JPH07107105B2 - シリコーンゴム成形体表面を親水性化する方法 - Google Patents
シリコーンゴム成形体表面を親水性化する方法Info
- Publication number
- JPH07107105B2 JPH07107105B2 JP61111772A JP11177286A JPH07107105B2 JP H07107105 B2 JPH07107105 B2 JP H07107105B2 JP 61111772 A JP61111772 A JP 61111772A JP 11177286 A JP11177286 A JP 11177286A JP H07107105 B2 JPH07107105 B2 JP H07107105B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silicone rubber
- compound
- bis
- carried out
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 title claims description 40
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 title claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- -1 allyloxy compound Chemical class 0.000 claims description 31
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 claims description 30
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- BLZDTVROPKIJLZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetrakis[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound O1[Si](C)(CCCOCC2OC2)O[Si](C)(CCCOCC2OC2)O[Si](C)(CCCOCC2OC2)O[Si]1(C)CCCOCC1CO1 BLZDTVROPKIJLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 7
- RPZYURZLLBVLMV-UHFFFAOYSA-N 3-[4,6,8-tris(3-acetyloxypropyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl]propyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCC[Si]1(C)O[Si](C)(CCCOC(C)=O)O[Si](C)(CCCOC(C)=O)O[Si](C)(CCCOC(C)=O)O1 RPZYURZLLBVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 6
- MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enoxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OCC=C MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KGCSQTCXPKOLLD-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[4,6,8-tris[3-(2,3-dihydroxypropoxy)propyl]-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl]propoxy]propane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)COCCC[Si]1(C)O[Si](C)(CCCOCC(O)CO)O[Si](C)(CCCOCC(O)CO)O[Si](C)(CCCOCC(O)CO)O1 KGCSQTCXPKOLLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 5
- 150000007517 lewis acids Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims description 5
- ISPWSRVEMSGMKS-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-hydroxypropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-ol Chemical compound OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCO ISPWSRVEMSGMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- ZLBRZCPFVDEGOK-UHFFFAOYSA-N 3-[4,6,8-tris(3-hydroxypropyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl]propan-1-ol Chemical compound OCCC[Si]1(C)O[Si](C)(CCCO)O[Si](C)(CCCO)O[Si](C)(CCCO)O1 ZLBRZCPFVDEGOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DMXGWDSHFINJOU-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(3-trimethylsilyloxypropyl)silyl]oxy-dimethyl-(3-trimethylsilyloxypropyl)silane Chemical group C[Si](C)(C)OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCO[Si](C)(C)C DMXGWDSHFINJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KXSKWVQPLFGQFG-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl)propan-1-ol Chemical compound OCCC[SiH]1O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O1 KXSKWVQPLFGQFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 claims description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- LNVWSUKKIYZZCG-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-hydroxypropyl-methyl-trimethylsilyloxysilyl)oxy-methyl-trimethylsilyloxysilyl]propan-1-ol Chemical compound OCCC[Si](C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(CCCO)O[Si](C)(C)C LNVWSUKKIYZZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 1
- UBIJTWDKTYCPMQ-UHFFFAOYSA-N hexachlorophosphazene Chemical compound ClP1(Cl)=NP(Cl)(Cl)=NP(Cl)(Cl)=N1 UBIJTWDKTYCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WPTVKOGMBZBREK-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[methyl-[methyl-trimethylsilyloxy-(3-trimethylsilyloxypropyl)silyl]oxy-(3-trimethylsilyloxypropyl)silyl]oxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)OCCC[Si](C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCO[Si](C)(C)C WPTVKOGMBZBREK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 238000010068 moulding (rubber) Methods 0.000 description 11
- 239000000411 inducer Substances 0.000 description 10
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- CEUKCVAQCQHRBI-UHFFFAOYSA-N 3-[2,4,4,6,6,8,8-heptakis(3-acetyloxypropyl)-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl]propyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCC[Si]1(CCCOC(C)=O)O[Si](CCCOC(C)=O)(CCCOC(C)=O)O[Si](CCCOC(C)=O)(CCCOC(C)=O)O[Si](CCCOC(C)=O)(CCCOC(C)=O)O1 CEUKCVAQCQHRBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical group C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OOGNOPCYXQRICT-UHFFFAOYSA-N 3-[2,4,4,6,6,8,8-heptakis(3-hydroxypropyl)-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl]propan-1-ol Chemical compound OCCC[Si]1(CCCO)O[Si](CCCO)(CCCO)O[Si](CCCO)(CCCO)O[Si](CCCO)(CCCO)O1 OOGNOPCYXQRICT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- JIBRMBUTOAHLAJ-UHFFFAOYSA-N bis(3-bromopropyl)-dichlorosilane Chemical compound BrCCC[Si](Cl)(Cl)CCCBr JIBRMBUTOAHLAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 3
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- VEVKLLMFZQIOEK-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octakis(3-bromopropyl)-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound BrCCC[Si]1(CCCBr)O[Si](CCCBr)(CCCBr)O[Si](CCCBr)(CCCBr)O[Si](CCCBr)(CCCBr)O1 VEVKLLMFZQIOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFIBZDZRPYQXOM-UHFFFAOYSA-N [dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silyl]oxy-dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound C1OC1COCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOCC1CO1 MFIBZDZRPYQXOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(Cl)CC=C VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 125000006416 CBr Chemical group BrC* 0.000 description 1
