JPH0677541A - 極低温容器及び使用方法 - Google Patents
極低温容器及び使用方法Info
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- JPH0677541A JPH0677541A JP4223871A JP22387192A JPH0677541A JP H0677541 A JPH0677541 A JP H0677541A JP 4223871 A JP4223871 A JP 4223871A JP 22387192 A JP22387192 A JP 22387192A JP H0677541 A JPH0677541 A JP H0677541A
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- liquid helium
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- liquid
- gas discharge
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 超電導コイルを収めている極低温容器におい
て、単純な操作によりサーマルオシレーションの発生を
防止し、ヘリウム蒸発量を少なくする。 【構造】 極低温容器のヘリウム容器２内へ液体ヘリウ
ム３を注入する液体ヘリウム注入管６の液体ヘリウム注
入口８を、定常運転時において、ヘリウム容器２と通じ
ているヘリウムガス排出管７が真空容器４の外部に延設
されているヘリウムガス排出管拡張部７ａ内に位置さ
せ、液体ヘリウム注入管６内で発生したヘリウムガスを
ヘリウムガス排出管拡張部７ａ内へ流す構造にしてあ
る。
て、単純な操作によりサーマルオシレーションの発生を
防止し、ヘリウム蒸発量を少なくする。 【構造】 極低温容器のヘリウム容器２内へ液体ヘリウ
ム３を注入する液体ヘリウム注入管６の液体ヘリウム注
入口８を、定常運転時において、ヘリウム容器２と通じ
ているヘリウムガス排出管７が真空容器４の外部に延設
されているヘリウムガス排出管拡張部７ａ内に位置さ
せ、液体ヘリウム注入管６内で発生したヘリウムガスを
ヘリウムガス排出管拡張部７ａ内へ流す構造にしてあ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、超電導コイルを収める
極低温容器に関する。
極低温容器に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の超電導コイルを収める極低温容器
の例を、図４を用いて説明する。
の例を、図４を用いて説明する。
【０００３】図４は従来例の極低温容器の模式縦断面図
である。超電導コイル１は、ヘリウム容器２の内部に収
められ、液体ヘリウム３により極低温に冷却されてい
る。ヘリウム容器２は真空容器４の真空５により断熱さ
れ、ヘリウム容器２の内部への熱侵入を防止し、液体ヘ
リウム３の蒸発量を最小限に抑えている。
である。超電導コイル１は、ヘリウム容器２の内部に収
められ、液体ヘリウム３により極低温に冷却されてい
る。ヘリウム容器２は真空容器４の真空５により断熱さ
れ、ヘリウム容器２の内部への熱侵入を防止し、液体ヘ
リウム３の蒸発量を最小限に抑えている。
【０００４】液体ヘリウム３は、液体ヘリウム注入管６
からヘリウム容器２内へ注入され、液体ヘリウム３が蒸
発して生じたヘリウムガスは、ヘリウムガス排出管７を
経て大気中へ排出されている。
からヘリウム容器２内へ注入され、液体ヘリウム３が蒸
発して生じたヘリウムガスは、ヘリウムガス排出管７を
経て大気中へ排出されている。
【０００５】このようなヘリウム容器２への液体ヘリウ
ム３の注入には、トランスファチューブ１２を、接続金
具１１内を貫通させて液体ヘリウム注入管６に挿入後、
液体ヘリウム３の供給元のタンク内圧を上げるととも
に、ヘリウムガス排出管７の先端を大気中に開放し、こ
