JPH06812A - 御影石表面加工方法 - Google Patents

御影石表面加工方法

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JPH06812A
JPH06812A JP4186096A JP18609692A JPH06812A JP H06812 A JPH06812 A JP H06812A JP 4186096 A JP4186096 A JP 4186096A JP 18609692 A JP18609692 A JP 18609692A JP H06812 A JPH06812 A JP H06812A
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JP
Japan
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granite
plate
stone plate
laser
stone
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Application number
JP4186096A
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English (en)
Inventor
Katsuro Hayashi
勝郎 林
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HIITO PARTS KK
Original Assignee
HIITO PARTS KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な作業によって所望の模様を施した石板
を提供することが可能な御影石表面加工方法を提供する
ことを目的とする。 【構成】 所定の厚みで所定の大きさに成形された御影
石製の石板上に予め所定の形状に切抜加工されたマスキ
ングプレートを載置し、その状態でレーザを照射するこ
とによりマスキングプレートの切抜部を介して露出して
いる石板の表面を所定の厚みで削り落とし、それによっ
て石板の表面に所定の模様を施すようにしたものであ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本願発明は、御影石(花崗岩)製
の石板の表面に任意の加工を施す御影石表面加工方法に
係り、特に、レーザを照射することにより任意の模様等
を容易に施すことを可能にするものに関する。
【0002】
【従来の技術】御影石は花崗岩の俗称であって、石英、
正長石、斜長石、雲母等を主成分とする岩石であり、完
晶質粒状の組織をなしていてその質が堅牢であって美麗
であるという特質を有している。そのため、各種建築物
の外装、敷石、公園の敷石等に広く使用されている。例
えば、御影石を所定の厚みで所定の大きさに切断して石
板を成形し、その表面に任意の模様を凹凸状に刻んで、
上記各種建築物の外装材、敷石として、或いは、公園の
敷石として使用するものである。特に、各種建築物内の
敷石として使用する場合には、石板をそのまま敷き詰め
ただけでは歩行者が滑ってしまって危険であるために、
滑り止めの意味を兼ねて模様を凹凸をもった状態で形成
するものである。
【0003】さて、御影石製の石板の表面に凹凸状の模
様を形成する方法としては、例えば、ブラスト加工法が
ある。これを図5を参照して説明する。まず、所定の厚
みで所定の大きさに成形された御影石製の石板101を
配置する。この石板101の上にゴム製のマスキングプ
レート103を載置する。このマスキングプレート10
3は所定の形状に切り抜かれたものである。次に、エア
ーノズル105より圧縮空気と共に石又はスチールの粒
109を吹き付ける。それによって、マスキングプレー
ト103の切抜部107の部分の石板101の表面が削
られることになり、上記切抜部107に沿った模様が凹
んだ状態で形成されることになる。
【0004】又、別の方法としてバーナー加工法があ
る。このバーナー加工法を図6を参照して 説明する。
この場合には、ノズル105よりバーナー炎111を噴
出し、それによって、切抜部107に沿った模様が凹ん
だ状態で形成されることになる。尚、この場合には、マ
スキングプレート103として鋼板製のものを使用す
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成による
と次のような問題があった。まず、ブラスト加工法の場
合には、石やスチールの粒109を石板101の表面に
叩き付けることにより表面を削るために、表面が白色化
してしまって良好な仕上げ状態を得ることができないと
いう問題があった。又、切抜部107の境界部分を鮮明
に仕上げることが困難であるとともに、加工効率が低い
という問題があった。
