JPH0675389A - 架橋結合剤系を有する光導電性記録材料 - Google Patents

架橋結合剤系を有する光導電性記録材料

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JPH0675389A
JPH0675389A JP5136528A JP13652893A JPH0675389A JP H0675389 A JPH0675389 A JP H0675389A JP 5136528 A JP5136528 A JP 5136528A JP 13652893 A JP13652893 A JP 13652893A JP H0675389 A JPH0675389 A JP H0675389A
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David Terrell
デヴィッド・テレル
Meutter Stefaan De
ステファーン・ド・ムテル
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電荷輸送層と電荷発生層との界面混合を避
け、改良された光感度を有する多層光導電性記録材料を
提供する。 【構成】 n電荷輸送材料(n−CTM)を含有し、電
荷輸送層(CTL)と隣接関係(接触)にある電荷発生
層(CGL)及び支持体を含む光導電性記録材料であ
り、前記電荷発生層(CGL)の結合剤が架橋によりメ
チレンクロライドに不溶性にされ、前記結合剤が、ここ
でポリアミノアミド樹脂と称し、アミノ基を有する少な
くとも1種のポリアミド樹脂と少なくとも1種のエポキ
シ樹脂との1種以上の重合体反応生成物から本質的にな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は電子写真に使用するのに好適な感
光性記録材料に関する。
【0002】電子写真においては、トナーと称される微
粒子化着色材料で現像できる潜在静電荷像を形成するた
め、光導電性材料が使用される。
【0003】次に現像された像は、光導電性記録材料、
例えば光導電性酸化亜鉛−結合剤層に永久的に定着でき
る、或いは光導電体層例えばセレン又はセレン合金層か
ら受容体材料例えば紙上に転写され、その上に定着でき
る。受容体材料へのトナー転写を用いる電子写真複写及
び印刷法においては、光導電性記録材料は再使用可能で
ある。迅速多数印刷又は複写を可能にするため、光導電
体層は、露光した時その電荷を急速に失い、そして又次
の像形成のため充分に高い静電荷を再び受容するため、
露光後その絶縁状態を急速に回復する光導電体層を使用
しなければならない。続いての帯電/像形成工程の前
に、材料がその相対的絶縁状態に完全に戻ることの不良
は「疲労」として当業者に普通に知られている。
【0004】疲労現象は産業上有用な光導電性材料の選
択に当っての指針として使用されている、何故なら光導
電性層の疲労は達成できる複写速度を制限するからであ
る。
【0005】電子写真複写のための特定の光導電性材料
の適合性を決定する更に別の重大な性質は、その光感度
である、これは原画から反射されるかなり低い強度の光
で操作する複写装置に使用するため充分に高くなければ
ならない。産業上の有用性は、又光導電性層が、光源例
えばレーザー又はランプのスペクトル強度分布にマッチ
するスペクトル感度を有することも要求している。これ
は、白色光源の場合に、バランス状態で全ての色を再現
させることを可能にする。
【0006】既知の光導電性記録材料は、導電性基体上
に被覆された一つ以上の「活性」層を有する異なる配置
にあり、場合によっては最外保護層を含む。活性層によ
り、静電荷像の形成における役割を果す層を意味する。
かかる層は電荷キャリヤー発生、電荷キャリヤー輸送又
はこの両方に責任を果す層であることができる。かかる
層は均質構造又は不均質構造を有することができる。
【0007】均質構造を有する前記光導電性記録材料に
おける活性層の例には、真空蒸着光導電性セレン、ドー
プしたケイ素、セレン合金及び均質光導電性重合体被
覆、例えば電子(負電荷キャリヤー)輸送化合物又は正
孔(正電荷キャリヤー)輸送化合物例えば溶解された染
料で増感された特定のヒドラジン、アミン及び複素芳香
族化合物で分子的にドープされた重合体結合剤及びポリ
(ビニルカルバゾール)結合剤から作られた層がある、
かくすると前記層中に電荷キャリヤー発生及び電荷キャ
リヤー輸送の両方が生起する。
【0008】不均質構造を有する前記光導電性記録材料
中の活性層の例には、所望によって分子的に分散した電
荷輸送化合物の存在下に、重合体結合剤又は重合体結合
剤混合物中に分散した1種以上の感光性有機もしくは無
機電荷発生顔料粒子の層がある、かくすると記録層は電
荷キャリヤー発生特性のみを示すことができ、或いは電
荷キャリヤー発生及び電荷輸送特性の両方を示すことが
できる。
【0009】特に低疲労を有する光導電性記録材料を提
供できる例によれば、電荷発生層及び電荷輸送層は隣接
関係で組合せられる。隣接電荷発生層中で発生した電荷
の電荷輸送のためにのみ作用する層には、例えばプラズ
マ蒸着無機層、光導電性重合体層、例えばポリ(N−ビ
ニルカルバゾール)を基材とした重合体層、又は重合体
結合剤又は結合剤混合物中に分子的に分布した低分子量
有機化合物から作られた層がある。
【0010】有用な電荷キャリヤー発生顔料(CGM)
は下記の群の一つに属する:
【0011】(a) ペリルイミド、例えばDBP223
7539に記載されたC.I.71130(C.I.は
カラーインデックスである);
【0012】(b) 多核キノン、例えばDBP2237
678に記載されたC.I.59300の如きアンタン
トロン;
【0013】(c) キナクリドン、例えばDBP223
7679に記載されたC.I.46500;
【0014】(d) ペリノンを含むナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸誘導顔料、例えばDBP
2239923に記載されたC.I.71105、オレ
ンジGR;
【0015】(e) テトラベンゾポルフイリン及びテト
ラナフタロポルフイリン、例えばUS−P335798
9に記載されているX結晶形でのH2 −フタロシアニン
(X−H2 Pc)、金属フタロシアニン例えばDBP2
239924に記載されたCuPc C.I.7416
0、及びEP428214Aに記載されたテトラベンゾ
ポルフイリン;及び公開されたEP−A243205に
記載された中心金属ケイ素に結合したシロキシ基を有す
るナフタロシアニン;
【0016】(f) インジゴ及びチオインジゴ染料、例
えばDBP2237680に記載されたC.I.733
12、ピグメントレッド88;
【0017】(g) 例えばドイツ公告特許(DAS)2
