JPH0693313A - 金属磁性粉末の製造方法 - Google Patents
金属磁性粉末の製造方法Info
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- JPH0693313A JPH0693313A JP4273596A JP27359692A JPH0693313A JP H0693313 A JPH0693313 A JP H0693313A JP 4273596 A JP4273596 A JP 4273596A JP 27359692 A JP27359692 A JP 27359692A JP H0693313 A JPH0693313 A JP H0693313A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【構成】針状晶の含水酸化鉄表面に金属および/または
非金属化合物層を形成し、その上にアルミニウムおよび
/またはケイ素化合物層を形成した後、これを加熱還元
する金属磁性粉末の製造方法において、アルミニウムお
よび/またはケイ素化合物層を形成するに先立ち、被処
理系のpHを11〜13、温度を60℃以下に保ちなが
ら分散を行なうことを特徴とする金属磁性粉末の製造方
法、並びに、該方法によりアルミニウムおよび/または
ケイ素化合物層を形成した後、該化合物層を有する針状
晶粒子を不活性ガス気流中で高温加熱することにより、
実質的に脱水孔の存在しないスピネル化合物を形成し、
次いで加熱還元することを特徴とする金属磁性粉末の製
造方法。 【効果】本発明によると、従来法と異なり、耐酸化性お
よび磁気特性がともに優れる金属磁性粉末を得ることが
できる。
非金属化合物層を形成し、その上にアルミニウムおよび
/またはケイ素化合物層を形成した後、これを加熱還元
する金属磁性粉末の製造方法において、アルミニウムお
よび/またはケイ素化合物層を形成するに先立ち、被処
理系のpHを11〜13、温度を60℃以下に保ちなが
ら分散を行なうことを特徴とする金属磁性粉末の製造方
法、並びに、該方法によりアルミニウムおよび/または
ケイ素化合物層を形成した後、該化合物層を有する針状
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実質的に脱水孔の存在しないスピネル化合物を形成し、
次いで加熱還元することを特徴とする金属磁性粉末の製
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よび磁気特性がともに優れる金属磁性粉末を得ることが
できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録に用いられる金
属磁性粉末の製造方法に関し、更に詳しくは、還元に供
する前駆体を特定の処理条件により処理することによ
り、磁気特性の優れた金属磁性粉末を製造する方法に関
するものである。
属磁性粉末の製造方法に関し、更に詳しくは、還元に供
する前駆体を特定の処理条件により処理することによ
り、磁気特性の優れた金属磁性粉末を製造する方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】近年、各
種の記録方式の発展は著しいものがあるが、中でも磁気
記録再生装置の小型軽量化の進歩は顕著である。これに
つれて磁気テープ・磁気ディスク等の磁気記録媒体に対
する高性能化の要求が大きくなってきている。磁気記録
に対するこのような要求を満足するためには高い保磁力
と高い飽和磁化を有する磁性粉末が必要である。従来、
磁気記録用の磁性粉末として一般には針状のマグネタイ
トやマグヘマイト又はこれらの磁性酸化鉄粉末をコバル
トで変性したいわゆるコバルト含有酸化鉄が用いられて
いるが、より高出力の媒体を得るためにはより高い保磁
力・飽和磁化を持つ強磁性金属粉末いわゆるメタル磁性
粉が用いられている。このような金属磁性粉末の製造方
法としては種々の方法が提案されているが、経済的な優
位性から一般的には、針状のゲーサイトまたはこれを加
熱脱水して得られる酸化鉄粒子を水素等の還元性ガス雰
囲気中で加熱して金属鉄にまで還元する方法が用いられ
ている。
種の記録方式の発展は著しいものがあるが、中でも磁気
記録再生装置の小型軽量化の進歩は顕著である。これに
つれて磁気テープ・磁気ディスク等の磁気記録媒体に対
する高性能化の要求が大きくなってきている。磁気記録
に対するこのような要求を満足するためには高い保磁力
と高い飽和磁化を有する磁性粉末が必要である。従来、
磁気記録用の磁性粉末として一般には針状のマグネタイ
トやマグヘマイト又はこれらの磁性酸化鉄粉末をコバル
トで変性したいわゆるコバルト含有酸化鉄が用いられて
いるが、より高出力の媒体を得るためにはより高い保磁
