JPH0695159B2 - 放射線装置 - Google Patents
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- JPH0695159B2 JPH0695159B2 JP63310422A JP31042288A JPH0695159B2 JP H0695159 B2 JPH0695159 B2 JP H0695159B2 JP 63310422 A JP63310422 A JP 63310422A JP 31042288 A JP31042288 A JP 31042288A JP H0695159 B2 JPH0695159 B2 JP H0695159B2
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/26—Bombardment with radiation
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 シンクロトロン放射光の発生源として利用される放射線
装置に関し、 波長に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可能
で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置の
提供を目的とし、 複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互に配設された多
段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射光を取り出
すビームダクトの中間に設け、固定翼の羽根に形成され
た光通過孔と回転翼の羽根の隙間とが直線状に並んだと
きに、放射光が多段軸流タービンを透過するように構成
する。
装置に関し、 波長に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可能
で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置の
提供を目的とし、 複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互に配設された多
段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射光を取り出
すビームダクトの中間に設け、固定翼の羽根に形成され
た光通過孔と回転翼の羽根の隙間とが直線状に並んだと
きに、放射光が多段軸流タービンを透過するように構成
する。
本発明はシンクロトロン放射光の発生源として利用され
る放射線装置、特に放射光の取り出し効率が高く取扱い
の容易な放射線装置に関する。
る放射線装置、特に放射光の取り出し効率が高く取扱い
の容易な放射線装置に関する。
近年、シンクロトロン放射光（以下放射光と称する）を
利用した技術が注目されており、特にリソグラフィ技術
や半導体プロセス技術等への応用が期待されている。し
かし放射光は少なくとも10-10Torr位の高真空雰囲気中
において発生する光であり、各種技術に応用するには先
ず放射光を高真空雰囲気中から効率よく取り出す必要が
ある。そこで波長に関係なく放射光を効率よく取り出す
ことが可能で、しかも取扱いの容易な放射線装置の開発
が要望されている。
利用した技術が注目されており、特にリソグラフィ技術
や半導体プロセス技術等への応用が期待されている。し
かし放射光は少なくとも10-10Torr位の高真空雰囲気中
において発生する光であり、各種技術に応用するには先
ず放射光を高真空雰囲気中から効率よく取り出す必要が
ある。そこで波長に関係なく放射光を効率よく取り出す
ことが可能で、しかも取扱いの容易な放射線装置の開発
が要望されている。
第８図は従来の放射線装置の概要を示す模式図である。
図において放射線装置は放射光１を出力する電子蓄積リ
ング２を有し、放射光１はビームダクト３を経由して作
業領域に取り出される。かかる装置において光速に近い
速さで電子が運動する電子蓄積リング２の内部は、少な
くとも10-10Torr位の高真空状態を保っていることが要
求され、放射光１が使用される作業領域は大気圧若しく
は低真空度雰囲気中である。したがってその間を接続す
るビームダクト３は単に放射光１を通すだけで無く、低
真空側から高真空側へのガスの移動を抑制する作用を具
えていることが要求される。
ング２を有し、放射光１はビームダクト３を経由して作
業領域に取り出される。かかる装置において光速に近い
速さで電子が運動する電子蓄積リング２の内部は、少な
くとも10-10Torr位の高真空状態を保っていることが要
求され、放射光１が使用される作業領域は大気圧若しく
は低真空度雰囲気中である。したがってその間を接続す
るビームダクト３は単に放射光１を通すだけで無く、低
真空側から高真空側へのガスの移動を抑制する作用を具
えていることが要求される。
そこで従来の放射線装置では図示の如くビームダクト３
の先端を、光の透過率が高く機械的強度に優れたベリリ
ウム（Be）板31で封止すると共に、光通過孔32を具えた
複数のアパーチャ331〜33ｎでビームダクト３の内部を