355075に記載された如きベンゾチオキサンテン誘
導体;
【0018】(h) 例えばDAS2314051に記載
された如きo−ジアミンとの縮合生成物を含むペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボン酸誘導顔料;
【0019】(i) ビスアゾ、トリスアゾ及びテトラキ
スアゾ顔料を含むポリアゾ顔料、例えばDAS2635
887に記載されたC.I.21180、クロルジアン
ブルー例えばUS−P4990421に記載された如き
トリスアゾ顔料、及びドイツ公開特許(DOS)291
9791、DOS3026653及びDOS30321
17に記載されたビスアゾ顔料;
【0020】(j) 例えばDAS2401220に記載
された如きスクアリリウム染料;
【0021】(h) ポリメチン染料;
【0022】(l) 下記一般式によるGB−P1416
602に記載された如きキナゾリン基を含有する染料;
【0023】
【化6】
【0024】式中R及びR1 は同じか又は異なり、水
素、C1 〜C4 アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、
ニトロ基、又はヒドロキシル基又は一緒になって縮合芳
香族環系を表わす;
【0025】(m) トリアリールメタン染料;
【0026】(n) 1,5−ジアミノ−アンスラキノン
基を含む染料;
【0027】(o) 無機光導電性顔料、例えばSe、S
e合金、As2 Se3 、TiO2 、ZnO、CdS等。
【0028】有機電荷キャリヤー輸送物質は重合体材料
又は非重合体材料の何れでもよい。
【0029】好ましい陰電荷輸送のための非重合体材料
には次のものがある:
【0030】(a) 9−ジシアノメチレン−2,4,7
−トリニトロ−フルオレノン(DTF)の如き芳香族ケ
トンとジシアノメチレン及びアルコキシカルボニルメチ
レン縮合物;公告されたヨーロッパ特許出願05378
08に記載された如き、下記式を有する1−ジシアノメ
チレンインダン−1−オン;
【0031】
【化7】
【0032】式中R1 、R2 、X及びYは前記ヨーロッ
パ特許出願明細書に記載された意義を有する;下記式を
有する化合物:
【0033】
【化8】
【0034】式中Aはアルキレン基、置換アルキレン
基、2価芳香族基又は置換2価芳香族基からなる群から
選択した結合であり、Sは硫黄であり、Bはアルキル
基、置換アルキル基、アリル基又は置換アリール基から
なる群から選択する、これらはUS−P4546054
に記載されている:
【0035】US−P4514481及びUS−P49
68813に記載されている如き4−ジシアノメチレン
−1,1−ジオキソ−チオピラン−4−オン誘導体、例
えばは下記式のもの:
【0036】
【化9】
【0037】
【化10】
【0038】(b) EP−A0534004に記載され
ている如きマロニトリルダイマーの誘導体;
【0039】(c) 2,4,7−トリニトロフルオレノ
ン及び2,4,5,7−テトラニトロフルオレノンの如
きニトロ化フルオレノン;
【0040】(d) US−P4562132に記載され
ている如き置換9−ジシアノメチレンフルオレン化合
物;
【0041】(e) 1,1,2−トリシアノエチレン誘
導体。
【0042】一定の電荷発生顔料(CGM)に対する電
荷発生層(CGL)及び一定の電荷輸送層(CTL)の
ための結合剤の選択は、光受容体の電気光学特性に強力
な影響を有する。光導電性記録材料の電気光学特性に、
下記現象の一つ以上が負の影響を有する:
【0043】(i) CGLとCTLの間の界面混合、こ
れは電荷捕捉を生ぜしめるCGLのCTMドーピング及
びCTLのCGMド−ピングをもたらす;
【0044】(ii) CGLでの電荷捕捉;
【0045】(iii) CGLでの劣った電荷輸送;
【0046】(iv) ブロッキング層の不存在下における
劣った電荷輸送ブロッキング特性。
【0047】CGL及びCTLの間の界面混合は、有効
なCTMが可溶性であるような溶媒の範囲にあるよう、
最良の電荷輸送特性を示すCTMを限定するように、C
TL結合剤を溶解するため使用する溶媒中に不溶性であ
るCGL結合剤又は結合剤群を用いて避けることができ
る。CTL結合剤及びCTMの両者が可溶性である溶媒
の範囲は極度に狭く、しばしばメチレンクロライドの如
きクロロ炭化水素に限定される。メチレンクロライドは
極度に強力な溶媒であり、メチレンクロライドに全く不
溶性であるCGL結合剤の範囲は、CGL結合剤が続く
硬化段階で架橋しない限り、極度に制限される。
【0048】硬化はここでは、光導電性記録材料の電荷
発生層の結合剤をメチレンクロライドに不溶性にする処
理として考える。
【0049】本発明の目的は、改良された光感度を有す
る多層光導電性記録材料を提供することにある。
【0050】本発明の別の目的は、電荷輸送層組成物の
溶液で電荷発生層を上塗被覆する間に、電荷輸送層と電
荷発生層の界面混合が避けられる光導電性記録材料を提
供することにある。
【0051】本発明の更に別の目的は、電荷発生層のた
めの結合剤系が、陰電荷輸送層である電荷輸送層中への
効率的な電荷注入及び電荷発生層中での効率的な電荷輸
送を可能にする光導電性記録材料を提供することにあ
る。
【0052】本発明によれば、n−電荷輸送材料(n−
CTM)を含有し、電荷輸送層(CTL)と隣接関係
(接触)にある電荷発生層及び支持体を含有し、前記電
荷発生層(CGL)結合剤が架橋によってメチレンクロ
ライドに不溶性にされ、前記結合剤が、ここでポリアミ
ノアミド樹脂と称される、アミノ基を有する少なくとも
1種のポリアミド樹脂と少なくとも1種のエポキシ樹脂
の1種以上の重合体反応生成物から本質的になる光導電
性記録材料を提供する。
【0053】前記ポリアミノアミド樹脂中のアミノ基は
一時的にブロックされて安定な被覆組成物を形成でき、
そこからアミノ基は被覆された層中にその場で放出され
る。アミノ基のブロック化は、ケトンとの反応によりそ
れらをケチミン基に変換させることによって行うことが
でき、これは湿分(H2 O)と反応して再び放出される
〔ニューヨークの John Wiley and Sons Inc. 1
967年発行、D. H.Solomon 著、The Chemistry of
Organic Film Formers の Epoxy Resins の章、
190〜191頁参照〕。
【0054】一つの例によれば、本発明による光導電性
記録材料は、唯一の結合剤として、それ自体が樹脂であ
ってもよい少なくとも1種のポリエポキシ化合物で架橋
(硬化)された1種以上のポリアミノアミド樹脂を含有
する電荷発生層を有する。
【0055】別の例によれば、本発明による光導電性記
録材料は、ポリアミノアミド樹脂中のNHとエポキシ基