- 241000254043 Melolonthinae Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- FWZUNOYOVVKUNF-UHFFFAOYSA-N allyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC=C FWZUNOYOVVKUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- BKXRKRANFLFTFU-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) oxalate Chemical compound C=CCOC(=O)C(=O)OCC=C BKXRKRANFLFTFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 230000008570 general process Effects 0.000 description 1
- 239000011491 glass wool Substances 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- SGZHLLQPCVCEDC-UHFFFAOYSA-L magnesium;bromide;chloride Chemical compound Cl[Mg]Br SGZHLLQPCVCEDC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000006140 methanolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002504 physiological saline solution Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N tetrasiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH3] RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVUXMJOHDPPEG-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[3-[2,4,6,8-tetramethyl-4,6,8-tris(3-trimethylsilyloxypropyl)-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl]propoxy]silane Chemical compound C[Si](C)(C)OCCC[Si]1(C)O[Si](C)(CCCO[Si](C)(C)C)O[Si](C)(CCCO[Si](C)(C)C)O[Si](C)(CCCO[Si](C)(C)C)O1 BOVUXMJOHDPPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/041—Lenses
- G02B1/043—Contact lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
- C08J2383/04—Polysiloxanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ポリシロキサン、特にシリコーンゴムは技術及び医学の
種々な分野で用いられている。シリコーンゴムは高い酸
素透過性を有するため、この物質はコンタクトレンズの
製造にも適していると考えられる。しかし、シリコーン
ゴムは疎水性材料であるので、今まではこの物質をコン
タクトレンズ材料として用いることは困難をもたらして
いた。この物質を親水性化するために、種々な方法が知
られている(ヨーロツパ特許第33,754号、西ドイツ公開
明細書第3004685号、米国特許第4143949号と第3925178
号、フランス公開明細書第2407232号、西ドイツ公告明
細書第2353495号と第2164805号参照)。
種々な分野で用いられている。シリコーンゴムは高い酸
素透過性を有するため、この物質はコンタクトレンズの
製造にも適していると考えられる。しかし、シリコーン
ゴムは疎水性材料であるので、今まではこの物質をコン
タクトレンズ材料として用いることは困難をもたらして
いた。この物質を親水性化するために、種々な方法が知
られている(ヨーロツパ特許第33,754号、西ドイツ公開
明細書第3004685号、米国特許第4143949号と第3925178
号、フランス公開明細書第2407232号、西ドイツ公告明
細書第2353495号と第2164805号参照)。
シリコーンゴム表面に親水性表面層を与えることによ
る、シリコーンゴム製コンタクトレンズの親水性化方法
は、西ドイツ公開明細書第3004685号からすでに公知で
ある。この方法には2つの工程が用いられており、その
最初の工程ではシリコーンゴムをオリゴマーのSiH基含
有シロキサンと、触媒の存在下で反応させ(平衡化反
応)、第2工程では平衡化したシリコーンゴムに塩基水
溶液との反応またはC=C二重結合を含む化合物とのシ
ラン付加反応を受けさせる。これによつて、良好な酸素
透過性を有し、その表面層が親水性になつたシリコーン
ゴムが得られ、このシリコーンゴムは親水性が高いにも
拘らず、その表面に沈積物を生ずる傾向が増大すること
は全くない。
る、シリコーンゴム製コンタクトレンズの親水性化方法
は、西ドイツ公開明細書第3004685号からすでに公知で
ある。この方法には2つの工程が用いられており、その
最初の工程ではシリコーンゴムをオリゴマーのSiH基含
有シロキサンと、触媒の存在下で反応させ(平衡化反
応)、第2工程では平衡化したシリコーンゴムに塩基水
溶液との反応またはC=C二重結合を含む化合物とのシ
ラン付加反応を受けさせる。これによつて、良好な酸素
透過性を有し、その表面層が親水性になつたシリコーン
ゴムが得られ、このシリコーンゴムは親水性が高いにも
拘らず、その表面に沈積物を生ずる傾向が増大すること
は全くない。
これに比べて、本発明の課題はシリコーンゴム成形体の
表面を親水性にするために、この公知の方法に比べて1
工程のみ、すなわち平衡化反応のみを実施すればよい程
度にまで改良した方法を提供することである。
表面を親水性にするために、この公知の方法に比べて1
工程のみ、すなわち平衡化反応のみを実施すればよい程
度にまで改良した方法を提供することである。
特許請求の範囲第1項に記載した本発明の特徴がこの課
題を解決し、従属項が本発明の完成を特徴づける。
題を解決し、従属項が本発明の完成を特徴づける。
1段階平衡化反応によつて得られるような親水性組成を
その表面に有するシリコーンゴム成形体が本発明によつ
て製造される。平衡化では、SiH基含有シロキサンとOH
基が保護されたアリルオキシ化合物とを触媒特にH2PtCl
6の存在下で反応させ、続いて任意に加水分解すること
によつて製造される特定のオルガノシロキサンを出発物
質として用いる。この加水分解は方法的にはシリコーン
ゴム成形体の状態調節中に起るために固有の工程を必要
としない。平衡化も同様に溶剤、特にエーテル中の触媒
の存在下で実施する。この場合に触媒としてルイス酸、
特にヘキサクロルシクロトリホスフエートリエンが適し
ている。これによつて得られるシリコーンゴム成形体表
面構造は親水性であり、この際にシリコーンゴムの酸素
透過性が低下することはない。また、シリコーンゴム成
形体の表面に沈積物を生ずる傾向もない。
その表面に有するシリコーンゴム成形体が本発明によつ
て製造される。平衡化では、SiH基含有シロキサンとOH
基が保護されたアリルオキシ化合物とを触媒特にH2PtCl
6の存在下で反応させ、続いて任意に加水分解すること
によつて製造される特定のオルガノシロキサンを出発物
質として用いる。この加水分解は方法的にはシリコーン
ゴム成形体の状態調節中に起るために固有の工程を必要
としない。平衡化も同様に溶剤、特にエーテル中の触媒
の存在下で実施する。この場合に触媒としてルイス酸、
特にヘキサクロルシクロトリホスフエートリエンが適し
ている。これによつて得られるシリコーンゴム成形体表
面構造は親水性であり、この際にシリコーンゴムの酸素
透過性が低下することはない。また、シリコーンゴム成
形体の表面に沈積物を生ずる傾向もない。
平衡化では、種々な大きさの分子から成るシロキサン混
合物が分子平衡に達する。この場合の触媒としてはプロ
トン及びルイス酸が用いられる〔ダブリユ・ジエイ・パ
トノード(W.J.Patnode),シー・エフ・ウイルコツク
(C.F.Wilcock)によるジエイ・アム・ケム・ソク(J.A
m.Chem.Soc)68巻,358頁(1946年);デイ・テイ・ハー
ド(D.T.Hurd)によるジエイ・アム・ケム・ソク(J.A
m.Chem.Soc)77巻,2998頁(1955年);及び西ドイツ特
許第831,098号参照〕。
合物が分子平衡に達する。この場合の触媒としてはプロ
トン及びルイス酸が用いられる〔ダブリユ・ジエイ・パ
トノード(W.J.Patnode),シー・エフ・ウイルコツク
(C.F.Wilcock)によるジエイ・アム・ケム・ソク(J.A
m.Chem.Soc)68巻,358頁(1946年);デイ・テイ・ハー
ド(D.T.Hurd)によるジエイ・アム・ケム・ソク(J.A
m.Chem.Soc)77巻,2998頁(1955年);及び西ドイツ特
許第831,098号参照〕。
処理したシリコーンゴム成形体とは、加熱架橋または常
温架橋したポリメチルシロキサン成形体であり、常温架
橋した物質も若干のSi−H基を含有する。
温架橋したポリメチルシロキサン成形体であり、常温架
橋した物質も若干のSi−H基を含有する。
使用する平衡化誘導剤は線状α,ω−オルガノジメチル
シロキサン(1〜4)、線状トリメチルシリル末端基含
有オルガノメチルシロキサン(7〜18)、環状オルガノ
メチルシロキサン(20〜24)及び環状ジオルガノシロキ
サン(25〜26)である。シリコーンゴム成形体の表面に
おける平衡化反応は次の反応式によつて行われる: (式中、x、yはx<yの整数であり、Rは親水性を与
える、ごく低極性のヒドロキシアルキル基である) 使用する触媒は、特に良好な成果をもたらすルイス酸、
すなわち1,1,3,3,5,5-ヘキサクロルシクロトリホスフア
ゼンと濃硫酸である。
シロキサン(1〜4)、線状トリメチルシリル末端基含
有オルガノメチルシロキサン(7〜18)、環状オルガノ
メチルシロキサン(20〜24)及び環状ジオルガノシロキ
サン(25〜26)である。シリコーンゴム成形体の表面に
おける平衡化反応は次の反応式によつて行われる: (式中、x、yはx<yの整数であり、Rは親水性を与
える、ごく低極性のヒドロキシアルキル基である) 使用する触媒は、特に良好な成果をもたらすルイス酸、
すなわち1,1,3,3,5,5-ヘキサクロルシクロトリホスフア
ゼンと濃硫酸である。
線状平衡化誘導剤としては次の化合物が用いられる: 1,3-ビス(3-トリメチルシリルオキシプロピル)‐1,1,
3,3-テトラメチルジシロキサン(1);1,3-ビス(3-ヒ
ドロキシプロピル)‐1,1,3,3-テトラメチルジシロキサ
ン(2)〔ジー.グレバー(G.Greber),エス・ジエゲ
ル(S.Jager)によるマクロム.ケム(Makrom Chem.)5
7巻,150頁(1962年)〕;1,3-ビス(6,7-エポキシ‐4-オ
キサヘプチル)‐1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン
(3)〔イー・ピー・プルエツデマン(E.P.Plueddema
n);ジー・フアンガー(G.Fanger)によるジエイ・ア
ム・ケム・ソク(J.Am.Chem.Soc)81巻,2632頁(1959
年)〕;1,3-ビス(6,7-ビヒドロキシ‐4-オキサヘプチ
ル)‐1,1,3,3-テトラメチルシロキサン(4);アリル
オキシトリメチルシラン(5)またはアリルグリシジル
エーテル(6)と、 次の一般式: 〔式中、n=2,約10,40及び50〕 を有する種々な鎖長のポリメチルヒドロシロキサンとか
ら成る、次の一般式 〔Rは‐O-Si(CH3)3または を有する付加生成物及び Rが‐OHまたは‐O-CH2‐CH(OH)‐CH2‐OHであるその
加水分解生成物。
3,3-テトラメチルジシロキサン(1);1,3-ビス(3-ヒ
ドロキシプロピル)‐1,1,3,3-テトラメチルジシロキサ
ン(2)〔ジー.グレバー(G.Greber),エス・ジエゲ
ル(S.Jager)によるマクロム.ケム(Makrom Chem.)5
7巻,150頁(1962年)〕;1,3-ビス(6,7-エポキシ‐4-オ
キサヘプチル)‐1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン
(3)〔イー・ピー・プルエツデマン(E.P.Plueddema
n);ジー・フアンガー(G.Fanger)によるジエイ・ア
ム・ケム・ソク(J.Am.Chem.Soc)81巻,2632頁(1959
年)〕;1,3-ビス(6,7-ビヒドロキシ‐4-オキサヘプチ
ル)‐1,1,3,3-テトラメチルシロキサン(4);アリル
オキシトリメチルシラン(5)またはアリルグリシジル
エーテル(6)と、 次の一般式: 〔式中、n=2,約10,40及び50〕 を有する種々な鎖長のポリメチルヒドロシロキサンとか
ら成る、次の一般式 〔Rは‐O-Si(CH3)3または を有する付加生成物及び Rが‐OHまたは‐O-CH2‐CH(OH)‐CH2‐OHであるその
加水分解生成物。
これらはそれぞれ、次の反応によつて表される: ▲‐D2 n‐▼={O-Si(CH3)〔CH2-CH2-CH2-O-Si(C
H3)3〕}n n=2 (7) n=約10 (8) n=約40 (9) ▲‐D3 n‐▼=O-Si(CH3)(CH2-CH2-CH2-OH)n n=2 (10) n=約10 (11) n=約40 (12) n=約10 (13) n=約40 (14) n=約50 (15) ▲‐D5 n‐▼=O-Si(CH3)(CH2-CH2-CH2-O-CH2-CH(OH)