【0006】又、バーナー加工法の場合には、熱伝導に
よって熱が石板101の広い範囲に伝わってしまうため
に、マスキングプレート103の切抜部107以外の部
分の石板101にも変化が現れてしまい、仕上精度が悪
いという問題があった。特に、マスキングプレート10
3の切抜部107の境界部では、上記ブラスト加工法の
場合と同様に鮮明に仕上がらないという問題があった。
又、ブラスト加工法及びバーナー加工法の場合には、石
板101がある程度厚くないと加工ができないという問
題があった。具体的には、最低20乃至25mm程度の厚
みがないと加工中に石板101が割れてしまうことがあ
る。よって、それ以下の厚みの石板101を必要とする
場合には、図7に示すように、厚い石板101の両面に
加工を施した後、それを二枚に切断して(切断線を符号
113で示す)所望の厚みの石板101’、101’を
得るといった方法が採用されており、煩雑な作業を余儀
無くされていた。
【0007】又、石板の表面に加工を施すものとして、
例えば、特開平3−174376号公報に示すようなも
のがある。これは、大理石や花崗岩のように硬度が比較
的高い石材ではなく、吸水性が高くて表面硬さ、耐磨耗
性、耐蝕性に問題がある石材、例えば、大谷石の表面に
レーザを照射してその表面に溶融硬化処理を施すという
ものである。しかしながら、これは、大谷石の表面にレ
ーザを照射してその表面に溶融硬化処理を施して美観や
硬度を高めるためのものであり、御影石製の石板に凹凸
状の模様を形成するものではなく、御影石製の石板の表
面加工については、依然として上記したようなブラスト
加工法やバーナー加工法に頼らざるを得なかった。
【0008】本発明はこのような点に基づいてなされた
ものでその目的とするところは、簡単な作業によって御
影石製の石板の表面に加工を施すことを可能にする御影
石表面加工方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するべく
本願発明による御影石表面加工方法は、所定の厚みで所
定の大きさに成形された御影石製の石板上に予め所定の
形状に切抜加工されたマスキングプレートを載置し、そ
の状態でレーザを照射することによりマスキングプレー
トの切抜部を介して露出している石板の表面を所定の厚
みで削り落とし、それによって石板の表面に所定の模様
を施すようにしたことを特徴とするものである。その
際、レーザを集光レンズにより集光させ、レーザ切断焦
点を過ぎて所定のビーム幅になったところで石板に照射
させるようにすることが考えられる。
【0010】
【作用】予め、マスキングプレートに所定の切抜加工を
施しておき、これを被加工対象物である御影石製の石板
上に載置する。その状態でレーザを照射してマスキング
プレートの切抜部を介して露出している石板の表面を所
定の厚みで剥離させる。後は、マスキングプレートを撤
去すれば所定の模様が凹凸状に形成された御影石製の石
板を得ることができる。尚、マスキングプレートにどの
ような切抜加工を施すかについては任意であり、石板上
に施す模様に応じて任意に決定すればよい。又、マスキ
ングフレートの材質としては、例えば、鋼板製のものが
考えられるが、それ以外の材質のものを使用してもよ
い。又、レーザを集光レンズにより集光させ、レーザ切
断焦点を過ぎて所定のビーム幅になったところで石板に
照射させるようにした場合には、レーザのエネルギー密
度を適宜減少させて照射面の温度を任意に設定すること
ができ、適切なレーザ照射状況を提供して薄い石板に対
しても所望の加工を施すことができる。
【0011】
【実施例】以下、図1乃至図4を参照して本発明の一実
施例を説明する。図1及び図2に示すように、まず、所
定の厚みで所定の大きさに成形された御影石製の石板1
を設置する。この石板1の表面は高度に研磨さされてい
て光沢をもった仕上面になっている。又、石板1の厚み
は10mmである。一方、鋼板製のマスキングプレート3
を準備しておく、このマスキングプレート3には所定形
状の切抜部5が形成されている。マスキングプレート3
の厚みは2mmであり、上記切抜部5を得るための切抜加
工はレーザ加工により行なう。又、本実施例の場合に
は、図2に示すように、紅葉の形状に対応した切抜部5
が形成されている。そして、上記マスキングプレート3
を石板1上に載置する。
【0012】この状態で集光レンズ7を介してレーザ9
を照射する。レーザ9の照射の条件としては、まず、出
力が1.2乃至2.2KW(ここでは1.2)、集光レン
ズ7と石板1までの距離が150mm、石板1の表面温度
が1200乃至1300℃である。尚、これはあくまで
一例であって、石板1の厚み、剥離深さ、レーザ9の照
射時間等によって異なるものである。又、レーザ9の照
射は、図2に矢印で示すようなルートで走査させながら
行なう。これによって、マスキングフレート3の切抜部
5を介して露出している石板1の表面が剥離していき、
