JPH0669097A - 重ね合せ精度測定装置 - Google Patents

重ね合せ精度測定装置

Info

Publication number
JPH0669097A
JPH0669097A JP24268092A JP24268092A JPH0669097A JP H0669097 A JPH0669097 A JP H0669097A JP 24268092 A JP24268092 A JP 24268092A JP 24268092 A JP24268092 A JP 24268092A JP H0669097 A JPH0669097 A JP H0669097A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
irradiation
optical
image
actuator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP24268092A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2861671B2 (ja
Inventor
Makoto Fujiwara
誠 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP24268092A priority Critical patent/JP2861671B2/ja
Publication of JPH0669097A publication Critical patent/JPH0669097A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2861671B2 publication Critical patent/JP2861671B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 重ね合せ精度測定機において、測定誤差の要
因となる光軸の傾斜の自動校正機能を有する。 【構成】 光軸傾斜補正用アクチュエータ12,13を
光学系内に有し、さらに光軸傾斜調整用の2500Å程
度の段差、且つ両端が45°以下のなだらかな傾斜でさ
らに両端のエッジが精密に対称形状をしている基準パタ
ーン4を装置内に有し、光軸の傾きを自動校正する機能
を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、重ね合せ精度測定装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子製造工程におけるフォトリソ
グラフィ工程において形成されたレジストパターンと下
地パターンとのずれ量を測定する必要があり、そのため
に重ね合せ精度測定装置が用いられていた。
【0003】この種の重ね合せ精度測定装置は、照射用
対象物(例えば、レジストパターンと下地パターン等)
の照射面に平行な方向に照射用光線を入射し、これを直
角に屈折して対象物の照射面に照射する。対象物の照射
面からの反射光をCCDカメラで撮像し、画像処理して
ずれを測定するものである。
【0004】このものにおいて、測定する前段工程とし
て、対象物への入射光学系の光軸と、対象物からの出射
光学系の光軸とのずれを補正する必要がある。
【0005】従来、この補正は、作業者が基準ウェハ等
を用いて試行錯誤を繰り返して行っていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】画像処理を利用してい
るため、光軸のずれが信号波形の壊れや、明暗信号の振
幅の変化をもたらし、装置相互間での測定誤差を生む大
きな要因となるため、測定精度を向上させるには、光軸
ずれの補正を極限まで行う必要がある。
【0007】そのため、従来は補正作業に時間を要して
いた。
【0008】本発明の目的は、光軸ずれの自動校正機能
を備えた重ね合せ精度測定装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る重ね合せ精度測定装置は、光源と、第
1及び第2の光学系と、撮像部と、画像処理部と、基準
パターンと、アクチュエータと、補正部とを有する重ね
合せ精度測定装置であって、光源は、照明用光線を照射
するものであり、第1の光学系は、光線を照射用対象物
の照射面に向けて直角に屈折させて照射するものであ
り、第2の光学系は、照射用対象物の照射面に対して垂
直方向に反射する反射光を取込むものであり、第1の光
学系は、照射用対象物の照射面に対しては、平行な面上
に直交する2軸方向に移動可能に、照射面に対しては、
垂直な面上に角回転可能に設けられ、第2の光学系は、
定位置に固定されており、撮像部は、第2の光学系から
の画像を取込むものであり、画像処理部は、撮像部から
の画像信号を処理するものであり、基準パターンは、照
射用対象物と同一高さに設置され、所望の高さに立上っ
た定形の平坦面と、該平坦面の両端に傾斜をもって左右
