JPH0680678A - ジシリルアセチレン化合物 - Google Patents

ジシリルアセチレン化合物

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JPH0680678A
JPH0680678A JP4194168A JP19416892A JPH0680678A JP H0680678 A JPH0680678 A JP H0680678A JP 4194168 A JP4194168 A JP 4194168A JP 19416892 A JP19416892 A JP 19416892A JP H0680678 A JPH0680678 A JP H0680678A
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JP
Japan
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acetylene
bis
compound
naphthyl
general formula
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Pending
Application number
JP4194168A
Other languages
English (en)
Inventor
Mineo Kobayashi
峰生 小林
Masahiko Mitsuzuka
雅彦 三塚
Masayoshi Ito
正義 伊藤
Masato Tanaka
正人 田中
Yuko Uchimaru
祐子 内丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology, Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐熱性および耐燃焼性ポリマーの原料として
有用な、新規ジシリルアセチレン化合物とその製造方法
および中間体の新規な製造方法を提供する。 【構成】 一般式（１）で示される新規化合物 【化１】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜１０のア
ルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７
〜１０のアラルキル基を示し、それぞれが同じであって
も異なっていても良い。）は一般式（２） 【化２】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は一般式（１）と同
義）と金属フッ化物とを反応させて合成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性および耐燃焼性
ポリマーの原料として有用な、新規なジシリルアセチレ
ン化合物およびその製造方法に関し、また、その製造に
使用する中間体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、一般式（１）
【０００３】
【化４】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜１０のア
ルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７
〜１０のアラルキル基を示し、それぞれが同じであって
も異なっていても良い。）で示されるジシリルアセチレ
ン化合物は知られていなかった。
【０００４】またこの化合物の本発明の製造方法におけ
る中間体である一般式（２）
【０００５】
【化５】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜１０のア
ルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７
〜１０のアラルキル基を示し、それぞれが同じであって
も異なっていても良い。）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3お
よびＲ4がすべてメチル基である化合物
【０００６】
【化６】 の製造方法は、下記化合物
【０００７】
【化７】 と四塩化炭素とをジベンゾイルペルオキサイドなどのよ
うな過酸化物を触媒として反応させる方法が公知である
（ジャーナル オブ ポリマー サイエンス Ａ、ポリ
マー ケミストリー、vol.28、995頁、１９９０年）。
しかしながら、この反応は、反応液を還流下に２４時間
程度加熱し続けねばならず、合成方法にはまだ検討の余
地があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、一般
式（１）で示される新規化合物を提供することにある。
また本発明は、一般式（１）の化合物の製造の中間体と
して用いられる一般式（２）の化合物のより容易な新規
の製造方法を見出し、一般式（１）で示される化合物の
製造をより容易にし、ひいては産業に寄与するものであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は先ず、一般式
