JPH07106714A - 小さな非直線性を呈する半導体光増幅器 - Google Patents

小さな非直線性を呈する半導体光増幅器

Info

Publication number
JPH07106714A
JPH07106714A JP6195606A JP19560694A JPH07106714A JP H07106714 A JPH07106714 A JP H07106714A JP 6195606 A JP6195606 A JP 6195606A JP 19560694 A JP19560694 A JP 19560694A JP H07106714 A JPH07106714 A JP H07106714A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amplifier
waveguide
amplified
wavelength
gain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6195606A
Other languages
English (en)
Inventor
Pierre Doussiere
ピエール・ドウシエール
Simon Jean-Claude
ジヨン−クロード・シモン
Valiente Ivan
イバン・バリアンテ
Brosson Philippe
フイリツプ・ブロツソン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alcatel Lucent NV
Original Assignee
Alcatel NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alcatel NV filed Critical Alcatel NV
Publication of JPH07106714A publication Critical patent/JPH07106714A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • H01S5/1206Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers having a non constant or multiplicity of periods
    • H01S5/1215Multiplicity of periods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • H01S5/125Distributed Bragg reflector [DBR] lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/16Window-type lasers, i.e. with a region of non-absorbing material between the active region and the reflecting surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4006Injection locking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/5045Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30 the arrangement having a frequency filtering function
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/5063Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30 operating above threshold
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/5063Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30 operating above threshold
    • H01S5/5072Gain clamping, i.e. stabilisation by saturation using a further mode or frequency

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光信号伝送システムへの適用。 【構成】 増幅器の利得を、入力信号Piの増幅に利用
されない波長でその増幅器を発振させることで安定させ
る。一実施例では基板2、活性光導波路3、光導波路3
の全長に沿って結合され、また増幅したい信号の波長と
は異なるブラッグ波長を持つ格子4、電流Iを横断方向
に注入するための2つの電極1、6を含んでいる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は小さな非直線性を呈する
半導体光増幅器に関する。このような増幅器は、光ファ
イバによる遠隔通信の分野で、特に光信号の長距離伝送
に先だって増幅するのに利用できる。現在、2種類の光