のときに生じる圧力差により液体ヘリウム３をヘリウム
容器２へ注入する方法が用いられている。
ム３の注入には、トランスファチューブ１２を、接続金
具１１内を貫通させて液体ヘリウム注入管６に挿入後、
液体ヘリウム３の供給元のタンク内圧を上げるととも
に、ヘリウムガス排出管７の先端を大気中に開放し、こ
のときに生じる圧力差により液体ヘリウム３をヘリウム
容器２へ注入する方法が用いられている。
【０００６】トランスファチューブ１２は、接続金具１
１に設置したゴムＯリング（図示せず）の軸シール作用
により気密性が保たれている。
１に設置したゴムＯリング（図示せず）の軸シール作用
により気密性が保たれている。
【０００７】一方、液体ヘリウム３の注入を行っていな
い超電導コイル１の定常運転時には、大気の侵入による
液体ヘリウム注入管６の凍結や液体ヘリウム３の蒸発を
防止するため、液体ヘリウム注入管６における液体ヘリ
ウム３の注入側端部は閉止されている。
い超電導コイル１の定常運転時には、大気の侵入による
液体ヘリウム注入管６の凍結や液体ヘリウム３の蒸発を
防止するため、液体ヘリウム注入管６における液体ヘリ
ウム３の注入側端部は閉止されている。
【０００８】すなわち、液体ヘリウム注入管６は、通常
は細長い管で構成されており、定常運転時において、従
来は、常温部に位置している液体ヘリウム３の注入側端
部を閉じており、他端部を極低温の液体ヘリウム３中に
開けてあるので、サーマルオシレーションの発生しやす
いことが知られている。
は細長い管で構成されており、定常運転時において、従
来は、常温部に位置している液体ヘリウム３の注入側端
部を閉じており、他端部を極低温の液体ヘリウム３中に
開けてあるので、サーマルオシレーションの発生しやす
いことが知られている。
【０００９】ここで、サーマルオシレーションとは、配
管の常温端部を閉じている場合、配管内の常温側の蒸発
ガスは温められて極低温側へ膨張し、熱を極低温側へ伝
達して、蒸発ガスが更に膨張するということを繰返す現
象である。
管の常温端部を閉じている場合、配管内の常温側の蒸発
ガスは温められて極低温側へ膨張し、熱を極低温側へ伝
達して、蒸発ガスが更に膨張するということを繰返す現
象である。
【００１０】すなわち、サーマルオシレーションが発生
した場合は、液体ヘリウム注入管６の常温側からヘリウ
ム容器２内の極低温部へ熱が伝達され、液体ヘリウム３
の蒸発量は増大することになる。
した場合は、液体ヘリウム注入管６の常温側からヘリウ
ム容器２内の極低温部へ熱が伝達され、液体ヘリウム３
の蒸発量は増大することになる。
【００１１】また、超電導コイル１の定常運転は、長時
間にわたって行われるため、この間の液体ヘリウム３の
蒸発量を極力少なくし、液体ヘリウム３の補給回数を最
小限に留めることが望まれている。
間にわたって行われるため、この間の液体ヘリウム３の
蒸発量を極力少なくし、液体ヘリウム３の補給回数を最
小限に留めることが望まれている。
【００１２】なお、特開昭５６−１６２８１号公報に、
サーマルオシレーション防止の関連技術が開示されてい
るので、これを図を用いて説明する。図５は従来例のサ
ーマルオシレーション防止に関する説明図である。
サーマルオシレーション防止の関連技術が開示されてい
るので、これを図を用いて説明する。図５は従来例のサ
ーマルオシレーション防止に関する説明図である。
【００１３】図５において、液体ヘリウム注入管６とヘ
リウムガス排出管７とはバイパス管１４により接続さ
れ、バイパス管１４の中央部にはバイパス管１４の流路
を開閉するバルブ１５が設けられている。
リウムガス排出管７とはバイパス管１４により接続さ
れ、バイパス管１４の中央部にはバイパス管１４の流路
を開閉するバルブ１５が設けられている。
【００１４】この構造によれば、液体ヘリウム３の注入
時には、バルブ１５を閉止することにより、注入時の液
体ヘリウム３の圧力を保持することができる。
時には、バルブ１５を閉止することにより、注入時の液
