JPH0676765A

JPH0676765A - 電磁集束型投写型陰極線管

Info

Publication number: JPH0676765A
Application number: JP23216992A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Asano; 哲夫浅野; Eiji Sakamoto; 英治坂本
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1992-08-31
Filing date: 1992-08-31
Publication date: 1994-03-18

Abstract

(57)【要約】【目的】ゲッター膜の形成領域を拡大させ、ゲッター
材料の飛散面積を大きくし、ゲッター材料の飛散量を増
大させた電磁集束型投写型陰極線管の提供。【構成】電子銃５から延在したゲッターサポートにゲ
ッターリングを取り付け、前記ゲッターリングを高周波
加熱により飛散させて管ネック部の内壁面にゲッター膜
を形成させる電磁集束型投写型陰極線管において、前記
ゲッターサポートを延長させ、その延長されたゲッター
サポートの略先端部及び中間部のそれぞれにゲッターリ
ングを取付け、前記２つのゲッターリングを高周波加熱
により飛散させ、管ネック部の内壁面に一部が重なり合
ったゲッター膜を形成させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、管ネック部にゲッター
膜が形成される電磁集束型投写型陰極線管に係わり、特
に、前記ゲッター膜の形成領域を拡大させ、管内の残留
ガス及び動作時の管内放出ガスの吸収能力を増大させる
ようにした電磁集束型投写型陰極線管に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電磁集束型投写型陰極線管にあっ
ては、電子銃が収納されている管ネック部が比較的長い
構成になっているため、通常、その管ネック部の電子ビ
ームが衝突しないような領域にゲッター膜を形成させ、
前記ゲッター膜によって管内の残留ガス及び動作時の管
内放出ガスを吸収させるようにし、もって、管内の真空
度を向上、維持させている。そして、前記ゲッター膜を
形成する場合には、管の製造時に、電子銃から延在した
ゲッターサポートにバリウム等の金属材料を含んだゲッ
ター材料からなる１つのゲッターリングを取り付けてお
き、管の排気後に前記ゲッターリングを高周波加熱して
前記ゲッター材料を管内に飛散させることにより、管ネ
ック部の内壁面にゲッター膜を形成させるようにしてい
る。

【０００３】図４（ａ）は、前記従来の電磁集束型投写
型陰極線管の一例を示す一部断面構成図であり、図４
（ｂ）は、管ネック部の内壁面に飛散付着されるゲッタ
ー量である。

【０００４】図４（ａ）において、２１は外囲器、２２
は管ネック部、２３はファンネル部、２４はパネル部、
２５は電子銃、２６はゲッターサポート、２７はゲッタ
ーリング、２８はカソード及びＧ１電極、２９はＧ２電
極、３０はＧ３電極、３１はＧ４電極、３２はＧ５電
極、３３はシールドカップである。

【０００５】そして、電磁集束型投写型陰極線管の外囲
器２１は、電子銃２５が配置されている管ネック部２２
と、径が次第に拡大するファンネル部２３と、スクリー
ン（図示なし）が配置されているパネル部２４とからな
っている。電子銃２５は、カソード及びＧ１電極２８
と、Ｇ２電極２９と、Ｇ３電極３０と、Ｇ４電極３１
と、Ｇ５電極３２と、シールドカップ３３とからなって
いる。また、シールドカップ３３の端部からゲッターサ
ポート２６が延在しており、このゲッターサポート２６
の略先端部分にはゲッターリング２７が設けられてい
る。なお、前記ゲッターリング２７のゲッターサポート
２６への設置は、電磁集束型投写型陰極線管の製造過程
において行なわれるものであり、前記ゲッターリング２
７は、バリウム等の金属からなるゲッター材料を含み、
高周波加熱によりそのゲッター材料が蒸発飛散するもの
で構成される。

【０００６】前記構成による電磁集束型投写型陰極線管
において、管内の空気を排気した後で、ゲッターリング
２７を高周波加熱し、ゲッター材料を蒸発飛散させる
と、前記蒸発飛散したゲッター材料は管ネック部２２の
内壁面に付着し、そこにゲッター膜を形成させる。この
場合、前記管ネック部２２の内壁面に付着するゲッター
量は、図４（ｂ）に示すような非対称な分布になる。