（１）の新規化合物の本発明の製造方法に用いる中間体
としての一般式（２）の化合物の製造方法を提供する。
即ち、パラジウム触媒の存在下に、一般式（３）
【００１０】
【化８】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜１０のア
ルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７
〜１０のアラルキル基を示し、それぞれが同じであって
も異なっていても良い。）と四塩化炭素とを反応させる
ことを特徴とする一般式（２）の化合物の製造方法であ
る。
【００１１】また、本発明は一般式（２）で示される化
合物と金属フッ化物とを反応させることを特徴とする、
一般式（１）で示される化合物の製造方法である。
【００１２】また、本発明は新規の一般式（１）で示さ
れるジシリルアセチレン化合物である。
【００１３】一般式（１）、（２）および（３）におい
て、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4で表わされる炭素数１〜１
０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロ
ピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-デ
シル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【００１４】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4で表わされる炭素
数６〜１０のアリール基としては、フェニル基、α−ナ
フチル基、β−ナフチル基などが挙げられる。
【００１５】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4で表わされる炭素
数７〜１０のアラルキル基としては、ベンジル基、α−
フェネチル基、β−フェネチル基などが挙げられる。
【００１６】本発明の新規の一般式（１）で示される化
合物の具体例としては、ビス（ジメチルフルオロシリ
ル）アセチレン、ビス（ジエチルフルオロシリル）アセ
チレン、ビス（ジ-n-プロピルフルオロシリル）アセチ
レン、ビス（ジ-i-プロピルフルオロシリル）アセチレ
ン、ビス（ジ-n-ブチルフルオロシリル）アセチレン、
ビス（ジ-t-ブチルフルオロシリル）アセチレン、ビス
（ジ-n-デシルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ジ
シクロヘキシルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ジ
フェニルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ジ-α-ナ
フチルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ジ-β-ナフ
チルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ジベンジルフ
ルオロシリル）アセチレン、ビス（エチルメチルフルオ
ロシリル）アセチレン、ビス（n-プロピルメチルフルオ
ロシリル）アセチレン、ビス（i-プロピルメチルフルオ
ロシリル）アセチレン、ビス（n-ブチルメチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（t-ブチルメチルフルオロシ
リル）アセチレン、ビス（n-デシルメチルフルオロシリ
ル）アセチレン、ビス（シクロヘキシルメチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（フェニルメチルフルオロシ
リル）アセチレン、ビス（α−ナフチルメチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（β−ナフチルメチルフルオ
ロシリル）アセチレン、ビス（ベンジルメチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（n-プロピルエチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（i-プロピルエチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（n-ブチルエチルフルオロシ
リル）アセチレン、ビス（t-ブチルエチルフルオロシリ
ル）アセチレン、ビス（n-デシルエチルフルオロシリ
ル）アセチレン、ビス（シクロヘキシルエチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（フェニルエチルフルオロシ
リル）アセチレン、ビス（α−ナフチルエチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（β−ナフチルエチルフルオ
