JPH067757A - 反応槽の洗浄方法及びその装置 - Google Patents

反応槽の洗浄方法及びその装置

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JPH067757A
JPH067757A JP16720392A JP16720392A JPH067757A JP H067757 A JPH067757 A JP H067757A JP 16720392 A JP16720392 A JP 16720392A JP 16720392 A JP16720392 A JP 16720392A JP H067757 A JPH067757 A JP H067757A
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JP
Japan
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lance
cleaning
reaction tank
nozzle unit
cleaning nozzle
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Application number
JP16720392A
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English (en)
Inventor
Tadakimi Shigekawa
忠公 重川
Hiroyuki Ishizu
博之 石津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH067757A publication Critical patent/JPH067757A/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0053Details of the reactor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01J19/0053Details of the reactor
    • B01J19/0073Sealings

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 一反応槽につき一台の密閉式自動洗浄装置で
効率的に反応槽を洗浄することを目的とする。 【構成】 自動洗浄装置を反応槽に設置して反応槽内部
を洗浄するにあたり、先端に洗浄ノズルユニットを設け
たランスを反応槽の軸方向および垂直方向に対して傾斜
させて設置し、洗浄ノズルを昇降させて洗浄することを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、反応槽の洗浄方法及び
その装置に関する、更に詳しくは、反応槽の内面に付着
しているスケールを除去することを主目的とした密閉式
の高圧自動洗浄方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】反応槽の洗浄は反応槽の大型化、より一
層の生産性の向上、安全作業の確保等を背景に、自動
化、密閉化が計られてきている。反応槽の自動洗浄装置
は搬送式と固定式の2つのタイプに分けられる。搬送式
は反応終了後マンホールを解放し、天井走行又は床面走
行の搬送装置がスライドランスを目的の反応槽へ搬送、
据え付けて洗浄を行うタイプである。固定式は反応終了
後ボールバルブを開き、予め各反応槽に据え付けられた
上下駆動式スライドランス等が槽内へおりて洗浄を行う
タイプである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】搬送式は1台の装置で
多数の反応槽を洗浄できるが、洗浄操作毎の取付け、取
外しの操作を必要とし、生産性の低下をきたすし、危険
性物質を扱う反応槽の場合はマンホールを解放するので
問題がある。一方、固定式の場合はこのような欠点はな
いものの、槽内の攪拌機等で洗浄死角が生じやすいた
め、一つの反応槽に二台またはそれ以上の装置を据え付
ける必要があり、反応槽が多いと必要台数が多くなる。
【0004】かかる事情に鑑み、1台の洗浄装置を用
い、密閉式の洗浄方法について鋭意検討した結果、先端
に洗浄ノズルユニットを設けたランスを反応槽の軸方向
および垂直方向について傾斜させて設置して洗浄するこ
とにより、一つの反応槽に一台の洗浄装置で洗浄できる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、自動
洗浄装置を反応槽に設置して反応槽内部を洗浄するにあ
たり、先端に洗浄ノズルユニットを設けたランスを反応
槽の軸方向および垂直方向に対して傾斜させて設置し、
洗浄ノズルユニットを昇降させて洗浄することを特徴と
する反応槽の洗浄方法及びその装置である。
【0006】本発明で用いられる自動洗浄装置は特に限
定されるものではなく、通常、洗浄ノズルユニット、ノ
ズル昇降ユニット、配管ユニット、制御ユニットから構
成されている。洗浄ノズルユニットはノズルとノズル駆
動部からなりランスの先端に設けられる。洗浄ノズルと
しては特に限定されるものではないが、通常、三次元ノ
ズルが用いられる。
【0007】ノズル昇降ユニットは洗浄ノズルユニット
を移動させるランスとランスを動かす駆動部からなる。
ランス形状はリジッドタイプ、スライドタイプなどが挙
げられる。駆動方法は電動モーター、水圧ジェットシリ
ンダー、エアーシリンダー、油圧シリンダーなどが挙げ
られる。配管ユニットはシリンダーバルブ、高圧水配
管、シール用配管等からなる。制御ユニットにてバルブ
の開閉、ランスの昇降、高圧水、シールガスの供給等を
自動制御される。
【0008】本発明においては、洗浄ノズルユニットを
設けたランスが反応槽の軸方向および垂直方向に対して
傾斜して設置されている。傾斜角度は特に限定されるも
のではないが、通常、軸方向および垂直方向に対して各
々30〜90°、10〜45°の範囲である。
【0009】通常、ランスを連続的に昇降しながら洗浄
することなく、ノズル位置を2個所程度で洗浄すること
により、十分洗浄することができる。
【0010】図1は本発明の一例を表す概念図である。
反応槽1に仕切弁2を介して洗浄装置3が設置されてい
る。先端に洗浄ノズルユニット4を備えた高圧水を供給
するランス5が反応槽1の軸方向に対して35°、垂直
方向に対して28°傾斜して設置されている。仕切弁2
の上には洗浄ノズルユニット4の収納ボックス6がサポ
ートベース17に固定されて設けられ、収納ボックス6
にはボックス内洗浄用の水がライン21から供給できる
ようになっている。反応中は洗浄ノズルユニット4は収
納ボックス6内に保持されている。
【0011】収納ボックスの上にシールボックス7が設
けられている。シールボックス7内にはシール部8、9
とランス支持部10、11が設けられている。シール部
にはテフロン製のブッシュが組み込まれ、ブッシュとラ
ンスとの間隙は約0.2〜0.3mmに保持され、ここ
に窒素ガスがライン22から供給され、洗浄時に反応槽
からのガスの漏出を防止している。なお液体によるシー
ルも可能である。ランス支持部は120°間隔で設けら
れた3個のローラーでランスを狭持する構成になってい
る。このローラーが回転しながらランスを支持すること
により、傾斜しているランスの昇降がスムーズに行われ
る。
【0012】サポートベース17に固定されたサポート
バー12をスライドするスライドサポート16にエアシ
リンダー13、14、15が設けられている。スライド
サポート16にはボールスライド軸受が組み込まれ、ス
ライドサポート16をスムーズにサポートバー12をス
ライドさせる。エアシリンダー13に圧縮空気をライン
23から圧入し、あるいは排出させてエアシリンダーを
伸縮させ、これに連結しているスライドサポート16さ
らにはランス5を昇降させる。ランスの昇降はエアシリ
ンダーに代えて油圧シリンダーを用いて行っても良い
し、電動で昇降させても良い。ランスの他端部にライン
24から高圧水が供給される。
【0013】図2はスライドサポート16の断面図であ
る。ボールスライド軸受18が組み込まれ、スライドサ
ポート16の移動がスムーズに行われる。図3はランス
支持部10、11の断面の概要を示す図である。120
°間隔で設けられた3個のローラー19によってランス
5を挟持し、ローラー19の回転によりスムーズにラン
ス5の昇降を可能にしている。
【0014】反応終了後、シール部8、9に窒素ガスを
供給し、仕切弁2を開く。次にエアシリンダー13、1
4を作動だせてランス5を下げて反応槽内に挿入し、洗
浄ノズルユニット4を所定の位置に保持する。次に高圧
水ポンプを始動し、ライン24からランスへ高圧水を供
給し、洗浄を行う。所定時間洗浄後、エアシリンダー1
5を作動させて、洗浄ノズルユニット4を更に反応槽の
奥に移動させ、所定時間洗浄を行う。洗浄条件は反応槽
壁面への付着物の性状にもよるが、通常、約200〜4
00kg/cm2 の高圧水を約50〜100リットル/
分で約2〜10分間噴射させて行われる。
【0015】洗浄終了後、高圧水ポンプを停止し、ライ
ン21より水を供給して洗浄ノズルユニットの収納ボッ
クス6内の洗浄を行う。エアシリンダー13、14、1
5を作動させてランスを上昇させ、洗浄ノズルユニット
4を収納ボックス6内まで移動させる。ライン21から
の水、ライン22からの窒素ガスの供給を停止し、仕切
弁2を閉じて洗浄を終了する。これらの操作は制御ユニ
ットにより自動的に行われる。
【0016】
【発明の効果】本発明の方法により、一反応槽につき一
台の密閉式自動洗浄装置で効率的に反応槽を洗浄するこ
とができる。
【0017】
【実施例】図1に示した密閉式自動洗浄装置を用いて、
4枚パドル翼2段の攪拌翼とプレートバッフル6枚を有
する容量8m3 のメチルメタクリレートの重合槽内の洗
浄を行った。自動洗浄装置はランスが重合槽の軸方向お
よび垂直方向に対して各々35°、28°傾斜するよう
設置した。洗浄ノズルはノズル径が1.9mmのノズル
2個を有する三次元ノズルを用いた。水圧400kg/
cm2 の高圧水を80リットル/分で噴射し、ノズル位
置が反応槽上部から約40cm、及び約70cmのとこ
ろで各々2分間洗浄した。この洗浄により殆ど付着物は
除去されていた。重合反応終了毎に反応槽を洗浄した結
果、重合サイクルの時間が約10%短縮され、生産性が
向上した。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一例を表す概念図である。
【図2】本発明の洗浄装置のスライドサポートの断面図
である。
【図3】本発明の洗浄装置のランス支持部の断面の概要
を示す図である。
【符号の説明】
1 反応槽 2 仕切弁 3 洗浄ユニット 4 洗浄ノズルユニット 5 ランス 6 洗浄ノズルユニット収納ボックス 7 シールボックス 8 シール部 9 シール部 10 ランス支持部 11 ランス支持部 12 サポートバー 13 エアーシリンダー 14 エアーシリンダー 15 エアーシリンダー 16 スライドサポート 17 サポートベース 18 ボールスライド軸受 19 ローラー 21 水の供給ライン 22 窒素ガスの供給ライン 23 圧縮空気の供給ライン 24 高圧水の供給ライン

