JPH07109036B2 - Aluminum electrode material for electrolytic capacitors - Google Patents

Aluminum electrode material for electrolytic capacitors

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JPH07109036B2
JPH07109036B2 JP20869386A JP20869386A JPH07109036B2 JP H07109036 B2 JPH07109036 B2 JP H07109036B2 JP 20869386 A JP20869386 A JP 20869386A JP 20869386 A JP20869386 A JP 20869386A JP H07109036 B2 JPH07109036 B2 JP H07109036B2
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忠雄 藤平
正蔵 梅津
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昭和アルミニウム株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、電解コンデンサ用アルミニウム電極材に関
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an aluminum electrode material for electrolytic capacitors.

従来の技術 電解コンデンサ用アルミニウム電極材として用いられる
アルミニウム箔は、可及的大きな表面積を有して単位体
積当りの静電容量の大きいものであることが要請され
る。このため、一般的に電気化学的あるいは化学的なエ
ッチング処理を施してアルミニウム箔の実効表面積を拡
大することが行われており、更にその拡面率の可及的増
大を目的として、エッチング孔をより多く、深く、太く
することに関して材料の改善、エッチンク方法の改善、
箔の製造工程に関する改善等種々の研究がなされてい
る。
2. Description of the Related Art Aluminum foil used as an aluminum electrode material for electrolytic capacitors is required to have a surface area as large as possible and a large capacitance per unit volume. For this reason, it is generally performed to increase the effective surface area of the aluminum foil by subjecting it to electrochemical or chemical etching treatment. Furthermore, in order to increase the surface expansion rate as much as possible, etching holes are formed. Material improvements, more etch methods, more, deeper and thicker,
Various researches have been made such as improvement on the manufacturing process of foil.

電極材料の面からの改善としては、従来、アルミニウム
箔にエッチング核となるアルミニウムより貴な金属を微
量添加するというような合金組成の改良のほか、結晶方
位を100方向に整えるというような合金組織の改良、更
には箔表面にエッチング核を形成するアルミニウムより
貴な金属を含む薄膜層を形成するというような表面処理
による改良等の各種の方法が提案されている。
As an improvement from the aspect of the electrode material, conventionally, in addition to improving the alloy composition such as adding a trace amount of a noble metal that is more than aluminum, which is an etching nucleus, to the aluminum foil, an alloy structure such as adjusting the crystal orientation to 100 Various methods have been proposed, including further improvement by surface treatment such as forming a thin film layer containing a metal nobler than aluminum that forms etching nuclei on the foil surface.

発明が解決しようとする問題点 ところが、実際上、上記のような改善されたアルミニウ
ム電極材を用いる場合であっても、従来既知のエッチン
グ技術においては、概してエッチング孔の発生部位が不
均一なのもであり、またエッチング孔を多くしようとす
るエッチング孔どうしが連通して粗大孔となったり、ア
ルミニウム箔表面の溶解が同時に進行して箔の機械的強
度が損われるのみならず、エッチング孔が深いものとな
らないというような欠点を派生し、結果において充分に
記載されるような拡面率の増大効果を得ることが難しい
という問題点があった。特に、エッチング孔の発生部位
の不均一性に関しては、アルミニウム箔中に含まれる不
純物原子の偏析、金属間化合物、結晶粒界の存在等によ
って、エッチング時に不均一なエッチングピットが発生
するため、これを避けることは困難なものであった。
The problem to be solved by the invention is that, in practice, even in the case of using the improved aluminum electrode material as described above, in the conventionally known etching technique, the generation site of the etching hole is generally non-uniform. In addition, the etching holes that try to increase the number of etching holes communicate with each other and become coarse holes, and the melting of the aluminum foil surface progresses at the same time to impair the mechanical strength of the foil, and the etching holes are deep. However, there is a problem that it is difficult to obtain the effect of increasing the surface expansion ratio, which is sufficiently described in the result, due to the drawback that it does not work. In particular, regarding the nonuniformity of the site where the etching holes are generated, since nonuniform etching pits are generated during etching due to segregation of impurity atoms contained in the aluminum foil, intermetallic compounds, the presence of grain boundaries, etc. It was difficult to avoid.