増幅器が使用されている。半導体を用いた増幅器と、希
土元素をドープしたファイバを用いた増幅器である。
【0002】
【従来の技術】ほぼ1.55ミクロンの波長を伝送する
には、エルビウムをドープしたファイバ増幅器のほうが
広く使用されている。その本質的な理由は、ファイバ増
幅器では、光通信システムにおいて使用される信号の場
合、入力信号のパワーの変動に対して利得が非直線性を
示さないからである。エルビウムをドープしたファイバ
増幅器での利得の回復時間は0.1msを上回ってい
る。この長い回復時間は利得の安定性をもたらす。なぜ
なら、通信分野で使用される変調周波数、すなわち10
0MHzから10GHz程度の周波数に対しては、信号
がハイ状態からロー状態に移行するとき、利得が再上昇
するほどの時間がないからである。
【0003】対照的に、回復時間が極めて短いため、半
導体増幅器はそれが飽和領域で作動しているとき、数ギ
ガヘルツの変調周波数に至るまで大きな利得の非直線性
を呈する。従来から、半導体光増幅器は活性光導波路を
備えており、その中に側面から電流が注入されている。
増幅すべき入力信号は導波路の端から注入され、増幅さ
れた信号は導波路の他端で集められる。従来の半導体増
幅器の利得は、1次近似では活性導波路内の電荷担体の
密度の1次関数である。この担体密度は、ポンピングの
比率と、信号の増幅に起因する誘導放出による再結合の
比率との間の平衡の結果として得られ、ポンピング率は
この密度を増す傾向があり、また再結合率はこの密度を
減らす傾向がある。ポンピング率のどのような変動も、
あるいは入力信号のパワーのどのような変動も、担体密
度を変動させ、したがって増幅器の利得を変動させる。
とりわけ、入力信号のパワーを大きくすると、光子数の
増加と誘導放出の増加の影響を受けて担体の再結合率が
上昇し、その結果として担体密度が減少し、利得が下が
る。反対に、入力信号のパワーを減らすと、光子数の減
少の影響を受けて再結合率が下がり、結果として担体密
度が上昇し、利得が上がる。
【0004】この利得上昇は極めて急激である。入力信
号を瞬時に遮断した後、利得の回復時間は500ピコ秒
を下回っている。したがって、通信分野において使用さ
れる変調周波数は一般に極めて高いにも係わらず、利得
は増幅済み信号を変調する2値データに追従して変動す
る。この非直線性は、増幅済み信号の高レベルと低レベ
ルの間のコントラスト低下をもたらし、したがって信号
の変調率の低下をもたらし、このことはS/N比の低下
をもたらす。さらに、波長多重化した複数チャネルを同
時に増幅する場合には、この非直線性に起因する利得の
揺らぎが異なったチャネル間のクロストークを引き起こ
す。したがって半導体増幅器の使用は、このコントラス
ト低下とクロストークを避けるため、小さな信号の場合
に限定される。
【0005】その上、光ファイバを通じた画像信号の配
送に使用される MABLR(狭側波帯アナログ変調)
形式のアナログ信号は、現在の時点では、要求される歪
みレベルが極めて低いので、半導体増幅器で増幅するこ
とはできない。
【0006】半導体増幅器の非直線挙動を直す目的でい
くつかの解決策が提案された。
【0007】−増幅器から出力される増幅済み信号の振
幅に応じて、電気的フィードバックを、その増幅器に注
入される電流の強度に作用させる方法。この解決策は、
変調周波数がほぼ数メガヘルツを越えると直ちに、ほと
んど有効でなくなり、しかも複雑さや消費電力や費用が
増幅器自体を大きく上回る電気回路が必要となる。
【0008】−量子井戸を有する半導体材料の利用。こ
の解決策により、非直線現象が現れるようになるまでの
信号のパワーを上げることができる。文献中に記載され
た数値は、増幅器の出力部において得られる電力が5d
B増加することに基づいている。しかし、この解決策は
直線性を除去するのではなく、それの出現閾値を遠ざけ
るだけであり、増幅済み信号に関して理論上得られる全
パワーを利用することはできず、一般的には利得の4d
B圧縮が必要となる。
【0009】日本の特許出願JP−A−01 143
382号は、半導体レーザを備えた半導体光増幅器につ
いて述べており、半導体レーザは第1波長で光を放射し
ている。増幅すべき光信号は、第1波長とは異なった第
2波長を有する。その光信号をレーザの活性層に、光ア
イソレータを通して注入する。出力フィルタは増幅済み
信号を抽出するため、第2波長だけを通過させる。レー
ザは、活性層の両端にそれぞれ位置する2つの劈開面を
備えている。劈開面は反射防止処理を受けておらず、し
たがって多数の波長で共振する1つの空洞を形成してい
る。増幅すべき信号の強度が変化しても、レーザ発振は
電子密度および正孔密度を一定に保つ。したがって利得
は安定するが、この増幅は、空洞の共振ピークにおいて
共振を起こし、増幅すべき信号は劈開面で部分反射し、
空洞内に定常波を生じるので満足すべきものではない。
増幅すべき信号は空洞の共振ピークのいずれかに対応す
る波長を持たなければならない。しかし共振ピークの波
長は、制御が困難な多くのパラメータに追従して変化す
るので、実際にこの条件を満たすのは困難である。した
がって、ピークのいかなるずれも増幅器の利得低下をも
たらす。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目標は、半導