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 自動洗浄装置を反応槽に設置して反応槽
    内部を洗浄するにあたり、先端に洗浄ノズルユニットを
    設けたランスを反応槽の軸方向および垂直方向に対して
    傾斜させて設置し、洗浄ノズルを昇降させて洗浄するこ
    とを特徴とする反応槽の洗浄方法。
  2. 【請求項2】 ランスの反応槽の軸方向および垂直方向
    に対する傾斜角度が各々30〜90°、10〜45°で
    ある請求項1記載の反応槽の洗浄方法。
  3. 【請求項3】 サポートベース17に固定されたサポー
    トバー12、該サポートバー12をエアまたは油圧シリ
    ンダー13、14の伸縮により上下にスライドするボー
    ルスライド軸受18を組み込んだスライドサポート1
    6、該スライドサポートに連結された高圧水を供給する
    ランス5、該ランス5の先端に設けられた洗浄ノズルお
    よびノズル駆動部からなる洗浄ノズルユニット4、該洗
    浄ノズルユニット4を収納し、サポートベース17に固
    定された洗浄ノズルユニット収納ボックス6、該洗浄ノ
    ズルユニット収納ボックス6の上部に設けられたテフロ
    ン製ブッシュを組み込んだシール部8、9および120
    °間隔で設けられた3個のローラーでランス5を挟持す
    るランス支持部10、11からなる反応槽の洗浄装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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