体ヘリウム３の圧力を保持することができる。
【００１５】定常運転時には、バルブ１５を開け、閉止
栓１０により、液体ヘリウム注入管６における液体ヘリ
ウム３の注入側端部を閉止しておく。これによって、液
体ヘリウム注入管６内のヘリウムガスはヘリウム排出管
７へ流出するため、サーマルオシレーションは発生しな
い。
栓１０により、液体ヘリウム注入管６における液体ヘリ
ウム３の注入側端部を閉止しておく。これによって、液
体ヘリウム注入管６内のヘリウムガスはヘリウム排出管
７へ流出するため、サーマルオシレーションは発生しな
い。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来例
は、サーマルオシレーションの発生を防止するために、
配管及びバルブの増設を必要とし、ヘリウム注液と定常
運転との切替え時にはバルブの開閉操作を行う必要があ
り、バルブを閉じたままで定常運転に入った場合は、サ
ーマルオシレーションの発生する問題があった。
は、サーマルオシレーションの発生を防止するために、
配管及びバルブの増設を必要とし、ヘリウム注液と定常
運転との切替え時にはバルブの開閉操作を行う必要があ
り、バルブを閉じたままで定常運転に入った場合は、サ
ーマルオシレーションの発生する問題があった。
【００１７】本発明の目的は、単純な操作によりサーマ
ルオシレーションの発生を防止でき、ヘリウム蒸発量の
少ない極低温容器を提供することにある。
ルオシレーションの発生を防止でき、ヘリウム蒸発量の
少ない極低温容器を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】上記目的は、次のように
して達成することができる。
して達成することができる。
【００１９】（１）超伝導コイル、超伝導コイルを内部
に収め、かつ超伝導コイルを冷却する液体ヘリウムを貯
液するヘリウム容器、ヘリウム容器を内部に収める真空
容器、液体ヘリウムを真空容器の外部からヘリウム容器
の内部へ注入する液体ヘリウム注入管、及びヘリウム容
器の内部で液体ヘリウムが蒸発して生じたヘリウムガス
を真空容器の外部へ排出するヘリウムガス排出管を有す
る極低温容器において、液体ヘリウム注入管の液体ヘリ
ウム注入口が、ヘリウムガス排出管が真空容器の外部に
おいて拡張されているヘリウムガス排出管拡張部の内部
に位置し、ヘリウムガス排出管拡張部の周壁における液
体ヘリウム注入口の近傍に位置する箇所に閉止栓取付け
口を設け、超伝導コイルの定常運転時には、閉止栓取付
け口に第１閉止栓を取付け、ヘリウム容器への液体ヘリ
ウムの注入時には、閉止栓取付け口に、内部を液体ヘリ
ウムが通り、かつ一端が液体ヘリウム注入口に接続する
トランスファチューブが、中央部を貫通している第２閉
止栓を取付けること。
に収め、かつ超伝導コイルを冷却する液体ヘリウムを貯
液するヘリウム容器、ヘリウム容器を内部に収める真空
容器、液体ヘリウムを真空容器の外部からヘリウム容器
の内部へ注入する液体ヘリウム注入管、及びヘリウム容
器の内部で液体ヘリウムが蒸発して生じたヘリウムガス
を真空容器の外部へ排出するヘリウムガス排出管を有す
る極低温容器において、液体ヘリウム注入管の液体ヘリ
ウム注入口が、ヘリウムガス排出管が真空容器の外部に
おいて拡張されているヘリウムガス排出管拡張部の内部
に位置し、ヘリウムガス排出管拡張部の周壁における液
体ヘリウム注入口の近傍に位置する箇所に閉止栓取付け
口を設け、超伝導コイルの定常運転時には、閉止栓取付
け口に第１閉止栓を取付け、ヘリウム容器への液体ヘリ
ウムの注入時には、閉止栓取付け口に、内部を液体ヘリ
ウムが通り、かつ一端が液体ヘリウム注入口に接続する
トランスファチューブが、中央部を貫通している第２閉
止栓を取付けること。
【００２０】（２）超伝導コイル、超伝導コイルを内部
に収め、かつ超伝導コイルを冷却する液体ヘリウムを貯
液するヘリウム容器、ヘリウム容器を内部に収める真空
