5%. By etching with a phosphoric acid etching solution containing 1.5 wt%, the surface roughness can be improved as compared with the conventional one, and the work-affected layer on the oxide magnetic material block side can be removed.
第２に、本発明によれば、このようにエッチングした酸
化物磁性材料ブロックのギャップ対向面上に、クロム又
は２酸化ケイ素から成る疑似磁気ギャップ防止膜を形成
した後、高透磁率、高飽和磁束密度の合金磁性材料薄膜
を形成しているので、合金磁性材料薄膜の初期成長層の
劣化を防ぐことができる。Secondly, according to the present invention, after forming a pseudo magnetic gap prevention film made of chromium or silicon dioxide on the gap facing surface of the oxide magnetic material block thus etched, high magnetic permeability and high saturation are obtained. Since the alloy magnetic material thin film having the magnetic flux density is formed, the deterioration of the initial growth layer of the alloy magnetic material thin film can be prevented.
これらの本発明による作用、すなわちシュウ酸が0.5〜
1.5wt％含有されたリン酸のエッチング液でのエッチン
グによる表面粗さの改善と、疑似磁気ギャップ防止膜の
形成による合金磁性材料薄膜の初期成長層の劣化の防止
により、疑似磁気ギャップ効果の防止を図ることが可能
となるものである。These actions according to the present invention, that is, oxalic acid is 0.5 ~
Prevents the pseudo magnetic gap effect by improving the surface roughness by etching with phosphoric acid containing 1.5 wt% of phosphoric acid and preventing the deterioration of the initial growth layer of the alloy magnetic material thin film by forming the pseudo magnetic gap prevention film. Can be achieved.
〈実施例〉 本発明では高透磁率特性を有する酸化物磁性材料ブロッ
クの磁気ギャップ構成面上に疑似磁気ギャップ効果防止
のための防止膜を形成した後、高透磁率、高飽和磁束密
度特性を有する合金磁性材料薄膜を形成するように構成
してあるが、前記防止膜の膜厚設定のための予備実験を
行った。第１図はクロム（Cr）、２酸化ケイ素（SiO2）
よりなる疑似磁気ギャップ防止膜上に１μｍの膜厚のFe
-Al-Si合金磁性薄膜を形成した磁気ヘッドのクロム（C
r）よりなる疑似磁気ギャップ防止膜の膜厚と透磁率の
関係を示しているが、Fe-Al-Si合金磁性薄膜の軟磁気特
性が著しく改善されることが分かった。この予備実験に
よりこれらの疑似磁気ギャップ防止のためのクロム（C
r）、２酸化ケイ素（SiO2）の膜厚が10Å以下では疑似
磁気ギャップ防止のための効果は顕著でなく、クロム
（Cr）の膜厚が200Å以上では逆に磁気ギャップとして
作用してしまうなどの問題点があり、これらの範囲内で
しかも、特に、膜厚が薄い程疑似磁気ギャップ防止のた
めの効果は顕著となることが分かった。<Example> In the present invention, after forming a preventive film for preventing the pseudo magnetic gap effect on the magnetic gap constituting surface of the oxide magnetic material block having high magnetic permeability characteristics, high magnetic permeability, high saturation magnetic flux density characteristics Although the alloy magnetic material thin film having the structure is formed, a preliminary experiment for setting the film thickness of the preventive film was conducted. Figure 1 shows chromium (Cr) and silicon dioxide (SiO 2 ).
Fe with a thickness of 1 μm on the pseudo magnetic gap prevention film made of
-Al-Si alloy magnetic thin film magnetic head chrome (C
Although the relationship between the film thickness and the magnetic permeability of the pseudo magnetic gap prevention film composed of r) is shown, it was found that the soft magnetic properties of the Fe-Al-Si alloy magnetic thin film were significantly improved. This preliminary experiment shows that chromium (C
r) When the film thickness of silicon dioxide (SiO 2 ) is 10Å or less, the effect of preventing the pseudo magnetic gap is not remarkable, and when the film thickness of chromium (Cr) is 200Å or more, it acts as a magnetic gap. It was found that the effect of preventing the pseudo magnetic gap becomes more remarkable as the film thickness is reduced within these ranges.
本発明では上記予備実験結果に基づき、疑似磁気ギャッ
プ防止膜の膜厚を10Åから200Å程度の範囲内に収める
ことが望ましいことが判明した。以下、本発明を適用し
た磁気ヘッドの製造方法について図面を参照しながら説
明する。In the present invention, based on the results of the preliminary experiments, it has been found that it is desirable to keep the film thickness of the pseudo magnetic gap prevention film within the range of about 10Å to 200Å. Hereinafter, a method of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.