体光増幅器を提案することであり、その増幅器への外部
装置を必要とすることなく、利得は極めて高い変調周波
数に至るまで一定であり、増幅済み信号について理論上
得られる全パワーを利用することができ、しかも増幅は
進行波に対して行われ、定常波に対しては行われないよ
うにすることである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、小さな
非直線性を呈する半導体光増幅器であり、その光増幅器
は光導波路と共振手段とを備え、共振手段は導波路と結
合しており、それにより、増幅したい信号の波長とは異
なっているが、増幅器の利得帯域に属する特有の波長で
増幅器を発振させ、また増幅したい信号の進行波だけを
増幅するようにしたことを特徴としている。
【0012】このような特徴を持つ増幅器は、発振波長
と異なるすべての波長に対して、半導体レーザにおいて
すでに知られている現象に似た現象のおかげで、増幅済
み信号の変動と比べて一定の進行波利得をもたらす。
【0013】実際に、半導体レーザの利得は、レーザが
発振閾値に達すると直ちに空洞損失の逆数に等しい一定
値で不動となる。閾値より先では、発振は過剰な注入担
体を取り除き、また担体密度を、その発振を持続させる
のに必要な最小利得に対応する平衡値に保つ。注入電流
の増加によって追加担体がいくらかでも注入されると、
発振波長における放出パワーの増加を引き起こすが、し
かし平衡状態にある担体密度を増加させることはない。
逆に、電流のいかなる減少も、発振波長における放出パ
ワーの減少となって現れるが、平衡状態にある担体密度
は変化しない。
【0014】本発明による増幅器では、それをレーザと
して、入力信号の増幅に使われていない1つの波長で発
振させることで、増幅器の利得を安定化させている。し
かし増幅は進行波に対して行われる。なぜなら、使用し
た共振手段はだた1つの波長にだけ共振するからであ
る。しかし実際には、使用する共振器は、極めて近い2
つの波長において共振する共振器であってもよい。半導
体の場合に当てはまることであるが、導波路を構成して
いる材料の螢光スペクトル線が全体的に均一に広がって
いると仮定すれば、レーザ発振はそのスペクトル範囲の
内部に位置する決まった1つの波長においてのみ存在す
るが、増幅器の利得曲線のいかなるスペクトル範囲も、
このレーザ発振によって安定化される。利得の安定化の
おかげで、本発明による増幅器は、非直線性からの厄介
な影響、つまりコントラストの低下や、波長多重化チャ
ネルの場合のクロストークなどを示さない。
【0015】好ましい一実施例によれば、少なくとも1
つの共振手段は分布格子を備えており、それぞれの格子
は光導波路に結合され、また発振のために選んだ波長に
等しいブラッグ波長を持つ。
【0016】実施例に関する以下の説明によって、本発
明はさらによく理解され、他の特性も明らかにされる。
【0017】
【実施例】図1に示すグラフは、発振のスペクトル線λ
o、増幅済み信号のスペクトル線λi、そして増幅した
自然放出ESAのスペクトル分布を表し、この自然放出
は本発明による増幅器の利得帯域全体にわたって分布し
ている。波長λiは波長λoより大きくても小さくても
構わないが、ただし発振によって生じた信号から増幅済
み信号を濾波によって分離できるようにするため、λi
はλoと異なっていなければならない。
【0018】しかもこの分離は、4つの波との混合によ
る寄生側波帯の発生を避けるため、十分に大きくなけれ
ばならない。
【0019】増幅済み信号のスペクトル線λiのパワー
が増加すると、発振のスペクトル線λoのパワーは、
(第1次近似で)その増加量に等しい量だけ減少する。
なぜなら、過剰な担体の消費はスペクトル線λoとスペ
クトル線λiの間で分配されるからである。入力信号の
パワーが増加する場合には、発振のパワーは場合によっ
てはこのスペクトル線λoが消失するまで減少する。こ
の消失より先では、増幅器の利得はもはや一定ではな
い。利得は減少し始め、これが非直線性の再発現を引き
起こす。したがって、増幅器を非直線性の再発現閾値の
手前に保持するため、増幅済み信号のパワーは、入力信
号がまったくない状態で導波路の両端から放出される発
振スペクトル線のパワーより小さいか、等しくなければ
ならない。
【0020】したがって、増幅済み信号において大きな
パワーを得るには、発振スペクトル線のパワー自体も入
力信号がない状態で大きくなければならない。したがっ
て、注入電流を増大させ、発振閾値を十分に越えて、一
般にはこの閾値に対応する強度の2倍から4倍にする必
要がある。
【0021】他方では、従来型レーザの場合には、発振
のために必要な利得を最小にし、したがって強い光学的
フィードバックを用いなければならないが、本発明によ
る増幅器においては、これとは対照的に、発振に必要な
利得を最大にする必要がある。そのためには、共振手段
と、導波路によって導波されるモードとの間の結合係数
を最小にしなければならない。共振手段の反射係数は−
20dBに等しく、これにより増幅器において20dB
の利得を得ることができる。ちなみに比較すると、利得
は従来型半導体レーザにおいて5dBである。
【0022】図2に、本発明による増幅器の第1実施例
を概略的に示す。この増幅器は以下を備えている。
【0023】ポンピング用電流Iの注入を可能にする2