区切って、各区間にゲートバルブ341〜34ｎと排気ダク
ト351〜35ｎからなる排気系を形成し、複数段の排気系
を直列に接続してなる差動排気系を構成することによっ
て、ビームダクト３にガスの移動を抑制する作用を付与
している。
の先端を、光の透過率が高く機械的強度に優れたベリリ
ウム（Be）板31で封止すると共に、光通過孔32を具えた
複数のアパーチャ331〜33ｎでビームダクト３の内部を
区切って、各区間にゲートバルブ341〜34ｎと排気ダク
ト351〜35ｎからなる排気系を形成し、複数段の排気系
を直列に接続してなる差動排気系を構成することによっ
て、ビームダクト３にガスの移動を抑制する作用を付与
している。
しかし従来の放射線装置には次のような問題点がある。
即ち、ビームダクトを区切るアパーチャがそれぞれ光通
過孔32を有し、この光通過孔が差動排気系のバイパスを
形成して排気効率を低下させる。したがってBe板で封止
されたビームダクト先端の真空度を10-16〜10-7Torrと
しても、電子蓄積リング２の高真空度を維持するのに必
要なビームダクト長は10m以上になる。
即ち、ビームダクトを区切るアパーチャがそれぞれ光通
過孔32を有し、この光通過孔が差動排気系のバイパスを
形成して排気効率を低下させる。したがってBe板で封止
されたビームダクト先端の真空度を10-16〜10-7Torrと
しても、電子蓄積リング２の高真空度を維持するのに必
要なビームダクト長は10m以上になる。
一方、リソグラフィ技術や半導体プロセス技術等で使用
される数Å〜数10Åの長波長光は、Be板による減衰が大
きくその厚さを50μｍ以下にする必要がある。しかし大
気圧若しくは真空度が10-1〜10-2Torrの作業領域と、真
空度が10-6〜10-7Torrのビームダクト先端との圧力差が
大きく、厚さが50μｍ以下のBe板ではその圧力差に耐え
ることができない。
される数Å〜数10Åの長波長光は、Be板による減衰が大
きくその厚さを50μｍ以下にする必要がある。しかし大
気圧若しくは真空度が10-1〜10-2Torrの作業領域と、真
空度が10-6〜10-7Torrのビームダクト先端との圧力差が
大きく、厚さが50μｍ以下のBe板ではその圧力差に耐え
ることができない。
使用される光の波長が更に長い分野ではBe板の減衰が増
大し、Be板でビームダクト先端を封止すると光が取り出
せなくなる。かかる場合は作業領域を10-6〜10-7Torrの
高真空状態にしてBe板を無くす必要があるが、作業領域
を高真空状態にすると被照射ターゲットの取扱いが極め
て困難になる。
大し、Be板でビームダクト先端を封止すると光が取り出
せなくなる。かかる場合は作業領域を10-6〜10-7Torrの
高真空状態にしてBe板を無くす必要があるが、作業領域
を高真空状態にすると被照射ターゲットの取扱いが極め
て困難になる。
本発明の目的は波長に関係なく放射光を効率よく取り出
すことが可能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な
放射線装置を提供することにある。
すことが可能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な
放射線装置を提供することにある。
第１図は本発明になる放射線装置の原理を示す模式図で
ある。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表してい
る。
ある。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表してい
る。
上記課題は複数の固定翼61と回転翼62とが軸方向に交互
に配設された多段軸流タービン６を、電子蓄積リング２
から放射光１を取り出すビームダクト４の中間に設け、
それぞれの固定翼61の羽根63に形成された光通過孔64
と、各回転翼62の羽根65の隙間66とが直線状に並んだと
きに、放射光１が多段軸流タービン６を透過するよう構
成されてなる本発明の放射線装置によって達成される。
に配設された多段軸流タービン６を、電子蓄積リング２
から放射光１を取り出すビームダクト４の中間に設け、
それぞれの固定翼61の羽根63に形成された光通過孔64
と、各回転翼62の羽根65の隙間66とが直線状に並んだと
きに、放射光１が多段軸流タービン６を透過するよう構
成されてなる本発明の放射線装置によって達成される。
第１図において複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互
に配設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから
放射光を取り出すビームダクトの中間に設け、それぞれ
の固定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根の
隙間とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流ター
ビンを透過するよう構成することによって、減衰の要因
となるBe板を光路中から除去することが可能になる。
に配設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから
放射光を取り出すビームダクトの中間に設け、それぞれ
の固定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根の
隙間とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流ター
ビンを透過するよう構成することによって、減衰の要因
となるBe板を光路中から除去することが可能になる。
しかもビームダクトにおける排気効率が上昇し被照射タ
ーゲットを、10-1〜10-2Torrの低真空度中や大気圧の作
業領域に設置することができ、10m以上あったビームダ
クト長を1m以下に短縮することが可能になる。
ーゲットを、10-1〜10-2Torrの低真空度中や大気圧の作
業領域に設置することができ、10m以上あったビームダ
クト長を1m以下に短縮することが可能になる。
即ち波長に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可
能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置
を実現することができる。
能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置
を実現することができる。
以下添付図により本発明の実施例について説明する。な
お第２図は多段軸流タービンの構成を示す図、第３図は
固定翼と回転翼の形状を示す図、第４図は制御装置の一
例、第５図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第６
図は本発明の第２の実施例を示す模式図、第７図は本発
明の第３の実施例を示す模式図である。
お第２図は多段軸流タービンの構成を示す図、第３図は
固定翼と回転翼の形状を示す図、第４図は制御装置の一
例、第５図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第６
図は本発明の第２の実施例を示す模式図、第７図は本発
明の第３の実施例を示す模式図である。
第１図（ａ）において本発明になる放射線装置は多段軸
流タービン６が、電子蓄積リング２から放射光１を取り
出すビームダクト４の中間に設けられており、多段軸流
タービン６は複数の固定翼61と回転翼62とが軸方向に交
互に配設され、複数の回転翼62は中心部が同一回転軸に
固定されている。それぞれの固定翼61の羽根63は第１図
（ｂ）に示す如く光通過孔64が形成され、光通過孔64と
回転翼62の羽根65の隙間66とが直線状に並んだときに、
アパーチャ41の光通過孔42を透過した放射光１が多段軸
流タービン６を透過する。
流タービン６が、電子蓄積リング２から放射光１を取り
出すビームダクト４の中間に設けられており、多段軸流
タービン６は複数の固定翼61と回転翼62とが軸方向に交
互に配設され、複数の回転翼62は中心部が同一回転軸に
固定されている。それぞれの固定翼61の羽根63は第１図
（ｂ）に示す如く光通過孔64が形成され、光通過孔64と
回転翼62の羽根65の隙間66とが直線状に並んだときに、
アパーチャ41の光通過孔42を透過した放射光１が多段軸
流タービン６を透過する。
第１図（ｂ）において低真空側に存在する残留ガスＧは
矢示の如く、固定翼61と回転翼62の開口部から高真空側
に流れようとするが、回転翼62の回転に伴って羽根65が
矢示の如く高速度で移動しており、羽根65に衝突した残
留ガスＧは低真空側に押し戻され高真空側への流入が阻
止される。一部の残留ガスＧは羽根65の隙間66を通して
高真空側に流入するが、複数の回転翼62が軸方向に配設
されているため後段の羽根65によって低真空側に押し戻
される。
矢示の如く、固定翼61と回転翼62の開口部から高真空側
に流れようとするが、回転翼62の回転に伴って羽根65が
矢示の如く高速度で移動しており、羽根65に衝突した残
留ガスＧは低真空側に押し戻され高真空側への流入が阻
止される。一部の残留ガスＧは羽根65の隙間66を通して
高真空側に流入するが、複数の回転翼62が軸方向に配設
されているため後段の羽根65によって低真空側に押し戻
される。
従来の差動排気系とは異なり多段軸流タービンは極く狭
い空間に、固定翼61と回転翼62からなる排気系を多数段
収納することが可能であり、低真空側が大気圧若しくは
真空度が10-1〜10-2Torrの作業領域であっても、排気系
の段数を多くすることで電子蓄積リング２の高真空度を
十分維持することができる。
い空間に、固定翼61と回転翼62からなる排気系を多数段
収納することが可能であり、低真空側が大気圧若しくは
真空度が10-1〜10-2Torrの作業領域であっても、排気系
の段数を多くすることで電子蓄積リング２の高真空度を
十分維持することができる。
なお残留ガスの移動速度は速くても音速程度で光速で移
動する放射光との間に大きい差がある。したがって羽根
65が残留ガスの移動を止める程度に回転翼62を回転させ
ても、羽根65によって放射光の光路が完全に遮断される
ことはない。その際放射光１は回転翼62の羽根65によっ
てスイッチングされ、断続的になるが回転翼62が高速で