ロシリル）アセチレン、ビス（ベンジルエチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（i-プロピル-n-プロピルフ
ルオロシリル）アセチレン、ビス（n-ブチル-n-プロピ
ルフルオロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチル-n-プ
ロピルフルオロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-n
-プロピルフルオロシリル）アセチレン、ビス（シクロ
ヘキシル-n-プロピルフルオロシリル）アセチレン、ビ
ス（フェニル-n-プロピルフルオロシリル）アセチレ
ン、ビス（α−ナフチル-n-プロピルフルオロシリル）
アセチレン、ビス（β−ナフチル-n-プロピルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（ベンジル-n-プロピルフル
オロシリル）アセチレン、ビス（n-ブチル-i-プロピル
フルオロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチル-i-プロ
ピルフルオロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-i-
プロピルフルオロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘ
キシル-i-プロピルフルオロシリル）アセチレン、ビス
（フェニルメチルフルオロシリル）アセチレン、ビス
（α−ナフチル-i-プロピルフルオロシリル）アセチレ
ン、ビス（β−ナフチル-i-プロピルフルオロシリル）
アセチレン、ビス（ベンジル-i-プロピルフルオロシリ
ル）アセチレン、ビス（t-ブチルメチルフルオロシリ
ル）アセチレン、ビス（n-デシル-n-ブチルフルオロシ
リル）アセチレン、ビス（シクロヘキシル-n-ブチルフ
ルオロシリル）アセチレン、ビス（フェニル-n-ブチル
フルオロシリル）アセチレン、ビス（α−ナフチル-n-
ブチルフルオロシリル）アセチレン、ビス（β−ナフチ
ル-n-ブチルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ベン
ジル-n-ブチルフルオロシリル）アセチレン、ビス（n-
デシル-t-ブチルフルオロシリル）アセチレン、ビス
（シクロヘキシル-t-ブチルフルオロシリル）アセチレ
ン、ビス（フェニル-t-ブチルフルオロシリル）アセチ
レン、ビス（α−ナフチル-t-ブチルフルオロシリル）
アセチレン、ビス（β−ナフチル-t-ブチルフルオロシ
リル）アセチレン、ビス（ベンジル-t-ブチルフルオロ
シリル）アセチレン、ビス（シクロヘキシル-n-デシル
フルオロシリル）アセチレン、ビス（フェニル-n-デシ
ルフルオロシリル）アセチレン、ビス（α−ナフチル-n
-デシルフルオロシリル）アセチレン、ビス（β−ナフ
チル-n-デシルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ベ
ンジル-n-デシルフルオロシリル）アセチレン、ビス
（フェニルシクロヘキシルフルオロシリル）アセチレ
ン、ビス（α−ナフチルシクロヘキシルフルオロシリ
ル）アセチレン、ビス（β−ナフチルシクロヘキシルフ
ルオロシリル）アセチレン、ビス（ベンジルシクロヘキ
シルフルオロシリル）アセチレン、ビス（α−ナフチル
フェニルフルオロシリル）アセチレン、ビス（β−ナフ
チルフェニルフルオロシリル）アセチレン、ビス（ベン
ジルフェニルフルオロシリル）アセチレン、ビス（β−
ナフチル-α-ナフチルフルオロシリル）アセチレン、ビ
ス（ベンジル-α-ナフチルフルオロシリル）アセチレ
ン、ビス（ベンジル-β-ナフチルフルオロシリル）アセ
チレンなどが挙げられる。
【００１７】本発明で用いられる一般式（２）で示され
る化合物の具体例としては、ビス（ジメチルクロロシリ
ル）アセチレン、ビス（ジエチルクロロシリル）アセチ
レン、ビス（ジ-n-プロピルクロロシリル）アセチレ
ン、ビス（ジ-i-プロピルクロロシリル）アセチレン、
ビス（ジ-n-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス
（ジ-t-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス（ジ-n-
デシルクロロシリル）アセチレン、ビス（ジシクロヘキ
シルクロロシリル）アセチレン、ビス（ジフェニルクロ
ロシリル）アセチレン、ビス（ジ-α-ナフチルクロロシ
リル）アセチレン、ビス（ジ-β-ナフチルクロロシリ
ル）アセチレン、ビス（ジベンジルクロロシリル）アセ
チレン、ビス（エチルメチルクロロシリル）アセチレ
ン、ビス（n-プロピルメチルクロロシリル）アセチレ
ン、ビス（i-プロピルメチルクロロシリル）アセチレ
ン、ビス（n-ブチルメチルクロロシリル）アセチレン、
ビス（t-ブチルメチルクロロシリル）アセチレン、ビス
（n-デシルメチルクロロシリル）アセチレン、ビス（シ
クロヘキシルメチルクロロシリル）アセチレン、ビス
