JPH0680590A - C2 炭化水素の製造方法およびその装置 - Google Patents
C2 炭化水素の製造方法およびその装置Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2475—Membrane reactors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
- C07C2/76—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by condensation of hydrocarbons with partial elimination of hydrogen
- C07C2/82—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by condensation of hydrocarbons with partial elimination of hydrogen oxidative coupling
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 メンブレンの構成膜が緻密で製造が容易であ
り、性能の再現性も良好で膜の歩留まりを向上できると
共に、C2 炭化水素生成活性を低下させずに、C2 炭化
水素への選択率が高く、エチレンへの選択率を向上でき
るC2 炭化水素の製造方法およびその装置を提供する。 【構成】 多孔質体よりなる層状支持体1の一方の表面
にメンブレン2を形成したメンブレン反応器のメンブレ
ン側にメタンまたはメタン含有ガスを、他方に酸素また
は酸素含有ガスを流通させつつ一定条件下にメタンの酸
化カップリング反応を行なうC2 炭化水素の製造方法に
おいて、支持体が好ましくはシリカ・アルミナ多孔質体
よりなり、メンブレンがBi2 O3,Li2 CO3 およ
びK2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物
のスラリーを支持体の一方の表面に塗布・乾燥後焼成し
つつ、Li2 CO3 およびK2 CO3 よりなる成分を溶
融させ形成される緻密体の液膜よりなるC2 炭化水素の
製造方法;およびその装置。
り、性能の再現性も良好で膜の歩留まりを向上できると
共に、C2 炭化水素生成活性を低下させずに、C2 炭化
水素への選択率が高く、エチレンへの選択率を向上でき
るC2 炭化水素の製造方法およびその装置を提供する。 【構成】 多孔質体よりなる層状支持体1の一方の表面
にメンブレン2を形成したメンブレン反応器のメンブレ
ン側にメタンまたはメタン含有ガスを、他方に酸素また
は酸素含有ガスを流通させつつ一定条件下にメタンの酸
化カップリング反応を行なうC2 炭化水素の製造方法に
おいて、支持体が好ましくはシリカ・アルミナ多孔質体
よりなり、メンブレンがBi2 O3,Li2 CO3 およ
びK2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物
のスラリーを支持体の一方の表面に塗布・乾燥後焼成し
つつ、Li2 CO3 およびK2 CO3 よりなる成分を溶
融させ形成される緻密体の液膜よりなるC2 炭化水素の
製造方法;およびその装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、メタンの酸化カップリ
ング反応によるC2 炭化水素の製造方法および該方法に
用いられる装置に関する。
ング反応によるC2 炭化水素の製造方法および該方法に
用いられる装置に関する。
【0002】
【従来の技術およびその課題】特開平2−78636号
公報には、アルミナ多孔質体よりなる管の表面にマグネ
シア担持酸化鉛触媒を被覆してなる反応管を用いてメタ
ンの酸化カップリング反応を行なわせてエタン、エチレ
ンなどのC2 炭化水素を製造する方法およびその装置が
開示されているが、該方法ではC2 炭化水素への選択率
は高いけれども、C2 炭化水素生成活性が低い欠点があ
る。また、ここで形成される被覆膜は固体膜であるた
め、緻密膜の再現が殆ど不可能であるという欠点があ
る。
公報には、アルミナ多孔質体よりなる管の表面にマグネ
シア担持酸化鉛触媒を被覆してなる反応管を用いてメタ
ンの酸化カップリング反応を行なわせてエタン、エチレ
ンなどのC2 炭化水素を製造する方法およびその装置が
開示されているが、該方法ではC2 炭化水素への選択率
は高いけれども、C2 炭化水素生成活性が低い欠点があ
る。また、ここで形成される被覆膜は固体膜であるた
め、緻密膜の再現が殆ど不可能であるという欠点があ
る。
【0003】日本化学会第68回触媒討論回講演予稿集
(発行日:平成3年9月2日)および化学工学会第24
回秋季大会講演要旨集(発行日:平成3年9月16日)