この発明は、かかる問題点を解決し、アルミニウム箔に
所要の機械的強度を保有せしめつつ、多数の深いエッチ
ング孔に均一に形成することを可能として、拡面率すな
わち静電容量に優れたものとなしうる電解コンデンサ用
アルミニウム電極材を得ることを目的としてなされたも
のである。
The present invention solves such a problem and enables the aluminum foil to have a required mechanical strength and uniformly form a large number of deep etching holes, and has an excellent surface expansion ratio, that is, electrostatic capacitance. The purpose of the invention is to obtain an aluminum electrode material for an electrolytic capacitor which can be manufactured.

問題点を解決するための手段 上記の目的においてこの発明の1つは、アルミニウム箔
(1)の表面に、アルミニウムより貴な金属粉末を含む
金属インキを用いて網点印刷を施すことにより、上記イ
ンキによるエッチング促進被膜(3)を有する多数の網
点部分(2)を高密度配置に形成せしめてなることを特
徴とする電解コンデンサ用アルミニウム電極材を提供す
るものであり、他の1つは、上記に加えて更に、上記網
点部分を除く他の表面部分の全体に、レジストインキを
用いて網点印刷を施すことにより、上記レジストインキ
による耐性被膜を形成せしめてなることを特徴とする電
解コンデンサ用アルミニウム電極材を提供するものであ
って、これによりアルミニウム箔材料中の金属間化合
物、結晶粒界等の存在に関係なく、エッチング孔の発生
部位を予め決定してエッチング処理時にアルミニウム箔
の微細な網点部分の限定的かつ優先的な侵食を可能と
し、もって多数の深いエッチング孔を均一に形成せしめ
うる電極材を得ることに成功したものである。
Means for Solving the Problems In the above object, one of the inventions is to perform halftone dot printing on a surface of an aluminum foil (1) by using a metal ink containing a metal powder that is more noble than aluminum. The present invention provides an aluminum electrode material for electrolytic capacitors, characterized in that a large number of halftone dot portions (2) having an ink etching promoting coating (3) are formed in a high density arrangement. In addition to the above, the entire other surface portion excluding the halftone dot portion is subjected to halftone dot printing using a resist ink, thereby forming a resistant film of the resist ink. Provided is an aluminum electrode material for an electrolytic capacitor, which enables etching regardless of the presence of intermetallic compounds, grain boundaries, etc. in the aluminum foil material. To obtain an electrode material capable of forming a large number of deep etching holes uniformly by preliminarily determining the site where holes are formed and enabling the limited and preferential erosion of fine halftone dots of the aluminum foil during the etching process. It was successful.

網点部分(2)にエッチング促進被膜(3)を形成する
金属インキは、例えば変性フェノール樹脂等の樹脂をバ
インダーとして、これにアルミニウムより電位的に貴な
金属、例えば、Pb、Bi、Cu、In、Sn、Ag、Ti等の金属粉
末の1種または2種以上を添加含有せしめたものであ
り、該金属粉末の含有量は概ね1〜80wt%程度、とくに
好ましくは10〜50wt%の範囲とする。このエッチング促
進被膜(3)を有する網点部分(2)は、エッチング時
にエッチング核の形成部位、密度を支配するものであ
り、アルミニウム箔電極材の最終的な静電容量、機械的
強度に直接影響を及ぼすものであるから、その配列、大
きさは、求める静電容量を考慮して決定する。網点部分
の形状は、特に限定されるものではないが、一般的には
円形であり、その直径(l)を1〜5μmの範囲とし、
かつその配列ピッチも、各網点部分間の間隔(d)を1
〜5μmの範囲の高密度分布とするのが好適である。特
に好ましくは直径1〜2μm、間隔1〜2μm程度の範
囲とする。
The metal ink for forming the etching-promoting film (3) on the halftone dot portion (2) uses, for example, a resin such as a modified phenol resin as a binder, and a metal that is more noble than the potential of aluminum, such as Pb, Bi, Cu, One, two or more kinds of metal powders such as In, Sn, Ag, and Ti are added and contained, and the content of the metal powders is about 1 to 80 wt%, particularly preferably 10 to 50 wt%. And The halftone dot portion (2) having the etching promoting film (3) controls the formation site and density of etching nuclei during etching, and directly affects the final capacitance and mechanical strength of the aluminum foil electrode material. Since it has an influence, its arrangement and size are determined in consideration of the required capacitance. The shape of the halftone dot portion is not particularly limited, but is generally circular, and its diameter (l) is in the range of 1 to 5 μm,
Moreover, the arrangement pitch also defines the interval (d) between the halftone dots as 1
It is preferable to have a high density distribution in the range of ˜5 μm. Particularly preferably, the diameter is 1 to 2 μm and the interval is about 1 to 2 μm.