つの平行電極1と6 Nタイプの第1の半導体材料から構成され、電極1と6
の間に挟まれている半導体基板8 同じ第1半導体材料からできているが、基板8の材料と
は反対にP+ にドープされていいる閉じ込め層2 全長にわたって活性であり、縦軸は電極1、6と平行で
あり、第2半導体材料から構成され、その単位格子は第
1材料の単位格子と調和しており、またその屈折率は第
1材料の屈折率よりも大きい光導波路3 導波路3の全長にわたって伸びており、基板8の屈折率
より大きな屈折率を持った半導体材料の薄い層からでき
ており、定期的にその層の厚みの一部、あるいは全部が
刻み込まれている分布格子4 反射防止処理が施され、基板8の端面を形成し、導波路
3の縦軸に対し垂直である2つの劈開面5、7 導波路3の長さは基板8の長さより短いが、これは導波
路3の両端が、それぞれの劈開面5、7からある一定の
距離で基板8の中に埋め込まれた2つの窓を構成するよ
うにするためである。
【0024】導波路3は、半導体光増幅器を作成するた
めの従来の方法で作成される。これは例えば、1.5ま
たは1.3ミクロンで使用するため、InGaAsPで
作成される。基板8はInPで作られている。これらは
分子ビーム、または気相における従来のエピタキシ成長
法で作成できる。
【0025】Piで示す光信号を、導波路3の一方の端
に面7を通して印加する。Psで示す増幅済みの光信号
が面5から現れる。
【0026】格子4のピッチは、この格子のブラッグ波
長が活性導波路3を作っている半導体材料の増幅スペク
トル範囲内にあるように選択する。格子4は、導波路3
の中を進行し、しかもこのブラッグ波長を持ったすべて
の波を反射する。格子4の深さと、格子4の導波路から
の面間距離から、導波路3によって導波されるモードと
格子4との間の結合係数が決まる。この結合係数は、発
振が生じるように、しかもその発振に必要な利得が高い
数値、例えば20dBを持つように選択する。
【0027】面5、7には反射防止処理を施してある。
これは、フレネル反射損と、基板2の劈開面5、7によ
って自然に生じるファブリ・ペロー効果を取り除くため
である。後者は、波長を横軸とするグラフにおいて、利
得曲線の好ましくない起伏となって現れる。さらに、面
5、7は、増幅器が発振スペクトル線の帯域外では進行
波にだけ作用するためにも、反射防止処理を施さなけれ
ばならない。面5、7から小さな反射率、つまり10-4
以下の値を得るためには、面5、7の法線に対して導波
路3の縦軸のアラインメントをずらしたり、あるいは活
性導波路3を面5、7の手前で中断して、埋め込まれた
窓を構成することが必要となる場合もある。図2に示す
実施例は、このような埋込み窓を備えており、導波路3
の長さを基板8の長さより短く選ぶことで、導波路3の
両端が基板8の中に、それぞれ面5と7からある一定の
距離で埋め込まれている。
【0028】図3に、第1の実施例を横断面図で表す。
この実施例において、活性導波路3への電流の閉込めは
側面のホモ接合によって実現される。P+ タイプである
閉込め層2と、Nタイプである基板8との間の接合は、
活性導波路3の領域外のほうが高い閾値電圧を呈してお
り、このことから電流は、優先的に活性導波路3を越え
て流れるようになる。
【0029】図4に、第1の実施例の変形例を横断面図
で示すが、ここでは閉込めを異なった方法で実現してい
る。Pタイプの層11を、続いてNタイプの層10を次
々と、Nタイプの基板8’の層の上に付着させ、つぎに
Pタイプの閉込め層2’を付着させる。このようにし
て、層10と11から構成される極性が逆の接合が、電
流の側面通過を妨げる。別の実施変形例によれば、層1
0と層11はただ1つの半絶縁層で置き替えることがで
きる。
【0030】この第1実施例の一変形例によれば、導波
路3のそれぞれの端に従来型の断熱遷移域を含ませて、
それにより導波モードを導波路3の両端にまで広げるこ
とができ、またこうして、それぞれの端において、一方
では入力信号を導き入れ、他方では出力信号を受け取る
ために、導波路3と光ファイバで構成される外部導波路
の結合を容易にすることができる。
【0031】図5に、従来タイプの半導体光増幅器の利
得のグラフBOと、本発明による増幅器の利得のグラフ
BFを、それらの増幅器から出力される増幅済み信号の
パワーPsの関数として示す。これら2つの増幅器は同
材料と同寸法で作成され、同じ強度の電流が供給されて
いる。
【0032】グラフBOは、利得の小さな信号に対して
は28dBであること、また利得が出力パワーの増大と
ともに勾配を増しながら減少し、最高24dB付近の利
得値に達することを示している。この利得値は9dBm
付近の最大パワーに対応している。この実施例では、あ
る与えられた注入電流に対して、入力信号のパワーがど
のような値であっても、この最大パワーを出力できる。
ただし小さな信号に対する利得に比べて、利得が4dB
程度下がったときにこの最大パワー9dBmに達する。
したがって、従来の増幅器の出力部で得られるすべての
パワーを利用するためには、少なくとも4dBの利得低
下を受け入れなければならない。すなわち極めて高い非
直線性を受け入れなければならない。
【0033】グラフBFは実際上、24dB付近の縦座
標が一定の直線である。この縦座標は、従来の増幅器が