には、酸素イオン伝導度の高い酸化物を原料に冷間等方
加圧法によりメンブレン反応器を作成し、酸化物表面を
適当に処理することにより、C2 炭化水素生成活性を向
上させることができるメタンの選択的酸化カップリング
について報告されているが、C2 炭化水素生成活性は向
上するものの、C2 炭化水素への選択率が十分でないと
いう欠点がある。
(発行日:平成3年9月2日)および化学工学会第24
回秋季大会講演要旨集(発行日:平成3年9月16日)
には、酸素イオン伝導度の高い酸化物を原料に冷間等方
加圧法によりメンブレン反応器を作成し、酸化物表面を
適当に処理することにより、C2 炭化水素生成活性を向
上させることができるメタンの選択的酸化カップリング
について報告されているが、C2 炭化水素生成活性は向
上するものの、C2 炭化水素への選択率が十分でないと
いう欠点がある。
【0004】本発明は、メタンの選択的酸化カップリン
グ反応によりC2 炭化水素を製造するにあたり、メンブ
レンを構成する膜が緻密膜であってその製造が非常に容
易であり、その性能の再現性も良好であって反応に使用
できる膜の歩留まりを著しく向上させることができると
共に、C2 炭化水素生成活性を著しく低下させることな
く、C2 炭化水素への選択率が極めて高く、しかもエチ
レンへの選択率を著しく向上させることができるC2 炭
化水素の製造方法およびその装置を提供することを目的
としている。
グ反応によりC2 炭化水素を製造するにあたり、メンブ
レンを構成する膜が緻密膜であってその製造が非常に容
易であり、その性能の再現性も良好であって反応に使用
できる膜の歩留まりを著しく向上させることができると
共に、C2 炭化水素生成活性を著しく低下させることな
く、C2 炭化水素への選択率が極めて高く、しかもエチ
レンへの選択率を著しく向上させることができるC2 炭
化水素の製造方法およびその装置を提供することを目的
としている。
【0005】すなわち、本発明は、多孔質体よりなる層
状支持体の一方の表面にメンブレンを形成してなるメン
ブレン反応器のメンブレン側にメタンまたはメタン含有
ガスを流通させ、他方に酸素または酸素含有ガスを流通
させつつ、一定条件下にメタンの酸化カップリング反応
を行なわせるC2 炭化水素の製造方法において、該支持
体が好ましくはシリカ・アルミナ多孔質体よりなり、該
メンブレンがBi2 O3 、Li2 CO3 およびK2 CO
3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物のスラリー
を前記支持体の一方の表面に塗布・乾燥後焼成しつつ、
該Li2 CO3およびK2 CO3 よりなる成分を溶融さ
せて形成される緻密体の液膜よりなることを特徴とする
前記C2 炭化水素の製造方法;および多孔質体よりなる
層状の支持体、該支持体の一方の表面上に形成された前
記メンブレン、該メンブレンの形成された支持体を介し
て、該メンブレン側に直接隣接するメタンまたはメタン
含有ガス流通域および反対側に直接隣接する酸素または
酸素含有ガス流通域よりなることを特徴とする前記方法
に用いられる装置を提供するものである。
状支持体の一方の表面にメンブレンを形成してなるメン
ブレン反応器のメンブレン側にメタンまたはメタン含有
ガスを流通させ、他方に酸素または酸素含有ガスを流通
させつつ、一定条件下にメタンの酸化カップリング反応
を行なわせるC2 炭化水素の製造方法において、該支持
体が好ましくはシリカ・アルミナ多孔質体よりなり、該
メンブレンがBi2 O3 、Li2 CO3 およびK2 CO
3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物のスラリー
を前記支持体の一方の表面に塗布・乾燥後焼成しつつ、
該Li2 CO3およびK2 CO3 よりなる成分を溶融さ
せて形成される緻密体の液膜よりなることを特徴とする
前記C2 炭化水素の製造方法;および多孔質体よりなる
層状の支持体、該支持体の一方の表面上に形成された前
記メンブレン、該メンブレンの形成された支持体を介し
て、該メンブレン側に直接隣接するメタンまたはメタン
含有ガス流通域および反対側に直接隣接する酸素または
酸素含有ガス流通域よりなることを特徴とする前記方法
に用いられる装置を提供するものである。
【0006】本発明において、支持体を構成する多孔質
体として、例えば、公知のシリカ・アルミナ多孔質体、
アルミナ、酸化ジルコニウム、ムライトなどの耐熱材料
の多孔質体を使用することができる。
体として、例えば、公知のシリカ・アルミナ多孔質体、
アルミナ、酸化ジルコニウム、ムライトなどの耐熱材料
の多孔質体を使用することができる。
【0007】本発明方法で用いられる支持体の形状は、
メンブレンを介して一方にメタンを流通させ、他方に酸