容器、液体ヘリウムを真空容器の外部からヘリウム容器
の内部へ注入する液体ヘリウム注入管、及びヘリウム容
器の内部で液体ヘリウムが蒸発して生じたヘリウムガス
を真空容器の外部へ排出するヘリウムガス排出管を有す
る極低温容器の使用方法において、液体ヘリウム注入管
の液体ヘリウム注入口を、ヘリウムガス排出管が真空容
器の外部において拡張されているヘリウムガス排出管拡
張部の内部に位置させ、ヘリウムガス排出管拡張部の周
壁における液体ヘリウム注入口の近傍に位置する箇所に
閉止栓取付け口を設け、超伝導コイルの定常運転時に
は、閉止栓取付け口に第１閉止栓を取付けて、液体ヘリ
ウム注入管の内部で液体ヘリウムが蒸発して生じたヘリ
ウムガスを液体ヘリウム注入口からヘリウムガス排出管
拡張部内へ流出させ、ヘリウム容器への液体ヘリウムの
注入時には、閉止栓取付け口に、内部を液体ヘリウムが
通り、かつ一端が液体ヘリウム注入口に接続するトラン
スファチューブが、中央部を貫通している第２閉止栓を
取付け、ヘリウム容器への液体ヘリウムの注入をトラン
スファチューブ内を通して行うこと。
に収め、かつ超伝導コイルを冷却する液体ヘリウムを貯
液するヘリウム容器、ヘリウム容器を内部に収める真空
容器、液体ヘリウムを真空容器の外部からヘリウム容器
の内部へ注入する液体ヘリウム注入管、及びヘリウム容
器の内部で液体ヘリウムが蒸発して生じたヘリウムガス
を真空容器の外部へ排出するヘリウムガス排出管を有す
る極低温容器の使用方法において、液体ヘリウム注入管
の液体ヘリウム注入口を、ヘリウムガス排出管が真空容
器の外部において拡張されているヘリウムガス排出管拡
張部の内部に位置させ、ヘリウムガス排出管拡張部の周
壁における液体ヘリウム注入口の近傍に位置する箇所に
閉止栓取付け口を設け、超伝導コイルの定常運転時に
は、閉止栓取付け口に第１閉止栓を取付けて、液体ヘリ
ウム注入管の内部で液体ヘリウムが蒸発して生じたヘリ
ウムガスを液体ヘリウム注入口からヘリウムガス排出管
拡張部内へ流出させ、ヘリウム容器への液体ヘリウムの
注入時には、閉止栓取付け口に、内部を液体ヘリウムが
通り、かつ一端が液体ヘリウム注入口に接続するトラン
スファチューブが、中央部を貫通している第２閉止栓を
取付け、ヘリウム容器への液体ヘリウムの注入をトラン
スファチューブ内を通して行うこと。
【００２１】
【作用】本発明では、真空容器外部にヘリウムガス排出
管を拡張したヘリウムガス排出管拡張部を設け、ヘリウ
ムガス排出管拡張部内のヘリウムガス雰囲気中に、液体
ヘリウム注入管における液体ヘリウムの注入口を位置さ
せ、定常運転時には液体ヘリウム注入口を開けてある。
管を拡張したヘリウムガス排出管拡張部を設け、ヘリウ
ムガス排出管拡張部内のヘリウムガス雰囲気中に、液体
ヘリウム注入管における液体ヘリウムの注入口を位置さ
せ、定常運転時には液体ヘリウム注入口を開けてある。
【００２２】したがって、液体ヘリウム注入管内の液体
ヘリウムが蒸発して生じたヘリウムガスは、ヘリウムガ
ス排出管内へ流出し、サーマルオシレーションは発生し
ない。
ヘリウムが蒸発して生じたヘリウムガスは、ヘリウムガ
ス排出管内へ流出し、サーマルオシレーションは発生し
ない。
【００２３】また、液体ヘリウム注入管における液体ヘ
リウム注入口が、ヘリウムガス排出管拡張部内のヘリウ
ムガス雰囲気中に位置してあるので、液体ヘリウム注入
管内へ大気が侵入して、液体ヘリウム注入管が凍結する
ことはない。
リウム注入口が、ヘリウムガス排出管拡張部内のヘリウ
ムガス雰囲気中に位置してあるので、液体ヘリウム注入
管内へ大気が侵入して、液体ヘリウム注入管が凍結する
ことはない。
【００２４】
【実施例】本発明の実施例を図１〜図３により説明す
る。図１は一実施例の極低温容器の模式縦断面図、図２
は図１のヘリウム注入時の要部縦断面図、図３は図１の
定常運転時の要部縦断面図である。なお、極低温容器の
概略構造は従来のものとほぼ同一であるので、ここでは
説明は省略する。