上記網点部分(2)の形成は、例えば多数の網点を有す
る版、例えばPS版等を用いて網点印刷の技法により行わ
れるものである。
The halftone dot portion (2) is formed by a halftone dot printing technique using, for example, a plate having a large number of halftone dots, such as a PS plate.

アルミニウム箔(1)としては、従来高圧用陽極材料と
して使用されているのと同じく、純度99.9wt%以上の高
純度アルミニウムからなるものが用いられる。該アルミ
ニウム箔の表面の粗度も、静電容量に影響を及ばす。即
ち、可及的平滑な表面を有するアルミニウム箔の使用が
静電容量の増大の面から推奨されるところであり、特に
Rmax×0.1μm以下の平滑鏡面のアルミニウム箔の使用
が好ましい。
As the aluminum foil (1), one made of high-purity aluminum having a purity of 99.9 wt% or more is used, as is conventionally used as a high voltage anode material. The surface roughness of the aluminum foil also affects the capacitance. That is, the use of an aluminum foil having a smooth surface as much as possible is recommended from the viewpoint of increasing the capacitance,
It is preferable to use an aluminum foil having a smooth mirror surface of Rmax × 0.1 μm or less.

以上のこの発明に係るアルミニウム電極材は、これを従
来法に準じてこれをエッチングした場合、エッチング促
進被膜を有する網点部分においてエッチング核の発生が
促進され、該網点部分が集中的に侵食される結果、均一
でしかも深いエッチング孔の形成が行われるものであ
る。アルミニウム箔の表面粗度が可及的小さい方が好結
果が得られるのは、上記エッチング核の形成が網点部分
以外の部分で徒らに発生するのを防止し、全面的な表面
溶解を抑制しうることに基づく。
When the aluminum electrode material according to the present invention described above is etched according to the conventional method, the generation of etching nuclei is promoted in the halftone dot portion having the etching promoting film, and the halftone dot portion is eroded intensively. As a result, uniform and deep etching holes are formed. The surface roughness of the aluminum foil is preferably as small as possible to obtain good results because the formation of the above-mentioned etching nuclei is prevented from unnecessarily occurring in the portion other than the halftone dot portion, and the entire surface dissolution is prevented. Based on what can be suppressed.

アルミニウム箔の網点部分(2)以外の部分でのエッチ
ング孔(5)の形成をより一層確実に防止し、かつ表面
溶解を抑制するために、更に別途レジストインキを用い
て網点印刷を行い、第2図に示すように網点部分(2)
を除く他の部分の全体に、上記レジストインキからなる
耐性被膜(4)を形成せしめるものとなすことにより、
更に一段と好結果を得ることができる。上記レジストイ
ンキは、エッチング処理時の酸またはアルカリエッチン
グ液に対して耐性を有するものであれば良く、例えば耐
塩酸性のアルカリ除去型アクリル系樹脂、その他半導体
フォトマスク用のレジスト剤等を使用しうる。
In order to more reliably prevent the formation of the etching holes (5) in the area other than the halftone dot portion (2) of the aluminum foil and to suppress the surface dissolution, additional halftone dot printing is performed using a resist ink. , The halftone dot part (2) as shown in FIG.
By forming a resistant film (4) made of the above resist ink on the entire other part except for
Further good results can be obtained. The resist ink may be any one as long as it has resistance to an acid or an alkali etching solution at the time of etching treatment, and for example, a hydrochloric acid-resistant alkali-removable acrylic resin or other resist agent for semiconductor photomask can be used. .