の全量の当量比が、2.0:1〜1:2.5の間にある
よう少なくとも1種のポリエポキシ化合物で架橋した1
種以上のポリアミノアミド樹脂を含有する電荷発生層を
有する。
【0056】更に別の例によれば、本発明による光導電
性記録材料は、少なくとも30重量%の電荷発生材料及
び結合剤としての少なくとも1種のポリエポキシ化合物
で硬化した1種以上のポリアミノアミド樹脂を含有する
電荷発生層を有する。
【0057】本発明により使用するエポキシ樹脂の例
は、下記式(I) 、(II)、(III) 、(IV)及び(V) の少なく
とも一つの範囲内にある:
【0058】
【化11】
【0059】
【化12】
【0060】
【化13】
【0061】
【化14】
【0062】
【化15】
【0063】前記式(II)による市販のビスフエノールA
−エピクロヒドリンエポキシ樹脂を以下に商品名で挙げ
る:
【0064】米国の Shell Chemical Co. からのE
PON 828、EPON 1001、EPON 10
02、EPON 1004、EPON 1007、EP
ON1009。
【0065】米国の Dow Chemical からのDER 3
31、DER 667、DER 668、DER 66
9。
【0066】スイス国の Ciba Geigy AGのARAL
DITE GT 6071、ARALDITE GT
7203、ARALDITE GT 7097、ARA
LDITE GT 6099。
【0067】前記式(II)による市場で入手しうるビスフ
エノールF−エピクロルヒドリンエポキシ樹脂には、Ci
ba Geigy からのARALDITE GY 281があ
る。
【0068】前記式(II)による市場で入手しうるビスフ
エノールA/ビスフエノールF−エピクロルヒドリンエ
ポキシ樹脂には、 Shell Chemical Co. からのEPO
N235がある。
【0069】前記式(IV)による市場で入手しうるエポキ
シ樹脂には、Ciba Geigy AGからのARALDITE
MY 721がある。
【0070】前記式(V) による市場で入手しうるフエノ
ール/ボラックエポキシ樹脂には、Dow Chemical から
のDEN 431、DEN 438、DEN 439、
及びCiba Geigy AGからのARALDITE GY
11180及びARALDITE EPN 1138が
ある。
【0071】エポキシ樹脂の製造は、例えばUS−P5
051209に記載された如く、アルカリの存在下にエ
ピクロロヒドリン又はジクロロヒドリンとポリフエノー
ルのエーテル化によって行う。エポキシ樹脂の多くの例
は McGraw Hill Book Company 1967年発行、He
nry Lee 及び Kris Neville 著、 Handbook ofEpo
xy Resinsに記載されている。
【0072】本発明により使用するためのポリアミノア
ミド樹脂の例には、重合体脂肪酸とポリアルキレンポリ
アミンの反応生成物がある。かかるポリアルキレンポリ
アミンの例にはエチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン及びトリエチレンテトラミンがある。これらのポリア
ミノアミドは、高アミン数、好ましくは50〜400の
範囲を有する。重合体脂肪酸は、例えばUS−P505
1209に記載されている如く、不飽和脂肪酸、例えば
リノール酸、リノレン酸、オレイン酸、ステアリン酸等
の熱重合によって製造できる。
【0073】英国の Cray Valley Products により
市販されているVERSAMID(商品名)樹脂は、例
えばダイマー酸とアルキレンポリアミンの混合物との縮
合生成物であり、それらの構造は非常に複雑であるが、
下記式によって大体表わすことができる:
【0074】
【化16】
【0075】本発明により使用するための市場で入手し
うるポリアミノアミドを商品名で以下に挙げる:
【0076】Cray Valley Products からのVERS
AMID 140、VERSAMID 115;
【0077】Union Camp Chemicals (英国)Ltd か
らのUNIREZ 1002、UNIREZ 130
7、UNIREZ 5211;
【0078】Ciba Geigy AGからのARALDIT
E HZ 820、ARALDITE HY 840;
【0079】オランダ国の Akzo からのEPILIN
K 173、EPILINK 350、EPILINK
353、EPILINK 354。
【0080】ポリアミノアミド樹脂で硬化されるエポキ
シ樹脂は、結合剤として作用する少なくとも1種の他の
重合体と組合せ、例えばアクリレート及びメタクリレー
ト樹脂、ジオール例えばグリコールとイソフタル酸及び
/又はテレフタル酸のコポリエステル、ポリアセター
ル、ポリウレタン、ポリエステル−ウレタン、芳香族ポ
リカーボネートと組合せて使用してもよい、この場合好
ましい組合せは、全結合剤含有量中でポリアミノアミド
樹脂で硬化される前記エポキシ樹脂を少なくとも50重
量%含有する。
【0081】前記硬化される樹脂と組合せて使用するた
めに特に好適なポリエステル樹脂はDINAPOL L
206である(これはテレフタル酸対イソフタル酸の
モル比が3/2であるテレフタル酸及びイソフタル酸と
エチレングリコール及びネオペンチルグルコールのコポ
リエステルに対するDynamit Nobel の登録商標であ
る)。前記ポリエステルは、記録材料の支持体上で導電
性被覆を形成できるアルミニウムに対する接着性を改良
する。
【0082】ポリアミノアミド樹脂で硬化させる前記エ
ポキシ樹脂との混合物の形で使用するのに好適である芳
香族ポリカーボネートは、例えば、Wiley and Sons
Inc.1988年発行、Encyclopedia of Polymer Sci
ence and Engineering 第2版、II巻、648〜71
8頁に D. Freitag 等によって記載された如き方法で
製造でき、下記一般式の範囲内の反復単位の一つ以上を
有する:
【0083】
【化17】
【0084】10000〜200000の範囲の分子量
を有する芳香族ポリカーボネートが好ましい。かかる高
分子量を有する好適なポリカーボネートは、ドイツ国の
Bayer AGより登録商標MAKROLONで市販され
ている。
【0085】MAKROLON CD 2000(登録
商標)は、R1 =R2 =R3 =R4 0〜25000の範囲の分子量を有するビスフエノール
Aポリカーボネートである。
【0086】MAKROLON 5700(登録商標)
は、R1 =R2 =R3 =R4 =Hで 20000の範囲の分子量を有するビスフエノールAポ
リカーボネートである。
【0087】ビスフエノールZポリカーボネートは、R