それによって、切抜部5に応じた形状の模様が凹んだ状
態で形成されることになる。
【0013】尚、レーザ9を出力するレーザ装置として
は、二酸化炭素(CO2 )、エキシマ、ヘリウムネオ
ン、沃素イオン等を使用するガスレーザ装置、液体レー
ザ装置、YAGやルビー等を使用した固定レーザ装置、
半導体レーザ装置等が使用される。本実施例の場合に
は、図3に示すように、二酸化炭素(CO2 )を使用し
たガスレーザ装置を使用する。図3に示すガスレーザ装
置は、特開平3−174376号公報に示されているも
のであり、次のような構成になっている。
【0014】まず、直流電源11が設けられていて、こ
の直流電源11からレーザ発振器13に直流高圧を供給
する。レーザ発信器13においては、放電管15を一旦
真空状態としておく。一方、レーザガスボンベ17より
供給される(He −N2 −CO2 )の混合ガスを、送風
機19によって高速ガス流として上記放電管15に送り
込む。その状態で、放電管15内に配置された放電電極
21、21間に直流グロー放電を起こさせて励起させ、
それによって、レーザ9を発振させる。そのとき、放電
管15内を通過して温度上昇した混合ガスは、熱交換器
23において冷却されて、送風機19により放電管15
内に再度送り込まれる。
【0015】上記熱交換器23はチラー装置25によっ
て冷却された水によって冷却される。又、励起されたレ
ーザ9は放電管15内に対置された反射鏡27、29に
よって発振される。そして、反射鏡31によって90°
屈曲されて、既に述べた集光レンズ7を介して、石板1
上に照射されることになる。尚、図3中符号33はクリ
ーングタワであり、又、符号35はアシストボンベであ
る。又、レーザ装置としては、前述したように種々のタ
イプの使用が考えられ、上記構成のものに限定されるも
のではない。
【0016】以上の構成を基にその作用を説明する。ま
ず、図2に矢印で示すようなルートでレーザ9を走査さ
せながら照射していく。尚、その際、レーザ9側を移動
させるか石板1側を移動させるかは任意であり、又、移
動制御を数値制御により行なうことが考えられる。それ
によって、マスキングプレート3に形成された切抜部5
より露出している石板1の表面が剥離していき、所定の
深さで削り落とされていく。その結果、切抜部5の形状
に沿った模様が石板1上に凹んだ状態で形成されること
になる。一方、切抜部5以外の部分については、マスキ
ングプレート3によって閉塞されているので、レーザ7
の影響を受けることはなくそのままの状態を維持するこ
とになる。
【0017】石板1の切抜部5の形状に沿って剥離した
部分の表面は、比較的粗い表面状態となっており、これ
に対して、それ以外の部分については高度に研磨された
状態になっている。よって、このような石板1を各種建
築物の敷石等として使用した場合には、高い美観を提供
することはもとより、滑り止め機能をも発揮することに
なる。その様子を図4に示す。図中斜線を施した部分が
剥離した部分である。尚、前記説明では、模様の部分を
剥離させるようにしたが、逆に、模様の部分はそのまま
の状態とし、それ以外の部分を剥離させるようにしても
よく、それは、マスキングプレート3に切抜部5を形成
するときに適宜選択して形成すればよい。
【0018】ここで、レーザ照射の仕様を適宜変えて実
験した結果について説明してみる。まず、出力を2KWと
し、集光レンズ7を焦点位置より200mm上方に配置
し、加工速度を1km/minに設定して行なったところ、ビ
ーム幅が約26mmの状態で加工することができた。又、
加工速度を2km/minに設定して行なったところ、ビーム
幅が約22mmの状態で加工することができた。又、上記
仕様はいわゆる「低速度・高出力」の状態であるので、
レーザ9を照射したときの熱反射が大きく、そこで、出
力を1.2KWに低下させて行なってみた。その場合に
は、出力が1.2KW、集光レンズ7と石板1までの距離
が150mm、石板1の表面温度が1200乃至1300
℃、最高加工速度が5km/min、ビーム幅が15mmとな
り、その状態で加工を行なうことができた。
【0019】又、御影石製以外の石板についても同様に
レーザ9を照射させてみたが、良好な結果を得ることは
できなかった。例えば、大理石の場合には照射表面が粉
末状になってしまって、それが焦げたり或いは堆積して
しまって、御影石の場合のような良好な仕上げ状態を得
ることはできなかった。又、タイル製の石板の場合には
レーザの照射によって瞬間的に割れてしまった。又、御
影石製の石板1についてはその厚みが5mm程度のものま
で加工が可能であった。
【0020】以上本実施例によると次のような効果を奏
することができる。まず、簡単な作業で所望の模様を形
成した御影石製の石板1を得ることができる。これは、
レーザ9を照射することにより、石板1の表面を部分的