る。図１は一実施例の極低温容器の模式縦断面図、図２
は図１のヘリウム注入時の要部縦断面図、図３は図１の
定常運転時の要部縦断面図である。なお、極低温容器の
概略構造は従来のものとほぼ同一であるので、ここでは
説明は省略する。
【００２５】図１において、真空容器４の外部にヘリウ
ムガス排出管７を拡張したヘリウムガス排出管拡張部７
ａを設け、ヘリウムガス注入管６の液体ヘリウム３の注
入側端部、すなわち液体ヘリウム注入口８は、ヘリウム
ガス排出管拡張部７ａ内に位置させてある。
ムガス排出管７を拡張したヘリウムガス排出管拡張部７
ａを設け、ヘリウムガス注入管６の液体ヘリウム３の注
入側端部、すなわち液体ヘリウム注入口８は、ヘリウム
ガス排出管拡張部７ａ内に位置させてある。
【００２６】液体ヘリウム注入時は、図１の閉止栓１０
の取付け口には、図２に示すように、トランスファチュ
ーブ１２が中央部を貫通している閉止栓１０を取付け、
閉止栓１０の接続金具１１に付設してあるゴムＯリング
Ａ１３ａ及びゴムＯリングＢ１３ｂにより軸シールを行
い、液体ヘリウム３（図１参照）を、大気中及びヘリウ
ムガス排出管拡張部７ａの外部へ漏らすことなく、トラ
ンスファチューブ１２から液体ヘリウム注入管６へと移
送することができるようにしてある。
の取付け口には、図２に示すように、トランスファチュ
ーブ１２が中央部を貫通している閉止栓１０を取付け、
閉止栓１０の接続金具１１に付設してあるゴムＯリング
Ａ１３ａ及びゴムＯリングＢ１３ｂにより軸シールを行
い、液体ヘリウム３（図１参照）を、大気中及びヘリウ
ムガス排出管拡張部７ａの外部へ漏らすことなく、トラ
ンスファチューブ１２から液体ヘリウム注入管６へと移
送することができるようにしてある。
【００２７】定常運転時は、図１の閉止栓１０の取付け
口には、図３に示すように、閉止栓１０及びゴムＯリン
グＡ１３ａを用いて、ヘリウムガス排出管拡張部７ａと
大気側とのシールのみを行い、液体ヘリウム注入管６に
おける液体ヘリウム注入口８はヘリウムガス排出管拡張
部７ａ内に開放してある。したがって、液体ヘリウム注
入管６内のヘリウムガスは常にヘリウムガス排出管拡張
部７ａ内へ流れることになり、このため、サーマルオシ
レーションは発生しない。
口には、図３に示すように、閉止栓１０及びゴムＯリン
グＡ１３ａを用いて、ヘリウムガス排出管拡張部７ａと
大気側とのシールのみを行い、液体ヘリウム注入管６に
おける液体ヘリウム注入口８はヘリウムガス排出管拡張
部７ａ内に開放してある。したがって、液体ヘリウム注
入管６内のヘリウムガスは常にヘリウムガス排出管拡張
部７ａ内へ流れることになり、このため、サーマルオシ
レーションは発生しない。
【００２８】また、液体ヘリウム注入口８は、定常運転
時にはヘリウムガス排出管拡張部７ａ内のヘリウムガス
雰囲気中にあるため、液体ヘリウム注入管６へ大気が侵
入して、液体ヘリウム注入管６を凍結させることはな
い。
時にはヘリウムガス排出管拡張部７ａ内のヘリウムガス
雰囲気中にあるため、液体ヘリウム注入管６へ大気が侵
入して、液体ヘリウム注入管６を凍結させることはな
い。
【００２９】更に、従来では、液体ヘリウム注入と定常
運転との切替え時にはバルブの開閉操作を行う必要があ
り、バルブを閉じたままで、誤って定常運転に入った場
合は、サーマルオシレーションが発生する問題があっ
た。本実施例では、バルブを必要としないため、バルブ
開閉を誤操作するといった危険性は生じない。
運転との切替え時にはバルブの開閉操作を行う必要があ
り、バルブを閉じたままで、誤って定常運転に入った場
合は、サーマルオシレーションが発生する問題があっ
た。本実施例では、バルブを必要としないため、バルブ
開閉を誤操作するといった危険性は生じない。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、超電導コイルを収めて
いる極低温容器の定常運転時において、サーマルオシレ
ーションの発生をなくし、液体ヘリウムの蒸発量を低減