素含有ガスを流通させることができる限り、特に制限さ
れるものではない。例えば、チューブ状、プレート状な
どがあげられる。例えば、チューブ状支持体の外面上に
メンブレンを形成させてなるメンブレン反応器のメンブ
レン側にメタンまたはメタン含有ガスを流通させ、チュ
ーブ内に酸素または酸素含有ガス、例えば空気を流通さ
せつつ、一定条件下にメタンの酸化カップリング反応を
行なわせることにより、エタン、エチレンなどのC2 炭
化水素が得られる。
メンブレンを介して一方にメタンを流通させ、他方に酸
素含有ガスを流通させることができる限り、特に制限さ
れるものではない。例えば、チューブ状、プレート状な
どがあげられる。例えば、チューブ状支持体の外面上に
メンブレンを形成させてなるメンブレン反応器のメンブ
レン側にメタンまたはメタン含有ガスを流通させ、チュ
ーブ内に酸素または酸素含有ガス、例えば空気を流通さ
せつつ、一定条件下にメタンの酸化カップリング反応を
行なわせることにより、エタン、エチレンなどのC2 炭
化水素が得られる。
【0008】本発明において、メタンの酸化カップリン
グ反応は、通常反応温度600〜1000℃、好ましく
は750〜850℃、反応圧力0〜100気圧、好まし
くは0〜10気圧の条件下、流通式反応装置を用いて行
なうことができる。
グ反応は、通常反応温度600〜1000℃、好ましく
は750〜850℃、反応圧力0〜100気圧、好まし
くは0〜10気圧の条件下、流通式反応装置を用いて行
なうことができる。
【0009】本発明におけるメンブレン反応器を構成す
るメンブレンは、Bi2 O3 、Li2 CO3 およびK2
CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物のスラ
リーを前記支持体の一方の表面に塗布後、焼成しつつ、
Li2 CO3 およびK2 CO3 よりなる成分(以下MC
と略称することがある。)を溶融させて形成される緻密
体の液膜より構成される。ここに液膜とはスラリーコー
ティングした材料が焼成により溶融し生成したガラス状
の緻密でピンホールのない触媒膜を言う。
るメンブレンは、Bi2 O3 、Li2 CO3 およびK2
CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物のスラ
リーを前記支持体の一方の表面に塗布後、焼成しつつ、
Li2 CO3 およびK2 CO3 よりなる成分(以下MC
と略称することがある。)を溶融させて形成される緻密
体の液膜より構成される。ここに液膜とはスラリーコー
ティングした材料が焼成により溶融し生成したガラス状
の緻密でピンホールのない触媒膜を言う。
【0010】本発明のBi2 O3 、Li2 CO3 および
K2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物に
おいて、各成分の配合割合は、それぞれBi2 O3 がB
iとして1〜50モル%、好ましくは5〜30モル%、
Li2 CO3 がLiとして10〜70モル%、好ましく
は30〜60モル%、K2 CO3 がKとして5〜60モ
ル%、好ましくは20〜40モル%、SnOが0〜50
モル%、好ましくは5〜30モル%の範囲にある。Bi
2 O3 の配合量が1モル%未満では触媒作用を発揮せ
ず、好ましくない。
K2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組成物に
おいて、各成分の配合割合は、それぞれBi2 O3 がB
iとして1〜50モル%、好ましくは5〜30モル%、
Li2 CO3 がLiとして10〜70モル%、好ましく
は30〜60モル%、K2 CO3 がKとして5〜60モ
ル%、好ましくは20〜40モル%、SnOが0〜50
モル%、好ましくは5〜30モル%の範囲にある。Bi
2 O3 の配合量が1モル%未満では触媒作用を発揮せ
ず、好ましくない。
【0011】本発明において、Bi2 O3 、LiCO3
およびK2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組
成物のスラリーとしては、例えば該組成物のメタノール
スラリーなどが用いられ、スラリー濃度は、塗布しやす
い範囲であれば特に制限されない。
およびK2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる組
成物のスラリーとしては、例えば該組成物のメタノール
スラリーなどが用いられ、スラリー濃度は、塗布しやす
い範囲であれば特に制限されない。
【0012】本発明におけるスラリーの塗布方法として
は、試験など小規模の場合には塗布場所を限定できる点
で刷毛塗りが好ましいが、工業的には多量に処理できる
点で浸漬あるいはスプレー塗装方法が好ましい。