出力できる最大パワー10dBm付近で得られる利得に
等しい。したがってこれらのグラフは、本発明による増
幅器であれば、入力信号のパワーがどのような値であっ
ても、利得を一定に保ったままで増幅器の最大パワーが
利用できることを示している。
【0034】図6は別の実施例を示し、以下を含む。
【0035】2つの電極21、26 基板28 その全長にわたって活性である導波路23 導波路23に平行な2つの分布格子24a、24bであ
って、格子24aは増幅器の入力部を構成する導波路2
3の端に結合され、格子24bは増幅器の出力部を構成
する導波路23の端に結合されている前記の2つの分布
格子 導波路23の縦軸と垂直に基板28の端面を成す2つの
劈開面25、27 導波路23の長さは基板28の長さよりも短いので、導
波路23の両端は、劈開面25、27からある一定距離
のところで、基板22の内部に埋め込まれた窓を構成す
る。
【0036】2つの格子24a、24bは、導波路23
との間で同じ結合係数を持っていない。それらは同じ層
の中に作られ、また導波路23から同じ面間距離に位置
しているが、格子24aより小さな結合係数を呈するよ
うに、格子24bの長さは格子24aの長さより短い。
格子24a、24bは導波路23の両端より先に伸びて
いない。導波路23の中間部分は2つの格子のどちらと
も結合していない。第1の実施例に比べて、こちらの構
造のほうが、発振スペクトル線の電界を不均斉にするこ
とで、波長λoでの発振によって実現したフィードバッ
クを導波路23に沿ってうまく配分でき、したがって担
体密度を導波路23に沿ってうまく配分できる。非直線
性の影響は導波路23に沿って増大する。なぜなら増幅
済み信号の振幅の影響は、導波路23に沿って増大し、
増幅器の出力部付近で最大に達するからである。したが
って、減少させたい非直線性の大きさに応じた大きさの
フィードバックをかけるには、増幅器の入力部から出力
部に向かって増大する振動電界が望ましい。これが、格
子24aに格子24bより大きな結合係数を持たせた理
由である。
【0037】図7は、本発明による増幅器の第3実施例
の概略図であり、以下を含む。
【0038】2つの電極31、36 電極31と36の間に挟まれた半導体基板38 2つの受動部分41、43の間に挟まれた1つの能動部
分42を含み、受動部分を構成する材料は能動部分42
の材料よりも大きな禁制帯を持ち、それによりこの材料
は透明で、したがって増幅や発振に対して不活性である
光導波路 それぞれ導波路の受動部分41と受動部分43に沿って
置かれた2つの分布格子34a、34b 導波路41、42、43の縦軸に垂直に基板38を成端
する、反射防止処理された2つの劈開面35、37 導波路41、42、43の合計長さは基板38の長さよ
り短く、したがって導波路の両端は基板の内部にあり、
また劈開面35、37からある一定距離のところで、基
板32の中に埋め込まれた窓を構成する。格子34aは
受動部分41の全長またはその一部にわたって伸びる
が、しかしそれより先には伸びず、とりわけ、能動部分
42に沿って伸びていない。同様に、格子34bは受動
部分43の全長またはその一部にわたって伸びている
が、しかし能動部分42に沿って伸びていない。この実
施方法は、能動部分42の両端の内側で、より均一な電
磁場が得られるという利点をもたらす。なぜなら格子3
4aや34bによって電磁場の不規則性が生じたとして
も、それらは格子のすぐ近くに局所化されており、すな
わち導波路の受動部分41、43の中に留まっているか
らである。格子34a、34bによって能動部分42に
発生させた電磁場のほうが均一であるという事実によっ
て、発振に対してかけられるフィードバックをよりうま
く制御できるようになり、またしたがって、増幅器の利
得の不変性を向上させることができる。
【0039】本発明の範囲は、上で説明した実施例に限
られるものではなく、以下の2つの条件を遵守しなが
ら、活性導波路に結合された共振手段を別の方法で実現
することも、当業者の理解できる範囲内にある。
【0040】結合係数は、増幅器が有利な利得を持つた
めに比較的小さくなければならない。
【0041】共振手段の応答は、フィードバックが、変
調によって引き起こされる利得変動の速さに追従できる
よう、増幅したい信号の変調速度と比べて速くなければ
ならない。
【0042】いくつかの適用例においては、発振スペク
トル線を増幅済み信号の検出または監視に利用できる。
発振振幅は、増幅済み信号の振幅と逆位相で変動する。
すなわち一方が増えると他方が減り、一方が減ると他方
が増える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による増幅器における発振スペクトル
線、増幅済み信号のスペクトル線、そして増幅済み自然
放出スペクトル分布を示す図である。
【図2】本発明による増幅器の第1実施例を、縦断面と
して示す概要図である。
【図3】第1実施例を横断面図である。
【図4】第1実施例の変形例の横断面図である。
【図5】一方では従来型増幅器について、他方では本発
明による増幅器について、利得のグラフを増幅済み信号
のパワーの関数として示す図である。
【図6】本発明による増幅器の別の実施例を示す図であ
る。