力・飽和磁化を持つ強磁性金属粉末いわゆるメタル磁性
粉が用いられている。このような金属磁性粉末の製造方
法としては種々の方法が提案されているが、経済的な優
位性から一般的には、針状のゲーサイトまたはこれを加
熱脱水して得られる酸化鉄粒子を水素等の還元性ガス雰
囲気中で加熱して金属鉄にまで還元する方法が用いられ
ている。
【0003】このようにして得られた金属磁性粉末には
大きな問題が存在する。すなわち、金属磁性粉末は化学
的に不安定であり時間の経過と共に飽和磁化が減少する
という欠点がある。この欠点の解決のために種々提案が
なされており、本発明者らも表面遷移金属層の形成によ
り耐酸化性が向上することを見いだし特許出願済みであ
る(特願平3−104759号、特願平3−10476
0号)。しかしながら、このような方法により耐酸化性
は顕著に向上する一方、新たな問題が生じることが判明
した。即ち、安定性を付与するため種々の金属および/
または非金属化合物をその表面に付着させたことにより
磁気特性(金属磁性粉末においては保磁力、これを用い
て製造した塗膜においては角型比、保磁力分布と考えら
れるSFD等)がやや低下する傾向がみられることであ
る。従って、上記の方法において耐酸化性を維持したま
ま、これらの磁気特性を更に向上させる必要性が生じ
た。本発明の目的は、かかる課題を解決すべく、耐酸化
性および上記磁気特性がともに優れる金属磁性粉末の製
造方法を提供することにある。
大きな問題が存在する。すなわち、金属磁性粉末は化学
的に不安定であり時間の経過と共に飽和磁化が減少する
という欠点がある。この欠点の解決のために種々提案が
なされており、本発明者らも表面遷移金属層の形成によ
り耐酸化性が向上することを見いだし特許出願済みであ
る(特願平3−104759号、特願平3−10476
0号)。しかしながら、このような方法により耐酸化性
は顕著に向上する一方、新たな問題が生じることが判明
した。即ち、安定性を付与するため種々の金属および/
または非金属化合物をその表面に付着させたことにより
磁気特性(金属磁性粉末においては保磁力、これを用い
て製造した塗膜においては角型比、保磁力分布と考えら
れるSFD等)がやや低下する傾向がみられることであ
る。従って、上記の方法において耐酸化性を維持したま
ま、これらの磁気特性を更に向上させる必要性が生じ
た。本発明の目的は、かかる課題を解決すべく、耐酸化
性および上記磁気特性がともに優れる金属磁性粉末の製
造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するために針状晶の含水酸化鉄粒子を出発原料
とし、この表面に各種の金属および/または非金属化合
物層を形成した後、これを加熱還元する金属磁性粉末の
製造方法を検討した結果、各種の金属および/または非
金属化合物層を形成した後、特定の条件でアルミニウム
および/またはケイ素化合物処理を行なうことにより磁
気特性の優れた金属磁性粉末が得られることを見出し、
本発明の完成に至った。
題を解決するために針状晶の含水酸化鉄粒子を出発原料
とし、この表面に各種の金属および/または非金属化合
物層を形成した後、これを加熱還元する金属磁性粉末の
製造方法を検討した結果、各種の金属および/または非
金属化合物層を形成した後、特定の条件でアルミニウム
および/またはケイ素化合物処理を行なうことにより磁
気特性の優れた金属磁性粉末が得られることを見出し、
本発明の完成に至った。
【0005】即ち、本発明の要旨は、(1)針状晶の含
水酸化鉄表面に金属および/または非金属化合物層を形
成し、その上にアルミニウムおよび/またはケイ素化合
物層を形成した後、これを加熱還元する金属磁性粉末の
製造方法において、アルミニウムおよび/またはケイ素
化合物層を形成するに先立ち、被処理系のpHを11〜
13、温度を60℃以下に保ちながら分散を行なうこと
を特徴とする金属磁性粉末の製造方法、(2)前記
(1)記載の方法により被処理系を予め分散してアルミ
ニウムおよび/またはケイ素化合物層を形成した後、該
化合物層を有する針状晶粒子を不活性ガス気流中で高温
加熱することにより、実質的に脱水孔の存在しないスピ
ネル化合物を形成し、次いで該スピネル化合物を加熱還
元することを特徴とする金属磁性粉末の製造方法、
(3)不活性ガス気流中での加熱温度が400℃〜70
0℃である前記(2)記載の製造方法、(4)金属およ
び/または非金属化合物層が、少なくとも2価の遷移金
属化合物を含むものである前記(1)〜(3)いずれか
記載の製造方法、並びに(5)2価の遷移金属化合物が
コバルト化合物である前記(4)記載の製造方法に関す
る。
水酸化鉄表面に金属および/または非金属化合物層を形
成し、その上にアルミニウムおよび/またはケイ素化合