（フェニルメチルクロロシリル）アセチレン、ビス（α
−ナフチルメチルクロロシリル）アセチレン、ビス（β
−ナフチルメチルクロロシリル）アセチレン、ビス（ベ
ンジルメチルクロロシリル）アセチレン、ビス（n-プロ
ピルエチルクロロシリル）アセチレン、ビス（i-プロピ
ルエチルクロロシリル）アセチレン、ビス（n-ブチルエ
チルクロロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチルエチル
クロロシリル）アセチレン、ビス（n-デシルエチルクロ
ロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキシルエチルク
ロロシリル）アセチレン、ビス（フェニルエチルクロロ
シリル）アセチレン、ビス（α−ナフチルエチルクロロ
シリル）アセチレン、ビス（β−ナフチルエチルクロロ
シリル）アセチレン、ビス（ベンジルエチルクロロシリ
ル）アセチレン、ビス（i-プロピル-n-プロピルクロロ
シリル）アセチレン、ビス（n-ブチル-n-プロピルクロ
ロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチル-n-プロピルク
ロロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-n-プロピル
クロロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキシル-n-
プロピルクロロシリル）アセチレン、ビス（フェニル-n
-プロピルクロロシリル）アセチレン、ビス（α−ナフ
チル-n-プロピルクロロシリル）アセチレン、ビス（β
−ナフチル-n-プロピルクロロシリル）アセチレン、ビ
ス（ベンジル-n-プロピルクロロシリル）アセチレン、
ビス（n-ブチル-i-プロピルクロロシリル）アセチレ
ン、ビス（t-ブチル-i-プロピルクロロシリル）アセチ
レン、ビス（n-デシル-i-プロピルクロロシリル）アセ
チレン、ビス（シクロヘキシル-i-プロピルクロロシリ
ル）アセチレン、ビス（フェニルメチルクロロシリル）
アセチレン、ビス（α−ナフチル-i-プロピルクロロシ
リル）アセチレン、ビス（β−ナフチル-i-プロピルク
ロロシリル）アセチレン、ビス（ベンジル-i-プロピル
クロロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチルメチルクロ
ロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-n-ブチルクロ
ロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキシル-n-ブチ
ルクロロシリル）アセチレン、ビス（フェニル-n-ブチ
ルクロロシリル）アセチレン、ビス（α−ナフチル-n-
ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス（β−ナフチル
-n-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス（ベンジル-
n-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-t
-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキ
シル-t-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス（フェ
ニル-t-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス（α−
ナフチル-t-ブチルクロロシリル）アセチレン、ビス
（β−ナフチル-t-ブチルクロロシリル）アセチレン、
ビス（ベンジル-t-ブチルクロロシリル）アセチレン、
ビス（シクロヘキシル-n-デシルクロロシリル）アセチ
レン、ビス（フェニル-n-デシルクロロシリル）アセチ
レン、ビス（α−ナフチル-n-デシルクロロシリル）ア
セチレン、ビス（β−ナフチル-n-デシルクロロシリ
ル）アセチレン、ビス（ベンジル-n-デシルクロロシリ
ル）アセチレン、ビス（フェニルシクロヘキシルクロロ
シリル）アセチレン、ビス（α−ナフチルシクロヘキシ
ルクロロシリル）アセチレン、ビス（β−ナフチルシク
ロヘキシルクロロシリル）アセチレン、ビス（ベンジル
シクロヘキシルクロロシリル）アセチレン、ビス（α−
ナフチルフェニルクロロシリル）アセチレン、ビス（β
−ナフチルフェニルクロロシリル）アセチレン、ビス
（ベンジルフェニルクロロシリル）アセチレン、ビス
（β−ナフチル-α-ナフチルクロロシリル）アセチレ
ン、ビス（ベンジル-α-ナフチルクロロシリル）アセチ
レン、ビス（ベンジル-β-ナフチルクロロシリル）アセ
チレンなどが挙げられる。
【００１８】本発明で用いられる一般式（３）で示され
る化合物の具体例としては、ビス（ジメチルヒドロシリ
ル）アセチレン、ビス（ジエチルヒドロシリル）アセチ
レン、ビス（ジ-n-プロピルヒドロシリル）アセチレ
ン、ビス（ジ-i-プロピルヒドロシリル）アセチレン、