【図7】本発明による増幅器の別の実施例を示す図であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジヨン−クロード・シモン フランス国、22700・ルワンネク、アル・ ブステ・5 (72)発明者 イバン・バリアンテ フランス国、22300・カワンネク・ランベ ゼアク、ラン・リウ(番地なし) (72)発明者 フイリツプ・ブロツソン フランス国、91470・フオルジエ・レ・バ ン、プラス・ドウ・ラ・フオンテン・オ・ キユレ・6

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 小さな非直線性を呈する半導体光増幅器
    であって、その増幅器は光導波路3;23;41、4
    2、43および共振手段4;24a、24b;34a、
    34bを備え、共振手段は導波路に結合されており、そ
    れによりその増幅器を、増幅すべき信号の波長λiとは
    異なるが、増幅器の利得帯域に属する特有の波長λoで
    発振させ、また増幅すべき信号の進行波だけを増幅する
    ようにしたことを特徴とする、前記の半導体光増幅器。
  2. 【請求項2】 共振手段が、分布格子4;24a、24
    b;34a、34bを少なくとも1つ備えており、各格
    子は光導波路3と結合され、また発振のために選択した
    波長と等しいブラッグ波長を持っていることを特徴とす
    る、請求項1に記載の増幅器。
  3. 【請求項3】 共振手段が第1の分布格子と第2の分布
    格子24a、24b;34a、34bを備えており、そ
    れらが導波路3;23;41、42、43の第1の端と
    第2の端に結合されていることを特徴とする、請求項2
    に記載の増幅器。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の増幅器であって、導波
    路が1つの能動部分42と2つの受動部分41、43を
    備え、受動部分はそれぞれ能動部分42の両端の延長部
    分となっていることを特徴とし、また2つの格子34
    a、34bがそれぞれ導波路の2つの受動部分41、4
    3に結合され、能動部分42には結合されていないこと
    を特徴とする増幅器。
  5. 【請求項5】 請求項3に記載の増幅器であって、2つ
    の格子34a、34bが導波路との結合係数に関して同
    じ値を持った、すなわち格子34bは端33と結合して
    増幅器の出力部を構成するが、その結合係数は、端31
    と結合して増幅器の入力部を構成する格子34aより大
    きいことを特徴とする増幅器。
  6. 【請求項6】 請求項1に記載の増幅器であって、その
    増幅器が基板8を備えており、その基板の両端が、反射
    防止処理を施された劈開面7、5となっていることを特
    徴とする増幅器。
JP6195606A 1993-08-20 1994-08-19 小さな非直線性を呈する半導体光増幅器 Pending JPH07106714A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9310147 1993-08-20
FR9310147A FR2709189B1 (fr) 1993-08-20 1993-08-20 Amplificateur optique à semiconducteur, présentant une non-linéarité réduite.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07106714A true JPH07106714A (ja) 1995-04-21

Family

ID=9450330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6195606A Pending JPH07106714A (ja) 1993-08-20 1994-08-19 小さな非直線性を呈する半導体光増幅器

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0639876A1 (ja)
JP (1) JPH07106714A (ja)
FR (1) FR2709189B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006120862A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光増幅素子

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2738068B1 (fr) * 1995-08-24 1997-09-19 Alcatel Nv Amplificateur optique a faible diaphonie et composant incluant cet amplificateur
FR2754352B1 (fr) * 1996-10-07 1998-11-13 Alsthom Cge Alcatel Commutateur optique
FR2764141B1 (fr) * 1997-05-29 1999-07-23 Alsthom Cge Alcatel Systeme de transmission optique a compensation dynamique de la puissance transmise
