JPH067237B2 - 液晶電気光学装置作製方法 - Google Patents

液晶電気光学装置作製方法

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JPH067237B2
JPH067237B2 JP25790087A JP25790087A JPH067237B2 JP H067237 B2 JPH067237 B2 JP H067237B2 JP 25790087 A JP25790087 A JP 25790087A JP 25790087 A JP25790087 A JP 25790087A JP H067237 B2 JPH067237 B2 JP H067237B2
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JP
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liquid crystal
cell
optical device
temperature
crystal material
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JP25790087A
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俊夫 渡辺
正彦 佐藤
寛幸 坂寄
明生 長部
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔従来の技術〕 パーソナルコンピュータ、ワープロ等の表示部に液晶電
気光学装置が多く用いられている。これら液晶電気光学
装置はTN型の液晶材料を用いていた。
最近、ネマチック相以外にもSmA,SmC*相を用いた液晶電
気光学装置が開発されている。このスメクチック相を用
いたパネルの場合、パネルに外部より加わる衝撃による
分子配向乱れ又は層構造の乱れ等が発生する。また表示
方式として複屈折モードを用いた場合不均一セル厚によ
る色むら等の問題が発生する。これらの対策のために、
上下ガラス基板をセル内部でなんらかの方法で接着させ
る方法が注目を浴び、実用化が進められている。
第1図に液晶セルの断面図を示す。(1)は偏光板、(2)は
基板、(3)は透明電極、(4)は配向処理層、(5)は液晶、
(6)はセル外周シール、(7)は偏光板、(8)は内部接着用
樹脂、(9)はギャップ制御用スペーサである。偏光板
(1)、(7)の偏光軸のなす角は表示モードの種類等により
異なるが、通常は互いに垂直となるように設けられてい
る。また配向処理層(4)は絶縁性被膜上に水平配向処理
を施したもので外周シールによる注入口と水平配向処理
方向配置は任意のものが通常は用いられる。
このような液晶表示素子を作成するには必ずこのセルに
液晶を注入することが必要となる。
この注入法において、従来用いられた方法は液晶材料と
液晶セルを真空チャンバ内に設置し、チャンバ内に設置
し、チャンバ内を真空に排気した後、液晶セルの注入口
付近に液晶材料を接触させた後チャンバ内を徐々に大気
圧に戻してセル内の圧力とチャンバ内との圧力差により
液晶材料をセル内に注入するものであった。このとき液
晶材料が粘性の低い状態又は流動性のある状態になるよ
うに液晶セルを液晶材料を適当に加熱し、接触させて、
充填させた後すぐに取り出していた。しかしながら、こ
のような従来の方法では液晶の温度変化に対応する体積
変化が起こる。しかし、液晶セルは内部接着を行ってい
るためこの体積変化に対応して、セルの容量を変化させ
ることができずセル内部に液晶の充填されない局所が発
生し、製品として歩留りを下げていた。
〔発明の目的〕
本発明はセル内部をなんらかの方法で接着してセルに液
晶を充填した後に液晶の温度変化に対応する体積変化に
よる未充填部分の発生を防止する方法を提供するもので
ある。
〔発明の構成〕
本発明は上記目的を達成するために第2図(A)(B)
に示すように、内部接着用樹脂とギャップ制御用スペ
ーサと周囲が封止された一定の間融を持つ硝子基板
により形成された空間へ周囲への封止部の水平配向
処理方向(分子長軸が向く方向)と垂直方向に少なくと
も1ケ所に設けられた液晶注入口より液晶材料を注入
する。
前述のように形成された液晶セルを、気密性の減圧容器
内に設け容器内を排気し、液晶注入口を液晶材料でふ
さぐ。この後、減圧容器内圧力を徐々に戻すことにより
液晶容器内に液晶材料を注入する。この後注入口付近は
温度が高めのIsopropic状態又はNematic状態、注入口か
ら遠い所は温度が低めのIsotropicと状態又はNematie状
態に適当な温度勾配をもたせて除去する。その時の徐冷
速度は液晶材料と注入口の大きさにより違う。注入口付
近の温度が使用温度より低温になったときの適当な温度
で封止し液晶を注入する工程を終了するものである。
以下に実施例により本発明の方法を説明する。
〔実施例〕
第2図(A)、(B)に本実施例で用いたセル構造を示