-CH2-OH)n n=約10 (16) n=約40 (17) n=約50 (18) 平衡化誘導剤である環状オルガノメチルシロキサンとし
ては、 2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサン〔アール
・オー・サウエル(R・O・Sauer),ダブリユ・ジエ
イ・シユライバー(W・J・Schreiber),セント・デ
イ・ブリユウワー(St.D.Brewer)によるジエイ・アム
・ケム・ソク(J.Am.Chem.Soc)68巻、962頁(1946
年)〕(以下の文ではDH4と呼ぶ)を用いたDH4に(5)
もしくは(6)アリルアセテート(19)を付加すること
によつて、2,4,6,8-テトラキス(3-トリメチルシリルオ
キシプロピル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン(20),2,4,6,8-テトラキス(6,7-エポキシ‐4
-オキサヘプチル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテト
ラシロキサン(21)ならびに2,4,6,8-テトラキス(3-ア
セトオキシプロピル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテ
トラシロキサン(22)〔エム・フランツ(M.Pflanz)に
よるヴイツセンシヤフトリツヒ ハウスアルバイト(Wi
ssenschaftlieh Hausarbeit)1983年〕を合成すること
ができた: (20)ならびに(21)の加水分解によつて、2,4,6,8-テ
トラキス(3-ヒドロキシプロピル)‐2,4,6,8-テトラメ
チルシクロテトラシロキサン(23)と、2,4,6,8-テトラ
キス(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘプチル)‐2,4,6,
8-テトラメチルシクロテトラシロキサン(24)が製造さ
れる: 平衡化剤である環状ジオルガノシロキサンの例として、
2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-アセトオキシプロピ
ル)シクロテトラシロキサン(25)と2,2,4,4,6,6,8,8-
オクタキス(3-ヒドロキシプロピル)シクロテトラシロ
キサン(26)を用いることができる。これらの合成法
(ベルリン自由大学、エイ・フルスヴエデル(A・Flut
hwedel)請求論文)は以下で説明する。
H3)3〕}n n=2 (7) n=約10 (8) n=約40 (9) ▲‐D3 n‐▼=O-Si(CH3)(CH2-CH2-CH2-OH)n n=2 (10) n=約10 (11) n=約40 (12) n=約10 (13) n=約40 (14) n=約50 (15) ▲‐D5 n‐▼=O-Si(CH3)(CH2-CH2-CH2-O-CH2-CH(OH)
-CH2-OH)n n=約10 (16) n=約40 (17) n=約50 (18) 平衡化誘導剤である環状オルガノメチルシロキサンとし
ては、 2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサン〔アール
・オー・サウエル(R・O・Sauer),ダブリユ・ジエ
イ・シユライバー(W・J・Schreiber),セント・デ
イ・ブリユウワー(St.D.Brewer)によるジエイ・アム
・ケム・ソク(J.Am.Chem.Soc)68巻、962頁(1946
年)〕(以下の文ではDH4と呼ぶ)を用いたDH4に(5)
もしくは(6)アリルアセテート(19)を付加すること
によつて、2,4,6,8-テトラキス(3-トリメチルシリルオ
キシプロピル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン(20),2,4,6,8-テトラキス(6,7-エポキシ‐4
-オキサヘプチル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテト
ラシロキサン(21)ならびに2,4,6,8-テトラキス(3-ア
セトオキシプロピル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテ
トラシロキサン(22)〔エム・フランツ(M.Pflanz)に
よるヴイツセンシヤフトリツヒ ハウスアルバイト(Wi
ssenschaftlieh Hausarbeit)1983年〕を合成すること
ができた: (20)ならびに(21)の加水分解によつて、2,4,6,8-テ
トラキス(3-ヒドロキシプロピル)‐2,4,6,8-テトラメ
チルシクロテトラシロキサン(23)と、2,4,6,8-テトラ
キス(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘプチル)‐2,4,6,
8-テトラメチルシクロテトラシロキサン(24)が製造さ
れる: 平衡化剤である環状ジオルガノシロキサンの例として、
2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-アセトオキシプロピ
ル)シクロテトラシロキサン(25)と2,2,4,4,6,6,8,8-
オクタキス(3-ヒドロキシプロピル)シクロテトラシロ
キサン(26)を用いることができる。これらの合成法
(ベルリン自由大学、エイ・フルスヴエデル(A・Flut
hwedel)請求論文)は以下で説明する。
SiCl4から出発して、2当量のシユウ化アリルマグネシ
ウムを用いてジアリルジクロルシランを得、これにUV照
射下でMBrを付加してビス(3-ブロムプロピル)ジクロ
ルシランを得た。これを−5℃〜0℃において、氷、Na
HCO3とエーテルから成る混合物上に滴下すると、2,2,4,
4,6,6,8,8-オクタキス(3-ブロモプロピル)シクロテト
ラシロキサンが生成した。この化合物を氷酢酸中で酢酸
カリウムとともに沸とうさせることによつて、2,2,4,4,
6,6,8,8-オクタキス(3-アセトオキシプロピル)シクロ
テトラシロキサン(25)が生成し、これはエステル交換
触媒としてのナトリウムメトキシド存在下でのメタノー
リシスによつて、2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-ヒド
ロキシプロピル)シクロテトラシロキサン(26)を生じ
た。
ウムを用いてジアリルジクロルシランを得、これにUV照
射下でMBrを付加してビス(3-ブロムプロピル)ジクロ
ルシランを得た。これを−5℃〜0℃において、氷、Na
HCO3とエーテルから成る混合物上に滴下すると、2,2,4,
4,6,6,8,8-オクタキス(3-ブロモプロピル)シクロテト
ラシロキサンが生成した。この化合物を氷酢酸中で酢酸
カリウムとともに沸とうさせることによつて、2,2,4,4,
6,6,8,8-オクタキス(3-アセトオキシプロピル)シクロ
テトラシロキサン(25)が生成し、これはエステル交換
触媒としてのナトリウムメトキシド存在下でのメタノー
リシスによつて、2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-ヒド
ロキシプロピル)シクロテトラシロキサン(26)を生じ
た。
ジアリルジクロシラン 還流冷却器と滴下ロートを装備した1‐3首フラスコ
中に、無水エーテル150ml中SiCl429g(170mmol)を装入
した。グラスウールによつて過したシユウ化アリルマ
グネシウム溶液〔無水エーテル250ml中Mg10g(400mmo
l)とシユウ化アリル41.5g(34mmol)から成る〕を室温
において滴加すると、MgBrClが析出した。1.5時間還流
沸とうさせ、残渣を洗浄した後、56℃、16hPaにおいて
ジアリルジクロルシランが無色残渣として15%の収率で
得られた。
中に、無水エーテル150ml中SiCl429g(170mmol)を装入
した。グラスウールによつて過したシユウ化アリルマ
グネシウム溶液〔無水エーテル250ml中Mg10g(400mmo
l)とシユウ化アリル41.5g(34mmol)から成る〕を室温
において滴加すると、MgBrClが析出した。1.5時間還流
沸とうさせ、残渣を洗浄した後、56℃、16hPaにおいて
ジアリルジクロルシランが無色残渣として15%の収率で
得られた。
これに加えて、アリルトリクロルシラン16hPa)におい
て沸点24℃)が同様に15%の収率で得られた。
て沸点24℃)が同様に15%の収率で得られた。
1H-NMR(CDCl3);2.1(d,SrCH2‐,2H),5.2(d,-CH=CH
1H2,1H),5.3(s,CH=CH1H2,1H)5.8(m,CH2‐CH=CH2,
1H)。
1H2,1H),5.3(s,CH=CH1H2,1H)5.8(m,CH2‐CH=CH2,
1H)。
ビス(3-ブロモプロピル)ジクロルシラン 100mlエーレンマイヤーフラスコ中で氷/水で冷却した
前記化合物9.5g(50mmol)中に、採取サンプルが出発化
合物のNMR-シグナルをもはや示さなくなるまで、HBrを
導入した(40分間)。30cm−回転帯カラムによる蒸留に
よつて98℃、0.01hPaにおいてビス(3-ブロモプロピ
ル)ジクロルシラン14.3g(83%)が無色液体として得
られた。
前記化合物9.5g(50mmol)中に、採取サンプルが出発化
合物のNMR-シグナルをもはや示さなくなるまで、HBrを
導入した(40分間)。30cm−回転帯カラムによる蒸留に
よつて98℃、0.01hPaにおいてビス(3-ブロモプロピ
ル)ジクロルシラン14.3g(83%)が無色液体として得
られた。
IR(Film):3020cm-1,νCH‐CH2‐Br;2970と2860c
m-1,νCH:1440cm-1,δCH;1410cm1,δCHSiCH2‐;77
0と770cm1,C-BrとCH2 1 H‐NMR(CDCl3):1.30(q,Si-CH2‐,2H),2.07(m,-CH
2-CH2-CH2‐,2H),3.45(t,-CH2‐Br,2H) MS:219(99%,M-(CH2)3Br),177(100%,SiBrCl2) C6H12Br2Cl2Si(343.0)理論値 C21.01 H3.53 実験値 C20.64 H3.62 2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-ブロモプロピル)シク
ロテトラシロキサン 冷却器と滴下ロートを装備した250ml-3首フラスコに、
酢酸メチル55ml中ZnO6.7g(80mmol)の懸濁液を装入し
た。次に、酢酸メチル30mlに溶かした前記化合物10g(3
0mmol)を攪拌しながら滴加した。2時間還流沸とうさ
せた後、ベンゼン50mlを加えた。冷却した溶液を吸引
過し、水50mlずつで2回洗浄した。有機相にエタノール
約80mlを混合し、Na2SO4によつて乾燥させた。溶剤を留
去した後に、目的化合物が高粘性の無色油状物として残
留した:13.1g(=22)。1 H‐NMR(CD3‐CO-CO3):0.83(q,Si-CH2‐,2H),1.9
(m,-CH2‐CH2‐CH2Br,2H),3.5(t,-CH2‐Br,2H) C24H48Br8O4Si(1120.3)理論値:C25.02 H4.20 実験値:C23.83 H4.17 2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-アセトオキシプロピ
ル)シクロテトラシロキサン(25) 氷酢酸30ml中酢酸カリウム20g(20mmol)の沸とうする
溶液中に、前記化合物15.3g(13mmol)を滴加した。24
時間還流沸とうさせた後に、析出したKBrを吸引過
し、氷酢酸を真空留去した。残渣をエーテルで回収した
が、このときに酢酸カリウムが残留した。これをエーテ
ル25mlずつで3回洗浄した。エーテル溶液を一緒にし
て、室温において真空濃縮したところ、目的化合物が黄
色の粘性液状物質として得られた。収率81%。1 H‐NMR(C2D5‐OD):0.66(t,Si-CH2‐,2H),1.71(m,
-CH2‐CH2‐CH2‐2H),2.04(s,-CH3,3H),4,04(t,-CH
2‐CH2‐CH2‐O-,2H) MS:884(23%,M+‐CK2 3‐O-CO-CH3) C40H72O20Si4(985.3)理論値:C48.76 H7.37 実験値:C46.47 H7.19 2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-ヒドロキシプロピル)
シクロテトラシロキサン(26) 100ml-3首フラスコに無水メタノール20ml中ナトリウム
0.18g(7.8mmol)の溶液を装入し、さらに無水メタノー
ル10ml中前記化合物2.63g(2.7mmol)の溶液を滴下し
た。この滴加中にすでに、形成されたメタノール‐酢酸
メチル‐共沸混合物が58〜62℃で留出した。残渣を水約
15ml中に回収し、希HClで中和した。これを乾燥するま
で濃縮した。残渣をエーテルで温浸し、使用したエーテ
ルは溶解した。洗浄した生成物をエタノール中に回収し
たが、このときにNaClは除去される。溶液をCaH2によつ
て乾燥させた後に、溶剤を真空留去した。目的化合物が
無色固体として74%収率で得られた。
m-1,νCH:1440cm-1,δCH;1410cm1,δCHSiCH2‐;77
0と770cm1,C-BrとCH2 1 H‐NMR(CDCl3):1.30(q,Si-CH2‐,2H),2.07(m,-CH
2-CH2-CH2‐,2H),3.45(t,-CH2‐Br,2H) MS:219(99%,M-(CH2)3Br),177(100%,SiBrCl2) C6H12Br2Cl2Si(343.0)理論値 C21.01 H3.53 実験値 C20.64 H3.62 2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-ブロモプロピル)シク