物層を形成した後、これを加熱還元する金属磁性粉末の
製造方法において、アルミニウムおよび/またはケイ素
化合物層を形成するに先立ち、被処理系のpHを11〜
13、温度を60℃以下に保ちながら分散を行なうこと
を特徴とする金属磁性粉末の製造方法、(2)前記
(1)記載の方法により被処理系を予め分散してアルミ
ニウムおよび/またはケイ素化合物層を形成した後、該
化合物層を有する針状晶粒子を不活性ガス気流中で高温
加熱することにより、実質的に脱水孔の存在しないスピ
ネル化合物を形成し、次いで該スピネル化合物を加熱還
元することを特徴とする金属磁性粉末の製造方法、
(3)不活性ガス気流中での加熱温度が400℃〜70
0℃である前記(2)記載の製造方法、(4)金属およ
び/または非金属化合物層が、少なくとも2価の遷移金
属化合物を含むものである前記(1)〜(3)いずれか
記載の製造方法、並びに(5)2価の遷移金属化合物が
コバルト化合物である前記(4)記載の製造方法に関す
る。
【0006】本発明において、金属および/または非金
属化合物層を形成後に行う分散処理は、pH11〜13
の範囲で行うことが必要であり、好ましくはpH11.
5〜13である。pHが11より低いと分散処理の効果
がみられず磁気特性の向上がなくなり、pHが13より
高いと、原因は不明であるが磁気特性(特に保磁力)の
顕著な悪化を生じるためである。また、このときの分散
処理の温度も重要であり、60℃を大きく越えるとpH
が高過ぎた場合と同様、保磁力の低下を生じるため、通
常60℃以下、好ましくは55℃以下で分散処理を行
う。分散処理の時間については、約3時間程度までは時
間とともに性能は向上するが、3時間を越えるとその効
果は緩やかになり、5時間程度でほぼ飽和する。従っ
て、3〜5時間が妥当と考えられるが、長すぎることに
よる不都合は認められない。分散は、通常公知の方法で
行うことができ、例えばパイプライン型分散機、超音波
分散機、ハイシェアミキサー等を用いて行うことができ
る。
属化合物層を形成後に行う分散処理は、pH11〜13
の範囲で行うことが必要であり、好ましくはpH11.
5〜13である。pHが11より低いと分散処理の効果
がみられず磁気特性の向上がなくなり、pHが13より
高いと、原因は不明であるが磁気特性(特に保磁力)の
顕著な悪化を生じるためである。また、このときの分散
処理の温度も重要であり、60℃を大きく越えるとpH
が高過ぎた場合と同様、保磁力の低下を生じるため、通
常60℃以下、好ましくは55℃以下で分散処理を行
う。分散処理の時間については、約3時間程度までは時
間とともに性能は向上するが、3時間を越えるとその効
果は緩やかになり、5時間程度でほぼ飽和する。従っ
て、3〜5時間が妥当と考えられるが、長すぎることに
よる不都合は認められない。分散は、通常公知の方法で
行うことができ、例えばパイプライン型分散機、超音波
分散機、ハイシェアミキサー等を用いて行うことができ
る。
【0007】本発明において、原料として用いられる針
状晶の含水酸化鉄は、一般的に金属磁性粉末の原料とし
て通常用いられるものであれば良く、その軸比、大きさ
等は、特に制限されるものではない。さらに、磁気特性
のコントロールや分散性その他の特性の改良のために種
々の金属元素を含むものであっても差し支えない。
状晶の含水酸化鉄は、一般的に金属磁性粉末の原料とし
て通常用いられるものであれば良く、その軸比、大きさ
等は、特に制限されるものではない。さらに、磁気特性
のコントロールや分散性その他の特性の改良のために種
々の金属元素を含むものであっても差し支えない。
【0008】本発明の製造方法においては、このような
針状晶の含水酸化鉄の粒子表面に、金属および/または
非金属化合物層を形成した後に、前記の分散処理がなさ
れる。ここで、金属および/または非金属化合物層とし
ては、通常少なくとも2価の遷移金属化合物、または2
価の遷移金属化合物を含有する混合物層が挙げられる。
2価の遷移金属化合物としては、例えばCo,Fe,Z
n,Cu,Cr,Ni化合物などが挙げられるが、これ
らに制限されるものではない。これらのうち、特にCo
化合物が耐酸化性が良好であるので好適に用いられる。
2価の遷移金属化合物とともに混合物層を形成する化合
物としてはケイ素、アルミニウム、スズ、チタン化合物
などの公知の化合物等が用いられる。2価の遷移金属化
合物層または2価の遷移金属化合物を含有する混合物層
の量は、2価の遷移金属化合物が含水酸化鉄の鉄原子に
対する重量比として、通常3〜25%、好ましくは7〜
20%である。これは、2価の遷移金属の量が多すぎて
も少なすぎても所望の特性が得られなくなるためであ
る。
針状晶の含水酸化鉄の粒子表面に、金属および/または
非金属化合物層を形成した後に、前記の分散処理がなさ