1 =R2 =R3 =R4 =Hであり、 するのに必要な原子を表わす反復単位を含有する芳香族
ポリカーボネートである。
【0088】ポリアミノアミド樹脂で硬化された前記ポ
リエポキシ化合物を含有する本発明の光導電性記録材料
の活性層中で使用するのに好適な電子的に不活性な結合
剤樹脂には、例えば前述したポリエステル及びポリカー
ボネートがあるが、又セルロースエステル、アクリレー
ト及びメタクリレート樹脂、例えばシアノアクリレート
樹脂、ポリビニルクロライド、ビニルクロライドの共重
合体例えばコポリビニルクロライド/アセテート及びコ
ポリビニルクロライド/無水マレイン酸もある。
【0089】活性層のため更に有用な結合剤樹脂には、
シリコーン樹脂、ポリスチレン及びスチレンと無水マレ
イン酸の共重合体及びブタジエンとスチレン共重合体が
ある。
【0090】本発明の光導電体における電荷輸送層は、
好ましくは5〜50μmの範囲の厚さを有し、更に好ま
しくは5〜30μmの範囲の厚さを有する。これらの層
が低分子量電荷輸送分子を含有するときには、かかる化
合物は30〜70重量%の濃度で存在するのが好まし
い。
【0091】本発明による記録材料の陰電荷輸送層に好
ましい結合剤はホモ又はコポリカーボネートであり、こ
の例は以下にB1〜B7で示す反復単位を有するものが
ある:
【0092】
【化18】
【0093】
【化19】
【0094】
【化20】
【0095】
【化21】
【0096】
【化22】
【0097】
【化23】
【0098】
【化24】
【0099】1種以上のスペクトル増感剤の存在は、電
荷輸送に有利な効果を有することができる。その関係に
おいて、US−P3832171に記載されたメチン染
料及びキサンテン染料を参照できる。好ましくはこれら
の染料は、電荷発生層が、電荷輸送層を通して露光した
ときの露出光の実質的な量を受容できるように、電荷輸
送層の可視光帯域(420〜750nm)での透明度を
実質的に減じない量で使用する。
【0100】電荷輸送層は、分子内電荷移動複合体、即
ち供与体−受容体複合体を形成する電子供与体基で置換
された化合物を含有できる、この場合ヒドラゾン化合物
が電子供与化合物の代表である。有用な電子供与基を有
する化合物にはヒドラゾン例えば4−N,N−ジエチル
アミノ−ベンズアルデヒド−1,1−ジフエニルヒドラ
ゾン(DEH)、アミン例えばトリス(p−トリルアミ
ン)(TTA)及びN,N′−ジフエニル−N,N′−
ビス(3−メチル−フエニル)−〔1,1−ビフエニ
ル〕−4,4′−ジアミン(TPD)等がある。前記誘
導体の最適濃度範囲は、受容体/供与体重量比が2.
5:1〜1000:1であるようなものである。
【0101】紫外放射線による劣化に対する安定剤とし
て作用する化合物、いわゆるUV安定剤も前記電荷輸送
層中に混入できる。UV安定剤の例にはベンズトリアゾ
ールがある。
【0102】被覆組成物の粘度を制御し、それらの光学
的透明度を制御するため、電荷輸送層にシリコーンオイ
ルを加えることができる。
【0103】本発明による記載材料に使用する電荷輸送
層は、低い暗放電と組合された高い電荷輸送容量を提供
する性質を有する。普通の単一層光導電性系を用いる
と、光感度の増大は暗電流及び疲労における増大と組合
されるが、このようなことは、電荷発生及び電荷輸送の
機能が分離され、感光性電荷発生層が電荷輸送層と隣接
関係に配置されている二重層配置での場合には存在しな
い。
【0104】本発明による記録材料に使用するための電
荷発生層として、下記の群の一つに属し、電子輸送材料
に電子を移動させることのできる任意の有機顔料染料を
使用できる:
【0105】(a) ペリルイミド、例えばDBP223
7539に記載されたC.I.71130(C.I.は
カラーインデックスである)、
【0106】(b) 多核キノン、例えばDBP2237
678に記載されたC.I.59300の如きアンタン
トロン、
【0107】(c) キナクリドン、例えばDBP223
7679に記載されたC.I.46500、
【0108】(d) ペリノンを含むナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸誘導顔料、例えばDBP
2239923に記載されたオレンジGR、C.I.7
1105、
【0109】(e) テトラベンゾポルフイリン及びテト
ラナフタロポルフイリン、例えばUS−P335798
9に記載されたX結晶形のH2 −フタロシアニン(X−
2 Pc)、金属−オキシフタロシアニン、金属フタロ
シアニン、例えばDBP2239924に記載されたC
uPc C.I.74160、US−P4713312
に記載されたインジウムフタロシアニン、EP4282
14Aに記載されたテトラベンゾポルフイリン、EP−
A0243205に記載された中心ケイ素に結合したシ
ロキシ基を有するケイ素ナフタロシアニン、及びX及び
β−形態H2 Pc(CN)x 、H2 Pc(CH3x
及びH2 PcClx 顔料、
【0110】(f) インジゴ及びチオインジゴ染料、例
えばDBP2237680に記載されたC.I.733
12、ピグメントレッド88、
【0111】(g) 例えばDAS2355075に記載
された如きベンゾチオキサンテン誘導体、
【0112】(h) 例えばDAS2314051に記載
された如きo−ジアミンとの縮合生成物を含むペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボン酸誘導顔料、
【0113】(i) ビスアゾ、トリスアゾ及びテトラキ
スアゾ顔料を含むポリアゾ化合物、例えばDAS263
5887に記載されたC.I.21180、クロルジア
ンブルー、及びDOS2919791、DOS3026
653及びDOS3032117に記載されたビスアゾ
顔料、
【0114】(j) 例えばDAS2401220に記載
された如きスクアリリウム染料、
【0115】(h) ポリメチン染料、
【0116】(l) 下記一般式によるGB−P1416
602に記載された如きキナゾリン基を含有する染料
【0117】
【化25】
【0118】本発明による記録材料における光発生陰電
荷に好適な無機物質には、例えばアモルフアスセレン及
びセレン合金例えばセレン−テルル、セレン−テルル−
砒素、及びセレン−砒素、及び無機光導電性結晶化合物
例えばUS−P4140529に記載された如きカドミ
ウムスルホセレナイド、カドミウムセレナイド、カドミ
ウムサルフアイド及びそれらの混合物がある。
【0119】電荷発生層の厚さは、10μm以下が好ま
しく、5μm以下が更に好ましい。
【0120】本発明の記録材料において、電荷発生層と
支持体の間又は電荷輸送層と支持体の間に、接着剤層又
はバリヤー層を存在させてもよい。そのために有用なも
のに、例えば支持体側からの陽又は陰電荷注入を防止す