回転しており実用上の支障はない。
動する放射光との間に大きい差がある。したがって羽根
65が残留ガスの移動を止める程度に回転翼62を回転させ
ても、羽根65によって放射光の光路が完全に遮断される
ことはない。その際放射光１は回転翼62の羽根65によっ
てスイッチングされ、断続的になるが回転翼62が高速で
回転しており実用上の支障はない。
本発明の放射線装置に用いられる多段軸流タービンは、
例えば第２図に示す如く真空ポンプ等に用いられるもの
と同等の構造を有し、複数の固定翼61と回転翼62とが軸
方向に交互に配設されていて、固定翼61は外周部が外枠
68に固定され回転翼62は中央部が回転軸69に固定されて
いる。また回転軸69は磁気軸受70等を介して固定軸71に
軸止され、回転軸69と固定軸71との間に外側が回転し得
る高周波モータ72が装着されている。
例えば第２図に示す如く真空ポンプ等に用いられるもの
と同等の構造を有し、複数の固定翼61と回転翼62とが軸
方向に交互に配設されていて、固定翼61は外周部が外枠
68に固定され回転翼62は中央部が回転軸69に固定されて
いる。また回転軸69は磁気軸受70等を介して固定軸71に
軸止され、回転軸69と固定軸71との間に外側が回転し得
る高周波モータ72が装着されている。
このように磁気軸受70等を介して回転軸69を固定軸71に
軸止し、回転軸69と固定軸71との間に高周波モータ72が
装着されてなる装置では、回転軸69と固定軸71の相対的
な位置を維持するための機構が必要である。そこで半径
方向マグネット73、半径方向センサ74、軸方向マグネッ
ト75、軸方向センサ76等が、回転翼69と固定軸71の相対
的な位置を維持するための機構として固定軸71に装着さ
れている。
軸止し、回転軸69と固定軸71との間に高周波モータ72が
装着されてなる装置では、回転軸69と固定軸71の相対的
な位置を維持するための機構が必要である。そこで半径
方向マグネット73、半径方向センサ74、軸方向マグネッ
ト75、軸方向センサ76等が、回転翼69と固定軸71の相対
的な位置を維持するための機構として固定軸71に装着さ
れている。
なお位置検出センサ77は回転翼62の同期信号を取り出す
ためのセンサであり、コネクタ78は磁気軸受70や高周波
モータ72に電流を供給すると共に、軸方向センサ76や位
置検出センサ77から信号を取り出すためのものである。
ためのセンサであり、コネクタ78は磁気軸受70や高周波
モータ72に電流を供給すると共に、軸方向センサ76や位
置検出センサ77から信号を取り出すためのものである。
多段軸流タービンの外枠68の一部に放射光取出口79が設
けられ、固定翼61の放射光取出口79と対向する位置には
光通過孔64が形成されている。したがって高真空側から
多段軸流タービンに入射した放射光１は、回転翼62の羽
根の隙間と固定翼61の光通過孔64を通り抜けて放射光取
出口79から出射される。
けられ、固定翼61の放射光取出口79と対向する位置には
光通過孔64が形成されている。したがって高真空側から
多段軸流タービンに入射した放射光１は、回転翼62の羽
根の隙間と固定翼61の光通過孔64を通り抜けて放射光取
出口79から出射される。
固定翼61は第３図（ａ）に示す如く外輪61aと内輪61bと
複数の羽根63を有し、第３図（ｃ）に示す如く外輪61a
と内輪61bとに固定された羽根63の面は、それぞれ外輪6
1aおよび内輪61bの面に対して所定の角度だ交わる。そ
して羽根63の一部には放射光を通す光通過孔64が設けら
れている。
複数の羽根63を有し、第３図（ｃ）に示す如く外輪61a
と内輪61bとに固定された羽根63の面は、それぞれ外輪6
1aおよび内輪61bの面に対して所定の角度だ交わる。そ
して羽根63の一部には放射光を通す光通過孔64が設けら
れている。
また回転翼62は第３図（ａ）に示す如く複数の羽根65の
根元が内輪62aに固定され、複数の回転翼62の内輪62aが
回転軸69と一体化されている。第３図（ｄ）に示す如く
内輪62aに固定された羽根65の面は内輪62aの面と所定の
角度で交わり、隣接する羽根65の間には放射光を通し得
る隙間66を具えている。
根元が内輪62aに固定され、複数の回転翼62の内輪62aが
回転軸69と一体化されている。第３図（ｄ）に示す如く
内輪62aに固定された羽根65の面は内輪62aの面と所定の
角度で交わり、隣接する羽根65の間には放射光を通し得
る隙間66を具えている。
一方、多段軸流タービンの回転を制御する制御装置８は
例えば第４図に示す如く、磁気軸受制御回路81、周波数
制御回路82、モータ駆動回路83、保護回路84、および直
流電源回路85を有し、磁気軸受制御回路81は半径方向セ
ンサ74や軸方向センサ76からの信号に基づいて、回転軸
69が所定の位置を維持しながら安定して回転するよう、
半径方向マグネット73や軸方向マグネット75に印加する
電流を制御している。
例えば第４図に示す如く、磁気軸受制御回路81、周波数
制御回路82、モータ駆動回路83、保護回路84、および直
流電源回路85を有し、磁気軸受制御回路81は半径方向セ
ンサ74や軸方向センサ76からの信号に基づいて、回転軸
69が所定の位置を維持しながら安定して回転するよう、