【０００７】また、管ネック部に少なくとも電子ビーム
形成部と集束構造とからなる電子銃が配置され、前記集
束構造は絶縁体の円筒中空管とその内面に形成された螺
旋状の抵抗層とを含んだ構造を有する陰極線管、いわゆ
る、閉回路電子銃型投写型陰極線管においては、管ネッ
ク部の前記円筒中空管の外側に２つのゲッター配列（ゲ
ッターリング）を配置したものが既に知られており、そ
の一例が、特開平３−４０３４３号に開示されている。

【０００８】図５は、前記既知の閉回路電子銃型投写型
陰極線管の一例を示す断面構成図である。

【０００９】図５において、３４は外囲器、３５は管ネ
ック部、３６はファンネル部、３７はパネル部、３８は
電子銃、３９は電子ビーム形成部、４０は集束構造、４
１は絶縁体の円筒中空管、４２は抵抗層、４３は第１の
ゲッター配列（ゲッターリング）、４４は第２のゲッタ
ー配列（ゲッターリング）である。

【００１０】そして、閉回路電子銃型投写型陰極線管の
外囲器３４は、電子銃３８が配置されている管ネック部
３５と、径が次第に拡大するファンネル部３６と、スク
リーン（図示なし）が配置されているパネル部３７から
なっている。電子銃３８は、電子ビーム形成部３９と集
束構造４０とからなっており、この中で、集束構造４０
は、絶縁体の円筒中空管４１と、円筒中空管４１の内壁
面に形成された螺旋状の抵抗層４２からなっている。ま
た、円筒中空管４１の外壁面には、一定距離をおいて第
１のゲッターリング４３と第２のゲッターリング４４と
が配置されている。

【００１１】前記構成による閉回路電子銃型投写型陰極
線管においても、管内の空気を排気した後で、第１のゲ
ッターリング４３と第２のゲッターリング４４とを加熱
し、ゲッター材料を蒸発飛散させると、前記蒸発飛散し
たゲッター材料は管ネック部３５の内壁面及び円筒中空
管４１の外壁面に付着し、そこにゲッター膜を形成させ
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の電磁集束型投写型陰極線管は、電子銃から延在した
ゲッターサポート２６に１つのゲッターリング２７を取
り付け、前記ゲッターリング２７を高周波加熱してゲッ
ター材料を管内に飛散させることにより、管ネック部２
２の内壁面にゲッター膜を形成させるものであるため、
前記ゲッター膜が形成される領域が管ネック部２２の内
壁面における比較的狭い範囲に限られていた、即ち、ゲ
ッター材料が飛散して付着する飛散面積が小さく、ゲッ
ター材料の飛散量も少ないものであった。このため、前
記従来の電磁集束型投写型陰極線管においては、ゲッタ
ー膜による前記管内の残留ガス及び動作時の管内放出ガ
スの吸収能力がそれほど大きくならず、経年変化により
管のエミッションが次第に低下するようになって、短期
間内に管寿命が尽きてしまうという問題があった。

【００１３】また、前記既知の閉回路電子銃型投写型陰
極線管は、一応、２つのゲッター配列（ゲッターリン
グ）４３、４４を配置しているものではあるけれども、
前記２つのゲッターリング４３、４４を陰極線管の外囲
器３４の内壁面と円筒中空管４１の外壁面との間に設け
ている理由は、前記ゲッターリング４３、４４を飛散さ
せたときに、ゲッター材料が円筒中空管４１の内壁面に
付着し、その内壁面に設けられている螺旋状の抵抗層４
２を電気的に短絡させるのを避けるためであって、この
場合に、前記陰極線管の外囲器３４の内壁面と円筒中空
管４１の外壁面との間に形成される空間領域は極めて狭
いので、１つのゲッターリングの配置だけでは通常の量
のゲッター材料を飛散させることができず（狭い空間領
域において多くの量のゲッター材料を飛散させると、外
囲器が破損したりする）、２つのゲッターリング４３、
４４の配置により始めて前記通常の量のゲッター材料を
飛散させるようにしているものである。

【００１４】即ち、前記既知の閉回路電子銃型投写型陰
極線管は、２つのゲッターリング４３、４４を配置して
いるにも係わらず、前記２つのゲッターリング４３、４
４の飛散により形成されたゲッター膜の形成領域の大き
さは全体として従来の通常のゲッター膜の形成領域の大
きさと大差がないものであって、その結果、前記既知の
閉回路電子銃型投写型陰極線管も、ゲッター材料が飛散
して付着する飛散面積が小さく、前記ゲッター材料の飛
散量も少ないものであって、前記問題は未だ解決されて
いないものである。