れる。ここで、金属および/または非金属化合物層とし
ては、通常少なくとも2価の遷移金属化合物、または2
価の遷移金属化合物を含有する混合物層が挙げられる。
2価の遷移金属化合物としては、例えばCo,Fe,Z
n,Cu,Cr,Ni化合物などが挙げられるが、これ
らに制限されるものではない。これらのうち、特にCo
化合物が耐酸化性が良好であるので好適に用いられる。
2価の遷移金属化合物とともに混合物層を形成する化合
物としてはケイ素、アルミニウム、スズ、チタン化合物
などの公知の化合物等が用いられる。2価の遷移金属化
合物層または2価の遷移金属化合物を含有する混合物層
の量は、2価の遷移金属化合物が含水酸化鉄の鉄原子に
対する重量比として、通常3〜25%、好ましくは7〜
20%である。これは、2価の遷移金属の量が多すぎて
も少なすぎても所望の特性が得られなくなるためであ
る。
【0009】針状晶の含水酸化鉄への各種の金属および
/または非金属化合物層の形成は、溶液状態からの不溶
物の析出、コロイド状化合物等の沈着等の公知の方法に
より行なわれる。その具体例としては、針状晶の含水酸
化鉄のアルカリ性スラリーに硫酸塩、硝酸塩等の酸性水
溶性化合物溶液を加え、或は、逆に酸性水溶性化合物水
溶液の針状晶の含水酸化鉄スラリーにアルカリ性水溶液
を加え被処理系のpHを調節することにより不溶性酸化
物ないし水和酸化物を析出させる方法が挙げられる。次
いで、前記のようにpH11〜13での分散処理を行な
った後にアルミニウムおよび/またはケイ素化合物層を
形成させるが、この処理も、同様に被処理系のpHをコ
ントロールすることにより行なうことができる。さら
に、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラエトキシ
シラン等のアルコキシドの加水分解を利用することもで
きる。また、このような分散処理後に形成されるケイ素
および/またはアルミニウム化合物層中のケイ素、アル
ミニウムの量は、含水酸化鉄中の鉄原子に対する重量比
として1〜10%、好ましくは2〜6%である。これ
は、ケイ素、アルミニウムの合計が10%よりも多すぎ
ると得られる金属磁性粉末の飽和磁化がかえって低くな
り望ましくないためである。また、1%未満ではケイ素
および/またはアルミニウム化合物層を形成した効果が
得られないからである。
/または非金属化合物層の形成は、溶液状態からの不溶
物の析出、コロイド状化合物等の沈着等の公知の方法に
より行なわれる。その具体例としては、針状晶の含水酸
化鉄のアルカリ性スラリーに硫酸塩、硝酸塩等の酸性水
溶性化合物溶液を加え、或は、逆に酸性水溶性化合物水
溶液の針状晶の含水酸化鉄スラリーにアルカリ性水溶液
を加え被処理系のpHを調節することにより不溶性酸化
物ないし水和酸化物を析出させる方法が挙げられる。次
いで、前記のようにpH11〜13での分散処理を行な
った後にアルミニウムおよび/またはケイ素化合物層を
形成させるが、この処理も、同様に被処理系のpHをコ
ントロールすることにより行なうことができる。さら
に、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラエトキシ
シラン等のアルコキシドの加水分解を利用することもで
きる。また、このような分散処理後に形成されるケイ素
および/またはアルミニウム化合物層中のケイ素、アル
ミニウムの量は、含水酸化鉄中の鉄原子に対する重量比
として1〜10%、好ましくは2〜6%である。これ
は、ケイ素、アルミニウムの合計が10%よりも多すぎ
ると得られる金属磁性粉末の飽和磁化がかえって低くな
り望ましくないためである。また、1%未満ではケイ素
および/またはアルミニウム化合物層を形成した効果が
得られないからである。
【0010】本発明の製造方法では、以上のようにして
処理された針状晶の含水酸化鉄の還元を行うが、メタル
への還元は水素気流中で350〜550℃に2時間以上
保つ方法等、一般的に用いられる還元法を用いることが
できる。また、還元に先立って、不活性ガス雰囲気で通
常400〜700℃、好ましくは450〜600℃で
0.5〜4時間、好ましくは1〜2時間加熱処理するこ
とにより含水酸化鉄を脱水孔の無いスピネル化合物に変
換することができ、磁気特性をより向上させることがで
きる。不活性ガスとしては特に限定されることはなく、
通常窒素ガス、アルゴンガスなどが用いられるが、安価
である点から好ましくは窒素ガス気流中で行なうのがよ
い。ここでいうスピネル化合物とは酸化鉄を主とした酸
化物であり、面間隔2.97±0.05、2.53±0.05、2.10±0.
05オングストロームに相当する位置にX線回折の主要ピ
ークを有する状態をさしている。このような、高温加熱
処理を特開昭63−61413号公報に記載されている