半径方向マグネット73や軸方向マグネット75に印加する
電流を制御している。
周波数制御回路82は図示省略された信号発生回路の他
に、第１の信号入力端子82aと第２の信号入力端子82bを
具えており、信号入力端子82aに入力される位置検出セ
ンサ77からのフィードバック信号f1を、第２の信号入力
端子82bに入力される外部トリガー信号f2、または信号
発生回路から出力される制御信号f3と比較することによ
って、信号出力端子82cからその状況に対応した周期の
パルス信号を出力する。
に、第１の信号入力端子82aと第２の信号入力端子82bを
具えており、信号入力端子82aに入力される位置検出セ
ンサ77からのフィードバック信号f1を、第２の信号入力
端子82bに入力される外部トリガー信号f2、または信号
発生回路から出力される制御信号f3と比較することによ
って、信号出力端子82cからその状況に対応した周期の
パルス信号を出力する。
例えば定常運転中は制御信号f3が信号出力端子82cから
出力され、フィードバック信号f1と制御信号f3との間に
差が生じた場合は、その差を無くす方向に多段軸流ター
ビンの回転を補正するパルス信号が出力される。また多
段軸流タービンの始動時は信号f1に比べて信号f3が大き
く、信号出力端子82cから加速的なパルス信号が出力さ
れる。更に減速時は信号f1に比べて信号f3が小さく減速
的にパルス信号が出力される。
出力され、フィードバック信号f1と制御信号f3との間に
差が生じた場合は、その差を無くす方向に多段軸流ター
ビンの回転を補正するパルス信号が出力される。また多
段軸流タービンの始動時は信号f1に比べて信号f3が大き
く、信号出力端子82cから加速的なパルス信号が出力さ
れる。更に減速時は信号f1に比べて信号f3が小さく減速
的にパルス信号が出力される。
なおモータ駆動回路83は周波数制御回路82から入力され
る信号を増幅し、高周波信号を多段軸流タービンの高周
波モータ72に供給する回路、保護回路84は半径方向セン
サ74や軸方向センサ76、位置検出センサ77からの信号、
およびモータ駆動回路83の負荷状態を監視する回路、直
流電源回路85はそれ等の回路に電流を供給する回路であ
る。
る信号を増幅し、高周波信号を多段軸流タービンの高周
波モータ72に供給する回路、保護回路84は半径方向セン
サ74や軸方向センサ76、位置検出センサ77からの信号、
およびモータ駆動回路83の負荷状態を監視する回路、直
流電源回路85はそれ等の回路に電流を供給する回路であ
る。
第５図において本発明の第１の実施例は電子蓄積リング
２が、ビームダクト４を介して被照射ターゲット51を設
置する作業室５と接続されている。ビームダクト４の高
真空側にはゲートバルブ43とアパーチャ41が、低真空側
にはゲートバルブ44と排気ダクト45が設けられており、
作業室５の真空度はゲートバルブ52と排気ダクト53によ
り10-1〜10-2Torrに調整されている。
２が、ビームダクト４を介して被照射ターゲット51を設
置する作業室５と接続されている。ビームダクト４の高
真空側にはゲートバルブ43とアパーチャ41が、低真空側
にはゲートバルブ44と排気ダクト45が設けられており、
作業室５の真空度はゲートバルブ52と排気ダクト53によ
り10-1〜10-2Torrに調整されている。
かかる装置においてゲートバルブ43、44、および排気ダ
クト45を調整し、ビームダクト４の中間に設けられた多
段軸流タービン６を回転させることによって、ビームダ
クト４に接続された電子蓄積リング２の内部は所定の高
真空状態になる。多段軸流タービン６は制御装置８から
出力される高周波信号によって駆動され、フィードバッ
ク信号f1と制御信号との間に差が生じた場合は、その差
を無くす方向に多段軸流タービンの回転が補正される。
クト45を調整し、ビームダクト４の中間に設けられた多
段軸流タービン６を回転させることによって、ビームダ
クト４に接続された電子蓄積リング２の内部は所定の高
真空状態になる。多段軸流タービン６は制御装置８から
出力される高周波信号によって駆動され、フィードバッ
ク信号f1と制御信号との間に差が生じた場合は、その差
を無くす方向に多段軸流タービンの回転が補正される。
また第６図において本発明の第２の実施例は電子蓄積リ
ング２と作業室５が、２基の多段軸流タービン6A、6Bを
具えたビームダクト４を介して接続され、ビームダクト
４の高真空側にゲートバルブ43とアパーチャ41、低真空
側にゲートバルブ44と排気ダクト45、多段軸流タービン
6Aと6Bの間にゲートバルブ46が設けられている。なお被
照射ターゲット51が設置される作業室５の真空度は第１
の実施例と同様、ゲートバルブ52と排気ダクト53により
10-1〜10-2Torrに調整されている。
ング２と作業室５が、２基の多段軸流タービン6A、6Bを
具えたビームダクト４を介して接続され、ビームダクト
４の高真空側にゲートバルブ43とアパーチャ41、低真空
側にゲートバルブ44と排気ダクト45、多段軸流タービン
6Aと6Bの間にゲートバルブ46が設けられている。なお被
照射ターゲット51が設置される作業室５の真空度は第１
の実施例と同様、ゲートバルブ52と排気ダクト53により