【００１５】本発明は、前記問題点を解決するものであ
って、その目的は、ゲッター膜の形成領域を拡大させ、
ゲッター材料の飛散面積を大きくし、ゲッター材料の飛
散量を増大させた電磁集束型投写型陰極線管を提供する
ことにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、電子銃から延在したゲッターサポートに
ゲッターリングを取り付け、前記ゲッターリングを高周
波加熱により飛散させて管ネック部の内壁面にゲッター
膜を形成させる電磁集束型投写型陰極線管において、前
記ゲッターサポートを延長させ、その延長されたゲッタ
ーサポートの略先端部及び中間部のそれぞれにゲッター
リングを取付け、前記２つのゲッターリングを高周波加
熱により飛散させ、管ネック部の内壁面に一部が重なり
合ったゲッター膜を形成させる手段を備える。

【００１７】

【作用】前記手段によれば、管の製造時に、延長された
ゲッターサポートの略先端部及び中間部のそれぞれにゲ
ッターリングを取付けておき、管の排気を行なった後
で、前記各ゲッターリングを高周波加熱し、ゲッター材
料を管内に飛散させる、好ましくは各ゲッターリング毎
に順次飛散させることにより、ゲッター材料を管ネック
部の内壁面に付着させ、ゲッター膜を形成させる。そし
て、管内の２つのゲッターリングの取付位置を選択する
ことにより、このゲッター膜の形成時に、１つのゲッタ
ーリングの飛散により得られるゲッター膜と、もう１つ
のゲッターリングの飛散により得られるゲッター膜とが
前記内壁面において一部が重なり合うように形成すれ
ば、ゲッター膜の形成領域を拡大させることができ、そ
れとともに、ゲッター材料の飛散面積を大きくし、ゲッ
ター材料の飛散量を増大させることができる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の電磁集束型投写型陰極線管の
実施例を図面を用いて説明する。

【００１９】図１（ａ）は、本発明に係わる電磁集束型
投写型陰極線管の第１の実施例を示す断面構成図であ
り、図１（ｂ）は、管ネック部の内壁面に飛散付着され
るゲッター量である。

【００２０】図１（ａ）において、１は外囲器、２は管
ネック部、３はファンネル部、４はパネル部、５は電子
銃、６はゲッターサポート、７は第１のゲッターリン
グ、８は第２のゲッターリング、９はカソード及びＧ１
電極、１０はＧ２電極、１１はＧ３電極、１２はＧ４電
極、１３はＧ５電極、１４はシールドカップである。

【００２１】そして、電磁集束型投写型陰極線管の外囲
器１は、電子銃５が配置されており、比較的長い形状を
有する管ネック部２と、前方に行くに従って次第に拡大
する径を有するファンネル部３と、スクリーン（図示な
し）が配置されているパネル部４とからなっている。ま
た、電子銃５は、カソード及びＧ１電極９と、Ｇ２電極
１０と、Ｇ３電極１１と、Ｇ４電極１２と、Ｇ５電極１
３と、シールドカップ１４とからなっており、Ｇ５電極
１３とシールドカップ１４とは電気的に接続されてい
る。シールドカップ１４の端部からは従来のものとと同
様にゲッターサポート６が延在しているが、このゲッタ
ーサポート６の長さは従来のものよりもかなり長くなる
ように選び、そのゲッターサポート６の中間部分に第１
のゲッターリング７が設けられ、かつ、前記ゲッターサ
ポート６の略先端部分に第２のゲッターリング８が設け
られる。なお、本実施例においても、前記第１及び第２
のゲッターリング７、８のゲッターサポート６設置は、
電磁集束型投写型陰極線管を製造工程において行なわれ
るものであり、前記第１及び第２のゲッターリング７、
８は、バリウム等の金属からなるゲッター材料を含み、
高周波加熱によりそのゲッター材料が蒸発飛散するもの
で形成される。

【００２２】前記構成を有する本実施例の電磁集束型投
写型陰極線管において、管内の空気を排気装置を用いて
真空排気した後に、始めに、第１のゲッターリング７を
高周波加熱し、ゲッター材料を蒸発飛散させると、前記
蒸発飛散したゲッター材料は、図１（ｂ）のに示すよ
うな分布になって、管ネック部２の内壁面に飛散付着す
るようになり、そこに第１のゲッター膜を形成させる。
続いて、第２のゲッターリング８を高周波加熱し、前と
同様にゲッター材料を蒸発飛散させると、前記蒸発飛散
したゲッター材料は、図１（ｂ）のに示すような分布
になって、管ネック部２の内壁面に飛散付着するように
なり、そこに第２のゲッター膜を形成させる。この場
合、前記第１のゲッターリング７及び第２のゲッターリ
ング８の設置位置を選択することにより、前記第１及び
第２のゲッター膜の一部を重なり合わせるようにし、全
体のゲッター量が図１（ｂ）の点線で示すような分布に
なるようにしている。