るブロック層として作用する酸化アルミニウム層、加水
分解したシラン層、ニトロセルロース層、ポリアミド層
がある。前記バリヤー層の厚さは1μ以下が好ましい。
【0121】導電性支持体は任意の好適な導電性材料か
ら作られることができる。代表的な導電体には、アルミ
ニウム、鋼、黄銅、及び導電性増強物質を混入した又は
それで被覆した紙及び樹脂材料を含む。樹脂支持体の如
き絶縁支持体には例えば導電性被覆、例えば真空蒸着金
属例えばアルミニウム、分散したカーボンブラック、グ
ラフアイト及び導電性単量体塩又は導電性重合体例えば
US−P3832171に記載された Calgon Conduc
tive Polymer 261(米国、ペンシルヴアニア州、ピ
ツツバーグの Calgon Corporation 、Inc. の登録商
標)の如き四級化窒素原子を含む重合体の被覆を設け
る。
【0122】支持体は箔、ウエブの形又はドラムの一部
であることができる。
【0123】本発明による電子写真記録法は次の工程を
含む:
【0124】(1) 少なくとも1種のエポキシ硬化した
ポリアミノアミド樹脂を含有する光導電層を、例えばコ
ロナ装置を用いて、全面的に静電的に帯電する;
【0125】(2) 像に従って前記層を露光する、これ
によって潜在静電像を得る、これはトナー現像できる。
【0126】導電性支持体上に、電荷輸送層と隣接関係
にある少なくとも1種のポリエポキシ化合物で硬化した
1種以上のポリアミノアミド樹脂を含む感光性電荷発生
層を含む二層系電子写真記録材料を用いるとき、電荷発
生層の露光は、電荷輸送層を通して行うのが好ましい、
しかし電荷発生層が最も上にあるときには直接であるこ
とができる、又は導電性支持体が露出光に対して充分な
透明度であるときには同様に導電性支持体を介して行う
こともできる。
【0127】静電潜像の現像は、静電荷パターンにクー
ロン力によって引きつけられるトナー粒子と称される微
粒子化された静電的に吸引される材料を用いて普通に生
ぜしめるのが好ましい。トナー現像は、当業者に知られ
ている乾式又は液体トナー現像である。
【0128】ポジ−ポジ現像においては、トナー粒子
は、原像に対してポジ−ポジ関係にある電荷担持面のこ
れらの部域に付着する。反転現像においては、トナー粒
子は、原像に対してネガ−ポジ像値関係にある記録表面
部域上に移行し、付着する。後者の場合において、露光
によって放電される部域が、適切にバイアスされた現像
電極を介した誘導により、トナー粒子の電荷信号に対し
て反対の電荷信号の電荷を得る、かくしてトナーが、像
に従った露光で放電された露光部域で付着するようにな
る(ロンドン及びニューヨークの The Focal Press
1975年発行、R. M. Schaffert 著、Electrophotogr
aphy 、拡大改訂版、50〜51頁、及びロンドンの
Academic Press 1979年発行、T. P. Maclean 著、
ElectronicImaging 、231頁参照)。
【0129】特別の例によれば、例えばコロナによる静
電帯電及び像に従った露光は同時に行う。
【0130】トナー現像後の残存電荷は、全面露光及び
/又は交流コロナ処理により次の複写サイクルを開始す
る前に消失させることができる。
【0131】電荷発生層のスペクトル感度に依存する本
発明による記録材料は、全ての種類の光子放射線、例え
ば可視スペクトルの光、赤外光、近紫外光及び電子−正
孔対が電荷発生層中でX線で形成できるときにはX線と
組合せて使用できる。従ってそれらは、電荷発生物質又
はそれらの混合物のスペクトル感度の適切な選択によ
り、白熱ランプ、蛍光ランプ、レーザー光源又は発光ダ
イオードと組合せて使用できる。
【0132】得られたトナー像は記録材料上に定着でき
る、又は受容体材料に転写し、その上に定着後完全可視
像を形成することができる。
【0133】特に低い疲労効果を示す本発明による記録
材料は、全面的な帯電、像に従った露光、トナー現像及
び受容体材料へのトナー転写の逐次工程を含む急速連続
複写サイクルで操作する記録装置で使用できる。
【0134】下記実施例は更に本発明を示すものである
が、これらに限定するものではない。
【0135】下記実施例の記録材料について測定した電
子写真特性の評価は、再使用可能な光導電体を用いる電
子写真法での記録材料の性能に関する。性能特性の測定
は、ゼロ露光を含む16回の異なる露光に対して放電が
得られたセンシトメトリー測定を用いて行った。光導電
性記録シート材料は、その導電性裏基材を、10cm/
秒の周速度で回転し、アースされたアルミニウムドラム
上に設置した。記録材料は、+600Vのグリッド電圧
で操作する+5.7Vの電圧で陽コロナで逐次帯電させ
た。続いて記録材料を、コロナ源に対して45°の角度
でドラムの周辺に位置したモノクロメーターから得られ
た単色光の光線量で露光した(像に従った露光に擬制し
た)。露光は200ミリ秒続けた。次に露光した記録材
料を、コロナ源に対し180°の角度で置いた電位計プ
ローブを通した。コロナ源に対して270°の角度で置
いた355mJ/m2 を生ずるハロゲンランプで全面後
露光を行った後、新しい複写サイクルを開始した。各測
定は、光導電体を、最初の5サイクルについては完全光
源強度に対して露光し、続いて、0.2、0.38、
0.55、0.73、0.92、1.02、1.20、
1.45、1.56、1.70、1.95、2.16、
2.25、2.51及び3.21の光学濃度のグレイフ
イルターによって変調した光出力の光源に対し、それぞ
れ5サイクルずつ露光し、最後に、最後の5サイクルに
対してはゼロ光強度に露光して、80回の複写サイクル
に関する。
【0136】後掲の実施例1〜60及び比較例1及び2
に示した電気−光学結果は、ゼロ光強度での帯電レベル
(CL)及び残存電位(RP)について示した露光にグ
レーフイルターで変調した光源強度に相当する光強度で
の放電に関する。
【0137】放電%は である。
【0138】一定のコロナ電圧、コロナグリッド電圧、
記録面へのコロナワイヤーの分離距離、及びドラム周速
に対し、帯電レベルCLは、電荷輸送層の厚さ及びその
比抵抗率によってのみ決る。実際にボルトで示したCL
は、好ましくは≧30dであるべきであり、ここにdは
電荷輸送層のμmでの厚さである。
【0139】下記実施例で使用した電荷発生材料(CG
M)は下記式を有する:
【0140】
【化26】
【0141】X−H2 Pc(CN)0.36:H2 Pcと下
記式の1.75:1モル比の混合結晶顔料
【0142】
【化27】
【0143】
【化28】
【0144】
【化29】
【0145】X−H2 Pc(Cl)0.67:H2 Pcと下
記式の0.5:1モル比の混合結晶顔料
【0146】
【化30】
【0147】
【化31】
【0148】
【化32】