10-1〜10-2Torrに調整されている。
かかる装置においてゲートバルブ43、44、46、および排
気ダクト45を調整すると共に、２基の多段軸流タービン
6A、6Bを回転させることによって、電子蓄積リング２の
内部を第１の実施例に比べ一層高真空状態にすることが
できる。しかし本実施例の場合は多段軸流タービン6A、
6Bの回転翼を、それぞれの羽根の隙間が直線状に並ぶよ
うに制御する必要がある。そこで多段軸流タービン6A、
6Bからフィードバック信号f1、f2を制御装置８に入力
し、多段軸流タービン6A、6Bの回転が同期するよう制御
している。
気ダクト45を調整すると共に、２基の多段軸流タービン
6A、6Bを回転させることによって、電子蓄積リング２の
内部を第１の実施例に比べ一層高真空状態にすることが
できる。しかし本実施例の場合は多段軸流タービン6A、
6Bの回転翼を、それぞれの羽根の隙間が直線状に並ぶよ
うに制御する必要がある。そこで多段軸流タービン6A、
6Bからフィードバック信号f1、f2を制御装置８に入力
し、多段軸流タービン6A、6Bの回転が同期するよう制御
している。
更に第７図において本発明の第３の実施例は電子蓄積リ
ング２が大気圧中の作業領域と、中間に２基の多段軸流
タービン6A、6Cを具えたビームダクト４を介して接続さ
れ、ビームダクト４は高真空側にゲートバルブ43とアパ
ーチャ41、多段軸流タービン6Aと6Cの間にゲートバルブ
44と排気ダクト45を具えている。
ング２が大気圧中の作業領域と、中間に２基の多段軸流
タービン6A、6Cを具えたビームダクト４を介して接続さ
れ、ビームダクト４は高真空側にゲートバルブ43とアパ
ーチャ41、多段軸流タービン6Aと6Cの間にゲートバルブ
44と排気ダクト45を具えている。
かかる装置においてゲートバルブ43、44、および排気ダ
クト45を調整すると共に、２基の多段軸流タービン6A、
6Cを回転させることによって、ビームダクト４に接続さ
れた電子蓄積リング２の内部は所定の高真空状態にな
る。しかし多段軸流タービン6Cは直接空気に接触してい
るため、回転数や回転翼の大きさ、形状等が当然多段軸
流タービン6Aと異なり、回転翼の羽根の隙間を直線状に
並べるための同期が一層厳しくなる。
クト45を調整すると共に、２基の多段軸流タービン6A、
6Cを回転させることによって、ビームダクト４に接続さ
れた電子蓄積リング２の内部は所定の高真空状態にな
る。しかし多段軸流タービン6Cは直接空気に接触してい
るため、回転数や回転翼の大きさ、形状等が当然多段軸
流タービン6Aと異なり、回転翼の羽根の隙間を直線状に
並べるための同期が一層厳しくなる。
そこで多段軸流タービン6A、6Cはそれぞれ専用の制御装
置8A、8Bを有し、多段軸流タービン6Aと6Cから出力され
るフィードバック信号を、それぞれ専用の制御装置8Aと
8Bに入力すると同時に、多段軸流タービン6Aから出力さ
れるフィードバック信号を制御装置8Bに入力し、多段軸
流タービン6Cが多段軸流タービン6Aに同期するよう構成
している。
置8A、8Bを有し、多段軸流タービン6Aと6Cから出力され
るフィードバック信号を、それぞれ専用の制御装置8Aと
8Bに入力すると同時に、多段軸流タービン6Aから出力さ
れるフィードバック信号を制御装置8Bに入力し、多段軸
流タービン6Cが多段軸流タービン6Aに同期するよう構成
している。
このように複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互に配
設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射
光を取り出すビームダクトの中間に設け、それぞれの固
定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根の隙間
とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流タービン
を透過するよう構成することによって、減衰の要因とな
るBe板を光路中から除去することが可能になる。
設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射
光を取り出すビームダクトの中間に設け、それぞれの固
定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根の隙間
とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流タービン
を透過するよう構成することによって、減衰の要因とな
るBe板を光路中から除去することが可能になる。
しかもビームダクトにおける排気効率が上昇し被照射タ
ーゲットを、10-1〜10-2Torrの低真空度中や大気圧の作
業領域に設置することができ、10m以上あったビームダ
クト長を1m以下に短縮することが可能になる。即ち波長
に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可能で、ビ
ームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置を実現す
ることができる。