初めに、第２図ないし第５図に従い、磁気ヘッドブロッ
クの溝加工工程について説明する。First, the groove processing step of the magnetic head block will be described with reference to FIGS.
一方の磁気ヘッドコアを形成するためのMn-Zn単結晶フ
ェライト等よりなる酸化物磁性材料ブロック１には外部
巻き線溝２、ガラス充填溝３及び内部巻き線溝４を形成
する。また、他方の磁気ヘッドコアを形成するための酸
化物磁性材料ブロック１′には、ガラス充填溝２′及び
内部巻き線溝３′を形成する。An outer winding groove 2, a glass filling groove 3 and an inner winding groove 4 are formed in an oxide magnetic material block 1 made of Mn-Zn single crystal ferrite or the like for forming one magnetic head core. A glass filling groove 2'and an internal winding groove 3'are formed in the oxide magnetic material block 1'for forming the other magnetic head core.
このようにして得られた一対の酸化物磁性材料ブロック
のテープ摺動面５、５′及び磁気ギャップ構成面６、
６′とを鏡面研磨するとともに、トラック溝７、７′と
を形成する。この後、磁気ギャップ構成面６、６′の表
面付近の加工変質層をエッチングにより除去する。この
場合のエッチング液はシュウ酸0.5〜1.5wt％を含有する
リン酸であり、酸化物磁性材料の表面付近の加工変質層
が実質的にギャップとして作用しないように、前記加工
変質層を1000Å除去する。従来のようにリン酸100％の
エッチング液でエッチングするのに比して前記酸化物磁
性材料の表面粗さを約半分におさえることが可能であ
る。The tape sliding surfaces 5 and 5'of the pair of oxide magnetic material blocks thus obtained and the magnetic gap constituting surface 6,
6'and mirror-polished, and track grooves 7, 7'are formed. After that, the work-affected layer near the surfaces of the magnetic gap constituting surfaces 6 and 6'is removed by etching. The etching solution in this case is phosphoric acid containing 0.5 to 1.5 wt% of oxalic acid, and the work-affected layer is removed by 1000 Å so that the work-affected layer near the surface of the oxide magnetic material does not substantially act as a gap. To do. It is possible to reduce the surface roughness of the oxide magnetic material to about half as compared with the conventional etching with a 100% phosphoric acid etching solution.
第25図と第26図にエッチング時間，エッチング量並びに
表面粗さ測定値を示す。Figures 25 and 26 show the etching time, etching amount, and surface roughness measurement values.
本発明に係るエッチング液（シュウ酸0.8wt％、リン酸9
9.2wt％）を用いてMn-Znフェライト単結晶をエッチング
した場合と従来の場合（リン酸100％とリン酸100％を水
で希釈したとき）を比較したものである。第26図からわ
かるように、本発明のエッチング液を用いると従来のリ
ン酸100％のものとあまり変わらない速度で、かつ、表
面粗さの改善がなされている。従って、量産性には優れ
ていると考えられる。Etching solution according to the present invention (oxalic acid 0.8 wt%, phosphoric acid 9
9.2 wt%) was used to etch the Mn-Zn ferrite single crystal and the conventional case (100% phosphoric acid and 100% phosphoric acid diluted with water) were compared. As can be seen from FIG. 26, when the etching solution of the present invention is used, the surface roughness is improved at a rate not much different from that of the conventional phosphoric acid 100%. Therefore, it is considered to be excellent in mass productivity.
次に、第６図ないし第９図に従い本発明の特徴とする疑
似磁気ギャップ防止膜の形成法について説明する。Next, a method of forming the pseudo magnetic gap prevention film, which is a feature of the present invention, will be described with reference to FIGS.
上記した溝加工工程を経て得られたMn-Zn単結晶フェラ
イト等よりなる酸化物磁性材料ブロックの磁気ギャップ
構成面６、６′上にスパッタリング法等により、クロム
（Cr）よりなる疑似磁気ギャップ防止膜８、８′を概略
10〜200Å程度形成する。Prevention of the pseudo magnetic gap made of chromium (Cr) by sputtering or the like on the magnetic gap constituting surfaces 6, 6'of the oxide magnetic material block made of Mn-Zn single crystal ferrite or the like obtained through the above groove processing step Outline of membranes 8 and 8 '
Form about 10 to 200Å.
この後、スパッタリング法等によりセンダスト等よりな
る合金磁性材料薄膜９、９′を磁気ギャップ構成面６、
６′上に磁気ギャップ構成面６、６′と平行に１〜５μ
ｍ程度形成する。After that, the alloy magnetic material thin films 9 and 9'made of sendust or the like are formed on the magnetic gap constituting surface 6 by the sputtering method or the like
1 to 5 μ parallel to the magnetic gap forming surfaces 6 and 6 ′ on 6 ′
Form about m.