【0149】実施例で使用した陰電荷即ち電子輸送化合
物(N1〜N8)は下記式を有する:
【0150】
【化33】
【0151】
【化34】
【0152】
【化35】
【0153】
【化36】
【0154】
【化37】
【0155】
【化38】
【0156】
【化39】
【0157】
【化40】
【0158】実施例における比及び百分率は全て重量に
よる。
【0159】実施例 1 複合層電子写真記録材料の製造において、アルミニウム
の真空蒸着層で前被覆した厚さ175μmのポリエステ
ルフイルムを、ドクターブレードコーターで、0.9μ
mの厚さに電荷発生顔料の分散液を用いてドクターブレ
ード被覆した。
【0160】前記分散液は、2gの金属不含X−フタロ
シアニン(大日本インキ化学社製、商標名FASTOG
EN Blue 8120B)、0.3gのARALDIT
EGT 7203(Ciba Geigy AGからのビスフエノ
ールA−エピクロルヒドリンエポキシ樹脂の商標名)、
16.83gのメチレンクロライド及び9.62gのブ
タン−2−オンを、ボールミル中で40時間混合して作
った。次に分散液に、1.314gのARALDITE
GT 7203(商標)、6.154gのブタン−2
−オン、7.836gのメチレンクロライド及び0.3
86gの硬化剤としてのVERSAMID 140(商
標:Cray Valley Products Ltd.からのポリアミノア
ミド)を加え、分散液を更に15分間混合した。
【0161】適用した層を100℃で2時間乾燥し、熱
硬化した、次いでドクターブレードコーターを用い、2
gのCTM N1、2.44gのMAKROLON 5
700(商標: Bayer AGからのビスフエノールA−
ポリカーボネート)、及び35.92gのメチレンクロ
ライドの濾過した溶液で上塗被覆し、16時間50℃で
乾燥後厚さ12.1μmの被覆を形成した。
【0162】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定した。+518Vの帯電
レベル(CL)及び20mJ/m2 の露光I660tで、下
記結果が得られた。
【0163】CL=+518V RP=+91V 放電%=82.4
【0164】実施例 2〜5 実施例2〜5の光導電性記録材料は、ARALDITE
GT 7203(商標)及びVERSAMID 14
0(商標)の量を、表1に示す如く、各種の理論硬化度
を得るように調整し、使用したCTMをN1の代りにN
2としたことのみを変えて、実施例1に記載した如く作
った。反応成分の固形分含有量を基準にして計算したA
RALDITE GT 7203(商標)及びVERS
AMID140(商標)の重量%も、CTL層の厚さ、
CTL (μm)と共に表1に示す。
【0165】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定した、結果を表1に示
す。
【0166】 表 1 実施例 ARALDITE VERSAMID 理論硬 I660t =20mJ/m2 GT7203濃 140 濃度 化度 dCTL CL RP 放電 No. 度(wt.%) (wt.%) (%) (μm) (V) (V) (%) ─────────────────────────────────── 2 36.8 13.2 150 14.1 +550 +108 80.4 3 40.35 9.65 100 11.1 +547 +110 79.9 4 42.4 7.6 75 12.1 +541 +108 80.0 5 44.65 5.35 50 13.1 +532 +128 75.9 ───────────────────────────────────
【0167】実施例 6及び7 実施例6及び7の光導電性記録材料は、別のポリアミノ
アミド硬化剤を使用して、実施例1に記載した如くして
作った。ARALDITE GT 7203(商標)及
びポリアミノアミド硬化剤の量は100%の理論硬化度
を得るように調整した。硬化剤の固体含有量を基準にし
て計算したCGLでARALDITEGT 7203
(商標)及び硬化剤の重量%は、CTL層の厚さと共に
表2に示す。
【0168】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を表2に実施例
1の光導電性記録材料に対する結果と共に集計して示
す。
【0169】 表 2 実施例 ARALDITE ホ゜リアミノアミ 硬化剤 I660t =20mJ/m2 GT7203濃 ト゛硬化剤 濃度 dCTL CL RP 放電 No. 度(wt.%) (商標) (wt.%) (μm)(V) (V) (%) ─────────────────────────────────── 1 40.35 VERSAMID 140* 9.65 12.1 +518 +91 82.4 6 32.25 VERSAMID 115* 14.75 13.1 +538 +108 79.9 7 34.98 ARALDITE 15.02 12.1 +537 +103 80.8 HZ 820+ ─────────────────────────────────── * Cray Valley Products Ltd.より入手 + Ciba Geigy より入手
【0170】実施例 8〜16 実施例8〜16の光導電性材料は、表3に示す如く、別
のポリアミノアミド硬化剤を使用し、N1の代りにCT
MとしてN2及びN3を使用して、実施例1に記載した
如くして作った、ARALDITE GT 7203
(商標)及びポリアミノアミド硬化剤の量は、100%
の理論硬化度を得るように調整した。硬化剤の固体含有
量を基準にして計算したCGL中のARALDITE
GT 7203(商標)及び硬化剤の重量%を、CTL
層の厚さと共に表3に示す。
【0171】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を表3に示す。
【0172】
【表1】
【0173】実施例 17〜23 実施例17〜23の光導電性記録材料は、表4に示す如
く、ARALDITEGT 7203(商標)の代り
に、異なるエポキシ当量を有する異なる供給者から入手
した異なるビスフエノールA−エピクロルヒドリンエポ
キシ樹脂を使用し、かつ実施例16の場合におけるN3
をN1の代りにCTMとして使用して、実施例1に記載
した如くして作った。エポキシ樹脂及びVERSAMI
D 140(商標)の量は、100%の理論硬化度が得
られるよう調整した。VERSAMID 140の固体
含有量を基準にして計算したエポキシ樹脂及びVERS
AMID 140(商標)の重量%を、CTL層の厚さ
と共に表4に示す。
【0174】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を、実施例1の