この発明に係る上記の電極材は、使用に際し、酸または
アルカリ浴中で電気化学的または化学的なエッチング処
理を施して、アルミニウム電極箔に仕上げられる。この
ようなエッチングに先立って、電極材表面に初期の凹凸
をつけるためドライエッチングを施すものとしても良
い。上記エッチング処理に用いるエッチング液は、特に
限定されるものではなく、既知のような2〜15%塩酸水
溶液、あるいは該溶液に更にクロム酸、硫酸、蓚酸等の
酸を添加した水溶液等を任意に採択使用しうる。他のエ
ッチング処理条件、即ち、液温、電流密度、エッチング
時間等もすべて従来既知のエッチング処理条件をそのま
ま採用しうる。このエッチング処理により、アルミニウ
ム箔の網点部分(2)において、そこに存在する金属イ
ンキによるエッチング促進被膜(3)の作用でエッチン
グ核の発生が促進され、該部に集中的に侵食が進んで、
深くて太いエッチング孔(5)の形成を可能とする。網
点部分(2)以外の部分にレジストインキによる耐性被
膜(4)を形成した電極財においては、該網点部分以外
の部分の表面溶解が一層確実に防止される結果、愈々深
いエッチング孔の形成を可能とし、かつ箔の機械的強度
の低下を防止する。
In use, the above electrode material according to the present invention is electrochemically or chemically etched in an acid or alkaline bath to be finished into an aluminum electrode foil. Prior to such etching, dry etching may be performed in order to make initial unevenness on the surface of the electrode material. The etching solution used in the etching treatment is not particularly limited, and a known 2 to 15% hydrochloric acid aqueous solution, or an aqueous solution in which an acid such as chromic acid, sulfuric acid, or oxalic acid is further added to the solution is arbitrarily selected. Adopted Can be used. Other etching treatment conditions, that is, the liquid temperature, the current density, the etching time, etc. may be the same as the conventionally known etching treatment conditions. This etching treatment promotes the generation of etching nuclei in the halftone dot portion (2) of the aluminum foil due to the action of the etching-promoting film (3) due to the metal ink present there, and the erosion proceeds intensively in the portion. ,
It enables the formation of deep and thick etching holes (5). In the electrode material in which the resist film (4) made of the resist ink is formed on the portion other than the halftone dot portion (2), the surface dissolution of the portion other than the halftone dot portion is more surely prevented. It enables formation and prevents the mechanical strength of the foil from decreasing.

なお、耐性被膜(4)を有する電極材の場合、エッチン
グ処理を終えたのち、続いて、例えば数%NaOH溶液等の
アルカリ液等に浸漬することにより箔表面に付着してい
る耐性被膜の除去処理が施される。
In addition, in the case of an electrode material having a resistant coating (4), after the etching treatment is finished, the resistant coating adhered to the foil surface is removed by immersing the electrode material in an alkaline solution such as a few% NaOH solution. Processing is performed.

発明の効果 以上説明したようにこの発明に係る電極材は、網点印刷
によりアルミニウム箔表面にアルミニウムより貴な金属
を含むインキによるエッチング促進被膜を有する多数の
網点部分が高密度に分布形成されたものであるから、該
電極材にその後に施すエッチング処理時において、エッ
チング核の発生部位を上記網点部分に限定し、該部分を
集中的にアタックして、結果的に全面的な表面溶解を抑
制しつつ深くて太いエッチング孔を形成せしめることが
できる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the electrode material according to the present invention has a large number of halftone dot portions having an etching promoting film formed by an ink containing a metal nobler than aluminum on the surface of the aluminum foil by high density distribution. Therefore, during the subsequent etching treatment of the electrode material, the area where the etching nuclei are generated is limited to the above-mentioned halftone dot area, and this area is intensively attacked, resulting in the complete surface dissolution. It is possible to form deep and thick etching holes while suppressing the above.

また、この発明の電極材は、従来の電極材のように、金
属間化合物や結晶粒界の偏在等の材料特性のバラツキが
直接エッチング特性を大きく左右することがない。従っ
て、安定したバラツキの少ない電極材を提供しうる。
Further, in the electrode material of the present invention, unlike the conventional electrode material, variations in material characteristics such as intermetallic compounds and uneven distribution of crystal grain boundaries do not directly affect the etching characteristics. Therefore, it is possible to provide a stable electrode material with less variation.

更には、網点印刷パターンの選択によ、得ようとする静
電容量を自由に制御することができ、得たい静電容量に
応じた電極材の設計が容易にできると共に、エッチング
時に無駄な表面溶解を生じさせないため、エッチングに
要する電気消費量も節減できる。
Further, by selecting the halftone dot printing pattern, the capacitance to be obtained can be freely controlled, the electrode material can be easily designed according to the capacitance to be obtained, and the electrode material is not wasted during etching. Since the surface is not melted, the electricity consumption required for etching can be reduced.