【００２３】この場合、本実施例の電磁集束型投写型陰
極線管における第１及び第２のゲッターリング７、８の
取付位置は、例えば、前記第１のゲッターリング７の取
付位置を従来の電磁集束型投写型陰極線管におけるゲッ
ターリングの取付位置と略同じ位置になるように選び、
前記第２のゲッターリング８の取付位置を前記第１のゲ
ッターリング７の取付位置から２０乃至４０mm離れた位
置になるように選ぶ。

【００２４】このような取付位置を選択すると、ゲッタ
ー材料の飛散により得られる全体のゲッター量が図１
（ｂ）の点線で示すような分布になるとともに、第１の
ゲッターリング７の高周波加熱時に第２のゲッターリン
グ８が同時に加熱されることがなく、しかも、第２のゲ
ッターリング８に電子ビームがぶつかることもない。

【００２５】このように、本実施例の電磁集束型投写型
陰極線管によれば、全体のゲッター量が図１（ｂ）の点
線で示すような分布になって、ゲッター飛散面積が従来
のこの種の管のゲッター飛散面積より相当に大きくな
り、しかも、２度に渡るゲッターフラッシュの実行によ
り、ゲッター量も従来のこの種の管のゲッター量の約２
倍近くまで増大させることができる。

【００２６】また、図２は、電磁集束型投写型陰極線管
の動作時間に対するガス吸収量特性の変化を示すグラフ
であって、ａは本発明による電磁集束型投写型陰極線管
の前記特性、ｂは従来の電磁集束型投写型陰極線管の前
記特性を表わしている。

【００２７】なお、図３においては、動作時間１時間以
内の従来の電磁集束型投写型陰極線管の前記特性を基準
値（１００）とし、それ以外の各特性を、前記基準値に
対する相対値で表わすようにしたものである。

【００２８】図２に示すように、従来の電磁集束型投写
型陰極線管の動作時間に対するガス吸収量特性、及び、
本発明による電磁集束型投写型陰極線管の前記特性は、
動作時間の経過に従ってともに低下するが、全動作時間
を通じて本発明による電磁集束型投写型陰極線管の前記
特性が従来の電磁集束型投写型陰極線管の前記特性を下
回ることはなく、しかも、本発明による電磁集束型投写
型陰極線管の前記特性は、従来の電磁集束型投写型陰極
線管の前記特性に比べて２倍程度大きくなっており、前
記特性が大幅に改良されていることが判る。

【００２９】続く、図３は、本発明に係わる電磁集束型
投写型陰極線管の第２の実施例の要部構成を示す断面構
成図である。

【００３０】図３において、１５は円筒状の絶縁体であ
り、その他、図１（ａ）に示す構成要素と同じ構成要素
には同じ符号を付けている。

【００３１】そして、円筒状の絶縁体１５は、例えば、
ガラスやセラミック等の絶縁材料からなっており、ゲッ
ターサポート６の中間部分から先の部分の内側に、具体
的には、ゲッターサポート６における第１のゲッターリ
ング７の取付位置から先の部分の内側に設けられてい
る。また、円筒状の絶縁体１５は、電子銃５内を通過す
る電子ビームが、この円筒状の絶縁体１５にぶつからな
いように、その長さや径が選ばれるもので、例えば、そ
の長さが４０mm程度に選ばれ、その径が出来る限り大き
くなるように選ばれる。

【００３２】ここで、本実施例の電磁集束型投写型陰極
線管（以下、これを前者という）と、前述の第１の実施
例の電磁集束型投写型陰極線管（以下、これを後者とい
う）との構成を比較すると、前者は、前記円筒状の絶縁
体１５を具備しているのに対して、後者は、前記円筒状
の絶縁体１５を具備していない点だけであって、その余
の構成は前者と後者との間に何等の違いがないので、前
者の構成についてのこれ以上の詳しい説明は省略する。