は、試験など小規模の場合には塗布場所を限定できる点
で刷毛塗りが好ましいが、工業的には多量に処理できる
点で浸漬あるいはスプレー塗装方法が好ましい。
【0013】本発明において、Bi2 O3 、Li2 CO
3 およびK2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる
組成物のスラリーを支持体の一方の表面に塗布・乾燥し
た後焼成が行なわれる。焼成は、例えば空気中600〜
1000℃の条件下に行なわれ、その際にLi2 CO3
およびK2 CO3 よりなる成分が溶融して、本発明のメ
ンブレンを構成する緻密体の液膜が形成される。一般に
固体無機膜の緻密体の形成は非常な困難を要するもので
あるが、本発明のメンブレンにおいては、このような液
膜を利用することによりリークの無い薄膜を製作するこ
とが可能となる。
3 およびK2 CO3 、好ましくはさらにSnOよりなる
組成物のスラリーを支持体の一方の表面に塗布・乾燥し
た後焼成が行なわれる。焼成は、例えば空気中600〜
1000℃の条件下に行なわれ、その際にLi2 CO3
およびK2 CO3 よりなる成分が溶融して、本発明のメ
ンブレンを構成する緻密体の液膜が形成される。一般に
固体無機膜の緻密体の形成は非常な困難を要するもので
あるが、本発明のメンブレンにおいては、このような液
膜を利用することによりリークの無い薄膜を製作するこ
とが可能となる。
【0014】前記支持体がチューブ状の場合の本発明の
装置の1例を示す図1を参照して、本発明の方法および
装置について以下説明する。
装置の1例を示す図1を参照して、本発明の方法および
装置について以下説明する。
【0015】図1において、本発明の装置は、例えばシ
リカ・アルミナ(SiO2 :Al2O3 重量比=1:
2;以下SAという)多孔質体よりなるチューブ状支持
体1、該支持体1の外面に形成されたメンブレン2、該
メンブレン2の形成された支持体1を介してメンブレン
側に隣接し、外管4との間に形成されるメタンまたはメ
タン含有ガス流通域5および支持体1内にあってメンブ
レン側と反対側に隣接する空気流通域8より構成され
る。ただし、チューブ状支持体1のメンブレン2以外の
外表面は高温用シール材でコーティングすることなどに
よりガス非透過性とする。
リカ・アルミナ(SiO2 :Al2O3 重量比=1:
2;以下SAという)多孔質体よりなるチューブ状支持
体1、該支持体1の外面に形成されたメンブレン2、該
メンブレン2の形成された支持体1を介してメンブレン
側に隣接し、外管4との間に形成されるメタンまたはメ
タン含有ガス流通域5および支持体1内にあってメンブ
レン側と反対側に隣接する空気流通域8より構成され
る。ただし、チューブ状支持体1のメンブレン2以外の
外表面は高温用シール材でコーティングすることなどに
よりガス非透過性とする。
【0016】図1において、メタン導入口3よりメタン
が導入され、空気導入口7より空気が導入され、導入さ
れた空気は空気流通域8から酸素が支持体1を透過して
メンブレン2に達し、メンブレン2上でメタン流通域5
よりのメタンと接触し、所定の条件下にメタンの酸化カ
ップリング反応が起り、C2 炭化水素などが生成され
る。C2 炭化水素などの生成物は生成物流出口6より流
出し、導入された空気のうち未反応ガスは空気排出口9
より排出される。
が導入され、空気導入口7より空気が導入され、導入さ
れた空気は空気流通域8から酸素が支持体1を透過して
メンブレン2に達し、メンブレン2上でメタン流通域5
よりのメタンと接触し、所定の条件下にメタンの酸化カ
ップリング反応が起り、C2 炭化水素などが生成され
る。C2 炭化水素などの生成物は生成物流出口6より流
出し、導入された空気のうち未反応ガスは空気排出口9
より排出される。
【0017】図2は、図1における支持体1とメンブレ
ン2とを説明するための部分拡大図である。
ン2とを説明するための部分拡大図である。
【0018】別法として、チューブ状支持体1の内面上
にメンブレン2を形成させ、該チューブ内にメタンを流
通させ、外管4内に空気を流通させてもよく、この場合
には外管4を省略し大気の状態でもよい。
にメンブレン2を形成させ、該チューブ内にメタンを流
通させ、外管4内に空気を流通させてもよく、この場合
には外管4を省略し大気の状態でもよい。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば、メタンの選択的酸化カ
ップリング反応によりC2 炭化水素を製造するにあた
り、メンブレンを構成する膜が緻密膜であってその製造
が非常に容易であり、その性能の再現性も良好であって
反応に使用できる膜の歩留まりを著しく向上させること
ができると共に、C2 炭化水素生成活性を著しく低下さ
せることなく、C2 炭化水素への選択率が極めて高く、
