JPH0674149B2 - 原料供給装置 - Google Patents
原料供給装置Info
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- JPH0674149B2 JPH0674149B2 JP13736987A JP13736987A JPH0674149B2 JP H0674149 B2 JPH0674149 B2 JP H0674149B2 JP 13736987 A JP13736987 A JP 13736987A JP 13736987 A JP13736987 A JP 13736987A JP H0674149 B2 JPH0674149 B2 JP H0674149B2
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- Japan
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- raw material
- tank
- divided
- vaporization
- buffer tank
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、液体原料を気化し、反応装置に送って所要の
反応を行わせるために用いられる原料供給装置に関する
ものである。
反応を行わせるために用いられる原料供給装置に関する
ものである。
従来の技術 光ファイバー用母材の製造においては１つの反応装置に
複数の多重管バーナを有するものが普通であり、これら
各バーナには原料を別々に供給しなければならず、この
場合は、原料タンクを格別に所要数備える必要から装置
全体は大型となり製造コストが高価となる不利がある。
複数の多重管バーナを有するものが普通であり、これら
各バーナには原料を別々に供給しなければならず、この
場合は、原料タンクを格別に所要数備える必要から装置
全体は大型となり製造コストが高価となる不利がある。
そのためできる限り簡略化を計った装置として次のよう
なものが使用されている。このものは、第４図に示すよ
うに、全体は１つの恒温槽ａに収容されているととも
に、原料タンクｂは多孔板により内部を上下室に区画さ
れ下半部をヒーターを巻装した気化タンク部分ｄ、上半
部をドーム状の緩衝タンク部分に形成されている。この
緩衝タンク部分ｅの頂部は自動開閉弁ｆ、自動開閉弁ｇ
を介して一方側をバージガスの管路ｈに接続され、他方
側は複数列に分岐して、それぞれ質量流量制御装置ｉ・
ｉ、自動開閉弁ｊ・ｊを介して反応装置各所要のバーナ
に接続されている。次に下室である原料タンク部分ｂ
は、調節弁ｋを介して原料液供給の管路Ｉに接続されて
おり、この調節弁ｋは荷重変換器ｍの検知により原料タ
ンクｂの重量が一定以下になると自動的に開かれ原料液
を供給するようになっている。そして原料液の送出には
ガスによる圧送方式がとられている。なお、ｎは気化タ
ンクｂ内の液温をヒーターｃと連動して一定に保つため
の測温センサー、ｐは原料タンクのドレインである。
なものが使用されている。このものは、第４図に示すよ
うに、全体は１つの恒温槽ａに収容されているととも
に、原料タンクｂは多孔板により内部を上下室に区画さ
れ下半部をヒーターを巻装した気化タンク部分ｄ、上半
部をドーム状の緩衝タンク部分に形成されている。この
緩衝タンク部分ｅの頂部は自動開閉弁ｆ、自動開閉弁ｇ
を介して一方側をバージガスの管路ｈに接続され、他方
側は複数列に分岐して、それぞれ質量流量制御装置ｉ・
ｉ、自動開閉弁ｊ・ｊを介して反応装置各所要のバーナ
に接続されている。次に下室である原料タンク部分ｂ
は、調節弁ｋを介して原料液供給の管路Ｉに接続されて
おり、この調節弁ｋは荷重変換器ｍの検知により原料タ
ンクｂの重量が一定以下になると自動的に開かれ原料液
を供給するようになっている。そして原料液の送出には
ガスによる圧送方式がとられている。なお、ｎは気化タ
ンクｂ内の液温をヒーターｃと連動して一定に保つため
の測温センサー、ｐは原料タンクのドレインである。
発明が解決しようとする問題点 上記第４図に示した装置は、多孔板を介して区画形成さ
れた緩衝タンク部分ｅにおいて原料ガスが、突沸液化等
により液体の状態で流出するのを防止し、質量流量制御
装置の制御を安定化させる働きを有するが、しかし上記
の自動開閉弁ｊ・ｊの別個のタイグで作動させて供給を
行う場合等、発生する急激な一次圧の変動を完全に抑止
することはできない。これを解決するために緩衝タンク
部分ｅの容量を特に大きくしたり、緩衝タンクを各ライ
ン別々とする発明も近年なされている（例えば特開昭61
−254242号公報）。しかし、この一次圧の急激な変動を
完全におさえるために結果的には多数個のタンク及びそ
れに付随した装置を要する状態となる欠点がある。
れた緩衝タンク部分ｅにおいて原料ガスが、突沸液化等
により液体の状態で流出するのを防止し、質量流量制御
装置の制御を安定化させる働きを有するが、しかし上記
の自動開閉弁ｊ・ｊの別個のタイグで作動させて供給を
行う場合等、発生する急激な一次圧の変動を完全に抑止
することはできない。これを解決するために緩衝タンク
部分ｅの容量を特に大きくしたり、緩衝タンクを各ライ
ン別々とする発明も近年なされている（例えば特開昭61
−254242号公報）。しかし、この一次圧の急激な変動を
完全におさえるために結果的には多数個のタンク及びそ
れに付随した装置を要する状態となる欠点がある。
本発明は、このような従来の緩衝タンクを用いた装置の
欠点を克服し、単一の原料タンクを用い、しかも供給源
料の制御を安定に行いうる原料供給装置を提供すること
を目的としてなされたものである。
欠点を克服し、単一の原料タンクを用い、しかも供給源
料の制御を安定に行いうる原料供給装置を提供すること
を目的としてなされたものである。
問題点を解決するための手段 本発明者らは、液体原料を気化して反応装置に供給する
ための効率のよい原料供給装置を開発するために鋭意研
究を重ねた結果、原料タンク内を上下に区画して上部を
緩衝タンク部分に形成するとともに原料タンク全体を予
め仕切壁を介して数個の独立した室に縦割して、これら
の室の上部がそれぞれ独立した緩衝タンク部分となる構
造とすればよいことを見出し、この知見に基づいて本発
明をなすに至った。
ための効率のよい原料供給装置を開発するために鋭意研
究を重ねた結果、原料タンク内を上下に区画して上部を
緩衝タンク部分に形成するとともに原料タンク全体を予
め仕切壁を介して数個の独立した室に縦割して、これら
の室の上部がそれぞれ独立した緩衝タンク部分となる構
造とすればよいことを見出し、この知見に基づいて本発
明をなすに至った。
すなわち、本発明は原料液を、下半部を気化タンク部
分、上半部を緩衝タンク部分に分割形成された原料タン
クに収容して加熱気化し、気化された原料ガスを開閉弁
および流量制御機構を介して反応装置に導く配管を備え
た装置において、上記原料タンクは、密閉円筒容器の内
部を下端が相互に連通する縦方向の仕切壁により複数個
の区画室に分割するとともに、この仕切壁を水平に横着
る多孔板を介して分割され、それぞれ複数個の緩衝タン
ク部分および気化タンク部分に形成されている原料供給
装置を提供するものである。
分、上半部を緩衝タンク部分に分割形成された原料タン
クに収容して加熱気化し、気化された原料ガスを開閉弁
および流量制御機構を介して反応装置に導く配管を備え
た装置において、上記原料タンクは、密閉円筒容器の内
部を下端が相互に連通する縦方向の仕切壁により複数個
の区画室に分割するとともに、この仕切壁を水平に横着
る多孔板を介して分割され、それぞれ複数個の緩衝タン
ク部分および気化タンク部分に形成されている原料供給
装置を提供するものである。
実施例 次に、本発明の装置の詳細を添付図面に従って説明す
る。
る。
第１図は本発明における原料タンクの一例を示す、斜視
説明図であってこの原料タンク１は、密閉円筒容器状に
作られ、内部を直径に沿う平板状の仕切壁2,2を以て４
個の流量を見合った容積の扇形状の区画室に分割形成さ
れ、かつこれら仕切壁2,2を水平に横切る円板状の多孔
板３により上下に分割され、それぞれ４個の緩衝タンク
部分４…ならびに４個の気化タンク部分５…に形成され
ている。
説明図であってこの原料タンク１は、密閉円筒容器状に
作られ、内部を直径に沿う平板状の仕切壁2,2を以て４
個の流量を見合った容積の扇形状の区画室に分割形成さ
れ、かつこれら仕切壁2,2を水平に横切る円板状の多孔
板３により上下に分割され、それぞれ４個の緩衝タンク
部分４…ならびに４個の気化タンク部分５…に形成され
ている。
この気化タンク部分５…内には原料タンク１を貫いて各
室ごとに設けられた棒状のヒーター６…、同じく棒状の
測温センサー７…が位置しており、また気化タンク部分
５…の内の任意の一室内に原料供給筒８が開口してい
る。これら気化タンク部分５…は仕切壁2,2の下端に設
けられた切欠部９…を介して相互に連通しており、原料
供給管８により供給された原料液が各室に流入するよう
になっている。さらに、気化タンク部分５…の下面には
タンク底板を介して原料液を加熱するヒーター10が添着
されている。
室ごとに設けられた棒状のヒーター６…、同じく棒状の
測温センサー７…が位置しており、また気化タンク部分
５…の内の任意の一室内に原料供給筒８が開口してい
る。これら気化タンク部分５…は仕切壁2,2の下端に設
けられた切欠部９…を介して相互に連通しており、原料
供給管８により供給された原料液が各室に流入するよう
になっている。さらに、気化タンク部分５…の下面には
タンク底板を介して原料液を加熱するヒーター10が添着
されている。
第２図は、上記原料タンク１を組み込んだ装置全体を系
統的に示したものであって、全体は常温槽11内に収めら
れている。
統的に示したものであって、全体は常温槽11内に収めら
れている。
原料導入口12から調節弁13を経て原料供給管８により原
料タンク１の気化タンク部分５…に導入された原料は、
各室に設けられたヒーター６…、測温センサー７…によ
り加熱気化され、この原料ガスは多孔板３の小孔を通っ
て各気化タンク部分５ごとに上昇し、各緩衝タンク部分
４…に一定圧力に保たれるとともに、これら緩衝タンク
部分４…ごとに設けられた管路を介してそれぞれ自動開
閉弁14を経て質量流量制御装置などの流量調節計15に入
り自動開閉弁16及びガス出口17を経て前記反応装置のバ
ーナ等に送られる。また自動開閉弁14と流量調節計15と
の間には自動開閉弁18を介してパージガス導入口19に通
ずる管路が形成されている。なお、20は原料タンク１内
の原料液の量を計る荷重変換器であって、この荷重変換
器の出力をもとにして調節弁13は自動的に開閉される。
これらは前記した第４図の構成と同様である。
料タンク１の気化タンク部分５…に導入された原料は、
各室に設けられたヒーター６…、測温センサー７…によ
り加熱気化され、この原料ガスは多孔板３の小孔を通っ
て各気化タンク部分５ごとに上昇し、各緩衝タンク部分
４…に一定圧力に保たれるとともに、これら緩衝タンク
部分４…ごとに設けられた管路を介してそれぞれ自動開
閉弁14を経て質量流量制御装置などの流量調節計15に入
り自動開閉弁16及びガス出口17を経て前記反応装置のバ
ーナ等に送られる。また自動開閉弁14と流量調節計15と
の間には自動開閉弁18を介してパージガス導入口19に通
ずる管路が形成されている。なお、20は原料タンク１内
の原料液の量を計る荷重変換器であって、この荷重変換
器の出力をもとにして調節弁13は自動的に開閉される。
これらは前記した第４図の構成と同様である。
次に、第３図は第１図の変形例を示す。この実施例にお
いては原料タンク１内は複数個の同心円筒に形成された
仕切壁２…により区画され、さらにこれらを水平に横切
る多孔板３を介して上方を緩衝タンク部分４…、下方を
気化タンク部分５…に区画形成されている。６…は原料
タンクの天板および多孔板３を貫いて下端が気化タンク
部分５…内に位置するヒーターであり、その他の部分は
第１図と同様である。
いては原料タンク１内は複数個の同心円筒に形成された
仕切壁２…により区画され、さらにこれらを水平に横切
る多孔板３を介して上方を緩衝タンク部分４…、下方を
気化タンク部分５…に区画形成されている。６…は原料
タンクの天板および多孔板３を貫いて下端が気化タンク
部分５…内に位置するヒーターであり、その他の部分は
第１図と同様である。
発明の効果 本発明は上記の構成であって、特に原料タンク１の内部
を、仕切壁２…により複数個に区画するとともに、この
仕切壁２を横切る多孔板３を介して上下に分割し、それ
ぞれ複数個の緩衝タンク部分４…、原料タンク部分５…
を形成したから、複数の原料ガスラインを１個のタンク
で同時に制御することができ、この場合１つのタンク内
を分割したため緩衝タンク部分４…内における原料ガス
の圧力変動が生じることがなく、個々のラインにおける
流量の相互干渉がないから安定した原料ガス供給を持続
することができる。また、従来からの特徴である原料液
体の配管への流出も同様に防止できる。
を、仕切壁２…により複数個に区画するとともに、この
仕切壁２を横切る多孔板３を介して上下に分割し、それ
ぞれ複数個の緩衝タンク部分４…、原料タンク部分５…
を形成したから、複数の原料ガスラインを１個のタンク
で同時に制御することができ、この場合１つのタンク内
を分割したため緩衝タンク部分４…内における原料ガス
の圧力変動が生じることがなく、個々のラインにおける
流量の相互干渉がないから安定した原料ガス供給を持続
することができる。また、従来からの特徴である原料液
体の配管への流出も同様に防止できる。
したがって、本発明装置は、活性の高い加熱気化させる
液体原料の原料供給装置として好適である。
液体原料の原料供給装置として好適である。
第１図ないし第３図は本発明の実施例を示し、第１図は
原料タンクの説明斜面図、第２図はこの原料タンクを組
み込んだ系統説明図、第３図は第１図の変形例を示す説
明斜面図、第４図はそれぞれ従来の装置の系統説明図で
ある。 １……原料タンク、２……仕切壁、３……多孔板、４…
…緩衝タンク部分、５……気化タンク部分、6,10……ヒ
ーター、７……測温センサー、８……原料供給管、９…
…切欠部、11……恒温槽、12……原料導入口、13……調
節弁、14,16,18……自動開閉弁、15……流量調節計、17
……ガス出口、19……パージガス導入口、20……荷重変
換器
原料タンクの説明斜面図、第２図はこの原料タンクを組
み込んだ系統説明図、第３図は第１図の変形例を示す説
明斜面図、第４図はそれぞれ従来の装置の系統説明図で
ある。 １……原料タンク、２……仕切壁、３……多孔板、４…
…緩衝タンク部分、５……気化タンク部分、6,10……ヒ
ーター、７……測温センサー、８……原料供給管、９…
…切欠部、11……恒温槽、12……原料導入口、13……調
節弁、14,16,18……自動開閉弁、15……流量調節計、17
……ガス出口、19……パージガス導入口、20……荷重変
換器
Claims (1)
- 【請求項１】原料液を、下部を気化タンク部分、上部を
緩衝タンク部分に分割形成された原料タンクに収容して
加熱気化し、気化された原料ガスを開閉弁および流量制
御機構を介して反応装置に導く配管を備えた装置におい
て、上記原料タンクは、密閉円筒容器の内部を下端が相
互に連通する縦方向の仕切壁により複数個の区画室に分
割するとともに、この仕切壁を横切る多孔板を介して上
下に分割され、それぞれ複数個の緩衝タンク部分および
気化タンク部分に形成されている原料供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13736987A JPH0674149B2 (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 原料供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13736987A JPH0674149B2 (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 原料供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63303825A JPS63303825A (ja) | 1988-12-12 |
| JPH0674149B2 true JPH0674149B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=15197071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13736987A Expired - Fee Related JPH0674149B2 (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | 原料供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0674149B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101055979B1 (ko) * | 2007-12-31 | 2011-08-11 | (주)에이디에스 | 원료 공급 장치와 원료 공급 방법 및 박막 증착 장치 |
| US8724974B2 (en) | 2011-09-30 | 2014-05-13 | Fujikin Incorporated | Vaporizer |
| JP5913888B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2016-04-27 | 国立大学法人東北大学 | 気化器 |
| CN105632970A (zh) * | 2014-11-13 | 2016-06-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 进气系统及半导体加工设备 |
-
1987
- 1987-05-30 JP JP13736987A patent/JPH0674149B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63303825A (ja) | 1988-12-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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