ーゲットを、10-1〜10-2Torrの低真空度中や大気圧の作
業領域に設置することができ、10m以上あったビームダ
クト長を1m以下に短縮することが可能になる。即ち波長
に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可能で、ビ
ームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置を実現す
ることができる。
上述の如く本発明によれば波長に関係なく放射光を効率
よく取り出すことが可能で、ビームダクト長が短く取扱
いの容易な放射線装置を提供することができる。
よく取り出すことが可能で、ビームダクト長が短く取扱
いの容易な放射線装置を提供することができる。
第１図は本発明になる放射線装置の原理を示す模式図、 第２図は多段軸流タービンの構成を示す図、 第３図は固定翼と回転翼の形状を示す図、 第４図は制御装置の一例、 第５図は本発明の第１の実施例を示す模式図、 第６図は本発明の第２の実施例を示す模式図、 第７図は本発明の第３の実施例を示す模式図、 第８図は従来の放射線装置の概要を示す模式図、 である。図において １は放射光、２は電子蓄積リング、 ４はビームダクト、５は作業室、 ６、6A、6B、6Cは多段軸流タービン、 ８は制御装置、41はアパーチャ、 42は光通過孔、43、44、46、52はゲートバルブ、 45、53は排気ダクト、51は被照射ターゲット、 61は固定翼、61aは外輪、 61b、62aは内輪、62は回転翼、 63、65は羽根、64は光通過孔、 66は羽根の隙間、68は外枠、 69は回転軸、70は磁気軸受、 71は固定軸、72は高周波モータ、 73は半径方向マグネット、74は半径方向センサ、 75は軸方向マグネット、76は軸方向センサ、 77は位置検出センサ、78はコネクタ、 79は放射光取出口、81は磁気軸受制御回路、 82は周波数制御回路、 82a、82bは信号入力端子、 82cは信号出力端子、83はモータ駆動回路、 84は保護回路、85は直流電源回路、 をそれぞれ表す。
Claims (1)
- 【請求項１】複数の固定翼（61）と回転翼（62）とが軸
方向に交互に配設された多段軸流タービン（６）を、電
子蓄積リング（２）から放射光（１）を取り出すビーム
ダクト（４）の中間に設け、 それぞれの固定翼（61）の羽根（63）に形成された光通
過孔（64）と、各回転翼（62）の羽根（65）の隙間（6
6）とが直線状に並んだときに、該放射光（１）が該多
段軸流タービン（６）を透過するよう構成されてなるこ
とを特徴とする放射線装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63310422A JPH0695159B2 (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 放射線装置 |
| US07/441,616 US4996700A (en) | 1988-12-08 | 1989-11-27 | Irradiation equipment for applying synchrotron radiation |
| KR8918036A KR930002560B1 (en) | 1988-12-08 | 1989-12-06 | Irradiation equipment of synchrotron radiation |
| EP89122557A EP0373504B1 (en) | 1988-12-08 | 1989-12-07 | Synchrotron radiation irradiation equipment |
| DE68914420T DE68914420T2 (de) | 1988-12-08 | 1989-12-07 | Synchrotron-Bestrahlungsgerät. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63310422A JPH0695159B2 (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 放射線装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02156200A JPH02156200A (ja) | 1990-06-15 |
| JPH0695159B2 true JPH0695159B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=18005069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63310422A Expired - Fee Related JPH0695159B2 (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 放射線装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4996700A (ja) |
| EP (1) | EP0373504B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0695159B2 (ja) |