ように空気中で行なうとスピネル化合物は形成されず、
脱水孔の残ったヘマタイトを形成するに留まり、水素気
流中での還元時に切断が生じてしまい針状性を保持しな
くなる。これにより、目的とする性能をもつ金属磁性粉
末を得ることができなくなる恐れがあるので注意を要す
る。還元終了後のメタル粉は、非常に活性が強く酸化を
受けやすいために、常法により表面酸化処理が行われ、
安定化される。
処理された針状晶の含水酸化鉄の還元を行うが、メタル
への還元は水素気流中で350〜550℃に2時間以上
保つ方法等、一般的に用いられる還元法を用いることが
できる。また、還元に先立って、不活性ガス雰囲気で通
常400〜700℃、好ましくは450〜600℃で
0.5〜4時間、好ましくは1〜2時間加熱処理するこ
とにより含水酸化鉄を脱水孔の無いスピネル化合物に変
換することができ、磁気特性をより向上させることがで
きる。不活性ガスとしては特に限定されることはなく、
通常窒素ガス、アルゴンガスなどが用いられるが、安価
である点から好ましくは窒素ガス気流中で行なうのがよ
い。ここでいうスピネル化合物とは酸化鉄を主とした酸
化物であり、面間隔2.97±0.05、2.53±0.05、2.10±0.
05オングストロームに相当する位置にX線回折の主要ピ
ークを有する状態をさしている。このような、高温加熱
処理を特開昭63−61413号公報に記載されている
ように空気中で行なうとスピネル化合物は形成されず、
脱水孔の残ったヘマタイトを形成するに留まり、水素気
流中での還元時に切断が生じてしまい針状性を保持しな
くなる。これにより、目的とする性能をもつ金属磁性粉
末を得ることができなくなる恐れがあるので注意を要す
る。還元終了後のメタル粉は、非常に活性が強く酸化を
受けやすいために、常法により表面酸化処理が行われ、
安定化される。
【0011】得られた磁気特性に優れた金属磁性粉末は
通常の方法により塗料化、塗工し、磁気記録媒体用塗膜
として使用される。例えば、この金属磁性粉末を、結合
剤樹脂、有機溶剤およびその他の必要成分とともに分散
混合して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上に、ドクターブレード法、グラ
ビア、リバース法、ロール塗りなど任意の手段で塗布
し、必要により磁場配向後、乾燥するなどの方法で行な
う。ここで、結合剤樹脂としては、ポリ塩化ビニル系樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、繊維素系樹
脂、ブチラール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂、イ
ソシアネート化合物など従来から汎用されている結合剤
樹脂がいずれも用いられる。
通常の方法により塗料化、塗工し、磁気記録媒体用塗膜
として使用される。例えば、この金属磁性粉末を、結合
剤樹脂、有機溶剤およびその他の必要成分とともに分散
混合して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上に、ドクターブレード法、グラ
ビア、リバース法、ロール塗りなど任意の手段で塗布
し、必要により磁場配向後、乾燥するなどの方法で行な
う。ここで、結合剤樹脂としては、ポリ塩化ビニル系樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、繊維素系樹
脂、ブチラール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂、イ
ソシアネート化合物など従来から汎用されている結合剤
樹脂がいずれも用いられる。
【0012】また、有機溶剤としては、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどのスルホ
キシド系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの
エーテル系溶剤など、使用する結合剤樹脂を溶解するの
に適した溶剤が、特に制限されることなく単独または二
種以上混合して使用される。なお、磁性塗料中には通常
使用されている各種添加剤、例えば、潤滑剤、研磨剤、
帯電防止剤などを適宜に添加してもよい。このようにし
て形成された磁気記録媒体用塗膜は、用途に応じてテー
プ状あるいはディスク状にカットし、組み上げることに
より、信頼性の高い高性能磁気記録媒体として使用され
る。
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどのスルホ
キシド系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの
エーテル系溶剤など、使用する結合剤樹脂を溶解するの