FR2767974B1 (fr) * 1997-09-01 1999-10-15 Alsthom Cge Alcatel Dispositif semi-conducteur d'amplification optique
FR2767975B1 (fr) * 1997-09-04 1999-10-15 Alsthom Cge Alcatel Dispositif preamplificateur optique
FR2785730B1 (fr) * 1998-11-05 2001-10-12 Cit Alcatel Amplificateur optique a semi-conducteur a gain stabilise reglable et systeme optique utilisant un tel amplificateur
EP1172907B1 (en) * 2000-07-11 2006-05-31 Corning Incorporated A tunable gain-clamped semiconductor optical amplifier
WO2003021733A1 (en) * 2001-09-05 2003-03-13 Kamelian Limited Variable-gain gain-clamped optical amplifiers
US7672546B2 (en) 2001-10-09 2010-03-02 Infinera Corporation Optical transport network having a plurality of monolithic photonic integrated circuit semiconductor chips
US7751658B2 (en) 2001-10-09 2010-07-06 Infinera Corporation Monolithic transmitter photonic integrated circuit (TxPIC) having tunable modulated sources with feedback system for source power level or wavelength tuning
US7116851B2 (en) 2001-10-09 2006-10-03 Infinera Corporation Optical signal receiver, an associated photonic integrated circuit (RxPIC), and method improving performance
EP1436870A2 (en) 2001-10-09 2004-07-14 Infinera Corporation TRANSMITTER PHOTONIC INTEGRATED CIRCUITS (TxPIC) AND OPTICAL TRANSPORT NETWORKS EMPLOYING TxPICs
US7747114B2 (en) 2002-10-08 2010-06-29 Infinera Corporation Tilted combiners/decombiners and photonic integrated circuits (PICs) employing the same
KR100539927B1 (ko) * 2003-08-12 2005-12-28 삼성전자주식회사 양방향 파장 분할 다중 시스템
FR2892207B1 (fr) * 2005-10-14 2008-01-25 Alcatel Sa Dispositif optique a semiconducteur a densite de porteurs verrouillee
EP2244343A1 (en) * 2009-04-23 2010-10-27 Alcatel Lucent System, device and method for optical amplification
GB0919153D0 (en) 2009-10-31 2009-12-16 Ct Integrated Photonics Ltd Filtered optical source
FR3114887A1 (fr) 2020-10-06 2022-04-08 Marc Grosman Amplificateur optique a ondes progressives dont l'amplification est commandee par des transistors a effet de champ

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57187983A (en) * 1981-05-15 1982-11-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Light regeneration and amplification by semiconductor laser
JPS61220493A (ja) * 1985-03-27 1986-09-30 Nec Corp 光増幅素子