ビス（ジ-n-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス
（ジ-t-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（ジ-n-
デシルヒドロシリル）アセチレン、ビス（ジシクロヘキ
シルヒドロシリル）アセチレン、ビス（ジフェニルヒド
ロシリル）アセチレン、ビス（ジ-α-ナフチルヒドロシ
リル）アセチレン、ビス（ジ-β-ナフチルヒドロシリ
ル）アセチレン、ビス（ジベンジルヒドロシリル）アセ
チレン、ビス（エチルメチルヒドロシリル）アセチレ
ン、ビス（n-プロピルメチルヒドロシリル）アセチレ
ン、ビス（i-プロピルメチルヒドロシリル）アセチレ
ン、ビス（n-ブチルメチルヒドロシリル）アセチレン、
ビス（t-ブチルメチルヒドロシリル）アセチレン、ビス
（n-デシルメチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（シ
クロヘキシルメチルヒドロシリル）アセチレン、ビス
（フェニルメチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（α
−ナフチルメチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（β
−ナフチルメチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（ベ
ンジルメチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（n-プロ
ピルエチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（i-プロピ
ルエチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（n-ブチルエ
チルヒドロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチルエチル
ヒドロシリル）アセチレン、ビス（n-デシルエチルヒド
ロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキシルエチルヒ
ドロシリル）アセチレン、ビス（フェニルエチルヒドロ
シリル）アセチレン、ビス（α−ナフチルエチルヒドロ
シリル）アセチレン、ビス（β−ナフチルエチルヒドロ
シリル）アセチレン、ビス（ベンジルエチルヒドロシリ
ル）アセチレン、ビス（i-プロピル-n-プロピルヒドロ
シリル）アセチレン、ビス（n-ブチル-n-プロピルヒド
ロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチル-n-プロピルヒ
ドロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-n-プロピル
ヒドロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキシル-n-
プロピルヒドロシリル）アセチレン、ビス（フェニル-n
-プロピルヒドロシリル）アセチレン、ビス（α−ナフ
チル-n-プロピルヒドロシリル）アセチレン、ビス（β
−ナフチル-n-プロピルヒドロシリル）アセチレン、ビ
ス（ベンジル-n-プロピルヒドロシリル）アセチレン、
ビス（n-ブチル-i-プロピルヒドロシリル）アセチレ
ン、ビス（t-ブチル-i-プロピルヒドロシリル）アセチ
レン、ビス（n-デシル-i-プロピルヒドロシリル）アセ
チレン、ビス（シクロヘキシル-i-プロピルヒドロシリ
ル）アセチレン、ビス（フェニルメチルヒドロシリル）
アセチレン、ビス（α−ナフチル-i-プロピルヒドロシ
リル）アセチレン、ビス（β−ナフチル-i-プロピルヒ
ドロシリル）アセチレン、ビス（ベンジル-i-プロピル
ヒドロシリル）アセチレン、ビス（t-ブチルメチルヒド
ロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-n-ブチルヒド
ロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキシル-n-ブチ
ルヒドロシリル）アセチレン、ビス（フェニル-n-ブチ
ルヒドロシリル）アセチレン、ビス（α−ナフチル-n-
ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（β−ナフチル
-n-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（ベンジル-
n-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（n-デシル-t
-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（シクロヘキ
シル-t-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（フェ