更にまた、この発明の電極箔は、網点印刷の技法で表面
にエッチング促進被膜を有する網点部分の形成を行い、
更には該部分を除く部分に耐性被膜を形成せしめるもの
であるから、フォトレジストによるパターニング法によ
って多孔耐性被膜を形成せしめるような場合に較べ、大
面積のアルミニウム箔に対する処理が容易であり、連続
処理により大面積のものを安価に得ることができる。
Furthermore, the electrode foil of the present invention forms a halftone dot portion having an etching promoting film on the surface by a halftone dot printing technique,
Furthermore, since a resistant coating is formed on the portion excluding the portion, it is easier to treat a large area aluminum foil as compared with the case where a porous resistant coating is formed by a patterning method using a photoresist, and continuous treatment is possible. Therefore, a large area can be obtained at low cost.

実施例 次にこの発明の実施例を比較例との対比において示す。Example Next, an example of the present invention will be shown in comparison with a comparative example.

厚さ100μm、純度99.99%、表面粗度Rmax×0.02μm以
下の各焼鈍アルミニウム箔の表面に、変形フェノール樹
脂にPb、Bi、Cuからなる各金属粉末を20wt%の割合で含
有せしめた金属インキを用いて、PS版による網点印刷を
施すことにより、上記インキからなるエッチング促進被
膜を有する多数の網点部分を高密度分布に形成した。こ
の網点部分は、直径1.5〜4.0μm、間隔1.5〜3.0μmの
範囲で各種変化せしめたものとして、試料No.1〜4の各
種電極材を得た。
Metal ink containing 20wt% of each metal powder consisting of Pb, Bi and Cu in modified phenol resin on the surface of each annealed aluminum foil with thickness 100μm, purity 99.99%, surface roughness Rmax x 0.02μm or less. Was used to perform halftone dot printing with a PS plate, thereby forming a large number of halftone dot portions having an etching-promoting film made of the above ink in a high-density distribution. Various electrode materials of Sample Nos. 1 to 4 were obtained by varying the halftone dot portion within a range of a diameter of 1.5 to 4.0 [mu] m and an interval of 1.5 to 3.0 [mu] m.

また、試料No.5については更に、30℃の5%H2SO4水溶
液中で、電流密度1A/dm2×1分間の陽極酸化処理を施す
ことにより、上記網点部分以外の箔の表面部分の全体
に、陽極酸化皮膜からなる耐性被膜を形成せしめたもの
とし、試料No.6については常法によるクロメート処理を
施すことによりクロム酸塩皮膜からなる同耐性被膜を形
成せしめたものとし、更に、試料No.7については大気中
で250℃×2時間の加熱酸化処理を施すことにより、酸
化皮膜からなる同耐性被膜を形成せしめたものとした。
In addition, for sample No. 5, the surface of the foil other than the above halftone dots was subjected to anodizing treatment at a current density of 1 A / dm 2 × 1 minute in a 5% H 2 SO 4 aqueous solution at 30 ° C. It is assumed that a resistant coating made of an anodized film is formed on the entire part, and that for sample No. 6, the same resistant coating made of a chromate film is formed by subjecting it to chromate treatment by a conventional method, Further, Sample No. 7 was subjected to a heat oxidation treatment at 250 ° C. for 2 hours in the atmosphere to form the same resistant film made of an oxide film.

次いで本発明による上記の各種アルミニウム電極材に、
エッチング液:5wt%塩酸水溶液、温度:75℃、直流電流
密度:10A/dm2、エッチング時間:7分の条件のもので電解
エッチングを施した。
Then, to the above various aluminum electrode materials according to the present invention,
Electrolytic etching was performed under the conditions of etching solution: 5 wt% hydrochloric acid aqueous solution, temperature: 75 ° C., direct current density: 10 A / dm 2 , etching time: 7 minutes.

しかる後に、試料No.5〜7については、25℃、5wt%水
酸化ナトリウムに2秒浸漬して耐性被膜の除去を行っ
た。
Thereafter, Sample Nos. 5 to 7 were immersed in 5 wt% sodium hydroxide at 25 ° C. for 2 seconds to remove the resistant coating.

上記により得られた各種エッチング箔を硼酸浴中で380V
に化成したのち、該箔の静電容量を測定した。一方、こ
の結果を、前記と同一アルミニウム材を使用しかつ同一
のエッチング条件で表面無処理のままエッチングのみを
施したアルミニウム箔(比較例)のそれと比較した。な
お、静電容量の比較は、比較例の静電容量を100とした
場合の相対比で評価した。結果を下表に示す。
The various etching foils obtained above were 380 V in a boric acid bath.
After chemical conversion, the capacitance of the foil was measured. On the other hand, this result was compared with that of an aluminum foil (comparative example) in which the same aluminum material as that described above was used and the surface was not treated under the same etching conditions and only etching was performed. The comparison of the electrostatic capacities was evaluated by the relative ratio when the electrostatic capacity of the comparative example was 100. The results are shown in the table below.