【００３３】また、第１及び第２のゲッターリング７、
８を順次高周波加熱し、その高周波加熱を行なう度毎に
ゲッター材料を管内に蒸発飛散させ、その蒸発飛散した
ゲッター材料を管ネック部２の内壁面に順次付着させる
ことにより、前記管ネック部２の内壁面に一部が重なり
合ったゲッター膜を形成させる動作は、前者と後者との
間に違いがない。

【００３４】しかるに、前記動作において、後者は、単
に、前記管ネック部２の内壁面に前述のようなゲッター
膜を形成させるだけであるのに対し、前者は、前記管ネ
ック部２の内壁面に前述のようなゲッター膜を形成させ
るとともに、円筒状の絶縁体１５の外壁面にも前述のよ
うなゲッター膜を形成させている。このため、前者のゲ
ッター飛散面積は、後者のゲッター飛散面積よりもかな
り大きくなる。

【００３５】このように、本実施例によれば、前述の第
１の実施例で期待できる作用効果に加えて、ゲッター飛
散面積を著しく拡大させることができるという作用効果
が期待できるものである。

【００３６】なお、前記各実施例において示されている
数値や位置、例えば、第１のゲッターリング７及び第２
のゲッターリングとの間隔、または、円筒状の絶縁体１
５の長さ等は、それぞれ、実施に際して好ましいもので
はあるけれども、本発明は、そのようなものに限られ
ず、適宜、他の数値や位置を選択しても構わない。

【００３７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ゲッターサポート６の略先端部及び中間部のそれぞれに
第１及び第２のゲッターリング７、８を取付け、管の排
気を行なった後で、第１及び第２のゲッターリング７、
８を高周波加熱し、ゲッター材料を管内に飛散させるこ
とにより、ゲッター材料を管ネック部２の内壁面に付着
させてゲッター膜を形成しているので、ゲッター膜の形
成領域が従来のものに比べて拡大されるようになり、そ
れとともに、ゲッター飛散面積を従来のこの種の管のゲ
ッター飛散面積より相当に大きくさせることができ、か
つ、２度のゲッターフラッシュの実行により、ゲッター
量も従来のこの種の管のゲッター量の約２倍近くまで増
大できるという効果がある。

【００３８】また、本発明によれば、ゲッター飛散面積
が大きくなり、ゲッター量が増大したので、管内の残留
ガス及び動作時の管内放出ガスを吸収能力が増大し、経
年変化による管のエミッション低下を抑え、管寿命を長
くできるという効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる電磁集束型投写型陰極線管の第
１の実施例を示す一部断面構成図である。

【図２】電磁集束型投写型陰極線管の動作時間に対する
ガス吸収量特性の変化を示すグラフである。

【図３】本発明に係わる電磁集束型投写型陰極線管の第
２の実施例の要部を示す断面構成図である。

【図４】従来の電磁集束型投写型陰極線管の一例を示す
一部断面構成図である。

【図５】従来の閉回路電子銃型投写型陰極線管の一例を
示す断面構成図である。

【符号の説明】

１外囲器２管ネック部３ファンネル部４パネル部５電子銃６ゲッターサポート７第１のゲッターリング８第２のゲッターリング９カソード及びＧ１電極１０Ｇ２電極１１Ｇ３電極１２Ｇ４電極１３Ｇ５電極１４シールドカップ１５円筒状の絶縁体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子銃から延在したゲッターサポートに
ゲッターリングを取り付け、前記ゲッターリングを高周
波加熱により飛散させて管ネック部の内壁面にゲッター
膜を形成させる電磁集束型投写型陰極線管において、前
記ゲッターサポートを延長させ、その延長されたゲッタ
ーサポートの略先端部及び中間部のそれぞれにゲッター
リングを取付け、前記２つのゲッターリングを高周波加
熱により飛散させ、管ネック部の内壁面に一部が重なり
合ったゲッター膜を形成させることを特徴とする電磁集
束型投写型陰極線管。
【請求項２】前記２つのゲッターリングは、前記ゲッ
ターサポートへ２０乃至４０mmの間隔をもって取り付け
られていることを特徴とする請求項１記載の電磁集束型
投写型陰極線管。
【請求項３】前記ゲッターサポートは、延長された部
分の内側に円筒状の絶縁体が配置され、前記ゲッターリ
ングの高周波加熱による飛散時に、前記円筒状の絶縁体
の外壁面にもゲッター膜を形成させることを特徴とする
請求項１記載の電磁集束型投写型陰極線管。