に適した溶剤が、特に制限されることなく単独または二
種以上混合して使用される。なお、磁性塗料中には通常
使用されている各種添加剤、例えば、潤滑剤、研磨剤、
帯電防止剤などを適宜に添加してもよい。このようにし
て形成された磁気記録媒体用塗膜は、用途に応じてテー
プ状あるいはディスク状にカットし、組み上げることに
より、信頼性の高い高性能磁気記録媒体として使用され
る。
【0013】
【実施例】以下、実施例、比較例により本発明をさらに
詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら制限され
るものではない。
詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら制限され
るものではない。
【0014】実施例1 反応槽の外部にパイプライン型分散機マイルダー(荏原
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ528(花王株式会社製)15g(対粉3
%)を溶解したイオン交換水10リットル中で約1時間
分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3号ケ
イソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。つい
で、硫酸コバルト七水和物270gを1000mlのイ
オン交換水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下し
て、表面にSi/Co化合物の混合物層を被着せしめた
後、残りの硫酸コバルト水溶液の全量を加え、30分間
分散を行なった。その後、1NのNaOH水溶液を滴下
しpHを10としてCo化合物層を形成し、イオン交換
水を用いて洗浄液の電気伝導度が100μS/cm以下
になるまで洗浄してSi/Co化合物の混合物層とCo
化合物層を有するゲーサイトスラリーを得た。このスラ
リーにポイズ528(花王株式会社製)15gとNaO
Hを加え、被処理系のpHを12.3とし、50℃で5
時間分散を行なった。さらに、硫酸バンド(Al2 O3
分9.3%)34gをイオン交換水165gに溶解した
水溶液を滴下し、さらに1Nの硝酸で系のpHが9.2
になるまで中和してアルミニウム化合物層を形成せし
め、この沈澱物を水洗、濾過、乾燥した。このようにし
て得たメタル前駆体を48〜64メッシュに整粒し、内
径62mmの流動槽炉でガス線速度7cm/秒の窒素気流中
500℃で1時間加熱処理を行なった。次いで水素気流
中500℃で6時間還元した。還元終了後、80℃で2
50ppmの酸素を含むチッ素ガスをガス線速度7cm/
秒で30分間通気し、出口酸素濃度が230ppm以上
になるまで表面の酸化を行ない金属磁性粉末を得た。得
られた金属磁性粉末の特性を他の例(実施例2〜5、比
較例1〜5)とともに表1に示す。
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ528(花王株式会社製)15g(対粉3
%)を溶解したイオン交換水10リットル中で約1時間
分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3号ケ
イソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。つい
で、硫酸コバルト七水和物270gを1000mlのイ
オン交換水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下し
て、表面にSi/Co化合物の混合物層を被着せしめた
後、残りの硫酸コバルト水溶液の全量を加え、30分間
分散を行なった。その後、1NのNaOH水溶液を滴下
しpHを10としてCo化合物層を形成し、イオン交換
水を用いて洗浄液の電気伝導度が100μS/cm以下
になるまで洗浄してSi/Co化合物の混合物層とCo
化合物層を有するゲーサイトスラリーを得た。このスラ
リーにポイズ528(花王株式会社製)15gとNaO
Hを加え、被処理系のpHを12.3とし、50℃で5
時間分散を行なった。さらに、硫酸バンド(Al2 O3
分9.3%)34gをイオン交換水165gに溶解した
水溶液を滴下し、さらに1Nの硝酸で系のpHが9.2
になるまで中和してアルミニウム化合物層を形成せし
め、この沈澱物を水洗、濾過、乾燥した。このようにし
て得たメタル前駆体を48〜64メッシュに整粒し、内
径62mmの流動槽炉でガス線速度7cm/秒の窒素気流中
500℃で1時間加熱処理を行なった。次いで水素気流
中500℃で6時間還元した。還元終了後、80℃で2
50ppmの酸素を含むチッ素ガスをガス線速度7cm/
秒で30分間通気し、出口酸素濃度が230ppm以上
になるまで表面の酸化を行ない金属磁性粉末を得た。得
られた金属磁性粉末の特性を他の例(実施例2〜5、比
較例1〜5)とともに表1に示す。
【0015】
【表1】
【0016】次いで、下記塗料配合の配合物をバッチ式
サンドミルで6時間混合後、混合物にコロネートL(日
本ポリウレタン工業株式会社製)2.5重量部を添加
し、さらに15分間混合を行った後、濾過してガラスビ
ーズを分離し、磁性塗料を調製した。この塗料を10μ
m厚のPETフィルム上に乾燥膜厚が3μmになるよう
に塗布し、磁場配向処理後乾燥してPETフィルム上に
磁性層を形成した。次いで、カレンダー処理により鏡面
加工して塗膜を得た。 <塗料配合> 金属磁性粉末 100重量部 レシチン 2 〃 VAGH*1 15 〃 ニッポラン2304*2 10 〃 メチルエチルケトン 150 〃 トルエン 50 〃 シクロヘキサノン 75 〃 (註)*1:ユニオンカーバイド社製塩化ビニル/酢酸
ビニル/ポリビニルアルコール共重合体 *2:日本ポリウレタン工業(株)製のポリウレタン樹
脂
サンドミルで6時間混合後、混合物にコロネートL(日
本ポリウレタン工業株式会社製)2.5重量部を添加
し、さらに15分間混合を行った後、濾過してガラスビ
ーズを分離し、磁性塗料を調製した。この塗料を10μ
m厚のPETフィルム上に乾燥膜厚が3μmになるよう
に塗布し、磁場配向処理後乾燥してPETフィルム上に
磁性層を形成した。次いで、カレンダー処理により鏡面
加工して塗膜を得た。 <塗料配合> 金属磁性粉末 100重量部 レシチン 2 〃 VAGH*1 15 〃 ニッポラン2304*2 10 〃 メチルエチルケトン 150 〃 トルエン 50 〃 シクロヘキサノン 75 〃 (註)*1:ユニオンカーバイド社製塩化ビニル/酢酸
ビニル/ポリビニルアルコール共重合体 *2:日本ポリウレタン工業(株)製のポリウレタン樹
脂
【0017】実施例2〜4 実施例1と同様にSi/Co化合物の混合物層とCo化
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpH、温
度、分散時間を表1のように変えて分散を行なった。そ
の後。実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、
更に同様して塗膜を得た。
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpH、温
度、分散時間を表1のように変えて分散を行なった。そ
の後。実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、
更に同様して塗膜を得た。
【0018】実施例5 実施例1と同様にSi/Co化合物の混合物層とCo化
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.5とし、50℃で5時間分散を行なった。その後、
3号ケイソー(SiO2 分29%)69gを加え、さら
に1時間分散した後、希硝酸を滴下し、pHを6.5に
して、ケイ素化合物層を形成せしめ、この沈澱物を水
洗、濾過、乾燥した。以上のようにして得たメタル前駆
体を実施例1と同様に分級し、熱処理/還元/安定化を
行ない金属磁性粉末を得た。
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.5とし、50℃で5時間分散を行なった。その後、
3号ケイソー(SiO2 分29%)69gを加え、さら
に1時間分散した後、希硝酸を滴下し、pHを6.5に
して、ケイ素化合物層を形成せしめ、この沈澱物を水
洗、濾過、乾燥した。以上のようにして得たメタル前駆
体を実施例1と同様に分級し、熱処理/還元/安定化を
行ない金属磁性粉末を得た。
【0019】比較例1 実施例1と同様にSi/Co化合物の混合物層とCo化
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.5とし、分散を行なうことなく硫酸バンドを加え、
実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同
様して塗膜を得た。
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.5とし、分散を行なうことなく硫酸バンドを加え、
実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同
様して塗膜を得た。
【0020】比較例2 実施例1と同様にSi/Co化合物の混合物層とCo化
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528のみを加え(被処理系のpH:9.
5)、50℃で5時間分散を行なった。その後、実施例
1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同様して
塗膜を得た。
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528のみを加え(被処理系のpH:9.
5)、50℃で5時間分散を行なった。その後、実施例
1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同様して
塗膜を得た。
【0021】比較例3 実施例1と同様にSi/Co化合物の混合物層とCo化
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
3.8とし、50℃で5時間分散を行なった。その後。
実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同
様して塗膜を得た。
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
3.8とし、50℃で5時間分散を行なった。その後。
実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同
様して塗膜を得た。
【0022】比較例4 実施例1と同様にSi/Co化合物の混合物層とCo化
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.4とし、80℃で3時間分散を行なった。その後。
実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同
様して塗膜を得た。
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.4とし、80℃で3時間分散を行なった。その後。
実施例1と同様の操作により金属磁性粉末を得、更に同
様して塗膜を得た。
【0023】比較例5 実施例1と同様にSi/Co化合物の混合物層とCo化
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.5とし、分散することなく3号ケイソーを加え、実
施例5と同様にして金属磁性粉末を得た。
合物層を有するゲーサイトスラリーを得、このスラリー
にポイズ528とNaOHを加え、被処理系のpHを1
2.5とし、分散することなく3号ケイソーを加え、実
施例5と同様にして金属磁性粉末を得た。
【0024】以上の様に、実施例1〜5では高保磁力
(Hc)の金属磁性粉末が得られ、これを用いて得た塗
膜の角型比も高く、SFDも小さい値であり、磁気録媒
体用の塗膜として望ましい特性であった。これに対し、
比較例では保磁力が低く、塗膜の角型比は低く、SFD
が大きかった。
(Hc)の金属磁性粉末が得られ、これを用いて得た塗
膜の角型比も高く、SFDも小さい値であり、磁気録媒
体用の塗膜として望ましい特性であった。これに対し、
比較例では保磁力が低く、塗膜の角型比は低く、SFD
が大きかった。
【0025】
【発明の効果】本発明の製造方法によると、従来法と異
なり、耐酸化性および磁気特性がともに優れる金属磁性
粉末を得ることができる。
なり、耐酸化性および磁気特性がともに優れる金属磁性
粉末を得ることができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 針状晶の含水酸化鉄表面に金属および/
または非金属化合物層を形成し、その上にアルミニウム
および/またはケイ素化合物層を形成した後、これを加
熱還元する金属磁性粉末の製造方法において、アルミニ
ウムおよび/またはケイ素化合物層を形成するに先立
ち、被処理系のpHを11〜13、温度を60℃以下に
保ちながら分散を行なうことを特徴とする金属磁性粉末
の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の方法により被処理系を予
め分散してアルミニウムおよび/またはケイ素化合物層
を形成した後、該化合物層を有する針状晶粒子を不活性
ガス気流中で高温加熱することにより、実質的に脱水孔
の存在しないスピネル化合物を形成し、次いで該スピネ
ル化合物を加熱還元することを特徴とする金属磁性粉末
の製造方法。 - 【請求項3】 不活性ガス気流中での加熱温度が400
℃〜700℃である請求項2記載の製造方法。 - 【請求項4】 金属および/または非金属化合物層が、
少なくとも2価の遷移金属化合物を含むものである請求
項1〜3いずれか記載の製造方法。 - 【請求項5】 2価の遷移金属化合物がコバルト化合物
である請求項4記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4273596A JPH0693313A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | 金属磁性粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4273596A JPH0693313A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | 金属磁性粉末の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0693313A true JPH0693313A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17529985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4273596A Pending JPH0693313A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | 金属磁性粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0693313A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103121106A (zh) * | 2012-12-28 | 2013-05-29 | 六安市晖润粉末新材料有限公司 | 一种电解铜粉干燥和还原连续处理装置及工艺 |
-
1992
- 1992-09-16 JP JP4273596A patent/JPH0693313A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103121106A (zh) * | 2012-12-28 | 2013-05-29 | 六安市晖润粉末新材料有限公司 | 一种电解铜粉干燥和还原连续处理装置及工艺 |
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