に剥離させて模様を形成するようにしたからである。
又、マスキングプレート3によって閉塞されている部分
についてはレーザの影響を何等受けることはなく、よっ
て、模様の境界部についても鮮明な状態になり、良好な
仕上状態を得ることができる。特に、レーザ9を照射さ
せる場合に、切断焦点を過ぎてビーム幅がある程度広が
ったところで照射させるようにしてるので、照射面の温
度が異常に上昇することを防止して加工を行なうことが
できる。
【0021】又、レーザ9を照射させて石板1の表面に
模様を施す場合には、石板1の厚みとして5mm程度の厚
みがあれば加工することができる。よって、例えば、バ
ーナー加工法を採用した場合のように、石板1の厚みと
して大きな制約を受けることはなく、又、厚い石板の両
面に加工を施してそれを二枚に切断するといった煩雑な
作業を要することもない。特に、昨今、表面だけが薄い
御影石でその下は別の安価な板材であるような材料が多
く使用されており、そのような板材であっても表面の御
影石が5mm程度の厚みがあれば加工することが可能にな
った。
【0022】尚、本発明は前記一実施例に限定されるも
のではない。レーザの出力、石板との距離、走査ルー
ト、照射時間等については、任意に設定すればよく、前
記一実施例の内容に限定されるものではない。マスキン
クプレートの材質等についても鋼板以外のものを使用す
ることが考えられる。
【0023】
【発明の効果】以上詳述したように本発明による御影石
表面加工方法によると、レーザを照射させて表面を剥離
させることにより所望の模様等を形成するようにしてい
るので、従来のブラスト加工法やバーナー加工法等に比
べて、簡単な作業によって良好な仕上状態で石板上に模
様を形成することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す図でレーザを照射させ
る様子を示す断面図である。
【図2】本発明の一実施例を示す図でレーザを照射させ
る様子を示す平面図である。
【図3】本発明の一実施例を示す図でレーザ発振装置の
構成を示す図である。
【図4】本発明の一実施例を示す図で加工された石板を
使用した床及び壁の様子を示す図である。
【図5】従来例を示す図でブラスト加工法による加工の
様子を示す断面図である。
【図6】従来例を示す図でバーナー加工法による加工の
様子を示す断面図である。
【図7】従来例を示す図で石板の両面にバーナー加工法
によって加工を施した後二枚に切断する様子を示す断面
図である。
【符号の説明】
1 御影石の石板 3 マスキングプレート 5 切抜部 7 集光レンズ 9 レーザ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の厚みで所定の大きさに成形された
    御影石製の石板上に予め所定の形状に切抜加工されたマ
    スキングプレートを載置し、その状態でレーザを照射す
    ることによりマスキングプレートの切抜部を介して露出
    している石板の表面を所定の厚みで剥離させ、それによ
    って石板の表面に所定の模様を施すようにしたことを特
    徴とする御影石表面加工方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の御影石表面加工方法にお
    いて、レーザを集光レンズにより集光させ、レーザ切断
    焦点を過ぎて所定のビーム幅になったところで石板に照
    射させるものであることを特徴とする御影石表面加工方
    法。
JP4186096A 1992-06-19 1992-06-19 御影石表面加工方法 Pending JPH06812A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4186096A JPH06812A (ja) 1992-06-19 1992-06-19 御影石表面加工方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7485237B2 (en) * 2004-07-14 2009-02-03 Decoro Art Stone Method and apparatus for stone engraving

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5670998A (en) * 1979-11-15 1981-06-13 Toppan Printing Co Ltd Laser carving method and mask board used for said method
JPH03258481A (ja) * 1990-03-09 1991-11-18 Toshiba Corp レーザマーキング装置

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