上表の結果に示されるように、この発明に係電極材は、
従来品相当の比較に較べ、顕著な静電容量の増大効果を
得ることができるものであった。
As shown in the results of the above table, the electrode material according to the present invention is
It was possible to obtain a remarkable effect of increasing the electrostatic capacitance as compared with the comparison with the conventional product.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は網点印刷による網点部分の配列状態の一例を示
す模式的斜視図、第2図は同じく模式的断面図である。 (1)……アルミニウム箔、(2)……網点部分、
(3)……エッチング促進被膜、(4)……耐性被膜。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of an arrangement state of halftone dots by halftone printing, and FIG. 2 is a schematic sectional view of the same. (1) …… Aluminum foil, (2) …… Halftone dots,
(3) ... Etching promoting film, (4) ... Resistive film.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】アルミニウム箔(1)の表面に、アルミニ
ウムより貴な金属粉末を含む金属インキを用いて網点印
刷を施すことにより、上記インキによるエッチング促進
被膜(3)を有する多数の網点部分(2)を高密度配置
に形成せしめてなることを特徴とする電解コンデンサ用
アルミニウム電極材。
1. A large number of halftone dots having an etching accelerating film (3) formed by the ink by performing halftone dot printing on the surface of an aluminum foil (1) using a metal ink containing a metal powder nobler than aluminum. An aluminum electrode material for electrolytic capacitors, characterized in that part (2) is formed in a high-density arrangement.
【請求項2】網点部分(2)は、円形でその大きさを直
径1〜5μmの範囲とし、かつその間隔も同じく1〜5
μmの範囲とした特許請求の範囲第1項記載の電解コン
デンサ用アルミニウム電極材。
2. The halftone dot portion (2) is circular and has a size in the range of 1 to 5 μm in diameter, and its interval is also 1 to 5.
The aluminum electrode material for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the aluminum electrode material has a range of μm.
【請求項3】アルミニウム箔(1)は、純度99.9%以上
の高密度アルミニウムからなる特許請求の範囲第1項記
載の電解コンデンサ用アルミニウム電極材。
3. The aluminum electrode material for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the aluminum foil (1) is made of high density aluminum having a purity of 99.9% or more.
【請求項4】アルミニウム箔(1)の表面に、アルミニ
ウムより貴な金属粉末を含む金属インキを用いて印刷を
施すことにより、上記インキによるエッチング促進被膜
(3)を有する多数の網点部分(2)を高密度配置に形
成せしめる一方、上記網点部分を除く他の表面部分の全
体に、表面処理を施すことにより、耐性被膜を形成せし
めてなることを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極材。
4. A large number of halftone dot portions (3) having an etching accelerating film (3) formed by printing the ink on the surface of an aluminum foil (1) using a metal ink containing a metal powder nobler than aluminum. 2) is formed in a high-density arrangement, and an aluminum electrode material for an electrolytic capacitor, characterized in that a resistant coating is formed by subjecting the entire surface part other than the halftone dot part to a surface treatment. .
【請求項5】耐性被膜がクロメート処理によるクロム酸
塩皮膜からなる特許請求の範囲第4項記載の電解コンデ
ンサ用アルミニウム電極材。
5. The aluminum electrode material for an electrolytic capacitor according to claim 4, wherein the resistant coating is a chromate coating by chromate treatment.
【請求項6】耐性被膜が陽極酸化処理による陽極酸化皮
膜からなる特許請求の範囲第4項記載の電解コンデンサ
用アルミニウム電極材。
6. The aluminum electrode material for an electrolytic capacitor according to claim 4, wherein the resistant film is an anodized film formed by anodizing treatment.
【請求項7】耐性被膜が加熱酸化処理による酸化皮膜か
らなる特許請求の範囲第4項記載の電解コンデンサ用ア
ルミニウム電極材。
7. The aluminum electrode material for an electrolytic capacitor according to claim 4, wherein the resistant film is an oxide film formed by a heat oxidation treatment.
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