させることができる。また、バルブ開閉の誤操作の危険
性をなくし、ヘリウム注入管の凍結を防止することがで
きる。
いる極低温容器の定常運転時において、サーマルオシレ
ーションの発生をなくし、液体ヘリウムの蒸発量を低減
させることができる。また、バルブ開閉の誤操作の危険
性をなくし、ヘリウム注入管の凍結を防止することがで
きる。
【図１】本発明の一実施例の極低温容器の模式縦断面図
である。
である。
【図２】図１のヘリウム注入時の要部縦断面図である。
【図３】図１の定常運転時の要部縦断面図である。
【図４】従来例の極低温容器の模式縦断面図である。
【図５】従来例のサーマルオシレーション防止に関する
説明図である。
説明図である。
１…超電導コイル、２…ヘリウム容器、３…液体ヘリウ
ム、４…真空容器、５…真空、６…液体ヘリウム注入
管、７…ヘリウムガス排出管、７ａ…ヘリウムガス排出
管拡張部、８…液体ヘリウム注入口、９…ヘリウムガス
排出口、１０…閉止栓、１１…接続金具、１２…トラン
スファチューブ、１３ａ…ゴムＯリングＡ、１３ｂ…ゴ
ムＯリングＢ、１４…バイパス管、１５…バルブ。
ム、４…真空容器、５…真空、６…液体ヘリウム注入
管、７…ヘリウムガス排出管、７ａ…ヘリウムガス排出
管拡張部、８…液体ヘリウム注入口、９…ヘリウムガス
排出口、１０…閉止栓、１１…接続金具、１２…トラン
スファチューブ、１３ａ…ゴムＯリングＡ、１３ｂ…ゴ
ムＯリングＢ、１４…バイパス管、１５…バルブ。
Claims (2)
- 【請求項１】 超伝導コイル、前記超伝導コイルを内部
に収め、かつ前記超伝導コイルを冷却する液体ヘリウム
を貯液するヘリウム容器、前記ヘリウム容器を内部に収
める真空容器、前記液体ヘリウムを前記真空容器の外部
から前記ヘリウム容器の内部へ注入する液体ヘリウム注
入管、及び前記ヘリウム容器の内部で前記液体ヘリウム
が蒸発して生じたヘリウムガスを前記真空容器の外部へ
排出するヘリウムガス排出管を有する極低温容器におい
て、前記液体ヘリウム注入管の液体ヘリウム注入口が、
前記ヘリウムガス排出管が前記真空容器の外部において
拡張されているヘリウムガス排出管拡張部の内部に位置
し、前記ヘリウムガス排出管拡張部の周壁における前記
液体ヘリウム注入口の近傍に位置する箇所に閉止栓取付
け口を設け、前記超伝導コイルの定常運転時には、前記
閉止栓取付け口に第１閉止栓を取付けてあり、前記ヘリ
ウム容器への前記液体ヘリウムの注入時には、前記閉止
栓取付け口に、内部を前記液体ヘリウムが通り、かつ一
端が前記液体ヘリウム注入口に接続するトランスファチ
ューブが、中央部を貫通している第２閉止栓を取付けて
あることを特徴とする極低温容器。 - 【請求項２】 超伝導コイル、前記超伝導コイルを内部
に収め、かつ前記超伝導コイルを冷却する液体ヘリウム
を貯液するヘリウム容器、前記ヘリウム容器を内部に収
める真空容器、前記液体ヘリウムを前記真空容器の外部
から前記ヘリウム容器の内部へ注入する液体ヘリウム注
入管、及び前記ヘリウム容器の内部で前記液体ヘリウム
が蒸発して生じたヘリウムガスを前記真空容器の外部へ
排出するヘリウムガス排出管を有する極低温容器の使用
方法において、前記液体ヘリウム注入管の液体ヘリウム
注入口を、前記ヘリウムガス排出管が前記真空容器の外
部において拡張されているヘリウムガス排出管拡張部の
内部に位置させ、前記ヘリウムガス排出管拡張部の周壁
における前記液体ヘリウム注入口の近傍に位置する箇所
に閉止栓取付け口を設け、前記超伝導コイルの定常運転
時には、前記閉止栓取付け口に第１閉止栓を取付けて、
前記液体ヘリウム注入管の内部で前記液体ヘリウムが蒸
発して生じたヘリウムガスを前記液体ヘリウム注入口か
ら前記ヘリウムガス排出管拡張部の内部へ流出させ、前
記ヘリウム容器への前記液体ヘリウムの注入時には、前
記閉止栓取付け口に、内部を前記液体ヘリウムが通り、
かつ一端が前記液体ヘリウム注入口に接続するトランス
ファチューブが、中央部を貫通している第２閉止栓を取
付け、前記ヘリウム容器への前記液体ヘリウムの注入を
前記トランスファチューブの内部を通して行うことを特
徴とする極低温容器の使用方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4223871A JPH0677541A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 極低温容器及び使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4223871A JPH0677541A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 極低温容器及び使用方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0677541A true JPH0677541A (ja) | 1994-03-18 |
Family
ID=16805017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4223871A Pending JPH0677541A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 極低温容器及び使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0677541A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006002461A1 (en) * | 2004-07-05 | 2006-01-12 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method and apparatus for operation of a cryogenic device in a gaseous environment |
| US7155930B2 (en) | 2003-03-11 | 2007-01-02 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Apparatus for producing slush nitrogen and method for producing the same |
-
1992
- 1992-08-24 JP JP4223871A patent/JPH0677541A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7155930B2 (en) | 2003-03-11 | 2007-01-02 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Apparatus for producing slush nitrogen and method for producing the same |
| US7370481B2 (en) | 2003-03-11 | 2008-05-13 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Apparatus and method for cooling super conductive body |
| WO2006002461A1 (en) * | 2004-07-05 | 2006-01-12 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method and apparatus for operation of a cryogenic device in a gaseous environment |
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