しかもエチレンへの選択率を著しく向上させることがで
きる。
ップリング反応によりC2 炭化水素を製造するにあた
り、メンブレンを構成する膜が緻密膜であってその製造
が非常に容易であり、その性能の再現性も良好であって
反応に使用できる膜の歩留まりを著しく向上させること
ができると共に、C2 炭化水素生成活性を著しく低下さ
せることなく、C2 炭化水素への選択率が極めて高く、
しかもエチレンへの選択率を著しく向上させることがで
きる。
【0020】
【実施例】以下実施例により、本発明をさらに詳しく説
明する。
明する。
【0021】実施例1 市販のシリカ・アルミナ多孔質体(SiO2 :Al2 O
3 重量比=1:2;以下SAという)を粉砕した素焼粉
(粒径100μm)を図1に示すごときチューブ状に成
型し、1320℃で焼成してチューブ状支持体1(ただ
し、メンブレン2を形成させる部分以外の外表面は高温
用シール材でコーティングし、ガス非透過性とした。)
を得た。このシリカ・アルミナ多孔質体には、不純物と
して鉄およびアルカリ・アルカリ土類酸化物が3重量%
含まれている。Bi2 O3 、SnOおよびLi1.24K
0.76CO3 よりなる組成物(Bi:Sn:K:Li(モ
ル比)=6:18:29:47)のメタノールスラリー
(固形分濃度50重量%)を調製し、該スラリーを刷毛
塗り塗装方法によりチューブ状支持体1の外面に塗布・
乾燥し、空気中700〜800℃で1時間焼成し、該組
成物中のLi1.24K0. 76CO3 (MC)成分を溶融させ
て緻密体の液膜としてメンブレン2を形成させた。図1
に示すごとき装置を用い、メタン導入口3より90cc
/分の割合でメタンを供給し、空気導入口7より60c
c/分の割合で空気を供給しながら、常圧下、750℃
で10時間メタンの酸化カップリング反応を行なった。
得られた結果を表1に示す。C2 炭化水素、CO2 、C
Oなどの生成物は、メタネーター付きFIDにて定量し
た。
3 重量比=1:2;以下SAという)を粉砕した素焼粉
(粒径100μm)を図1に示すごときチューブ状に成
型し、1320℃で焼成してチューブ状支持体1(ただ
し、メンブレン2を形成させる部分以外の外表面は高温
用シール材でコーティングし、ガス非透過性とした。)
を得た。このシリカ・アルミナ多孔質体には、不純物と
して鉄およびアルカリ・アルカリ土類酸化物が3重量%
含まれている。Bi2 O3 、SnOおよびLi1.24K
0.76CO3 よりなる組成物(Bi:Sn:K:Li(モ
ル比)=6:18:29:47)のメタノールスラリー
(固形分濃度50重量%)を調製し、該スラリーを刷毛
塗り塗装方法によりチューブ状支持体1の外面に塗布・
乾燥し、空気中700〜800℃で1時間焼成し、該組
成物中のLi1.24K0. 76CO3 (MC)成分を溶融させ
て緻密体の液膜としてメンブレン2を形成させた。図1
に示すごとき装置を用い、メタン導入口3より90cc
/分の割合でメタンを供給し、空気導入口7より60c
c/分の割合で空気を供給しながら、常圧下、750℃
で10時間メタンの酸化カップリング反応を行なった。
得られた結果を表1に示す。C2 炭化水素、CO2 、C
Oなどの生成物は、メタネーター付きFIDにて定量し
た。
【0022】実施例2および比較例1〜4 表1に示すメンブレンを用いる以外、実施例1と同様の
実験を行なった。得られた結果を表1に示す。
実験を行なった。得られた結果を表1に示す。
【0023】
【表1】
【0024】実施例3 本願発明におけるメンブレンを構成する膜が緻密膜であ
ってその性能の再現性が良好であることを実証するため
に、実施例1のものと比較例4のもの(前記特開平2−
78636号公報に記載のもの)とについて、それぞれ
反応に使用できる膜の歩留まりを求めたところ前者の歩
留りが100%であったのに対し後者の歩留まりは2%
に過ぎなかった。
ってその性能の再現性が良好であることを実証するため
に、実施例1のものと比較例4のもの(前記特開平2−
78636号公報に記載のもの)とについて、それぞれ
反応に使用できる膜の歩留まりを求めたところ前者の歩
留りが100%であったのに対し後者の歩留まりは2%
に過ぎなかった。
【図1】本発明の一態様を示す装置の略図である。
【図2】本発明の一態様における支持体とメンブレンと
の部分拡大図である。
の部分拡大図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300
Claims (6)
- 【請求項1】 多孔質体よりなる層状支持体の一方の表
面にメンブレンを形成してなるメンブレン反応器のメン
ブレン側にメタンまたはメタン含有ガスを流通させ、他
方に酸素または酸素含有ガスを流通させつつ、一定条件
下にメタンの酸化カップリング反応を行なわせるC2 炭