ロテトラシロキサン 冷却器と滴下ロートを装備した250ml-3首フラスコに、
酢酸メチル55ml中ZnO6.7g(80mmol)の懸濁液を装入し
た。次に、酢酸メチル30mlに溶かした前記化合物10g(3
0mmol)を攪拌しながら滴加した。2時間還流沸とうさ
せた後、ベンゼン50mlを加えた。冷却した溶液を吸引
過し、水50mlずつで2回洗浄した。有機相にエタノール
約80mlを混合し、Na2SO4によつて乾燥させた。溶剤を留
去した後に、目的化合物が高粘性の無色油状物として残
留した:13.1g(=22)。1 H‐NMR(CD3‐CO-CO3):0.83(q,Si-CH2‐,2H),1.9
(m,-CH2‐CH2‐CH2Br,2H),3.5(t,-CH2‐Br,2H) C24H48Br8O4Si(1120.3)理論値:C25.02 H4.20 実験値:C23.83 H4.17 2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-アセトオキシプロピ
ル)シクロテトラシロキサン(25) 氷酢酸30ml中酢酸カリウム20g(20mmol)の沸とうする
溶液中に、前記化合物15.3g(13mmol)を滴加した。24
時間還流沸とうさせた後に、析出したKBrを吸引過
し、氷酢酸を真空留去した。残渣をエーテルで回収した
が、このときに酢酸カリウムが残留した。これをエーテ
ル25mlずつで3回洗浄した。エーテル溶液を一緒にし
て、室温において真空濃縮したところ、目的化合物が黄
色の粘性液状物質として得られた。収率81%。1 H‐NMR(C2D5‐OD):0.66(t,Si-CH2‐,2H),1.71(m,
-CH2‐CH2‐CH2‐2H),2.04(s,-CH3,3H),4,04(t,-CH
2‐CH2‐CH2‐O-,2H) MS:884(23%,M+‐CK2 3‐O-CO-CH3) C40H72O20Si4(985.3)理論値:C48.76 H7.37 実験値:C46.47 H7.19 2,2,4,4,6,6,8,8-オクタキス(3-ヒドロキシプロピル)
シクロテトラシロキサン(26) 100ml-3首フラスコに無水メタノール20ml中ナトリウム
0.18g(7.8mmol)の溶液を装入し、さらに無水メタノー
ル10ml中前記化合物2.63g(2.7mmol)の溶液を滴下し
た。この滴加中にすでに、形成されたメタノール‐酢酸
メチル‐共沸混合物が58〜62℃で留出した。残渣を水約
15ml中に回収し、希HClで中和した。これを乾燥するま
で濃縮した。残渣をエーテルで温浸し、使用したエーテ
ルは溶解した。洗浄した生成物をエタノール中に回収し
たが、このときにNaClは除去される。溶液をCaH2によつ
て乾燥させた後に、溶剤を真空留去した。目的化合物が
無色固体として74%収率で得られた。
IR(フイルム):3600〜3100cm-1,νCH;2940,2880c
m-1,νCH;1440cm-1,δCH‐CH2‐から;1415cm-1,δ
CHSi-CH2‐から;1150,1010cm-1,νCOH;1060cm-1(シ
クロテトラシロキサンとしてのSi-O-Si,デイ・エヌ・ケ
ンダール(D.N.Kendall),アプライド・インフラレツ
ド・スペクトロスコピイ(Applied Infrared Spectrosc
opy),Chapman&Hall Ltd.,ロンドン,1966年,51頁)1 H‐NMR(CD3‐OD):0.64(m,Si-CH2‐,2H),1.64(m,S
i-CH2‐CH2‐,2H),3.52(t,-CH2‐OH,2H),4.85(s,-O
H,1H) C24H56O12Si4(649.0)理論値:C44.47 H8.70 実験値:C43.08 H7.98 シリコーンゴム成形体の平衡化用溶剤としてはエーテル
が適しているが、このエーテルは平衡化誘導剤及びシリ
コーンゴム材料に対して不活性でなければならない。平
衡化誘導剤を適当な溶剤に溶解した。平衡化触媒を添加
した後に、成形体を溶液中で80℃〜110℃において緩慢
に攪拌した。平衡化した後に、使用した平衡化誘導剤に
応じて成形体を再び処理した。OH基含有の平衡化誘導剤
を用いた場合には、シリコーンゴム成形体を洗浄し乾燥
させた、または生理的食塩水中でコンジシヨニングし
た。ヒドロキシル基が保護された平衡化誘導剤を用いた
場合には、平衡化反応に続いてこの保護基を5%鉱酸に
よつて分割することができるまたはオキシラン環を開環
することができる。24時間水和した後、シリコーンゴム
成形体を乾燥もしくはコンジシヨニングさせた。
m-1,νCH;1440cm-1,δCH‐CH2‐から;1415cm-1,δ
CHSi-CH2‐から;1150,1010cm-1,νCOH;1060cm-1(シ
クロテトラシロキサンとしてのSi-O-Si,デイ・エヌ・ケ
ンダール(D.N.Kendall),アプライド・インフラレツ
ド・スペクトロスコピイ(Applied Infrared Spectrosc
opy),Chapman&Hall Ltd.,ロンドン,1966年,51頁)1 H‐NMR(CD3‐OD):0.64(m,Si-CH2‐,2H),1.64(m,S
i-CH2‐CH2‐,2H),3.52(t,-CH2‐OH,2H),4.85(s,-O
H,1H) C24H56O12Si4(649.0)理論値:C44.47 H8.70 実験値:C43.08 H7.98 シリコーンゴム成形体の平衡化用溶剤としてはエーテル
が適しているが、このエーテルは平衡化誘導剤及びシリ
コーンゴム材料に対して不活性でなければならない。平
衡化誘導剤を適当な溶剤に溶解した。平衡化触媒を添加
した後に、成形体を溶液中で80℃〜110℃において緩慢
に攪拌した。平衡化した後に、使用した平衡化誘導剤に
応じて成形体を再び処理した。OH基含有の平衡化誘導剤
を用いた場合には、シリコーンゴム成形体を洗浄し乾燥
させた、または生理的食塩水中でコンジシヨニングし
た。ヒドロキシル基が保護された平衡化誘導剤を用いた
場合には、平衡化反応に続いてこの保護基を5%鉱酸に
よつて分割することができるまたはオキシラン環を開環
することができる。24時間水和した後、シリコーンゴム
成形体を乾燥もしくはコンジシヨニングさせた。
実験部 平衡化誘導剤(1)〜(4)、(7)、(10)ならびに
(20)と(23)の説明は、「改良シリコーンゴム、光学
レンズ用材料としてのその用途、及びこの材料からのコ
ンタクトレンズ」という名称を有する、同時提出の特許
出願に記載されている。
(20)と(23)の説明は、「改良シリコーンゴム、光学
レンズ用材料としてのその用途、及びこの材料からのコ
ンタクトレンズ」という名称を有する、同時提出の特許
出願に記載されている。
ポリメチルヒドロシロキサンへのアリル化合物の付加 トリメチルシリル末端基含有ポリメチルヒドロシロキサ
ン10mmolをジオキサン200ml中に入れ、沸とうするまで
加熱した。ジエチレングリコールジメチルエーテル中1
重量%H2PtCl6溶液2mlを添加した後、供給した‐O-Si(C
H3)H単位につき当量のアリル化合物を攪拌しながら滴加
した。次に反応混合物を還流下で6時間攪拌し、溶液を
濃縮し、溶剤の残部と使用されなかつた付加成分を70
℃、0.1〜0.05hPaにおいて除去した。次に不溶な部分を
過によつて除去した。
ン10mmolをジオキサン200ml中に入れ、沸とうするまで
加熱した。ジエチレングリコールジメチルエーテル中1
重量%H2PtCl6溶液2mlを添加した後、供給した‐O-Si(C
H3)H単位につき当量のアリル化合物を攪拌しながら滴加
した。次に反応混合物を還流下で6時間攪拌し、溶液を
濃縮し、溶剤の残部と使用されなかつた付加成分を70
℃、0.1〜0.05hPaにおいて除去した。次に不溶な部分を
過によつて除去した。
α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリル)
ポリメチル‐(3-トリメチルシリルオキシプロピル)シ
ロキサン(8),n=約10。ポリメチルヒドロシロキサン
M-▲D1 n▼‐M(n=約10;ベイシロン油MH4)7.6g(10
mmol)とアリルオキシトリメチルシラン13.0g(100mmo
l)から 収率:19.4g(94.2%);▲η20 D▼:1,4350 C76H198O21Si22(2066.4) 理論値 C44.18 H9.66 実験値:C36.98 H8.21 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(3-トリメチルシリルオキシプロ
ピル)シロキサン〕(9,n約40)。
ポリメチル‐(3-トリメチルシリルオキシプロピル)シ
ロキサン(8),n=約10。ポリメチルヒドロシロキサン
M-▲D1 n▼‐M(n=約10;ベイシロン油MH4)7.6g(10
mmol)とアリルオキシトリメチルシラン13.0g(100mmo
l)から 収率:19.4g(94.2%);▲η20 D▼:1,4350 C76H198O21Si22(2066.4) 理論値 C44.18 H9.66 実験値:C36.98 H8.21 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(3-トリメチルシリルオキシプロ
ピル)シロキサン〕(9,n約40)。
ポリメチルヒドロシロキサンM-▲D1 n▼‐M(n約40;
ベイシロン油MH15)25.6g(10mmol)とアリルオキシト
リメチルシラン52.0g(400mmol)とから。収率:73.7g
(95%);▲η20 D▼:1.4370 C286H738O81Si82(7778.4) 理論値 C44.16 H9.56 実験値:C40.69 H8.59 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)シロキサン〕(13,n=約10) ポリメチルヒドロシロキサンM-▲D1 n▼‐M(n=約1
0;ベイシロン油MH4)7.6g(10mmol)と、アリルグリシ
ジルエーテル11.4g(100mmol)とから。収率:18.0g(9
4.7%);▲η20 D▼:1.4528 C76H158O31Si12(1905.2) 理論値 C47.91 H8.36 実験値:C47.41 H8.29 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)シロキサン〕(14,n=約40)。
ベイシロン油MH15)25.6g(10mmol)とアリルオキシト
リメチルシラン52.0g(400mmol)とから。収率:73.7g
(95%);▲η20 D▼:1.4370 C286H738O81Si82(7778.4) 理論値 C44.16 H9.56 実験値:C40.69 H8.59 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)シロキサン〕(13,n=約10) ポリメチルヒドロシロキサンM-▲D1 n▼‐M(n=約1
0;ベイシロン油MH4)7.6g(10mmol)と、アリルグリシ
ジルエーテル11.4g(100mmol)とから。収率:18.0g(9
4.7%);▲η20 D▼:1.4528 C76H158O31Si12(1905.2) 理論値 C47.91 H8.36 実験値:C47.41 H8.29 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)シロキサン〕(14,n=約40)。
ポリメチルヒドロシロキサンM-▲D1 n▼‐M(n約40;
ベイシロン油MH15)25.6g(10mmol)とアリルグリシジ
ルエーテル45.6g(400mmol)とから。収率:67.1g(94.2
%);▲η20 D▼:1.4611。
ベイシロン油MH15)25.6g(10mmol)とアリルグリシジ
ルエーテル45.6g(400mmol)とから。収率:67.1g(94.2
%);▲η20 D▼:1.4611。
C286H578O121Si42(7133.4) 理論値 C48.16 H8.17 実験値 C45.65 H8.00 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)シロキサン(15,n=約50) ポリメチルヒドロシロキサンM-▲D1 n▼‐M(n=約5
0,ベイシロン油MH20/30)31.6g(10mmol)とアリルグリ
シジルエーテル57.0g(500mmol)とから。収率:84.4g
(95.2%);▲η20 D▼:1.4622 C356H718O151Si52(8876.2) 理論値:C48.17 H8.15 実験値:C44.83 H7.94 化合物(8),(9)及び(13)〜(15)の加水分解 前記シロキサン化合物15mmolをクロロホルム100ml中に
入れ、5重量%塩酸200mlを加え、室温で12時間攪拌し
た。クロロホルム200mlを加えた後、さらに30分間攪拌
し、分液ロートに移し入れ、水層を分離した。有機層を
中性洗浄し、Na2SO4上で乾燥させ、回転蒸発器で濃縮し
た。溶剤の残部とトリメチルシラノールもしくはヘキサ
メチルジシロキサンの残部を0.1〜0.05hPaの真空下で除
去した。このときに温度は留去の終り近くに70℃まで上
昇した。
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)シロキサン(15,n=約50) ポリメチルヒドロシロキサンM-▲D1 n▼‐M(n=約5
0,ベイシロン油MH20/30)31.6g(10mmol)とアリルグリ
シジルエーテル57.0g(500mmol)とから。収率:84.4g