光導電性記録材料に対する結果と共に表4に示す。
【0175】
【表2】
【0176】実施例 24〜29 実施例24〜29の光導電性記録材料は、表5に示す如
く、ARALDITEGT 7203(商標)の代り
に、異なるエポキシ当量を有し、異なる供給者から入手
した異なるビスフエノールA−エピクロルヒドリンエポ
キシ樹脂を使用し、N1の代りにCTMとしてN2を使
用して、実施例1に記載した如くして作った。エポキシ
樹脂及びVERSAMID 140(商標)の量は10
0%の理論硬化度を得られるように調整した。VERS
AMID 140(商標)の固体含有量を基準にして計
算したエポキシ樹脂及びVERSAMID 140(商
標)の重量%を、CTL層の厚さと共に表5に示す。
【0177】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を表5に示す。
【0178】
【表3】
【0179】比較例 1及び2 比較例1及び2の光導電性記録材料は、VERSAMI
D 140(商標)を使用せずに、実施例20及び24
に記載した如くして作った。樹脂濃度及びCTL層の厚
さを表6に示す。
【0180】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を表6に示す。
【0181】これらの結果は、VERSAMID 14
0(商標)を用いて硬化した同じ樹脂からなるCGL−
結合剤を用いて得られた結果(それぞれ実施例24及び
28参照)よりも明らかに劣っている。
【0182】 表 6 比較例 エポキシ I660t =20mJ/m2 エポキシ樹脂 樹脂濃度 dCTL CL RP 放電 No. (商標) (wt.%) (μm) (V) (V) (%) ─────────────────────────────────── 1 ARALDITE GT7203 50 12.1 +528 +164 68.9 2 EPON 1009 50 13.1 +51 +159 71.1 ───────────────────────────────────
【0183】実施例 30〜34 実施例30〜34の光導電性記録材料は、表7に示す如
く、ARALDITEGT 7203(商標)の代り
に、異なる供給者からの異なるフエノールノボラックエ
ポキシ樹脂を使用し、そして表7に示す如く実施例3
0、32、33及び34においては異なるCTMを使用
して、実施例1に記載した如くして作った。エポキシ樹
脂及びVERSAMID 140(商標)の量は、10
0%の理論硬化度を得るように調整した。VERSAM
ID 140(商標)の固体含有量を基準にして計算し
たエポキシ樹脂及びVERSAMID 140(商標)
の重量%を、CTL層の厚さと共に表7に示す。
【0184】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定した、結果を表7に示
す。
【0185】
【表4】
【0186】実施例 35〜39 実施例35〜39の光導電性記録材料は、ARALDI
TE GT 7203(商標)の代りにフエノールノボ
ラックエポキシ樹脂DEN438(商標)を使用し、表
8に示す如く異なるポリアミノアミド硬化剤を使用し、
N1の代りにCTMとしてN2を使用し、実施例1に記
載した如くして作った。エポキシ樹脂及びポリアミノア
ミド硬化剤の量は、100%の理論硬化度が得られるよ
う調整した。硬化剤の固体含有量を基準にして計算した
エポキシ樹脂及びポリアミノアミドの重量%を、CTL
層の厚さと共に表8に示す。
【0187】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を表8に示す。
【0188】 表 8 実施例 DEN438 ホ゜リアミノアミト゛ 硬化剤 660t=20mJ/m2 濃度 硬化剤 濃度 dCTL CL RP 放電 No. (wt.%) (商標) (wt.%) (μm) (V) (V) (%) ─────────────────────────────────── 35 27.2 VERSAMID 140 22.8 14.1 +539 +107 80.1 36 20.61 UNIREZ 1002 29.39 12.1 +529 +123 76.7 37 19.96 ARALDITE HZ820 30.04 13.1 +523 +108 79.3 38 31.48 ARALDITE HZ840 18.52 14.1 +508 +106 79.1 39 12.77 EPILINK 353 37.23 14.1 +533 +124 76.7 ───────────────────────────────────
【0189】実施例 40〜44 実施例40〜44の光導電性記録材料は、ARALDI
TE GT 7203(商標)の代りに、Ciba Geigy
からのARALDITE GY 281(商標)を使用
し、表9に示す如く異なるポリアミノアミド硬化剤を使
用し、N1の代りにCTMとしてN2を使用して実施例
1に記載した如く作った。エポキシ樹脂及びポリアミノ
アミドの量は、100%の理論硬化度を得るように調整
した。硬化剤の固体含有量を基準にして計算したエポキ
シ樹脂及びポリアミノアミドの重量%をCTL層の厚さ
と共に表9に示す。
【0190】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を表9に示す。
【0191】 表 9 実施例 ARALDITE 硬化剤 660t=20mJ/m2 GY 281濃 硬化剤 濃度 dCTL CL RP 放電 No. 度(wt.%) (商標) (wt.%) (μm) (V) (V) (%) ─────────────────────────────────── 40 26.22 VERSAMID 140 23.78 14.1 +498 +102 79.5 41 19.66 UNIREZ 1002 30.34 12.1 +527 +122 76.9 42 19.03 ARALDITE HZ820 30.97 13.1 +521 +125 76.0 43 30.55 ARALDITE HY840 19.45 12.1 +504 +112 77.8 44 12.04 EPILINK 353 37.96 13.1 +531 +134 74.8 ───────────────────────────────────
【0192】実施例 45 実施例45の光導電性記録材料は、下記構造式を有する
Ciba Geigy より入手できる四官能性エポキシ分子を、
ARALDITE GT 7203の代りに使用し、N
2をN1の代りにCTMとして使用した。CGLは、1
00%の理論硬化度を得るために必要な量に相当する2
2.76%のARALDITE MY721及び27.