ニル-t-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス（α−
ナフチル-t-ブチルヒドロシリル）アセチレン、ビス
（β−ナフチル-t-ブチルヒドロシリル）アセチレン、
ビス（ベンジル-t-ブチルヒドロシリル）アセチレン、
ビス（シクロヘキシル-n-デシルヒドロシリル）アセチ
レン、ビス（フェニル-n-デシルヒドロシリル）アセチ
レン、ビス（α−ナフチル-n-デシルヒドロシリル）ア
セチレン、ビス（β−ナフチル-n-デシルヒドロシリ
ル）アセチレン、ビス（ベンジル-n-デシルヒドロシリ
ル）アセチレン、ビス（フェニルシクロヘキシルヒドロ
シリル）アセチレン、ビス（α−ナフチルシクロヘキシ
ルヒドロシリル）アセチレン、ビス（β−ナフチルシク
ロヘキシルヒドロシリル）アセチレン、ビス（ベンジル
シクロヘキシルヒドロシリル）アセチレン、ビス（α−
ナフチルフェニルヒドロシリル）アセチレン、ビス（β
−ナフチルフェニルヒドロシリル）アセチレン、ビス
（ベンジルフェニルヒドロシリル）アセチレン、ビス
（β−ナフチル-α-ナフチルヒドロシリル）アセチレ
ン、ビス（ベンジル-α-ナフチルヒドロシリル）アセチ
レン、ビス（ベンジル-β-ナフチルヒドロシリル）アセ
チレンなどが挙げられる。
【００１９】一般式（２）で示される化合物を製造する
方法は、反応容器に四塩化炭素と一般式（３）で示され
る原料のアセチレン化合物およびパラジウム触媒を仕込
み、必要に応じて溶媒も仕込んで、反応容器を所定の反
応温度に保ち、混合物を所定の反応時間攪拌しながら反
応させる。目的の化合物は反応液からデカンテーショ
ン、濾過、溶媒による抽出、蒸留、クロマトグラフィー
など通常の方法で容易に分離精製できる。
【００２０】反応させる四塩化炭素の量は、原料の一般
式（３）で示される化合物１ｇに対して、体積にして１
〜１００ｍｌが好ましく、より好ましくは３〜２０ｍｌ
である。
【００２１】原料の一般式（３）で示される化合物は、
前記文献に記載の方法等により別途に合成されたものを
用いることができる。
【００２２】触媒としては、ＰｄＣｌ2，Ｐｄ（ＯＡ
ｃ）2，ＰｄＯ，ＰｄＢｒ2，Ｐｄ／Ｃ等のパラジウム触
媒が有効に用いられる。
【００２３】加えるパラジウム触媒の量は、一般式
（３）のアセチレン化合物１モルに対して０．０００１
〜０．５モル当量が好ましく、より好ましくは０．００
１〜０．０１モル当量である。
【００２４】反応は無溶媒で行うこともできるが、炭化
水素系溶剤またはエーテル系溶剤等を溶媒として加えて
も良い。
【００２５】反応温度は、−３０〜１２０℃、より好ま
しくは０〜８０℃、更に好ましくは１０〜５０℃であ
る。反応時間は仕込み量や反応温度により異なるが、１
分から１０時間、より好ましくは１０分から２時間が適
当である。
【００２６】一般式（１）で示されるアセチレン化合物
の製造は、反応容器内に一般式（２）で示される原料の
アセチレン化合物と金属フッ化物および、必要に応じて
溶媒を仕込み、反応容器を所定の反応温度に保ち、混合
物を所定の反応時間攪拌しながら反応させることにより
行われる。目的の化合物は反応液からデカンテーショ
ン、濾過、溶媒による抽出、蒸留、クロマトグラフィー
など通常の方法で容易に分離精製できる。
【００２７】金属フッ化物の具体例としては、Ｚｎ
Ｆ2，ＳｂＦ3，ＳｂＦ5，ＣｕＦ，ＣｕＦ2，ＡｇＦ，Ｐ
ｂＦ2，ＣｄＦ，ＣｄＦ2，ＨｇＦ，ＨｇＦ2，ＡｓＦ3，
ＡｓＦ5等が挙げられる。これらの化合物は、結晶水を
含んでいても差し支えない。
【００２８】加えられる金属フッ化物の量は、原料の一
般式（２）のアセチレン化合物１モルに対して１〜１０
０モル当量が好ましく、より好ましくは２〜１０モル当
量である。
【００２９】反応は無溶媒で行うこともできるが、炭化
水素系溶剤またはエーテル系溶剤等を溶媒として加えて
も良い。
【００３０】反応温度は、−３０〜１５０℃、より好ま
しくは０〜１００℃、更に好ましくは２０〜５０℃であ
る。反応時間は仕込み量や反応温度により異なるが、１
分から２時間、より好ましくは５分から３０分が適当で
ある。
【００３１】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
る。
【００３２】実施例１ ビス（ジメチルクロロシリル）アセチレン（一般式
（２）において、Ｒ1〜Ｒ4がメチル基である化合物）の
製造例を示す。
【００３３】５０ｍｌの滴下ロートを備えた２００ｍｌ
の丸底フラスコの底に磁気回転子を設置し、四塩化炭素
１００ｍｌと塩化パラジウム０．１０２ｇ（０．０００
５８ｍｏｌ）を仕込む。続いて滴下ロートに原料のビス
（ジメチルヒドロシリル）アセチレン２５．５ｇ（０．
１７９ｍｏｌ）を仕込んだ。
【００３４】原料のビス（ジメチルヒドロシリル）アセ
チレンは前記文献に記載の方法に従い、トリクロロエチ
レンとジメチルクロロシランから別途に合成したものを
用いた。
【００３５】フラスコを２０℃に設定した油浴に浸し、
四塩化炭素と塩化パラジウムの混合物を磁気回転子で攪
拌しながら、滴下ロートから原料のアセチレン化合物の
全量を１時間かけてゆっくりと滴下した。滴下終了後、