(95.2%);▲η20 D▼:1.4622 C356H718O151Si52(8876.2) 理論値:C48.17 H8.15 実験値:C44.83 H7.94 化合物(8),(9)及び(13)〜(15)の加水分解 前記シロキサン化合物15mmolをクロロホルム100ml中に
入れ、5重量%塩酸200mlを加え、室温で12時間攪拌し
た。クロロホルム200mlを加えた後、さらに30分間攪拌
し、分液ロートに移し入れ、水層を分離した。有機層を
中性洗浄し、Na2SO4上で乾燥させ、回転蒸発器で濃縮し
た。溶剤の残部とトリメチルシラノールもしくはヘキサ
メチルジシロキサンの残部を0.1〜0.05hPaの真空下で除
去した。このときに温度は留去の終り近くに70℃まで上
昇した。
α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(3-ヒドロキシプロピル)シロキ
サン〕(11,n=約10) (8)10.3g(5mmol)から。収率:6.6g(98.5%);▲
η20 D▼:1.4398 C46H118O21Si12(1344.5) 理論値:C41.09 H8.85 実験値:C35.78 H8.28 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ〕ポリ〔メチル‐(3-ヒドロキシプロピル)シロキ
サン〕(12,n=約40) 化合物(9)38.0g(5mmol)から。
キシ)ポリ〔メチル‐(3-ヒドロキシプロピル)シロキ
サン〕(11,n=約10) (8)10.3g(5mmol)から。収率:6.6g(98.5%);▲
η20 D▼:1.4398 C46H118O21Si12(1344.5) 理論値:C41.09 H8.85 実験値:C35.78 H8.28 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ〕ポリ〔メチル‐(3-ヒドロキシプロピル)シロキ
サン〕(12,n=約40) 化合物(9)38.0g(5mmol)から。
収率:24.0g(98.0%);▲η20 D▼:1.4420 C166H418O81Si42(4890.9) 理論値:C40.77 H8.61 実験値:C36.96 H8.63 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘ
プチル)シロキサン〕(16,n=約10) 化合物(13)9.5g(5mmol)から。
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘ
プチル)シロキサン〕(16,n=約10) 化合物(13)9.5g(5mmol)から。
収率:9.4g(90.4%);▲η20 D▼:1.4678 C76H187O41Si12(2085.3) 理論値:C43.77 H8.60 実験値:C38.90 H7.33 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘ
プチル)シロキサン〕(17,n=約40) 化合物(14)35.6g(5mmol)から。
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘ
プチル)シロキサン〕(17,n=約40) 化合物(14)35.6g(5mmol)から。
収率:38.0g(96.0%);▲η20 D▼:1.4755 C286H658O161Si42(7854.0) 理論値:C43.74 H8.44 実験値:C44.71 H7.98 α‐(トリメチルシリル)‐ω‐(トリメチルシリルオ
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘ
プチル)シロキサン〕(18,n=約50) 化合物(15)44.3g(5mmol)から 収率:45.4g(93.0%);▲η20 D▼:1.4729 C356H818O201Si52(9776.9) 理論値:C43.73 H8.43 実験値:C41.12 H7.70 2,4,6,8-テトラキス(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサン
(21) 攪拌機、滴下ロート、内部温度計及び冷却器を備えた25
0ml-3首フラスコ中に、アリルグリシジルエーテル57.1g
(0.5mmol)を入れ、110℃に加熱した。ジエチレングリ
コール‐ジメチルエーテル中1重量%H2PtCl6溶液1mlを
添加した後に、強く攪拌しながら2,4,6,8-テトラメチル
シクロテトラシロキサン24.0g(0.1mol)を非常に迅速
に添加した、このときに内部温度は195℃に上昇した。
2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサンを添加し
た後に、反応生成物の温度が130℃に低下するまで、さ
らに攪拌した。アリルグリシジルエーテルと2,4,6,8-テ
トラメチルシクロテトラシロキサンの未反応部分を0.1h
Paのオイルポンプ真空下、60〜70℃において反応混合物
を攪拌することによつて除去した。淡黄色粗生成物(7
7.8%);▲η20 D▼:1.4633に対して、充てん塔による
分別真空蒸留を行つた。この化合物は約335℃、1hPaに
おいて透明な粘性溶液として留出し、大部分は重合物で
あつた。▲η20 D▼=1.4668。
キシ)ポリ〔メチル‐(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘ
プチル)シロキサン〕(18,n=約50) 化合物(15)44.3g(5mmol)から 収率:45.4g(93.0%);▲η20 D▼:1.4729 C356H818O201Si52(9776.9) 理論値:C43.73 H8.43 実験値:C41.12 H7.70 2,4,6,8-テトラキス(6,7-エポキシ‐4-オキサヘプチ
ル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサン
(21) 攪拌機、滴下ロート、内部温度計及び冷却器を備えた25
0ml-3首フラスコ中に、アリルグリシジルエーテル57.1g
(0.5mmol)を入れ、110℃に加熱した。ジエチレングリ
コール‐ジメチルエーテル中1重量%H2PtCl6溶液1mlを
添加した後に、強く攪拌しながら2,4,6,8-テトラメチル
シクロテトラシロキサン24.0g(0.1mol)を非常に迅速
に添加した、このときに内部温度は195℃に上昇した。
2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサンを添加し
た後に、反応生成物の温度が130℃に低下するまで、さ
らに攪拌した。アリルグリシジルエーテルと2,4,6,8-テ
トラメチルシクロテトラシロキサンの未反応部分を0.1h
Paのオイルポンプ真空下、60〜70℃において反応混合物
を攪拌することによつて除去した。淡黄色粗生成物(7
7.8%);▲η20 D▼:1.4633に対して、充てん塔による
分別真空蒸留を行つた。この化合物は約335℃、1hPaに
おいて透明な粘性溶液として留出し、大部分は重合物で
あつた。▲η20 D▼=1.4668。
IR(Film):3060(m;OCH),1110(s;C-O-C)と1060cm-1
(vs;Si-O-Si) MS:m/z333(M-C14H28O7Si2)+ (4);318(M-C14H28O7Si2-
CH3)+ (4);202(C7H14O3Si2)+(21);101(CH2-CH2-O-
CH2-CH-CH2-O)+(41);85(C2H5OSi2)+(100)。1 H NMR(CDCl3):δ=0.08(s;Si-CH3,12H〕,0.42(m,
Si-CH2‐,8H),1.50(m,-CH2-CH 2-CH2,8H), 2.78(t; 3.34(m;-CH2-CH2‐O,4H),3,40(m; ‐O-CH2‐CH,4
H),3.66(q;-O-CH2‐CH,4H) C28H56O12Si4(697.1)理論値:C48.24 H8.10 実験値:C47.47 H8.03 2,4,6,8-テトラキス(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘプ
チル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサン
(24) 化合物(21)14g(20mmol)に5重量%塩酸50mlを加
え、室温で24時間攪拌し、分液ロートに移し入れ、エー
テル100mlを加えて、有機層の水層からの分離を促進さ
せた。両層が分離した後に、水層をエーテル50mlずつで
さらに2回抽出した。エーテル層を一緒にし、蒸留水に
よつて酸を含まないように洗浄し、Na2SO4上で乾燥させ
た。溶剤の大部分は回転蒸発器において除去され、残り
の部分は0.3hPaのオイルポンプにおいて攪拌しながら除
去した。
(vs;Si-O-Si) MS:m/z333(M-C14H28O7Si2)+ (4);318(M-C14H28O7Si2-
CH3)+ (4);202(C7H14O3Si2)+(21);101(CH2-CH2-O-
CH2-CH-CH2-O)+(41);85(C2H5OSi2)+(100)。1 H NMR(CDCl3):δ=0.08(s;Si-CH3,12H〕,0.42(m,
Si-CH2‐,8H),1.50(m,-CH2-CH 2-CH2,8H), 2.78(t; 3.34(m;-CH2-CH2‐O,4H),3,40(m; ‐O-CH2‐CH,4
H),3.66(q;-O-CH2‐CH,4H) C28H56O12Si4(697.1)理論値:C48.24 H8.10 実験値:C47.47 H8.03 2,4,6,8-テトラキス(6,7-ジヒドロキシ‐4-オキサヘプ
チル)‐2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサン
(24) 化合物(21)14g(20mmol)に5重量%塩酸50mlを加
え、室温で24時間攪拌し、分液ロートに移し入れ、エー
テル100mlを加えて、有機層の水層からの分離を促進さ
せた。両層が分離した後に、水層をエーテル50mlずつで
さらに2回抽出した。エーテル層を一緒にし、蒸留水に
よつて酸を含まないように洗浄し、Na2SO4上で乾燥させ
た。溶剤の大部分は回転蒸発器において除去され、残り
の部分は0.3hPaのオイルポンプにおいて攪拌しながら除
去した。
G-4フリツト上での吸引過後に、化合物(24)が透
明、粘性液体として得られた。
明、粘性液体として得られた。
収率:14.8g(96.2%);▲η20 D▼=1.4705 IR(Film):3450(m;-OH),1115(vs;C-O-C)と1085cm
-1(vs;Si-O-Si) MS:m/z384(M-C14H32O8Si2)+(6);369(M-C14H32O8S
i2,-CH3)+(8);192(C7H17O4Si)+(30);133(C6H
13O3)+(100)1 H NMR(CDCl3):δ=0.08(s;Si-CH3,12H),0.50(m,
Si-CH2‐,8H),1.58(m,-CH 2-CH2-CH2‐,8H),3.0(s;-
CH-OH,4H),3.49(d;-O-CH 2‐CH,8H),3.54(m;-CH2‐
OH,4H),3.56(m;-CH 2‐OH,8H),3.94(m;-CH‐OH,4
H) C28H64O16Si4(769.6)理論値:C43.72 H8.39 実験値:C43.30 H8.12 2,4,6,8-テトラキス(3-アセトキシプロピル)‐2,4,6,
8-テトラメチルシクロテトラシロキサン(22) 酢酸アリルエステル40g(0.4mol)とジエチレングリコ
ールジエチルエーテル中1重量%H2PtCl6溶液1mlとを50
℃に加熱した。次にDH4 24g(0.1mol)を滴加すると、
温度は100℃に上昇した。添加が終了した後に、さらに2
0時間60℃で攪拌した。次に反応溶液を真空蒸留する
と、化合物(22)が122〜125℃,1.6hPaにおいて粘性な
透明液体として留出した。
-1(vs;Si-O-Si) MS:m/z384(M-C14H32O8Si2)+(6);369(M-C14H32O8S
i2,-CH3)+(8);192(C7H17O4Si)+(30);133(C6H
13O3)+(100)1 H NMR(CDCl3):δ=0.08(s;Si-CH3,12H),0.50(m,
Si-CH2‐,8H),1.58(m,-CH 2-CH2-CH2‐,8H),3.0(s;-
CH-OH,4H),3.49(d;-O-CH 2‐CH,8H),3.54(m;-CH2‐
OH,4H),3.56(m;-CH 2‐OH,8H),3.94(m;-CH‐OH,4
H) C28H64O16Si4(769.6)理論値:C43.72 H8.39 実験値:C43.30 H8.12 2,4,6,8-テトラキス(3-アセトキシプロピル)‐2,4,6,
8-テトラメチルシクロテトラシロキサン(22) 酢酸アリルエステル40g(0.4mol)とジエチレングリコ
ールジエチルエーテル中1重量%H2PtCl6溶液1mlとを50
℃に加熱した。次にDH4 24g(0.1mol)を滴加すると、
温度は100℃に上昇した。添加が終了した後に、さらに2
0時間60℃で攪拌した。次に反応溶液を真空蒸留する
と、化合物(22)が122〜125℃,1.6hPaにおいて粘性な
透明液体として留出した。
収率:64.0g(100%);▲η20 D▼=1.4120 IR(フイルム):1745(vs:>C=O),1080(vs:Si-O-S
i)及び805cm-1(Si-CH3) MS:m/z641(M+)(2);439(M-2C5H9O2)+(81);338
(M-3C5H9O2)+(75);43(CH3CO)+(100)1 H NMR(CCl4):δ=0.13(s;Si-CH3,12H),0.55(m,S