化水素の製造方法において、該支持体がシリカ・アルミ
ナ多孔質体よりなり、該メンブレンがBi2 O3 、Li
2 CO3 およびK2 CO3 よりなる組成物のスラリーを
前記支持体の一方の表面に塗布・乾燥後焼成しつつ、該
Li2 CO3 およびK2 CO3 よりなる成分を溶融させ
て形成される緻密体の液膜よりなることを特徴とする前
記C2 炭化水素の製造方法。 - 【請求項2】 該組成物中、それぞれBi2 O3 がBi
として1〜50モル%、Li2 CO3 がLiとして10
〜70モル%、K2 CO3 がKとして5〜60モル%の
範囲にある請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 多孔質体よりなる層状支持体の一方の表
面にメンブレンを形成してなるメンブレン反応器のメン
ブレン側にメタンまたはメタン含有ガスを流通させ、他
方に酸素または酸素含有ガスを流通させつつ、一定条件
下にメタンの酸化カップリング反応を行なわせるC2 炭
化水素の製造方法において、該支持体がシリカ・アルミ
ナ多孔質体よりなり、該メンブレンがBi2 O3 、Sn
O、Li2 CO3 およびK2 CO3 よりなる組成物のス
ラリーを前記支持体の一方の表面に塗布・乾燥後焼成し
つつ、該Li2 CO3 およびK2 CO3 よりなる成分を
溶融させて形成される緻密体の液膜よりなることを特徴
とする前記C2 炭化水素の製造方法。 - 【請求項4】 該組成物中、それぞれBi2 O3 がBi
として1〜50モル%、SnOが1〜50モル%、Li
2 CO3 がLiとして10〜70モル%、K2 CO3 が
Kとして5〜60モル%の範囲にある請求項3記載の方
法。 - 【請求項5】 多孔質体よりなる層状の支持体、該支持
体の一方の表面上に形成された請求項1記載のメンブレ
ン、該メンブレンの形成された支持体を介して、該メン
ブレン側に直接隣接するメタンまたはメタン含有ガス流
通域および反対側に直接隣接する酸素または酸素含有ガ
ス流通域よりなることを特徴とする請求項1記載の方法
に用いられる装置。 - 【請求項6】 多孔質体よりなる層状の支持体、該支持
体の一方の表面上に形成された請求項3記載のメンブレ
ン、該メンブレンの形成された支持体を介して、該メン
ブレン側に直接隣接するメタンまたはメタン含有ガス流
通域および反対側に直接隣接する酸素または酸素含有ガ
ス流通域よりなることを特徴とする請求項3記載の方法
に用いられる装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4255457A JPH0680590A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | C2 炭化水素の製造方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4255457A JPH0680590A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | C2 炭化水素の製造方法およびその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0680590A true JPH0680590A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=17279035
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4255457A Pending JPH0680590A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | C2 炭化水素の製造方法およびその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0680590A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0904833A1 (en) * | 1997-09-25 | 1999-03-31 | Ngk Insulators, Ltd. | Membrane-type reaction vessel |
-
1992
- 1992-09-01 JP JP4255457A patent/JPH0680590A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0904833A1 (en) * | 1997-09-25 | 1999-03-31 | Ngk Insulators, Ltd. | Membrane-type reaction vessel |
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