JPH0672722A

JPH0672722A - シリカガラスの製造法

Info

Publication number: JPH0672722A
Application number: JP22574592A
Authority: JP
Inventors: Koichi Takei; 康一武井; Yoichi Machii; 洋一町井; Toshikatsu Shimazaki; 俊勝嶋崎; Hiroki Terasaki; 裕樹寺崎
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 1992-08-25
Filing date: 1992-08-25
Publication date: 1994-03-15

Abstract

(57)【要約】【目的】乾燥ゲルの焼成過程での割れを防ぎ、大形のシ
リカガラスを歩留り良く製造する方法を提供する。【構成】ゾル−ゲル法によるシリカガラスの製造法にお
いて、焼成前の乾燥ゲルとして、一定の条件で測定した
ときの乾燥ゲル内の嵩密度の分布が最大値と最小値の差
で０．１ｇ／ｃｍ³以下である乾燥ゲルを用いて、これ
を焼成しシリカガラスとする。このように嵩密度の分布
が最大値と最小値の差で０．１ｇ／ｃｍ³以下である乾
燥ゲルを得るには、ゲル化の工程でゲルから浸出する液
の不揮発成分の濃度を２０％以下となるように調整した
り、ゾル調製時にテトラヒドロフルフリルアルコール等
の溶媒を添加し、ポリ塩化ビニルフィルムで密閉してゲ
ル化し、ポリ塩化ビニルフィルムで密閉したまま、これ
を加熱して乾燥する等の方法がある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光学用、半導体工業用、
電子工業用、理工学用等に使用されるシリカガラスを製
造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】シリカガラスは耐熱性、耐蝕性及び光学
的性質に優れていることから、半導体製造に欠かせない
重要な材料であり、さらには光ファイバやＩＣ製造用フ
ォトマスク基板、ＴＦＴ基板などに使用され、その用途
はますます拡大している。

【０００３】従来のシリカガラスの製造法には、天然石
英を電気炉又は酸水素炎により溶解する方法、あるいは
四塩化ケイ素を酸水素炎又はプラズマ炎中で高温酸化し
溶解する方法があるが、いずれの方法も製造工程に２０
００℃あるいはそれ以上の高温を要するため大量のエネ
ルギーを消費し、また製造時にそのような高温に耐える
材料が必要なうえ、更に高純度のものが得られにくい
等、経済的、品質的にいくつかの問題点をもっている。

【０００４】これに対し、近年ゾル−ゲル法と呼ばれる
シリカガラスを低温で合成する方法が注目されている。
その概要を簡単に述べる。四塩化ケイ素の気相分解によ
って製造されたＳｉＯ₂ 微粒子を水、有機溶媒もしくは
水−有機溶媒混合液に分散させることにより、あるいは
シリコンアルコキシドを有機溶媒中、触媒と共に加水分
解・重合することにより、シリカゾルとする。この時、
シリコンアルコキシドと水が均一な系となるよう、有機
溶媒としては通常、適当なアルコールが用いられる。こ
のシリカゾルを静置、昇温、ゲル化剤の添加等によって
ゲル化させる。その後、ゲルから有機溶媒、水分を蒸発
させたのち、これを乾燥することにより乾燥ゲルとす
る。この乾燥ゲルを通常、ヘリウム等の適当な雰囲気
中、１０００〜１４００℃で加熱することによりシリカ
ガラスを得る。

【０００５】しかし、上記のゾル−ゲル法によるシリカ
ガラスの製造法は、次のような問題がある。すなわち、
ＳｉＯ₂ 微粒子を水、有機溶媒等に分散させる方法で
は、ＳｉＯ₂微粒子を均一に分散させることが困難で、
シリカゾル中に大きなＳｉＯ₂凝集体が残りやすく、こ
れらＳｉＯ₂凝集体は焼成したときガラス中の欠陥（空
孔）の原因となり、品質を低下させる。また、シリコン
アルコキシドを有機溶媒中、触媒と共に加水分解・重合
し、シリカゾルとする方法では、その後の乾燥過程でゲ
ルにクラックや割れが発生しやく、またそれを焼成して
得られるガラスに微細な空孔が生じやすい。

【０００６】本発明者らは、これらの問題を解決するた
めの方法として、ポリエチレングリコール等の有機質ポ
リマーの存在下に、シリコンアルコキシドを有機溶媒
中、触媒と共に加水分解・重合し、シリカゾルとし、ゲ
ル化し、乾燥し、１０００〜１４００℃で焼成する方法
（特開平１−１４０７６６号公報、特開平１−１４１４
８３号公報等）や、水よりも沸点の高い有機物の存在下
に、シリコンアルコキシドを有機溶媒中、触媒と共に加
水分解・重合し、シリカゾルとし、ゲル化し、乾燥し、
１０００〜１４００℃で焼成する方法（特開平２−２５
４３５号公報、特開平２−２５４３８号公報等）を提案
した。

【０００７】また、佐藤らは、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄を主原
料に、これに金属アルコキシドを加えて作成した混合液
を加水分解し、得られるゲルを乾燥後、焼結してガラス
を合成する方法において、かさ密度が０．２ｇ／ｃｍ³
から０．４ｇ／ｃｍ³までの範囲にある乾燥ゲルを焼結
前の出発材として光ファイバー用ガラスを製造する方法
を提案している（特開昭６０−６５７３９号公報）。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、有機質ポリマ
ー、あるいは水よりも沸点の高い有機物の存在下に、シ
リコンアルコキシドを有機溶媒中、触媒と共に加水分解
・重合し、シリカゾルとし、ゲル化し、乾燥し、１００
０〜１４００℃で焼成する方法によっても、液晶ディス
プレイ用フォトマスク基板のような大型の板状シリカガ
ラスを得ようとする場合、乾燥ゲルを焼成する過程で割
れの発生を皆無とすることは困難である。本発明は、欠
陥（空孔）が少なく、しかも乾燥ゲルを焼成する過程で
の割れを防いで、大形のシリカガラスを歩留り良く製造
する方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、乾燥ゲル
の焼成工程で起こっている諸々の現象を種々検討した結
果、焼成工程でのガラスの割れは、昇温時に起こる乾燥
ゲルの収縮の度合（すなわち、乾燥ゲルのかさ密度）に
密接に関連して起こるほかに、昇温時に起こる乾燥ゲル
の収縮度合の不均一さ、すなわち、乾燥ゲルのかさ密度
差（勾配）にも起因することを見出し、本発明を完成し
た。

【００１０】すなわち、本発明は下記の（１）及び
（２）に関するものである。（１）シリコンアルコキシドを有機溶媒中、有機質ポリ
マー及び触媒の存在下に加水分解してシリカゾルとし、
これをゲル化し、乾燥して乾燥ゲルとし、次いで焼成す
るシリカガラスの製造法において、乾燥ゲル内のかさ密
度を下記の方法で測定したとき、それらの最大値と最小
値の差が４点の平均値で０．１ｇ／ｃｍ³以下である乾
燥ゲルを、焼成前の出発材とすることを特徴とするシリ
カガラスの製造法。

【００１１】かさ密度の測定方法：板状の乾燥ゲルの任
意の部分を４点選び、その部分からそれぞれ５０ｍｍ角
の柱状の試験片を切り出し、側面を研磨して整えたの
ち、乾燥ゲルの厚さ方向に順次３ｍｍずつ研削し、研削
前後の重量差から、乾燥ゲルの厚さ方向のかさ密度を求
める。他の試験片について同様に、乾燥ゲルの厚さ方向
にかさ密度を求める。

【００１２】（２）シリコンアルコキシドを有機溶媒
中、有機質ポリマー及び触媒の存在下に加水分解してシ
リカゾルとし、これをゲル化し、乾燥して乾燥ゲルと
し、次いで焼成するシリカガラスの製造法において、乾
燥ゲル内のかさ密度を下記の方法で測定したとき、それ
らの値が平均値で０．２ｇ／ｃｍ³から０．４ｇ／ｃｍ³
の範囲であり、かつその最大値と最小値の差が０．１ｇ
／ｃｍ³以下である乾燥ゲルを、焼成前の出発材とする
ことを特徴とするシリカガラスの製造法。かさ密度の測定方法：上記（１）と同じ方法。

【００１３】焼成前の出発材料の乾燥ゲルのゲル内のか
さ密度差の最大値が０．１ｇ／ｃｍ³を越えない乾燥ゲ
ルとするためには種々の方法があるが、例えば次のよう
にする。（ａ）有機溶媒、触媒もしくは有機質ポリマーの種類及
び量、ゾルのゲル化時の温度等を適宜選択し、ゲル化の
工程でゲルから浸出する液の不揮発成分の濃度を２０％
以下、好ましくは１０％以下とする。ゲル化の工程で、
ゲルから滲出する液中の不揮発成分の濃度が２０％を越
えると、乾燥後にゲルの表面と内部間に不揮発成分の濃
度の大きな差が生じ、焼成過程でゲルが割れやすくな
る。（ｂ）ゲルを乾燥し乾燥ゲルとする前に、有機溶媒等の
揮発成分が蒸発しないように密閉した状態で、３０〜６
０℃で一定時間（通常、１００時間以内）、保持する。
その時の温度が３０℃未満であると、保持時間は１００
時間を越えるので、生産性が悪くなる。また、その時の
温度が６０℃を越えても、ゲルが焼成過程で割れやすく
なる。（ｃ）ゾル調製時にテトラヒドロフルフリルアルコール
又はエチレングリコールモノエチルエーテル等の溶媒を
添加したのち、容器をポリ塩化ビニルフィルムで密閉し
て、ゲル化し、ポリ塩化ビニルフィルムで密閉したま
ま、これを加熱して乾燥する。テトラヒドロフルフリル
アルコール及びエチレングリコールモノエチルエーテル
等の溶媒は、沸点が水よりも高く、表面張力が水よりも
小さいので、いわゆるＤＣＣＡ（乾燥速度制御剤）とし
ての機能を有する。更に、これら溶媒（ガス）のポリ塩
化ビニルフィルムを透過する速度は水よりも小さい。そ
のため、これらの溶媒の添加はポリ塩化ビニルフィルム
を通して揮発成分（有機溶媒、水）を透過させる場合
に、効果的である。

【００１４】

【作用】かさ密度が高い場合、通常、乾燥ゲルは焼成工
程で低温域で早く収縮する。そのため、乾燥ゲル内にか
さ密度差（勾配）があると、焼成工程で収縮量に差が生
じ、この収縮量の差に起因する応力に耐え切れず、ガラ
スの剥離、割れ等が生じると推定される。

【００１５】乾燥工程の初期の収縮時のゲルから滲み出
る液体は、メチルアルコールや水等の揮発成分及びシリ
カや有機質ポリマー等の不揮発成分から成る。ここで、
不揮発成分は乾燥の過程で次第に濃縮され、それがゲル
の表面付近に滲み出して、表面ほど不揮発成分の濃度が
高くなるように不揮発成分の濃度勾配が発生する。この
濃度勾配が、乾燥ゲル内のかさ密度を生じさせると思わ
れる。

【００１６】また、ゲルを乾燥して乾燥ゲルとする前
に、３０〜６０℃の温度で一定時間保持すると、ゲルの
各部で形成されたシリカネットワークの熱履歴を均一化
し、そのため、乾燥ゲル内のかさ密度差（勾配）が小さ
くなると考えている。

【００１７】更に、ゾル調製時にテトラヒドロフルフリ
ルアルコール又はエチレングリコールモノエチルエーテ
ル等の溶媒を添加したのち、容器をポリ塩化ビニルフィ
ルムで密閉して、ゲル化し、ポリ塩化ビニルフィルムで
密閉したまま、これを加熱すると、これら溶媒のポリ塩
化ビニルフィルムを通り抜ける透過速度及びこれら溶媒
の表面張力は、いずれも水（気体）の透過速度及び表面
張力よりも小さいので、ゲルの液相中での上記溶媒の濃
度が増加し、そのため、乾燥過程ではゲル液相中の水濃
度は、上記溶媒を添加しない場合に比べ増加せず、その
結果、乾燥ゲル内のかさ密度差（勾配）の発生が抑えら
れると推定している。

【００１８】

【実施例】本発明を実施例により更に具体的に説明す
る。実施例１ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：１５０００）６重量部及びメチルアルコ
ール９０重量部を混合し、これに１５ｍＭのコリン水溶
液４０重量部を滴下し、充分混合してシリカゾルを得
た。得られたゾルをポリフッ化エチレンでコーティング
したステンレス製の容器に入れ、アルミホイルで蓋を
し、ゲル化した。３０℃で一日保温後、ゲルから浸出し
た液を採取し、不揮発成分を測定したところ、１８重量
％であった。

【００１９】このゲルを６０℃で６日間、つづいて１２
０℃で１日乾燥し、乾燥ゲルを得た。この乾燥ゲルにつ
いて、４点を任意に選び、厚さ方向のかさ密度を測定し
たところ、表１に示す通りの結果であった。

【表１】表１乾燥ゲル中の種々の測定点におけるかさ密度（単位：ｇ／ｃｍ³） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 表面からの距離測定点１２３４ ─────────────────────────────────── ０〜３（ｍｍ）０．３８０．３７０．３７０．３７３〜６０．３２０．３２０．３２０．３２６〜９０．３１０．３１０．３１０．３１９〜１２０．３１０．３１０．３１０．３１１２〜１５０．３２０．３２０．３２０．３２１５〜１８０．３２０．３２０．３２０．３２ ─────────────────────────────────── 最大と最小の差０．０７０．０６０．０６０．０６ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００２０】表１の結果から、かさ密度の最大と最小の
差は０．０６３ｇ／ｃｍ³（４点の平均値）であること
がわかる。同様に調製した乾燥ゲルを、３℃／ｈの昇温
速度で７００℃まで加熱し、次いでヘリウム雰囲気中、
１３００℃まで昇温してシリカガラスを得た。得られた
シリカガラスに割れはなかった。

【００２１】比較例１ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：１５０００）６重量部、及びメチルアル
コール９０重量部を混合し、これに１５ｍＭのコリン水
溶液３０重量部を滴下し、充分混合してシリカゾルを得
た。得られたゾルをポリフッ化エチレンでコーティング
したステンレス製の容器に入れ、アルミホイルで蓋を
し、ゲル化した。３０℃で一日保温後、ゲルから浸出し
た液を採取し、不揮発成分を測定したところ、２５重量
％であった。

【００２２】このゲルを６０℃で６日間、つづいて１２
０℃で１日乾燥し、乾燥ゲルを得た。この乾燥ゲルにつ
いて、４点を任意に選び、厚さ方向のかさ密度を測定し
たところ、表２に示す通りの結果であった。

【表２】表２乾燥ゲル中の種々の測定点におけるかさ密度（単位：ｇ／ｃｍ³） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 表面からの距離測定点１２３４ ─────────────────────────────────── ０〜３（ｍｍ）０．５２０．５２０．５３０．５２３〜６０．４２０．４１０．４２０．４１６〜９０．４００．４００．４００．４０９〜１２０．３９０．３９０．３９０．３９１２〜１５０．３８０．３８０．３９０．３９１５〜１８０．４２０．４１０．４２０．４１ ─────────────────────────────────── 最大と最小の差０．１３０．１４０．１４０．１３ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 表１の結果から、かさ密度の最大と最小の差は０．１３
５ｇ／ｃｍ³（４点の平均値）であることがわかる。同
様に調製した乾燥ゲルを、実施例１と同様に焼成する
と、シリカガラスに割れが生じた。

【００２３】実施例２ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：１５０００）７重量部及びメチルアルコ
ール０．９重量部を混合し、これに１５ｍＭのコリン水
溶液０．４重量部を滴下し、充分混合してシリカゾルを
得た。得られたゾルをポリフッ化エチレンでコーティン
グしたステンレス製の２容器に入れ、アルミホイルで蓋
をし、ゲル化ののち、一方の容器は更に４０℃で２４時
間保温し、他方の容器は５５℃で２４時間保温した。

【００２４】その後、温度を６０℃として１４４時間、
つづい温度を１２０℃として２４時間加熱し、乾燥し
た。以下、実施例１と同様に乾燥ゲルのかさ密度を測定
し、最大値と最小値の差を求めると、０．０６ｇ／ｃｍ
³であった。

【００２５】同様に調製した乾燥ゲルを、３℃／ｈの昇
温速度で７００℃まで加熱し、次いでヘリウム雰囲気
中、１３００℃まで昇温してシリカガラスを得た。得ら
れたシリカガラスには割れはなかった。

【００２６】比較例２ゲル化ののちの（乾燥前の）保温処理を、２０℃で２４
時間としたほかは、実施例２と同様に操作し、乾燥ゲル
を得た。乾燥ゲルのかさ密度の最大値と最小値の差は
０．１３ｇ／ｃｍ³であった。同様に調製した乾燥ゲル
を、実施例２と同様に焼成すると、得られたシリカガラ
スに割れが生じた。

【００２７】実施例３ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：１５０００）４重量部、メチルアルコー
ル５９重量部及びエチレングリコールモノエチルエーテ
ル３１重量部を混合し、これに１５ｍＭのコリン水溶液
４０重量部を滴下し、充分混合してシリカゾルを得た。
得られたゾルをポリフッ化エチレンでコーティングした
ステンレス製の容器に入れ、ポリ塩化ビニルフィルムで
蓋をし、ゲル化した。

【００２８】その後、温度を６０℃として１４４時間、
つづい温度を１２０℃として２４時間加熱し、乾燥し
た。以下、実施例１と同様に乾燥ゲルのかさ密度を測定
し、最大値と最小値の差を求めると、０．０５ｇ／ｃｍ
³であった。

【００２９】同様に調製した乾燥ゲル（約３３０ｍｍ角
×１５ｍｍ厚さ）を、３℃／ｈの昇温速度で７００℃ま
で加熱し、次いでヘリウム雰囲気中、１３００℃まで昇
温してシリカガラスを得た。得られたシリカガラスに割
れはなかった。

【００３０】比較例３ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：１５０００）４重量部及びメチルアルコ
ール９０重量部を混合し、これに１５ｍＭのコリン水溶
液４０重量部を滴下し、充分混合してシリカゾルを得
た。得られたゾルをポリフッ化エチレンでコーティング
したステンレス製の容器に入れ、ポリ塩化ビニルフィル
ムで蓋をし、ゲル化した。

【００３１】その後、温度を６０℃として１４４時間、
つづい温度を１２０℃として２４時間加熱・乾燥し、乾
燥ゲルを得た。以下、実施例３と同様、乾燥ゲルのかさ
密度を測定し、最大値と最小値の差を求めると、０．１
３ｇ／ｃｍ³であった。同様に調製した乾燥ゲルを、実
施例３と同様に焼成すると、得られたシリカガラスには
割れが生じた。

【００３２】実施例４ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：１５０００）４重量部、メチルアルコー
ル４５重量部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３２重量
部及びテトラヒドロフルフリルアルコール２４重量部を
混合し、これに１５ｍＭのコリン水溶液４０重量部を滴
下し、充分混合してシリカゾルを得た。得られたゾルを
ポリフッ化エチレンでコーティングしたステンレス製の
容器に入れ、ポリ塩化ビニルフィルムで蓋をし、ゲル化
した。

【００３３】その後、温度を６０℃として１４４時間、
つづい温度を１２０℃として２４時間加熱し、乾燥し
た。以下、実施例１と同様に乾燥ゲルのかさ密度を測定
し、最大値と最小値の差を求めると、０．０６ｇ／ｃｍ
³であった。

【００３４】同様に調製した乾燥ゲル（約３２５ｍｍ角
×１５ｍｍ厚さ）を、３℃／ｈの昇温速度で７００℃ま
で加熱し、次いでヘリウム雰囲気中、１３００℃まで昇
温してシリカガラスを得た。得られたシリカガラスには
割れはなかった。

【００３５】比較例４ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：15000）４重量部、メチルアルコール５
８重量部及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３２重量部
を混合し、これに１５ｍＭのコリン水溶液４０重量部を
滴下し、充分混合してシリカゾルを得た。得られたゾル
をポリフッ化エチレンでコーティングしたステンレス製
の容器に入れ、ポリ塩化ビニルフィルムで蓋をし、ゲル
化した。

【００３６】その後、温度を６０℃として１４４時間、
つづい温度を１２０℃として２４時間加熱し、乾燥し
た。以下、実施例４と同様に乾燥ゲルのかさ密度を測定
し、最大値と最小値の差を求めると、０．１５ｇ／ｃｍ
³であった。

【００３７】この乾燥ゲルを、実施例４と同様に焼成す
ると、得られたシリカガラスには割れが生じた。

【００３８】実施例５ポリメチルシロキサン１００重量部、ポリ酢酸ビニル
（平均重合度：１５０００）４重量部、メチルアルコー
ル４５重量部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３２重量
部及びエチレングリコールモノエチルエーテル２１重量
部を混合し、これに１５ｍＭのコリン水溶液４０重量部
を滴下し、充分混合してシリカゾルを得た。得られたゾ
ルをポリフッ化エチレンでコーティングしたステンレス
製の容器に入れ、ポリ塩化ビニルフィルムで蓋をし、ゲ
ル化した。

【００３９】その後、温度を６０℃として１４４時間、
つづい温度を１２０℃として２４時間加熱し、乾燥し
た。以下、実施例１と同様に乾燥ゲルのかさ密度を測定
し、最大値と最小値の差を求めると、０．０５ｇ／ｃｍ
³であった。

【００４０】並行して操作し得られた乾燥ゲル（約３３
０ｍｍ角×１５ｍｍ厚さ）を、３℃／ｈの昇温速度で７
００℃まで加熱し、次いでヘリウム雰囲気中、１３００
℃まで昇温してシリカガラスを得た。得られたシリカガ
ラスには割れはなかった。

【００４１】

【発明の効果】本発明により、光学的性質に優れ、空孔
がなく、しかも大形のシリカガラスを安価に製造する方
法を提供できた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者寺崎裕樹茨城県つくば市和台48番日立化成工業株式会社筑波開発研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シリコンアルコキシドを有機溶媒中、有機
質ポリマー及び触媒の存在下に加水分解してシリカゾル
とし、これをゲル化し、乾燥して乾燥ゲルとし、次いで
焼成するシリカガラスの製造法において、乾燥ゲル内の
かさ密度を下記の方法で測定したとき、それらの最大値
と最小値の差が４点の平均値で０．１ｇ／ｃｍ³以下で
ある乾燥ゲルを、焼成前の出発材とすることを特徴とす
るシリカガラスの製造法。かさ密度の測定方法：板状の乾燥ゲルの任意の部分を４
点選び、その部分からそれぞれ５０ｍｍ角の柱状の試験
片を切り出し、側面を研磨して整えたのち、乾燥ゲルの
厚さ方向に順次３ｍｍずつ研削し、研削前後の重量差か
ら、乾燥ゲルの厚さ方向のかさ密度を求める。他の試験
片について同様に、乾燥ゲルの厚さ方向にかさ密度を求
める。
【請求項２】シリコンアルコキシドを有機溶媒中、有機
質ポリマー及び触媒の存在下に加水分解してシリカゾル
とし、これをゲル化し、乾燥して乾燥ゲルとし、次いで
焼成するシリカガラスの製造法において、乾燥ゲル内の
かさ密度を下記の方法で測定したとき、それらの値が平
均値で０．２ｇ／ｃｍ³から０．４ｇ／ｃｍ³の範囲であ
り、かつその最大値と最小値の差が０．１ｇ／ｃｍ³以
下である乾燥ゲルを、焼成前の出発材とすることを特徴
とするシリカガラスの製造法。かさ密度の測定方法：請求項１に記載した方法と同じ。