i-CH2‐,8H),1.60(m;-CH2-CH 2-CH2‐,8H),2.0(s;-C
H3‐CO-,12H),4.00(t;-CH2‐O-,8H) C24H48O12Si4(641.0)理論値:C44.92 H7.50 実験値:C44.47 H7.35 シリコーンゴム成形体の平衡化における一般的工程(F
1)〜(F8) 加熱架橋または常温架橋し、抽出したホイル状のシリコ
ーンゴム成形体を有機エーテル中で、平衡化試薬及び触
媒とともに緩慢に攪拌した。使用した溶剤、平衡化要素
及びその濃度、触媒濃度、平衡化期間及び反応温度は下
記の表1から明らかである。表1は、酸素透過性の高い
親水性フイルム製造の特定の例を含むものである。反応
終了後に、このホイルをエーテル/アセトンで洗浄し、
次に蒸留水中において室温で24時間攪拌し、続いて80℃
において乾燥させた。
i)及び805cm-1(Si-CH3) MS:m/z641(M+)(2);439(M-2C5H9O2)+(81);338
(M-3C5H9O2)+(75);43(CH3CO)+(100)1 H NMR(CCl4):δ=0.13(s;Si-CH3,12H),0.55(m,S
i-CH2‐,8H),1.60(m;-CH2-CH 2-CH2‐,8H),2.0(s;-C
H3‐CO-,12H),4.00(t;-CH2‐O-,8H) C24H48O12Si4(641.0)理論値:C44.92 H7.50 実験値:C44.47 H7.35 シリコーンゴム成形体の平衡化における一般的工程(F
1)〜(F8) 加熱架橋または常温架橋し、抽出したホイル状のシリコ
ーンゴム成形体を有機エーテル中で、平衡化試薬及び触
媒とともに緩慢に攪拌した。使用した溶剤、平衡化要素
及びその濃度、触媒濃度、平衡化期間及び反応温度は下
記の表1から明らかである。表1は、酸素透過性の高い
親水性フイルム製造の特定の例を含むものである。反応
終了後に、このホイルをエーテル/アセトンで洗浄し、
次に蒸留水中において室温で24時間攪拌し、続いて80℃
において乾燥させた。
平衡化試薬として、例えば化合物(21)のような、OH-
保護化合物を用いる場合には、先ず第一に上述のように
処理した。しかし、エーテル/アセトンで洗浄した後
に、このように処理したホイルを蒸留水で短時間洗浄
し、次に室温において3重量%塩酸とともに24時間攪拌
し、水に蒸留水で洗浄し、さらに室温において24時間水
に漬けてから、80℃において乾燥させた。
保護化合物を用いる場合には、先ず第一に上述のように
処理した。しかし、エーテル/アセトンで洗浄した後
に、このように処理したホイルを蒸留水で短時間洗浄
し、次に室温において3重量%塩酸とともに24時間攪拌
し、水に蒸留水で洗浄し、さらに室温において24時間水
に漬けてから、80℃において乾燥させた。
結果の考察 線状平衡化試薬(7)〜(18)のスペクトル 化合物(7)〜(18)のIR-スペクトルは1260cm-1(δ:
Si-CH3)、1050cm-1(v:Si-O-Si)及び800cm-1(ν;Si-
CH3)においてシロキサン骨格に典型的な振動を示し
た。2170cm-1におけるSi-H結合の伸縮振動帯は出発物質
に反してもはや認められず、この代りに2800〜30000cm
-1の領域に帯数の増加が認められ、これらの帯はメチレ
ン基の対称的及び非対称的伸縮振動及びメチル基の対称
的な伸縮振動を割り当てることのできるものであつた。
加水分解した付加生成物(11),(12),(16),(17)及び
(18)は3400cm-1にOH伸縮振動の幅広い吸収帯を示す。1 H NMRスペクトルはδ約0.1ppmにシロキサン部分に対す
る予想シグナルを示す。有機残基のプロトンに対するシ
グナルは予想された化学シフトを示した。
Si-CH3)、1050cm-1(v:Si-O-Si)及び800cm-1(ν;Si-
CH3)においてシロキサン骨格に典型的な振動を示し
た。2170cm-1におけるSi-H結合の伸縮振動帯は出発物質
に反してもはや認められず、この代りに2800〜30000cm
-1の領域に帯数の増加が認められ、これらの帯はメチレ
ン基の対称的及び非対称的伸縮振動及びメチル基の対称
的な伸縮振動を割り当てることのできるものであつた。
加水分解した付加生成物(11),(12),(16),(17)及び
(18)は3400cm-1にOH伸縮振動の幅広い吸収帯を示す。1 H NMRスペクトルはδ約0.1ppmにシロキサン部分に対す
る予想シグナルを示す。有機残基のプロトンに対するシ
グナルは予想された化学シフトを示した。
平衡化ホイルのFMIR-IR-スペクトル エヌ・ジエイ・ハリツク(N・J・Harrick)〔ジエイ
・フイジク・ケム(J・Physik Chem.)64巻,1110頁(1
960年)〕とジエイ・フアーレンホルト(J・Fahrenfor
t)〔スペクトロケム・アクタ(Spectrochem.Acta)17
巻,698頁(1961年)〕は強く吸光する物質に対して、云
わゆるATR-IR-吸収テクニツク〔総反射の減衰(Altenua
ted Total Reflectante)〕を述べている。特定のサン
プル‐結晶配置では、数倍の反射イオンが生ずる。この
方法はFMIR-IR-分光測光法〔多重内部反射の干渉(Frus
trated Multiple Internal Reflection)〕と呼ばれて
いる。吸収帯の位置に関しては、FMIR-IR-スペクトルと
透過スペクトルを互いに比較することができる。平衡化
したホイルを検討するために、2700〜3800cm-1の波数領
域を考慮した。この場合に長波長領域では浸透深さが増
大するので、表面性状を比較することも十分に可能であ
る。未処理ホイルは2700〜3800cm-1領域にメチル基のC
−H−振動を割当てることのできる2つの吸収帯を示す
(νs:2960cm-1;νas:2900cm-1)。
・フイジク・ケム(J・Physik Chem.)64巻,1110頁(1
960年)〕とジエイ・フアーレンホルト(J・Fahrenfor
t)〔スペクトロケム・アクタ(Spectrochem.Acta)17
巻,698頁(1961年)〕は強く吸光する物質に対して、云
わゆるATR-IR-吸収テクニツク〔総反射の減衰(Altenua
ted Total Reflectante)〕を述べている。特定のサン
プル‐結晶配置では、数倍の反射イオンが生ずる。この
方法はFMIR-IR-分光測光法〔多重内部反射の干渉(Frus
trated Multiple Internal Reflection)〕と呼ばれて
いる。吸収帯の位置に関しては、FMIR-IR-スペクトルと
透過スペクトルを互いに比較することができる。平衡化
したホイルを検討するために、2700〜3800cm-1の波数領
域を考慮した。この場合に長波長領域では浸透深さが増
大するので、表面性状を比較することも十分に可能であ
る。未処理ホイルは2700〜3800cm-1領域にメチル基のC
−H−振動を割当てることのできる2つの吸収帯を示す
(νs:2960cm-1;νas:2900cm-1)。
平衡化したホイルのスペクトルは3300〜3400cm-1領域に
種々な強度の顕著なOH-伸縮吸収帯を示す。さらに、約2
880cm-1に付加的に生じた−CHフラグメントの対称的な
振動が認められる。平衡化誘導剤として線状シロキサン
を用いた場合には、短鎖化合物(1)〜(6)ではシロキサン
(7)〜(18)よりも高い吸収帯強度が認められる。シロキ
サン(7)〜(18)の中では、シロキサン(8)によつての
み良好な吸収帯強度が得られるにすぎない。残りの処理
したホイルのFMIR-IR-スペクトルは未処理サンプルに比
べて殆んど差異を有さない。環状テトラシロキサンを用
いた場合に最大のOH-吸収帯強度が得られた、この場合
には100℃において4時間、シロキサン使用量に関して
1重量%の触媒濃度において平衡化したホイルが、最も
強いOH-及び‐CH2‐吸収帯強度の増加を示した。
種々な強度の顕著なOH-伸縮吸収帯を示す。さらに、約2
880cm-1に付加的に生じた−CHフラグメントの対称的な
振動が認められる。平衡化誘導剤として線状シロキサン
を用いた場合には、短鎖化合物(1)〜(6)ではシロキサン
(7)〜(18)よりも高い吸収帯強度が認められる。シロキ
サン(7)〜(18)の中では、シロキサン(8)によつての
み良好な吸収帯強度が得られるにすぎない。残りの処理
したホイルのFMIR-IR-スペクトルは未処理サンプルに比
べて殆んど差異を有さない。環状テトラシロキサンを用
いた場合に最大のOH-吸収帯強度が得られた、この場合
には100℃において4時間、シロキサン使用量に関して
1重量%の触媒濃度において平衡化したホイルが、最も
強いOH-及び‐CH2‐吸収帯強度の増加を示した。
平衡化したシリコーンゴムホイルの酸素透過性 Schema Versataeの酸素フラツクスメーターを用いて、
平衡化したシリコーンゴムホイルの酸素透過性を測定し
た。平衡化したホイルの酸素透過性は未処理ホイル(F
O)に比べて本質的な差を示さない。シリコーンゴム材
料の酸素透過性は厚さ〔エフ・ジエイ・ハーバーリツヒ
(F・J・Haberich)による第12回Aschaffenburgerコ
ンタクトレンズ会議(1979年3月22〜24日)の研究報告
集、16頁)に依存するので、表2には酸素透過性Pの他
に、透過度Tと酸素流量Jも記載する。化合物(7)〜
(18)によつて平衡化したホイルはFMIR-IR-スペクトル
において全く変化を示さないかまたはごくわずかな変化
を示したにすぎない。従つて、これからは酸素透過性は
測定されなかつた。
平衡化したシリコーンゴムホイルの酸素透過性を測定し
た。平衡化したホイルの酸素透過性は未処理ホイル(F
O)に比べて本質的な差を示さない。シリコーンゴム材
料の酸素透過性は厚さ〔エフ・ジエイ・ハーバーリツヒ
(F・J・Haberich)による第12回Aschaffenburgerコ
ンタクトレンズ会議(1979年3月22〜24日)の研究報告
集、16頁)に依存するので、表2には酸素透過性Pの他
に、透過度Tと酸素流量Jも記載する。化合物(7)〜
(18)によつて平衡化したホイルはFMIR-IR-スペクトル
において全く変化を示さないかまたはごくわずかな変化
を示したにすぎない。従つて、これからは酸素透過性は
測定されなかつた。
平衡化シリコーンゴムの接触角 接触角はシリコーンゴムホイルの濡れやすさを表す特徴
的な値である。未処理シリコーンホイルは約85度の接触
角を有する。親水性材料は66度よりも小さい接触角を有
する〔シエツチ・エフ・クライナー(CH・F・Kreine
r)による「コンタクトレンズの化学(Kontaktlinsench
emie)」Median出版ハイデルベルグ、1980年、84頁参
照〕。表2に記載した特定のシリコーンゴムホイルの接
触角は全て本質的に小さい値である、すなわち、これら
は相対的に良好な濡れやすさを有する。このことはコン
タクトレンズに使用する材料にとつて、必要なことであ
る。
的な値である。未処理シリコーンホイルは約85度の接触
角を有する。親水性材料は66度よりも小さい接触角を有
する〔シエツチ・エフ・クライナー(CH・F・Kreine
r)による「コンタクトレンズの化学(Kontaktlinsench
emie)」Median出版ハイデルベルグ、1980年、84頁参
照〕。表2に記載した特定のシリコーンゴムホイルの接
触角は全て本質的に小さい値である、すなわち、これら
は相対的に良好な濡れやすさを有する。このことはコン
タクトレンズに使用する材料にとつて、必要なことであ
る。
平衡化シリコーンゴムホイルの水分含量 水分含量はジー・コスメール(G・Kosmehl),エヌ・
クラウス(N・Klaus)、エツチ・シエーフアー(H・S
chafer)のアンゲウ・マクロモル・ケル(Angew.Makrom
al.Chem.)123〜124,241頁(1984年)に記載された方法
によつて測定した。表面においてのみ親水性化したシリ
コーン材料は、シリコーンゴムに予想されるような、ご
くわずかな吸水性を示すにすぎない。この値は表2に記
載した特定のホイルでは2件を例外として2重量%以下
である。
クラウス(N・Klaus)、エツチ・シエーフアー(H・S
chafer)のアンゲウ・マクロモル・ケル(Angew.Makrom
al.Chem.)123〜124,241頁(1984年)に記載された方法
によつて測定した。表面においてのみ親水性化したシリ
コーン材料は、シリコーンゴムに予想されるような、ご
くわずかな吸水性を示すにすぎない。この値は表2に記
載した特定のホイルでは2件を例外として2重量%以下
である。
コンタクトレンズ材料としての利用可能性 OH末端基を有するオルガノシロキサンと、前記方法によ
る、市販のシリコーンゴムホイルとのその平衡化はシリ
コーンゴムホイルの酸素透過性が本質的に減少しないこ
とを実証した。酸素透過性の測定値から、この物質をコ
ンタクトレンズ材料として使用するために、充分すぎる
ほどの酸素が物質を通つて運ばれることが認められる。
シリコーン材料の高度な疏水性は表面変化によつて、も
はや表面透過性材料といえるほどにまで低下する。シリ
コーンゴムホイルの水分含量は未処理シリコーン材料が
有するような値である。このように処理したシリコーン
ゴムホイルは依然としてガラス様透明性であり、コンタ
クトレンズ材料として最も適切である。
る、市販のシリコーンゴムホイルとのその平衡化はシリ
コーンゴムホイルの酸素透過性が本質的に減少しないこ
とを実証した。酸素透過性の測定値から、この物質をコ
ンタクトレンズ材料として使用するために、充分すぎる
ほどの酸素が物質を通つて運ばれることが認められる。
シリコーン材料の高度な疏水性は表面変化によつて、も
はや表面透過性材料といえるほどにまで低下する。シリ
コーンゴムホイルの水分含量は未処理シリコーン材料が