JPS62259489A (ja) * 1986-05-06 1987-11-11 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置及び光増幅装置
JPH0817259B2 (ja) * 1987-11-30 1996-02-21 松下電器産業株式会社 光増幅器
JPH02152289A (ja) * 1988-12-02 1990-06-12 Sumitomo Electric Ind Ltd 光増幅装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006120862A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光増幅素子

Also Published As

Publication number Publication date
FR2709189B1 (fr) 1995-09-15
EP0639876A1 (fr) 1995-02-22
FR2709189A1 (fr) 1995-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07106714A (ja) 小さな非直線性を呈する半導体光増幅器
US6166837A (en) WDM system for reduced SBS
Saitoh et al. 1.5 µm GaInAsP traveling-wave semiconductor laser amplifier
US6650673B2 (en) Generation of short optical pulses using strongly complex coupled DFB lasers
US6331908B1 (en) Optical system for reduced SBS
Tiemeijer et al. Reduced intermodulation distortion in 1300 nm gain-clamped MQW laser amplifiers
Magari et al. Optical narrow-band filters using optical amplification with distributed feedback
US20050006654A1 (en) Semiconductor monolithic integrated optical transmitter
EP1056169B1 (en) Optical pulse source and method for compressing optical pulses
US6690688B2 (en) Variable wavelength semiconductor laser and optical module
US6438148B1 (en) Method and device for encoding data into high speed optical train
EP1087478A1 (en) Generation of short optical pulses using strongly complex coupled DFB lasers.
EP0830721B1 (en) Optical amplifier
Sung et al. Modulation bandwidth enhancement and nonlinear distortion suppression in directly modulated monolithic injection-locked DFB lasers
EP0338863B1 (en) Non-linear optical amplification
EP0803139B1 (en) Q-switched laser system
JP2000151028A (ja) 調整可能な安定化利得を有する半導体光増幅器とそのような増幅器を使用する光システム
KR100566187B1 (ko) 수평방향 레이징 구조를 갖는 이득 고정 반도체 광증폭기및 그제조방법
EP0551863B1 (en) A semiconductor optical filter and an optical communication system using the same
JP2005135956A (ja) 半導体光増幅器およびその製造方法ならびに光通信デバイス
EP0615322A2 (en) Multi quantum well semiconductor laser and optical communication system using the same
Morthier Design and optimization of strained-layer-multiquantum-well lasers for high-speed analog communications
KR19980024154A (ko) 광 반도체 장치 및 광원
JP2713144B2 (ja) 多重量子井戸半導体レーザ及びそれを用いた光通信システム
Oberg et al. Increased modulation bandwidth up to 20 GHz of a detuned-loaded DBR laser