続いて、このようにして得られたブロックの磁気ギャッ
プ構成面６、６′上に磁気ギャップ材として２酸化ケイ
素（SiO2）等からなる非磁性材料層を約３μｍ程度形成
する。Subsequently, a nonmagnetic material layer made of silicon dioxide (SiO 2 ) or the like is formed to a thickness of about 3 μm as a magnetic gap material on the magnetic gap constituting surfaces 6 and 6 ′ of the block thus obtained.
このようにして得られたブロック対を第９図に示すよう
にガラス充填溝にガラス10、10′を配置し、加熱・溶着
して、磁気ヘッドブロックを得た後、第10図に示すよう
にテープ摺動面５、５′にＲ研磨により曲率を付け、点
線11に沿って切断することにより、第11図の磁気ヘッド
を得る。As shown in FIG. 9, the thus-obtained block pair was placed in the glass-filled grooves with glass 10, 10 ', heated and welded to obtain a magnetic head block. The tape sliding surfaces 5 and 5'are given a curvature by R polishing and cut along the dotted line 11 to obtain the magnetic head of FIG.
上記したような本発明による磁気ヘッドの製造方法によ
り得られた磁気ヘッドは以下のような特性を有する。The magnetic head obtained by the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention as described above has the following characteristics.
第12図はMn-Zn単結晶フェライトブロックの磁気ギャッ
プ構成面上にクロム（Cr）を約50Å形成した後、Fe-Al-
Si合金磁性材料薄膜を約４μｍ形成した磁気ヘッドの再
生出力の周波数特性を示しており、従来のメタルインギ
ャップヘッドに比べて周波数特性のうねりが2dB程度以
上防止されている。また、第13図はクロム（Cr）よりな
る疑似磁気ギャップ防止膜の膜厚と再生出力の周波数特
性を示すもので、疑似磁気ギャップ防止膜の膜厚が約10
〜200Åの範囲内で特に効果を呈していることが分かる
が、この結果は先に示した予備実験の結果とも一致する
ものである。Fig. 12 shows Fe-Al- after forming about 50Å of chromium (Cr) on the magnetic gap forming surface of the Mn-Zn single crystal ferrite block.
It shows the frequency characteristic of the reproduction output of the magnetic head in which the Si alloy magnetic material thin film is formed to about 4 μm, and the waviness of the frequency characteristic is prevented by about 2 dB or more as compared with the conventional metal in-gap head. FIG. 13 shows the film thickness of the pseudo magnetic gap prevention film made of chromium (Cr) and the frequency characteristics of the reproduction output.
It can be seen that the results are particularly effective within the range of ~ 200Å, but this result is in agreement with the result of the preliminary experiment shown above.
〈発明の効果〉 以上のように、本発明の磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、シュウ酸が0.5〜1.5wt％含有されたリン酸のエッチ
ング液を用いたエッチングにより表面粗さを改善でき、
かつ、疑似磁気ギャップ防止膜の形成により合金磁性材
料薄膜の初期成長層の劣化を防ぐことができるので、疑
似磁気ギャップ効果の防止を図ることが可能となる。<Effects of the Invention> As described above, according to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, the surface roughness can be improved by etching using an etching solution of phosphoric acid containing 0.5 to 1.5 wt% of oxalic acid,
Moreover, since the formation of the pseudo magnetic gap prevention film can prevent the deterioration of the initial growth layer of the alloy magnetic material thin film, the pseudo magnetic gap effect can be prevented.
さらに、このような本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
従来のバルクタイプの磁気ヘッドの加工工程の大半を共
有しつつ実現できるものであるので、高保磁力を有する
磁気記録媒体に安定して高密度記録再生を行なうのに用
いて好適なメタルインギャップヘッドに適用可能なもの
である。Further, such a method of manufacturing a magnetic head of the present invention is
Since it can be realized while sharing most of the processing steps of the conventional bulk type magnetic head, it is a metal in-gap head suitable for stably performing high density recording / reproducing on a magnetic recording medium having a high coercive force. Applicable to.