ガスクロマトグラフィーによる測定により原料がほぼ完
全に反応したことを確認し、フラスコを油浴から取り出
した。反応液を蒸留釜に移して、まず常圧８０℃で四塩
化炭素を留去した。続いて、２８ｍｍＨｇ、７０℃で減
圧蒸留により精製を行い目的の化合物を得た。収量２
６．６ｇ（０．１２６ｍｏｌ）、収率は７０％であっ
た。
【００３６】実施例２ ビス（ジメチルフルオロシリル）アセチレン（一般式
（１）において、Ｒ1〜Ｒ4がメチル基である化合物）の
製造例を示す。
【００３７】３００ｍｌの丸底フラスコの底に磁気回転
子を設置し、実施例１で得られたビス（ジメチルクロロ
シリル）アセチレン２６．６ｇ（０．１２６ｍｏｌ）と
二フッ化亜鉛一水和物（ＺｎＦ2・Ｈ2Ｏ）５５．３ｇ
（０．３１５ｍｏｌ）を仕込んだ。フラスコを２５℃に
設定した油浴に浸し、磁気回転子により２０分間攪拌し
反応させた。反応は穏やかな発熱反応であった。ガスク
ロマトグラフィーによる測定により原料が完全に反応し
たことを確認した後、フラスコを油浴から取り出した。
反応後の溶液は透明な上澄みの油層と乳白色の沈澱とに
分離していた。油層を沈澱から濾別し、蒸留釜に移して
常圧１２０℃で蒸留精製し、目的の化合物を得た。収量
は１４．７ｇ（０．０８２ｍｏｌ）、収率は６５％であ
った。
【００３８】この新しいアセチレン化合物の性状は無色
の液体で、沸点は１１９〜１２０℃であった。
【００３９】このアセチレン化合物に対する元素分析の
測定の結果は以下の通りであった。
【００４０】 実測値は測定誤差範囲内であり、理論値とよく一致して
いる。
【００４１】赤外吸収スペクトル（液膜法）の吸収ピー
クの波数（単位ｃｍ-1）は2960、2910、2850、1450、12
60、1070、850であった。
【００４２】1Ｈ−ＮＭＲを重クロロホルム溶液で測定
した。化学シフト（δ値）はＴＭＳを基準として、０．
４０ｐｐｍ（２重項、ＪH-F＝７．１Ｈｚ）であった。
メチル基の１２個の水素原子は全て等価であることが分
かり、分子構造からの理論値と一致していた。
【００４３】
【発明の効果】本発明の新規ジシリルアセチレン化合物
は、耐熱性および耐燃焼性ポリマーの原料として有用で
ある。
【００４４】本発明により、この新規ジシリルアセチレ
ン化合物の製造が可能となり、産業界に貢献するところ
が大きい。また、本発明によりこのジシリルアセチレン
化合物の原料となる化合物の製造をより短時間、かつよ
り低反応温度にて可能とし、この新規ジシリルアセチレ
ン化合物の製造をより容易で経済的なものとする。
フロントページの続き (72)発明者 三塚 雅彦 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 伊藤 正義 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 田中 正人 茨城県つくば市東１丁目１番地 工業技術 院化学技術研究所内 (72)発明者 内丸 祐子 茨城県つくば市東１丁目１番地 工業技術 院化学技術研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（１）で示されるジシリルアセチ
    レン化合物。 【化１】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜１０のア
    ルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７
    〜１０のアラルキル基を示し、それぞれが同じであって
    も異なっていても良い。）
  2. 【請求項２】 一般式（２）で示されるジシリルアセチ
    レン化合物 【化２】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜１０のア
    ルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７
    〜１０のアラルキル基を示し、それぞれが同じであって
    も異なっていても良い。）と金属フッ化物とを反応させ
    ることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
  3. 【請求項３】 パラジウム触媒の存在下に、一般式
    （３）で示される化合物 【化３】 （但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜１０のア
    ルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７
    〜１０のアラルキル基を示し、それぞれが同じであって
    も異なっていても良い。）と四塩化炭素とを反応させる
    ことを特徴とする請求項２記載の一般式（２）で示され
    る化合物の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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