有するような値である。このように処理したシリコーン
ゴムホイルは依然としてガラス様透明性であり、コンタ
クトレンズ材料として最も適切である。
シリコーンゴム成形体、特にコンタクトレンズもしくは
眼内レンズに、次にプラズマ放電を用いたプラズマ重合
による表面処理を行うことができる。プラズマ放電は、
平衡化反応の際に存在する化合物を含むような雰囲気中
で実施することができる。プラズマ放電は直流下または
交流電磁界で実施することができる。5〜500mAの電流
及び100〜1000ボルトの電圧において、プラズマ放電を
行うのが好ましい。反応器内でプラズマ重合を実施する
場合、一般に10-1〜10-3トルの真空が用いられる。
眼内レンズに、次にプラズマ放電を用いたプラズマ重合
による表面処理を行うことができる。プラズマ放電は、
平衡化反応の際に存在する化合物を含むような雰囲気中
で実施することができる。プラズマ放電は直流下または
交流電磁界で実施することができる。5〜500mAの電流
及び100〜1000ボルトの電圧において、プラズマ放電を
行うのが好ましい。反応器内でプラズマ重合を実施する
場合、一般に10-1〜10-3トルの真空が用いられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンドレア・フルートヴェーデル ドイツ連邦共和国 1000 ベルリン 10, ノルトハウザーシュトラーセ 39 (56)参考文献 特開 昭56−117214(JP,A)
Claims (16)
- 【請求項1】シリコーンゴム成形体表面をオルガノシロ
キサンと反応(平衡化反応)させることからなる、シリ
コーンゴム成形体表面を親水性化する方法であって、反
応に用いる該オルガノシロキサンを、Si−H基含有シロ
キサンと、OH基が保護されたアリルオキシ化合物との反
応によって製造し、場合によっては、次いでこの反応生
成物を加水分解することを特徴とする方法。 - 【請求項2】オルガノシロキサンが、α,ω−オルガノ
ジメチルシロキサン、線状トリメチルシリル末端基含有
オルガノメチルシロキサン、環状オルガノメチルシロキ
サン及び環状ジオルガノシロキサンよりなる群から選択
した1種類以上の化合物である、特許請求の範囲1項記
載の方法。 - 【請求項3】線状α,ω−オルガノジメチルシロキサン
が、1,3−ビス(3−トリメチルシリルオキシプロピ
ル)−1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサン、1,3−ビ
ス(3−ヒドロキシプロピル)−1,1,3,3−テトラメチ
ル−ジシロキサン、3,5−ビス(3−トリメチルシリル
オキシプロピル)−1,1,1,3,5,7,7,7−オクタメチルテ
トラシロキサン、3,5−ビス(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1,1,1,3,5,7,7,7−オクタメチルテトラシロキサ
ン、1,3−ビス(6,7−エポキシ−4−オキサヘプチル)
−1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサン、1,3−ビス
(6,7−ジヒドロキシ−5−オキサヘプチル)1,1,3,3−
テトラメチル−ジシロキサンよりなる群から選択した1
種類以上の化合物である、特許請求の範囲2項記載の方
法。 - 【請求項4】線状トリメチルシリル末端基含有オルガノ
メチルシロキサンが、アリルオキシトリメチルシランま
たはアリルグリシジルエーテルと、次の一般式: (式中、nは2または10〜50である)を有するポリメチ
ルヒドロゲンシロキサンとから得られる、次の一般式: (式中、Rは−OSi(CH3)3または である)を有する付加生成物であるか、またはその加水
分解生成物である、Rが−OHまたは−O−CH2−CH(O
H)−CH2−OHである化合物である特許請求の範囲2項記
載の方法。 - 【請求項5】環状オルガノメチルシロキサンまたは環状
ジオルガノシロキサンが、2,4,6,8−テトラキス(3−
トリメチルシリルオキシプロピル)−2,4,6,8−テトラ
メチルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラキス
(6,7−エポキシ−4−オキサヘプチル)−2,4,6,8−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラ
キス(3−アセトキシプロピル)−2,4,6,8−テトラメ
チルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラキス
(3−ヒドロキシプロピル)−2,4,6,8−テトラメチル
シクロテトラシロキサン、2,4,6,8−テトラキス(6,7−
ジヒドロキシ−4−オキサヘプチル)−2,4,6,8−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン及び2,2,4,4,6,6,8,8
−オクタキス(3−ヒドロキシプロピル)シクロテトラ
シロキサンよりなる群から選択した1種類以上の化合物
である、特許請求の範囲2項記載の方法。 - 【請求項6】平衡化反応を、触媒の存在下で行う特許請
求の範囲1〜5項のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項7】平衡化触媒が、ルイス酸または濃硫酸であ
る特許請求の範囲6項記載の方法。 - 【請求項8】ルイス酸が、ヘキサクロロシクロトリホス
ファゼンである特許請求の範囲7項記載の方法。 - 【請求項9】平衡化反応を、溶剤としてのエーテル中で
行う特許請求の範囲6〜8のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項10】Si−H基含有シロキサンとOH基が保護さ
れたアリルオキシ化合物との反応を、触媒としてのH2Pt
Cl6の存在下で行う特許請求の範囲1項記載の方法。 - 【請求項11】シリコーンゴムが、ポリジメチルシロキ
サンである特許請求の範囲1〜10項のいずれか1項記載
の方法。 - 【請求項12】平衡化反応の際に存在する化合物を含む
雰囲気下で、プラズマ放電を用いるプラズマ重合によっ
て表面処理を行う特許請求の範囲1〜11項のいずれか1
項記載の方法。 - 【請求項13】プラズマ放電を、直流下で行う特許請求
の範囲12項記載の方法。 - 【請求項14】プラズマ放電を、交流電磁界で行う特許
請求の範囲12又は13項記載の方法。 - 【請求項15】プラズマ放電を、5〜500ミリアンペア
の電流及び100〜1000ボルトの電圧において行う特許請
求の範囲12〜14項のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項16】プラズマ重合を、10-1〜10-3トルの真空
下で行う特許請求の範囲12〜15項のいずれか1項記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3517615.6 | 1985-05-15 | ||
DE19853517615 DE3517615A1 (de) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | Hydrophiler siliconkautschukkoerper und verfahren zu seiner herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61293226A JPS61293226A (ja) | 1986-12-24 |
JPH07107105B2 true JPH07107105B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=6270871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61111772A Expired - Lifetime JPH07107105B2 (ja) | 1985-05-15 | 1986-05-15 | シリコーンゴム成形体表面を親水性化する方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4920184A (ja) |
EP (1) | EP0202594B1 (ja) |
JP (1) | JPH07107105B2 (ja) |
CA (1) | CA1275534C (ja) |
DE (2) | DE3517615A1 (ja) |
HK (1) | HK11695A (ja) |
SG (1) | SG167494G (ja) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5712327A (en) * | 1987-01-07 | 1998-01-27 | Chang; Sing-Hsiung | Soft gas permeable contact lens having improved clinical performance |
JP2739211B2 (ja) * | 1988-08-01 | 1998-04-15 | チッソ株式会社 | オルガノシロキサン化合物 |
DE3830592A1 (de) * | 1988-09-08 | 1990-04-12 | Consortium Elektrochem Ind | (meth)acryloxygruppen enthaltende fluessigkristalline polyorganosiloxane |
WO1991004283A1 (en) * | 1989-09-14 | 1991-04-04 | Chang Sing Hsiung | Soft gas permeable contact lens having improved clinical performance |
JP2613124B2 (ja) * | 1990-08-30 | 1997-05-21 | 花王株式会社 | 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料 |
US5397848A (en) * | 1991-04-25 | 1995-03-14 | Allergan, Inc. | Enhancing the hydrophilicity of silicone polymers |
US7468398B2 (en) * | 1994-09-06 | 2008-12-23 | Ciba Vision Corporation | Extended wear ophthalmic lens |
US5760100B1 (en) | 1994-09-06 | 2000-11-14 | Ciba Vision Corp | Extended wear ophthalmic lens |
CN1132050C (zh) | 1997-07-25 | 2003-12-24 | 精工爱普生株式会社 | 显示装置及使用它的电子机器 |
US7461937B2 (en) * | 2001-09-10 | 2008-12-09 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Soft contact lenses displaying superior on-eye comfort |
US6367929B1 (en) | 1998-03-02 | 2002-04-09 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Hydrogel with internal wetting agent |
US20070043140A1 (en) * | 1998-03-02 | 2007-02-22 | Lorenz Kathrine O | Method for the mitigation of symptoms of contact lens related dry eye |
US6943203B2 (en) | 1998-03-02 | 2005-09-13 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Soft contact lenses |
US6500481B1 (en) | 1998-06-11 | 2002-12-31 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Biomedical devices with amid-containing coatings |
US6478423B1 (en) | 1999-10-12 | 2002-11-12 | Johnson & Johnson Vison Care, Inc. | Contact lens coating selection and manufacturing process |
JP4438162B2 (ja) * | 2000-02-24 | 2010-03-24 | 東レ株式会社 | 眼用レンズ用ポリマーの製造法および眼用レンズ |
US6861123B2 (en) * | 2000-12-01 | 2005-03-01 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Silicone hydrogel contact lens |
US20040213827A1 (en) * | 2000-12-21 | 2004-10-28 | Enns John B. | Antimicrobial contact lenses and methods for their production |