す。
実施例においては公知の真空液晶注入装置を使用した。
第2図に示すように、本実施例にて用いた液晶セルは硝
子等の絶縁性透光性基板上に形成された透明電極
及び配向処理層を内側に対抗させてギャップ制御材
で支持し、内部接着用樹脂でセル内部を固定し、周囲
を封止し、水平配向処理方向(液晶分子長軸が向く方
向)と垂直方向に数ケ所の注入口を設けるように硝子
基板を張り合わせた。
このような構造を持つ液晶セルを液晶注入装置内に入
れ、装置内を減圧状態とする。本実施例の場合は6×10
-3torrまで減圧した。この後液晶材料をディスペンサー
により滴下して注入口をふさいだ。この際、液晶材料
の流動性を増すためにNematic相又はIsotropic相領域付
近まで温度を上げた。
次に減圧容器内の圧力をゆっくり戻してゆき注入孔より
液晶材料をセル内に注入した。
その後液晶セルを第3図の様な加熱板及び冷却板を
数枚並べ、高温側に注入口を向けて、高温側に置き、適
当なスピードで低温側に移動した。注入口付近が0℃に
なった時に紫外線硬化エポキシ接着材によりその注入口
を封止し、周囲に付着した液晶材料を除去し液晶セル
を完成させた。
本発明はセル内部をなんらかの方法で接着し、注入口を
水平配向処理方向(液晶分子長軸が向く方向)と垂直方
向に少なくとも1ケ所に設けられた液晶セルにスメクチ
ック液晶材料を注入する際に液晶の温度に対応する体積
変化による未充填か所をなくすことができるものであ
る。
本発明方法により、液晶材料の体積変化は液晶セルに加
えられた温度勾配により、低温側より高温側にスムーズ
に移動し、最終的に液晶注入口付近で終了しすみやかに
注入、封止を行なえるという特徴を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明で用いる液晶セルの概略図を
示す。 第3図は液晶注入時にセルに温度勾配を加える機構を示
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−273511(JP,A) 特開 昭63−95418(JP,A) 特開 昭63−204230(JP,A) 特開 昭62−40428(JP,A) 実開 昭61−182017(JP,U)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】減圧注入法にて液晶材料を液晶セルに注入
    する際に、液晶セルの液晶配向制御方向に対して垂直方
    向に設けられた液晶注入口より液晶材料を注入する工程
    と、該工程の後前記液晶セルに対し、注入方向に平行方
    向に温度勾配をかけて、液晶セルを使用温度以下にまで
    冷却する工程と該工程の後、液晶注入口を使用温度以下
    の状態で封止する工程とを有することを特徴とする液晶
    電気光学装置作製方法。
  2. 【請求項2】特許請求の範囲第1項において前記液晶材
    料はスメクチック液晶相を有することを特徴とする液晶
    電気光学装置作製方法。
JP25790087A 1987-10-13 1987-10-13 液晶電気光学装置作製方法 Expired - Lifetime JPH067237B2 (ja)

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JP25790087A JPH067237B2 (ja) 1987-10-13 1987-10-13 液晶電気光学装置作製方法
US07/254,096 US4917473A (en) 1987-10-13 1988-10-06 Method of manufacturing liquid crystal devices
DE88116958T DE3883341T2 (de) 1987-10-13 1988-10-12 Verfahren zur Herstellung von Flüssigkristallvorrichtungen.
EP88116958A EP0312028B1 (en) 1987-10-13 1988-10-12 A method of manufacturing liquid crystal devices
US07/704,022 US5193019A (en) 1987-10-13 1991-05-22 Method of manufacturing liquid crystal devices

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Publications (2)

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JPH01100515A JPH01100515A (ja) 1989-04-18
JPH067237B2 true JPH067237B2 (ja) 1994-01-26

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