第１図ないし第13図は本発明の実施例を示し、第１図は
本発明に開示する磁気ヘッドの製造方法における疑似磁
気ギャップ防止膜の膜厚の根拠となる疑似磁気ギャップ
防止膜の膜厚と透磁率の関係を示す図、第２図ないし第
５図は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法における溝加
工工程を示す図、第６図及び第７図は疑似磁気ギャップ
防止膜と合金磁性材料薄膜の形成工程を示す図、第８図
は前記加工工程により得られた疑似磁気ギャップ防止膜
と合金磁性材料薄膜の形成部を示す断面図、第９図ない
し第10図はそれぞれ溶着工程及び溶着工程により得られ
た磁気ヘッドブロックを示す図、第11図は前記溶着工程
により得られた磁気ヘッドブロックを切断することによ
り得られる本発明に係る磁気ヘッドを示す図、第12図及
び第13図はそれぞれ再生出力−周波数特性及び疑似磁気
ギャップ防止膜の膜厚−再生出力の周波数特性のうねり
を示す図。 第14図ないし第24図は従来の磁気ヘッドの製造方法に関
する加工工程及び特性を示す図、 第25図ないし第26図は本発明に係るエッチング液（シュ
ウ酸0.8wt％、リン酸99.2wt％）を用いてMn-Znフェライ
ト単結晶をエッチングした場合と従来の場合（リン酸10
0％とリン酸100％を水で希釈したとき）とを比較した図
である。 １、１′……酸化物磁性材料ブロック、２、２……ギャ
ップ構成面、８、８′……疑似磁気ギャップ防止膜、
９、９′……合金磁性材料薄膜。1 to 13 show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a film of the pseudo magnetic gap prevention film which is the basis of the film thickness of the pseudo magnetic gap prevention film in the method of manufacturing a magnetic head disclosed in the present invention. 2 to 5 are views showing a groove processing step in the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, and FIGS. 6 and 7 are pseudo magnetic gap prevention films and alloys. FIG. 8 is a view showing a forming process of the magnetic material thin film, FIG. 8 is a sectional view showing a forming portion of the pseudo magnetic gap prevention film and the alloy magnetic material thin film obtained by the processing process, and FIGS. 9 to 10 are respectively the welding process. And a diagram showing a magnetic head block obtained by the welding process, FIG. 11 is a diagram showing a magnetic head according to the present invention obtained by cutting the magnetic head block obtained by the welding process, FIG. 12 and FIG. 13 figures are The figure which shows the undulation of the raw output-frequency characteristic and the film thickness of a pseudo magnetic gap prevention film-reproduction output frequency characteristic. FIGS. 14 to 24 are views showing processing steps and characteristics relating to a conventional magnetic head manufacturing method, and FIGS. 25 to 26 are etching solutions according to the present invention (0.8 wt% oxalic acid, 99.2 wt% phosphoric acid). ) Is used to etch the Mn-Zn ferrite single crystal and the conventional case (phosphoric acid 10
It is the figure which compared 0% and phosphoric acid 100% when diluted with water). 1, 1 '... Oxide magnetic material block, 2, 2 ... Gap forming surface, 8, 8' ... Pseudo magnetic gap prevention film,
9, 9 '... Alloy magnetic material thin film.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−74110（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−133309（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−150419（ＪＰ，Ａ)Continuation of front page (56) Reference JP-A-61-74110 (JP, A) JP-A-52-133309 (JP, A) JP-A-52-150419 (JP, A)
Claims (1)
ップ対向面を鏡面研磨する工程と、 該鏡面研磨したギャップ対向面をシュウ酸が0.5〜1.5wt
％含有されたリン酸のエッチング液でエッチングする工
程と、 該エッチングしたギャップ対向面上にクロム又は２酸化
ケイ素から成る疑似磁気ギャップ防止膜を形成する工程
と、 該疑似磁気ギャップ防止膜上に高透磁率、高飽和磁束密
度の合金磁性材料薄膜を形成する工程とを含むことを特
徴とする磁気ヘッドの製造方法。1. A step of mirror-polishing a gap-opposing surface of a high-permeability oxide magnetic material block, and 0.5 to 1.5 wt% of oxalic acid on the mirror-polishing gap-opposing surface.
% Of a phosphoric acid etching solution, a step of forming a quasi-magnetic gap prevention film made of chromium or silicon dioxide on the etched gap facing surface, and a step of forming a pseudo magnetic gap prevention film on the quasi-magnetic gap prevention film. And a step of forming an alloy magnetic material thin film having magnetic permeability and high saturation magnetic flux density.
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP62334620A JPH07109646B2 (en) | 1987-12-26 | 1987-12-26 | Method of manufacturing magnetic head |
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| JPH03222109A (en) * | 1990-01-25 | 1991-10-01 | Sharp Corp | Production of magnetic head |
| JPH0485713A (en) * | 1990-07-27 | 1992-03-18 | Nec Kansai Ltd | Magnetic head |
-
1987
- 1987-12-26 JP JP62334620A patent/JPH07109646B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01173306A (en) | 1989-07-10 |
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