| KR (1) | KR930002560B1 (ja) |
| DE (1) | DE68914420T2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04369500A (ja) * | 1991-06-18 | 1992-12-22 | Seiko Seiki Co Ltd | 放射線装置 |
| US5195121A (en) * | 1992-01-22 | 1993-03-16 | B.C. Medical Ltd. | X-ray beam modulator |
| JP4235480B2 (ja) | 2002-09-03 | 2009-03-11 | キヤノン株式会社 | 差動排気システム及び露光装置 |
| JP3703447B2 (ja) | 2002-09-06 | 2005-10-05 | キヤノン株式会社 | 差動排気システム及び露光装置 |
| US20050223973A1 (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Infineon Technologies Ag | EUV lithography system and chuck for releasing reticle in a vacuum isolated environment |
| JP4417410B2 (ja) | 2007-08-28 | 2010-02-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 中性子チョッパー |
| WO2009142669A2 (en) * | 2007-12-28 | 2009-11-26 | Gregory Piefer | High energy proton or neutron source |
| EP2513640B1 (en) | 2009-12-15 | 2020-02-05 | Phoenix, LLC | Method and apparatus for performing active neutron interrogation of containers |
| DE102014004994B3 (de) * | 2014-04-02 | 2015-07-23 | Airbus Ds Gmbh | Chopperscheibe sowie Vorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2170980B (en) * | 1985-02-07 | 1988-05-25 | Steve Webb | Ct scanner and detector therefor |
| JPS62222634A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-30 | Fujitsu Ltd | Ｘ線露光方法 |
| DE3806950A1 (de) * | 1988-03-03 | 1989-09-14 | Siemens Ag | Vorrichtung zur belichtung einer mit einer strahlungsempfindlichen schicht versehenen probe |
-
1988
- 1988-12-08 JP JP63310422A patent/JPH0695159B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-11-27 US US07/441,616 patent/US4996700A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-06 KR KR8918036A patent/KR930002560B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-12-07 DE DE68914420T patent/DE68914420T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-07 EP EP89122557A patent/EP0373504B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02156200A (ja) | 1990-06-15 |
| DE68914420D1 (de) | 1994-05-11 |
| EP0373504A1 (en) | 1990-06-20 |
| DE68914420T2 (de) | 1994-07-28 |
| KR900010927A (ko) | 1990-07-11 |
| US4996700A (en) | 1991-02-26 |
| KR930002560B1 (en) | 1993-04-03 |
| EP0373504B1 (en) | 1994-04-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |