JPH0691857A - オフセット機械における水性インク平衡を制御するための方法および装置 - Google Patents
オフセット機械における水性インク平衡を制御するための方法および装置Info
- Publication number
- JPH0691857A JPH0691857A JP3310466A JP31046691A JPH0691857A JP H0691857 A JPH0691857 A JP H0691857A JP 3310466 A JP3310466 A JP 3310466A JP 31046691 A JP31046691 A JP 31046691A JP H0691857 A JPH0691857 A JP H0691857A
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- Japan
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- area
- offset
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F33/00—Indicating, counting, warning, control or safety devices
- B41F33/0063—Devices for measuring the thickness of liquid films on rollers or cylinders
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F33/00—Indicating, counting, warning, control or safety devices
- B41F33/0054—Devices for controlling dampening
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S101/00—Printing
- Y10S101/45—Sensor for ink or dampening fluid thickness or density
Landscapes
- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
- Rotary Presses (AREA)
- Color Image Communication Systems (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 永久的に水性インク平衡を制御し，印刷シリ
ンダの表面の欠陥およびミスアラインメイトに関する問
題を克服する。 【構成】 シリンダ１上に固定されたオフセット版２を
含むオフセット機械において，垂直入射の下でその濃度
が知られている運転中のオフセット版２の予め定められ
た領域３５をコヒーレント光源３０で照射するステップ
と、収束レンズ３２の焦平面において照射された領域３
５の平面に垂直な軸のまわりで再び出された光の部分を
収集するステップと、焦平面の少なくとも１つの領域に
おいて光強度を測定するステップとを含む。
ンダの表面の欠陥およびミスアラインメイトに関する問
題を克服する。 【構成】 シリンダ１上に固定されたオフセット版２を
含むオフセット機械において，垂直入射の下でその濃度
が知られている運転中のオフセット版２の予め定められ
た領域３５をコヒーレント光源３０で照射するステップ
と、収束レンズ３２の焦平面において照射された領域３
５の平面に垂直な軸のまわりで再び出された光の部分を
収集するステップと、焦平面の少なくとも１つの領域に
おいて光強度を測定するステップとを含む。
Description
【０００１】
【発明の背景】この発明はオフセット機械に関しかつよ
り特定的にはオフセット版のインキングおよび湿潤法に
関する。
り特定的にはオフセット版のインキングおよび湿潤法に
関する。
【０００２】この発明が解決しようと意図する問題に言
及する前に、オフセット機械の動作が簡単に説明される
であろう。
及する前に、オフセット機械の動作が簡単に説明される
であろう。
【０００３】図１はオフセット機械の単純化された例示
的な機構を示す。オフセット版２が設けられる印刷シリ
ンダ１は最初に湿潤ローラ３ａおよび３ｂに接触し、そ
れからインキングローラ４ａおよび４ｂに接触する。版
２上のインクはそれからいわゆるブランケットまたはシ
リンダ５上へと移される。ブランケット５は押圧シリン
ダ６に接触する。シリンダ５と６との間を通る１枚の紙
７はブランケット５上にあるインクによって印刷され
る。
的な機構を示す。オフセット版２が設けられる印刷シリ
ンダ１は最初に湿潤ローラ３ａおよび３ｂに接触し、そ
れからインキングローラ４ａおよび４ｂに接触する。版
２上のインクはそれからいわゆるブランケットまたはシ
リンダ５上へと移される。ブランケット５は押圧シリン
ダ６に接触する。シリンダ５と６との間を通る１枚の紙
７はブランケット５上にあるインクによって印刷され
る。
【０００４】オフセット版の表面は、インキング位相の
間、インクが画像を構成するために版の所望の領域にの
み置かれるように構成される。
間、インクが画像を構成するために版の所望の領域にの
み置かれるように構成される。
【０００５】図２はオフセット版２の断面の拡大図であ
る。樹脂フィルムは版２の粗い表面２０上に置かれ、そ
れから再生されるべき画像の機能としてエッチングさ
れ、一方で可変的な大きさを有する樹脂ドット２１およ
び樹脂のない領域２２を残す。「濃度」（density ）は
以下に、ドット２１の表面と領域２２の表面との間の比
率と呼ばれるであろう。ローラ３による湿潤の間、表面
２０のギザギザは水を集め、それは疎水性であるドット
２１によってさらにはじかれる。それから、ローラ４に
よるインキングの間、脂を含みかつそれゆえに疎水性で
あるインクはさらに油を引付けるドット２１上に本質的
に堆積する。
る。樹脂フィルムは版２の粗い表面２０上に置かれ、そ
れから再生されるべき画像の機能としてエッチングさ
れ、一方で可変的な大きさを有する樹脂ドット２１およ
び樹脂のない領域２２を残す。「濃度」（density ）は
以下に、ドット２１の表面と領域２２の表面との間の比
率と呼ばれるであろう。ローラ３による湿潤の間、表面
２０のギザギザは水を集め、それは疎水性であるドット
２１によってさらにはじかれる。それから、ローラ４に
よるインキングの間、脂を含みかつそれゆえに疎水性で
あるインクはさらに油を引付けるドット２１上に本質的
に堆積する。
【０００６】版２上に堆積された水およびインクのそれ
ぞれの量に従って、インクの適用範囲比率が変化し、す
なわち、インクはドット２１をいくらか覆い、一方で水
はその残りの表面を占有する。こうして、直面する問題
点は、インクがドット２１を厳密に覆い、言換えれば適
用範囲比率が濃度と等しくなるような理想の状態に対応
する水性インク平衡からできるだけかけはなれないよう
にすることである。
ぞれの量に従って、インクの適用範囲比率が変化し、す
なわち、インクはドット２１をいくらか覆い、一方で水
はその残りの表面を占有する。こうして、直面する問題
点は、インクがドット２１を厳密に覆い、言換えれば適
用範囲比率が濃度と等しくなるような理想の状態に対応
する水性インク平衡からできるだけかけはなれないよう
にすることである。
【０００７】適切な動作のために、水およびインクのそ
れぞれの量は決められた限界内に分布しなければなら
ず、すなわちブランケット５上に移されるときにインク
が滲む上限および領域２２内の水がギザギザの表面２０
の尖端を完全には覆わない下限においてである。もし下
限が観察されなければ、インクはまた領域２２にくっつ
きかつオフセット版を掃除する必要性が生じる。
れぞれの量は決められた限界内に分布しなければなら
ず、すなわちブランケット５上に移されるときにインク
が滲む上限および領域２２内の水がギザギザの表面２０
の尖端を完全には覆わない下限においてである。もし下
限が観察されなければ、インクはまた領域２２にくっつ
きかつオフセット版を掃除する必要性が生じる。
【０００８】従来のオフセット機械において、水性イン
ク平衡は湿潤およびインキングの別個の手動の調整によ
って得られる。これらの調整の効果は各々の画像と同時
に印刷される制御バーによって制御されがちである。制
御バーは異なるドットサイズおよび異なる理想の適用範
囲比率を有するいくつかのスクリーンされた（screene
d）領域を含む。これらの制御バーは印刷されたシート
上の光学濃度計で観察されまたは検査され、湿潤および
インキング調整が再び調整されるかどうかを決定する。
ク平衡は湿潤およびインキングの別個の手動の調整によ
って得られる。これらの調整の効果は各々の画像と同時
に印刷される制御バーによって制御されがちである。制
御バーは異なるドットサイズおよび異なる理想の適用範
囲比率を有するいくつかのスクリーンされた（screene
d）領域を含む。これらの制御バーは印刷されたシート
上の光学濃度計で観察されまたは検査され、湿潤および
インキング調整が再び調整されるかどうかを決定する。
【０００９】フランス特許出願ＦＲ−Ａ−２、５５６、
２８３（１９８３年１２月１３日の米国特許出願第５６
０、８３７号および１９８４年６月７日の米国特許出願
第６１８、２５２号の優先権の下で）は運転中のインキ
ングローラ上に存在する平均的な水の量を測定するため
のシステムを説明する。ローラは非垂直入射の下で照射
されかつ反射された光はいくつかの光学センサによって
集められる。これらのセンサによって与えられた信号は
それからローラ上の平均的な水の量の指示を得るために
処理される。このシステムの欠点は、オフセット版の適
用範囲比率上にいずれの指示も得られないが、それは上
で示されたように、水性インク平衡を検出するために不
可欠なものなのである。さらなる欠点は垂直とは異なる
入射の下でのローラの照射に関連し、それは表面の欠陥
およびローラのミスアラインメントに依存するセンサで
の強度変動を引起こす。
２８３（１９８３年１２月１３日の米国特許出願第５６
０、８３７号および１９８４年６月７日の米国特許出願
第６１８、２５２号の優先権の下で）は運転中のインキ
ングローラ上に存在する平均的な水の量を測定するため
のシステムを説明する。ローラは非垂直入射の下で照射
されかつ反射された光はいくつかの光学センサによって
集められる。これらのセンサによって与えられた信号は
それからローラ上の平均的な水の量の指示を得るために
処理される。このシステムの欠点は、オフセット版の適
用範囲比率上にいずれの指示も得られないが、それは上
で示されたように、水性インク平衡を検出するために不
可欠なものなのである。さらなる欠点は垂直とは異なる
入射の下でのローラの照射に関連し、それは表面の欠陥
およびローラのミスアラインメントに依存するセンサで
の強度変動を引起こす。
【００１０】
【発明の概要】この発明の目的は永久的に水性インク平
衡に指示を与えることである。
衡に指示を与えることである。
【００１１】この発明のさらなる目的は表面の欠陥およ
びミスアラインメントに関する問題を克服することであ
る。
びミスアラインメントに関する問題を克服することであ
る。
【００１２】この発明のこれらのおよび他の目的はシリ
ンダに固定されたオフセット版を含むオフセット機械に
おける水性インク平衡を制御するための方法によって達
成される。方法は以下のステップを含み、それらは垂直
入射の下で、その濃度が知られている運動中のオフセッ
ト版の予め定められた領域をコヒーレント光源で照射す
るステップと、収束光学系の焦平面において照射された
領域の平面に垂直な軸のまわりで再び出された光の部分
を集めるステップと、焦平面の少なくとも１つの領域に
おいて光強度を測定するステップとを含む。
ンダに固定されたオフセット版を含むオフセット機械に
おける水性インク平衡を制御するための方法によって達
成される。方法は以下のステップを含み、それらは垂直
入射の下で、その濃度が知られている運動中のオフセッ
ト版の予め定められた領域をコヒーレント光源で照射す
るステップと、収束光学系の焦平面において照射された
領域の平面に垂直な軸のまわりで再び出された光の部分
を集めるステップと、焦平面の少なくとも１つの領域に
おいて光強度を測定するステップとを含む。
【００１３】この発明の実施例に従って、光強度は軸の
まわりで測定される。この発明の実施例に従って、光強
度はレンズ軸から少なくとも１つの領域を離れたところ
においてさらに測定される。
まわりで測定される。この発明の実施例に従って、光強
度はレンズ軸から少なくとも１つの領域を離れたところ
においてさらに測定される。
【００１４】この発明の実施例に従って、予め定められ
た領域はいつもスクリーンされた領域である。
た領域はいつもスクリーンされた領域である。
【００１５】この発明の実施例に従って、予め定められ
た領域はオフセット版の動きと同期して照射される。
た領域はオフセット版の動きと同期して照射される。
【００１６】この方法を実行するために、この発明はシ
リンダ上に固定されたオフセット版およびこの版を湿潤
しかつインキングするためのシステムを含むオフセット
機械における水性インク平衡を調整するための装置をさ
らに提供する。装置は、垂直入射の下で運転中のオフセ
ット版の予め定められた領域を照射するコヒーレント光
源と、この領域によって再び出された光の一部を集め
る、軸上にかつ収束光学系の焦平面において位置された
センサを含む測定セルと、オフセット版の湿潤およびま
たはインキングを調整するための、センサによって与え
られた信号に敏感なサーボ制御システムとを含む。
リンダ上に固定されたオフセット版およびこの版を湿潤
しかつインキングするためのシステムを含むオフセット
機械における水性インク平衡を調整するための装置をさ
らに提供する。装置は、垂直入射の下で運転中のオフセ
ット版の予め定められた領域を照射するコヒーレント光
源と、この領域によって再び出された光の一部を集め
る、軸上にかつ収束光学系の焦平面において位置された
センサを含む測定セルと、オフセット版の湿潤およびま
たはインキングを調整するための、センサによって与え
られた信号に敏感なサーボ制御システムとを含む。
【００１７】この発明の実施例に従って、少なくとも第
２のセンサが収束光学系の焦平面において軸から離れて
位置され、かつ手段はこの第２のセンサの信号からの最
小限の湿潤を決定するためのサーボ制御システムに作用
するために設けられる。
２のセンサが収束光学系の焦平面において軸から離れて
位置され、かつ手段はこの第２のセンサの信号からの最
小限の湿潤を決定するためのサーボ制御システムに作用
するために設けられる。
【００１８】
【発明の説明】図３は水性インク平衡上に指示を与える
ためのこの発明に従う装置を示す。装置は従来のオフセ
ット機械、たとえば図１のそれに適合される。レーザの
ようなコヒーレント光源３０はミラー３１上で反射され
るビームを与え、運転中のオフセット版２上に光点を、
その表面に対して垂直に投影する。収束レンズ３２は、
その軸が版２に対して垂直であり、ミラー３１を支えか
つ版の照射された領域によって再び出された光を集め
る。２つのセンサ３３および３４はレンズ３２の焦平面
に位置され、センサ３３はレンズ軸内に置かれる。
ためのこの発明に従う装置を示す。装置は従来のオフセ
ット機械、たとえば図１のそれに適合される。レーザの
ようなコヒーレント光源３０はミラー３１上で反射され
るビームを与え、運転中のオフセット版２上に光点を、
その表面に対して垂直に投影する。収束レンズ３２は、
その軸が版２に対して垂直であり、ミラー３１を支えか
つ版の照射された領域によって再び出された光を集め
る。２つのセンサ３３および３４はレンズ３２の焦平面
に位置され、センサ３３はレンズ軸内に置かれる。
【００１９】版２を垂直に照射しかつ垂直の方向に再び
出された光を集めることによって装置がシリンダ１の表
面の欠陥およびミスアラインメントに対して実際的に敏
感でなくならせる。
出された光を集めることによって装置がシリンダ１の表
面の欠陥およびミスアラインメントに対して実際的に敏
感でなくならせる。
【００２０】上記のシステムは光源３０が版２の予め定
められた領域３５を照射するまさしくその時に活性化さ
れ、その特性、特に濃度は知られている。この予め定め
られた領域は、たとえば各々の画像と同時に印刷された
制御バーのスクリーンされた領域の１つである。
められた領域３５を照射するまさしくその時に活性化さ
れ、その特性、特に濃度は知られている。この予め定め
られた領域は、たとえば各々の画像と同時に印刷された
制御バーのスクリーンされた領域の１つである。
【００２１】この特定配置およびコヒーレント光源の使
用はレンズ３２の焦平面において領域３５から再び出さ
れた波のフーリエ変換（Fourier transform ）を得るこ
とを可能にする。このフーリエ変換の平均値はセンサ３
３によって測定された光強度であり、領域３５の適用範
囲比率の変動に関して逆に変化するということが証明さ
れてきた。この領域の濃度が知られているので、領域が
有すべき水性インク平衡もまた知られている。
用はレンズ３２の焦平面において領域３５から再び出さ
れた波のフーリエ変換（Fourier transform ）を得るこ
とを可能にする。このフーリエ変換の平均値はセンサ３
３によって測定された光強度であり、領域３５の適用範
囲比率の変動に関して逆に変化するということが証明さ
れてきた。この領域の濃度が知られているので、領域が
有すべき水性インク平衡もまた知られている。
【００２２】こうして、全体の状態を反射する決定され
た領域３５を考慮することによって、以下のように水性
インク平衡全体を維持するためにサーボ制御システム３
８における湿潤およびまたはインキングの調整を訂正す
ることが可能である。センサ３３によって与えられた信
号Ｉと、水性インク平衡が領域３５において達成される
ときセンサによって与えられた信号に対応する基準信号
ＩO との間の差異が確立される。それから、湿潤および
またはインキングはたとえばＩないしＩO の差異を削減
するために、かつ理想的に取消すためにＩO −Ｉにかつ
Ｉ−ＩO のそれぞれに比例して作動される。
た領域３５を考慮することによって、以下のように水性
インク平衡全体を維持するためにサーボ制御システム３
８における湿潤およびまたはインキングの調整を訂正す
ることが可能である。センサ３３によって与えられた信
号Ｉと、水性インク平衡が領域３５において達成される
ときセンサによって与えられた信号に対応する基準信号
ＩO との間の差異が確立される。それから、湿潤および
またはインキングはたとえばＩないしＩO の差異を削減
するために、かつ理想的に取消すためにＩO −Ｉにかつ
Ｉ−ＩO のそれぞれに比例して作動される。
【００２３】レンズ軸から離れたレンズ３２の焦平面の
リングの範囲内で、第２の光スポットが生じ、その特性
はそれらが強度を有し、それは考慮された領域３５にお
いてオフセット版２上に堆積された水の量が下限に達す
るときに不意に降下し、すなわち、再び図２を参照する
と、湿潤の間、オフセット版上に堆積された水はギザギ
ザの表面２０の尖端を完全に覆いはしないということで
ある。こうして、センサ３４がこの第２の強度を測定し
ながら、下限が注意されるかどうかを制御することもま
た可能である。この情報はまた湿潤調整を訂正するため
のサーボ制御システム３８によって有利に使用され得
る。
リングの範囲内で、第２の光スポットが生じ、その特性
はそれらが強度を有し、それは考慮された領域３５にお
いてオフセット版２上に堆積された水の量が下限に達す
るときに不意に降下し、すなわち、再び図２を参照する
と、湿潤の間、オフセット版上に堆積された水はギザギ
ザの表面２０の尖端を完全に覆いはしないということで
ある。こうして、センサ３４がこの第２の強度を測定し
ながら、下限が注意されるかどうかを制御することもま
た可能である。この情報はまた湿潤調整を訂正するため
のサーボ制御システム３８によって有利に使用され得
る。
【００２４】この発明に従う装置はいかなるオフセット
機械にも適用し得、かつサーボ制御システムに相関であ
り、当業者によって容易に達成され、湿潤およびまたは
インキング調整に対して作動することを可能にする。
機械にも適用し得、かつサーボ制御システムに相関であ
り、当業者によって容易に達成され、湿潤およびまたは
インキング調整に対して作動することを可能にする。
【００２５】この発明の様々な代替物および修正は当業
者には明らかであろう。たとえば、照射された領域に垂
直な軸のあたりで再び出された光を集めるために、レン
ズの代わりにいずれかの他の収束光学および光収集系を
使用しかつこの光学系の焦平面に検出器を置くことが可
能である。方法の安定性を改良するためにいくつかの異
なってスクリーンされた領域の発展を制御するために装
置の数を増加させることもまた可能である。また、光源
を偏光させかつ交差偏光状態の下での光を分析し感度を
増加させることが可能である。
者には明らかであろう。たとえば、照射された領域に垂
直な軸のあたりで再び出された光を集めるために、レン
ズの代わりにいずれかの他の収束光学および光収集系を
使用しかつこの光学系の焦平面に検出器を置くことが可
能である。方法の安定性を改良するためにいくつかの異
なってスクリーンされた領域の発展を制御するために装
置の数を増加させることもまた可能である。また、光源
を偏光させかつ交差偏光状態の下での光を分析し感度を
増加させることが可能である。
【００２６】この発明の前述および他の目的、特徴なら
びに利点は添付の図面において示されるように好ましい
実施例の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
びに利点は添付の図面において示されるように好ましい
実施例の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
【００２７】図面において、同じ参照番号が同じ要素を
示す。
示す。
【図１】上で説明された技術の状態を示す図である。
【図２】上で説明された技術の状態を示す図である。
【図３】この発明に従う実施例を示す図である。
１ 印刷シリンダ ２ オフセット版 ３ ローラ ３０ コヒーレント光源 ３２ 収束光学系 ３５ 領域 ３８ サーボ制御システム
フロントページの続き (71)出願人 591263422 ローレン・バルドゥッチ ＬＡＵＲＥＮＴ ＢＡＬＤＵＣＣＩ フランス、78190 トラッペ、リュ・ド ゥ・ベ・エア、33 (72)発明者 ローレン・バルドゥッチ フランス、78190 トラッペ、リュ・ド ゥ・ベ・エア、33
Claims (7)
- 【請求項１】 シリンダ（１）上に固定されたオフセッ
ト版（２）を含むオフセット機械における水性インク平
衡を制御するための方法であって、 垂直入射の下で、その濃度が知られている運転中の前記
オフセット版（２）の予め定められた領域（３５）をコ
ヒーレント光源（３０）で照射するステップと、 収束光学系（３２）の焦平面において前記照射された領
域（３５）の平面に垂直な軸のまわりで再び出された光
の一部を収集するステップと、 焦平面の少なくとも１つの領域において光強度を測定す
るステップとを含む方法。 - 【請求項２】 光強度が前記軸のまわりで測定される、
請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記光強度がレンズ軸から離れた少なく
とも１つの領域においてさらに測定される、請求項２に
記載の方法。 - 【請求項４】 前記予め定められた領域（３５）が規則
正しくスクリーンされた領域である、請求項１に記載の
方法。 - 【請求項５】 前記予め定められた領域（３５）がオフ
セット版の動作と同期して照射される、請求項１に記載
の方法。 - 【請求項６】 シリンダ（１）上に固定されたオフセッ
ト版（２）および前記版を湿潤かつインキングするため
のシステムを含むオフセット機械における水性インク平
衡を調整するための装置であって、 垂直入射の下で運転中の前記オフセット版（２）の前記
予め定められた領域（３５）を照射するコヒーレント光
源（３０）と、 前記領域（３５）によって再び出された光の一部を集め
る、軸にかつ収束光学系（３２）の焦平面に位置される
センサ（３３）を含む測定セルと、 前記センサ（３３）によって与えられた信号に敏感で前
記オフセット版（２）の湿潤およびまたはインキングを
調整するためのサーボ制御システム（３８）とを含む装
置。 - 【請求項７】 前記収束光学系（３２）の焦平面におい
て軸から離れて位置された少なくとも１つの第２のセン
サと、前記第２のセンサの信号からの最小限の湿潤を決
定するためのサーボ制御システムに作動するための手段
とを含む、請求項６に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9015385A FR2669855B1 (fr) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Procede et dispositif de regulation de l'equilibre eau-encre sur une plaque de machine-offset. |
| FR90/15385 | 1990-11-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0691857A true JPH0691857A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=9403029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3310466A Withdrawn JPH0691857A (ja) | 1990-11-30 | 1991-11-26 | オフセット機械における水性インク平衡を制御するための方法および装置 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5249036A (ja) |
| EP (1) | EP0488910B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0691857A (ja) |
| AT (1) | ATE129192T1 (ja) |
| CA (1) | CA2056171A1 (ja) |
| DE (1) | DE69113957T2 (ja) |
| ES (1) | ES2082170T3 (ja) |
| FR (1) | FR2669855B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AUPQ611200A0 (en) * | 2000-03-09 | 2000-03-30 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Determination of change in thickness of dampening solution on offset printing rollers |
| SE0003840L (sv) * | 2000-10-23 | 2002-04-24 | Baldwin Jimek Ab | Sätt och anordning för detektering av toning i en tryckpress |
| UA64588A (en) * | 2003-07-01 | 2004-02-16 | Pavlo Valentynovych Kandaurov | Method for monitoring the layer of fountain solution on printing plate |
| US6796227B1 (en) | 2003-08-18 | 2004-09-28 | Quad Tech | Lithographic press dampening control system |
| DE102008000031B4 (de) * | 2008-01-10 | 2014-07-10 | Koenig & Bauer Aktiengesellschaft | Verfahren zur Kontrolle einer Anordnung von an Formzylindern einer Druckmaschine angeordneten Druckformen |
| EP2380741A1 (de) | 2010-04-23 | 2011-10-26 | GVT GmbH | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicke einer Feuchtmittel- oder Farbemulsionsschicht im Offset-Druckverfahren |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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