4%のVERSAMID 140を含有していた。CT
L層の厚さは13.1μmであった。
【0193】
【化41】
【0194】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定した。+476Vの帯電
レベル(CL)及び20mJ/m2 の露光I660 tで、
下記結果が得られた。
【0195】CL=+476V RP=+134V 放電%=71.8
【0196】実施例 46〜49 実施例46〜49の光導電性記録材料は、N1の代りに
異なるCTMを使用して、実施例1に記載した如く作っ
た。先に定義した如きTPDを、11.1%の濃度で、
実施例46の電荷輸送層中に存在させた。CTLの層の
厚さを表10に示す。
【0197】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定した、結果を、表10に
実施例1、8及び24の光導電性記録材料についての結
果と共に示す。
【0198】 表 10 実施例 CTM I660t =20mJ/m2 濃度 dCTL λ CL RP 放電 No. CTM (wt.%) (μm) (nm) (V) (V) (%) ─────────────────────────────────── 1 N1 45 12.1 660 +518 +91 82.4 24 N2 45 13.1 660 +526 +78 85.2 8 N3 45 13.1 660 +541 +107 80.2 46 N4 44.4 14.1 660 +414 +60 85.5 47 N6 50 10.1 780 +381 +125 67.2 48 N7 50 14.1 780 +396 +173 56.3 49 N8 50 13.1 780 +483 +236 51.1 ───────────────────────────────────
【0199】実施例 50〜55 実施例50〜55の光導電性記録材料は、表11に示す
如く異なるCGMを使用し、N1の代りにCTMとして
N2を使用して、実施例1に記載した如く作った、CT
Lの層の厚さを表11に示す。
【0200】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を、表11に実
施例24の光導電性記録材料についての結果と共に示
す。
【0201】 表 11 実施例 I660t =20mJ/m2 CTL λ CL RP 放電 No. CTM (μm) (nm) (V) (V) (%) ─────────────────────────────────── 24 ファストケ゛ンフ゛ルー8120 13.1 660 +526 +78 85.2 50 X-H2Pc(CN)0.36 14.1 660 +459 +90 80.3 51 ω-2TTP 13.1 660 +536 +190 64.1 52 X-H2Pc(CH3) 12.1 660 +561 +264 52.9 53 X-H2PcCl0.67 13.1 660 +559 +194 65.3 54 DBA 40 12.1 540 +118 +89 24.6 55 ヘ゜リレン顔料 40 10.1 540 +96 +79 17.7 ───────────────────────────────────
【0202】実施例 56〜60 実施例56〜60の光導電性記録層は、表12に示す如
く異なるCTL結合剤を使用し、N1の代りにCTMと
してN2を使用して、実施例1に記載した如く作った。
CTLの層の厚さを表12に示す。
【0203】かくして得られた光導電性記録材料の電気
−光学特性を前述した如く測定し、結果を、表12に実
施例24の光導電性記録材料についての結果と共に示
す。
【0204】 表 12 実施例 I660t =20mJ/m2 CTL dCTL CL RP 放電 No. 結合剤 CTM (μm) (V) (V) (%) ───────────────────────────────── 24 B1* N2 13.1 +526 +78 85.2 56 B2 N2 14.1 +564 +120 78.7 57 B3 N2 16.1 +563 +240 57.4 58 B4 N2 15.1 +556 +108 80.6 59 B5 N3 12.1 +497 +98 80.3 60 B7 N3 11.1 +527 +108 79.5 ───────────────────────────────── * Makrolon 5700
フロントページの続き (72)発明者 ステファーン・ド・ムテル ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 n−電荷輸送材料(n−CTM)を含有
    し、電荷輸送層(CTL)と隣接関係(接触)にある電
    荷発生層(CGL)及び支持体を含む光導電性記録材料
    において、前記電荷発生層(CGL)の結合剤が架橋に
    よってメチレンクロライドに不溶性にされ、前記結合剤
    が、ここでポリアミノアミド樹脂と称し、アミノ基を有
    する少なくとも1種のポリアミド樹脂と少なくとも1種
    のエポキシ樹脂の重合体反応生成物の1種以上から本質
    的になることを特徴とする光導電性記録材料。
  2. 【請求項2】 前記電荷発生層(CGL)が、唯一の結
    合剤として、1種以上のポリエポキシ化合物で架橋され
    た1種以上のポリアミノアミド樹脂を含有することを特
    徴とする請求項1の光導電性記録材料。
  3. 【請求項3】 前記電荷発生層が、少なくとも1種の前
    記ポリエポキシ化合物で少なくとも1種の前記ポリアミ
    ノアミド樹脂を架橋することによって得られた1種以上
    の樹脂を含有し、前記ポリアミノアミド樹脂中のNHに
    対するエポキシ基の全量の当量比が2.0:1〜1:
    2.5の間にあることを特徴とする請求項1又は2の光
    導電性記録材料。
  4. 【請求項4】 前記電荷発生層が、少なくとも30重量
    %の電荷発生化合物及び前記結合剤として、少なくと1
    種の前記ポリエポキシ化合物で少なくとも1種の前記ポ
    リアミノアミド樹脂を架橋することによって得られた少
    なくとも1種の前記樹脂を含有することを特徴とする請
    求項1〜3の何れか1項の光導電性記録材料。
  5. 【請求項5】 前記ポリエポキシ化合物が、下記一般式
    (I) 、(II)、(III)、 (IV) 及び(V) の少なくとも1種
    の範囲内にあることを特徴とする請求項1〜4の何れか
    1項の光導電性記録材料。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】
  6. 【請求項6】 前記ポリアミノアミド樹脂中のアミノ基
    が、一時的にブロックされており、そして前記電荷発生
    層中でその場で脱ブロックされていることを特徴とする
    請求項1〜5の何れか1項の光導電性記録材料。
  7. 【請求項7】 前記ポリエポキシ化合物で前記ポリアミ
    ノアミド樹脂を架橋することにより得られた前記重合体
    反応生成物が、結合剤として作用する少なくとも1種の
    他の重合体と組合せて存在することを特徴とする請求項
    1〜6の何れか1項の光導電性記録材料。
  8. 【請求項8】 前記他の重合体が、アクリレート樹脂、
    メタクリレート樹脂、ジオールとイソフタル酸及び/又
    はテレフタル酸のコポリエステル、ポリアセタール、ポ
    リウレタン、ポリエステル−ウレタン及び芳香族ポリカ
    ーボネートからなる群から選択されることを特徴とする
    請求項7の光導電性記録材料。
  9. 【請求項9】 前記他の重合体が、全結合剤含有量の5
    0重量%未満の量で前記組合せ中に存在することを特徴
    とする請求項7又は8の光導電性記録材料。
  10. 【請求項10】 前記支持体がアルミニウムからなる
    か、又は導電性被覆を形成するアルミニウム層を設けた
    絶縁樹脂支持体であることを特徴とする請求項1〜9の
    何れか1項の光導電性記録材料。
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