DE60143171D1 (de) * | 2001-08-17 | 2010-11-11 | Johnson & Johnson Vision Care | Verfahren zur herstellung eines polymers für eine augenoptische linse und augenoptische linse |
US7173073B2 (en) * | 2002-01-14 | 2007-02-06 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Ophthalmic devices containing heterocyclic compounds and methods for their production |
US6846892B2 (en) * | 2002-03-11 | 2005-01-25 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Low polydispersity poly-HEMA compositions |
US20060100408A1 (en) * | 2002-03-11 | 2006-05-11 | Powell P M | Method for forming contact lenses comprising therapeutic agents |
US6918987B2 (en) * | 2003-02-07 | 2005-07-19 | Lord Corporation | Surface preparation of rubber for coatings or bonding |
US20090111905A1 (en) * | 2007-10-31 | 2009-04-30 | Ture Kindt-Larsen | Process for forming random (meth)acrylate containing prepolymers |
SI2461767T1 (sl) | 2010-07-30 | 2013-08-30 | Novartis Ag | Silikonske hidrogelne leče s površinami, bogatimi z vodo |
AU2012277738A1 (en) | 2011-06-30 | 2014-01-16 | Dsm Ip Assets B.V. | Silicone-containing monomer |
SG11201400228WA (en) | 2011-10-12 | 2014-05-29 | Novartis Ag | Method for making uv-absorbing ophthalmic lenses by coating |
SG11201504763UA (en) | 2012-12-17 | 2015-07-30 | Novartis Ag | Method for making improved uv-absorbing ophthalmic lenses |
WO2015095157A1 (en) | 2013-12-17 | 2015-06-25 | Novartis Ag | A silicone hydrogel lens with a crosslinked hydrophilic coating |
US11002884B2 (en) | 2014-08-26 | 2021-05-11 | Alcon Inc. | Method for applying stable coating on silicone hydrogel contact lenses |
SG11201803726VA (en) | 2015-12-15 | 2018-06-28 | Novartis Ag | Method for applying stable coating on silicone hydrogel contact lenses |
EP3724697B1 (en) | 2017-12-13 | 2022-01-12 | Alcon Inc. | Method for producing mps-compatible water gradient contact lenses |
KR20240023596A (ko) * | 2021-06-24 | 2024-02-22 | 니치유 가부시키가이샤 | 콘택트 렌즈 및 그 렌즈의 제조 방법 |
CN113980283B (zh) * | 2021-11-12 | 2023-07-07 | 广州市白云化工实业有限公司 | 亲水型107胶及室温固化硅橡胶组合物 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3925178A (en) * | 1970-04-17 | 1975-12-09 | Hymie D Gesser | Contact lenses |
US3959105A (en) * | 1972-12-27 | 1976-05-25 | Agfa-Gevaert, A.G. | Process for the production of hydrophilic surfaces on silicon elastomer articles |
CA993401A (en) * | 1972-12-04 | 1976-07-20 | Edward W. Merrill | Contact lens and method of preparation |
US3935342A (en) * | 1973-02-09 | 1976-01-27 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Hydrophilization of non-polar surfaces |
US4143949A (en) * | 1976-10-28 | 1979-03-13 | Bausch & Lomb Incorporated | Process for putting a hydrophilic coating on a hydrophobic contact lens |
DE3004685C2 (de) * | 1980-02-08 | 1986-07-31 | Titmus Eurocon Kontaktlinsen GmbH, 8750 Aschaffenburg | Verfahren zur Hydrophilierung von Kontaktlinsen aus Siliconkautschuk |
US4332922A (en) * | 1980-07-18 | 1982-06-01 | Titmus Eurocon | Process for rendering silicone rubber contact lenses hydrophilic |
-
1985
- 1985-05-15 DE DE19853517615 patent/DE3517615A1/de active Granted
-
1986
- 1986-05-14 EP EP86106544A patent/EP0202594B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-14 DE DE8686106544T patent/DE3686290D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-15 CA CA000509226A patent/CA1275534C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-15 JP JP61111772A patent/JPH07107105B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-08-05 US US07/228,867 patent/US4920184A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-11-19 SG SG167494A patent/SG167494G/en unknown
-
1995
- 1995-01-26 HK HK11695A patent/HK11695A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3517615C2 (ja) | 1987-04-09 |
HK11695A (en) | 1995-02-03 |
EP0202594A2 (de) | 1986-11-26 |
DE3686290D1 (de) | 1992-09-10 |
EP0202594B1 (de) | 1992-08-05 |
SG167494G (en) | 1995-05-12 |
JPS61293226A (ja) | 1986-12-24 |
US4920184A (en) | 1990-04-24 |
CA1275534C (en) | 1990-10-23 |
DE3517615A1 (de) | 1986-11-20 |
EP0202594A3 (en) | 1989-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07107105B2 (ja) | シリコーンゴム成形体表面を親水性化する方法 | |
US5047492A (en) | Organooligosilsesquioxanes | |
KR100962056B1 (ko) | 오가노하이드로겐실리콘 화합물 | |
US5347028A (en) | Highly functionalized polycyclosiloxanes and their polymerization into thermally reversible living rubbers | |
EP1493746B1 (en) | Multi-functional cyclic siloxane compound, siloxane-based polymer prepared from the compound and process for preparing dielectric film by using the polymer | |
US6184407B1 (en) | Carbosiloxane dendrimers | |
EP2289979B1 (en) | Organopolysilmethylene and a composition comprising the same | |
US7569652B2 (en) | Synthesis and characterization of novel cyclosiloxanes and their self- and co-condensation with silanol-terminated polydimethylsiloxane | |
JPH10251407A (ja) | シリコーン化合物及びその製造方法 | |
KR0147422B1 (ko) | 2작용성 말단실록산단위를 가진 오르가노폴리실록산 | |
KR20120073259A (ko) | 플루오로실리콘과 그 유도체들의 합성 | |
EP0661331B1 (en) | Silicon-containing polymer, process for preparing the same and monomer thereof | |
WO1999043738A1 (en) | Silyl and siloxyl substituted carborane compositions with unsaturated organic end groups | |
EP0639576A1 (en) | Organopolysiloxanes having a silanol group and process of making them | |
US5786493A (en) | Cyclic silane esters and solvolysis products thereof, and processes for the preparation of the cyclic silane esters and the solvolysis products | |
KR20000057028A (ko) | 카보실록산 덴드리머 | |
EP0475437B1 (en) | Organocyclosiloxane and method for its preparation | |
US5576408A (en) | Process for preparing low molecular weight organosiloxane terminated with silanol group | |
KR0150184B1 (ko) | 푸라닐기함유 오르가노 실리콘화합물 | |
EP0586241B1 (en) | Azasilacycloalkyl functional alkoxysilanes and azasilacycloalkyl functional tetramethyldisiloxanes | |
EP0499409A1 (en) | Olefinic and acetylenic azasilacyclopentanes | |
US5290841A (en) | Organocyclosiloxane and method for its preparation | |
US6339137B1 (en) | Poly (aminoorganofunctionalsiloxanes) | |
US4661616A (en) | Benzoic and benzacrylic acid esters | |
US5239085A (en) | Organocyclosiloxane and method for its preparation |