対称に形成されたエッジとを有し、照射用対象物と切替
えて第1の光学系の照射位置に配置されるものであり、
アクチュエータは、第1の光学系を直交する2軸方向及
び角回転方向に変位させるものであり、補正部は、基準
パターンからの反射光を撮像部及び画像処理部に通して
処理した画像データに基づいて、アクチュエータにより
第1の光学系及び第2の光学系を相対変位させ、両光学
系相互間の光軸のずれを補正するものである。
【0010】
【作用】対象物に光線を入射する入射光学系と、対象物
からの反射光を取込む出射光学系とを相対変位可能に設
け、光軸ずれのデータに基づいて、両光学系をアクチュ
エータにより相対変位させ光軸ずれを校正する。
【0011】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図により説明す
る。図1は、本発明の一実施例を示す構成図である。
【0012】図において、本実施例は、光源10と、第
1及び第2の光学系と、撮像部としてのCCDカメラ1
5と、画像処理部16と、基準パターン4と、アクチュ
エータ12,13と、補正部とを有する重ね合せ精度測
定装置である。
【0013】光源10は、照明用光線を照射するもので
ある。第1の光学系はアパーチャ8、光散乱板9、レン
ズ9a、プリズム7を有し、照射用対象物(ウェハ1)
の照射面に対し平行な方向に光源10からの光線が入射
し、光線をプリズム7により照射用対象物の照射面に向
けて直角に屈折させて照射するものである。これら光源
10及び第1の光学系は、照明鏡筒14内に一体に組み
込まれている。
【0014】第2の光学系は、対物レンズ5、アパーチ
ャ6を有し、照射用対象物の照射面に対して垂直方向に
反射する反射光を取込むものである。
【0015】第1の光学系は、保持部材11上のアクチ
ュエータ13に支持されて、照射用対象物の照射面に対
し平行な面上に直交する2軸方向に移動可能に設けら
れ、光線が直角に屈折する屈折点付近(プリズム7の中
心部付近)を中心としてアクチュエータ12により角回
転可能に設けられ、第2の光学系は、定位置に固定され
ている。
【0016】撮像部としてのCCDカメラ15は、第2
の光学系からの画像を取込むものであり、画像処理部1
6は、CCDカメラ15からの画像信号を処理するもの
である。
【0017】移動ステージ3上に、ウェハチャック2上
に載置されたウェハ1の表面と同一高さで、且つ平行に
配置された基準パターン4を有する。
【0018】基準パターン4は、図2,図3に示すよう
に、所望の高さに立上った定形の平坦面4aと、該平坦
面4aの両端に傾斜をもって左右対称に形成されたエッ
ジ4b,4bとを有し、照射用対象物と切替えて第1の
光学系の照射位置に配置されるものである。
【0019】光源10からの光は、光散乱板9により均
一な強度の面光源光とされ、レンズ,アパーチャ8,プ
リズム7,アパーチャ6,対物レンズ5を介してウェハ
1又は基準パターン4を照明する構造となっており、各
アパーチャの中心は各々の光軸中心となるよう配置され
ているものとする。ウェハ1又は基準パターン4の像は
対物レンズ5,アパーチャ6,プリズム7,レンズを介
してCCDカメラ15上に結像される。
【0020】補正部は、アパーチャ像ズレ検出回路1
7,光軸傾斜検出回路18,アクチュエータ駆動回路1
9を有し、基準パターンからの反射光をCCDカメラ1
5及び画像処理部16に通して処理した画像データに基
づいて、アクチュエータにより第1の光学系及び第2の
光学系を相対変位させ、両光学系相互間の光軸のずれを
補正するものである。
【0021】光軸の自動校正時の動作について以下に説
明する。基準パターン4が対物レンズ5の直下にくるよ
うに移動ステージ3を移動させる。基準パターン4は、
図2に示すような平面形状並びに図3に示すような断面
形状を持っており、平坦面4aが2500Å程度立上っ
ており、さらに両端のエッジ4bは精密に対象、且つ4
5°以下のなだらかな傾斜を有している。
【0022】基準パターン4の像がCCDカメラ15に
より取込まれ、画像信号処理部16により走査線の平均
明暗として図4又は図5に示すような信号波形が得られ
る。図6に示すように、第2光学系の光軸L1が紙面に
垂直方向に存在する場合に、第1光学系の光軸L2は光
軸L1と直交する水平方向に位置する。
【0023】この場合、光軸L1が正規の位置にある場
合には、その信号波形20は図4に示すような正常状態
のものとして得られる。また、図6に示すように、第1
光学系の光軸L2が、ウェハ1に対し垂直な面上で上下
方向にずれて光軸の傾きが生じ、正規以外の位置に変更
された場合、信号波形21は図5のように左右のエッジ
の波形が非対称となり、信号の振幅並びに谷の幅が異な
っている。
【0024】このような場合、光軸傾斜検出回路18
で、光軸の傾斜量θを演算し、アクチュエータ駆動回路
19によりアクチュエータ12を駆動して第1の光学系
を角回転させて正規位置まで変化させ、信号波形20の
ような波形が得られるように光軸の傾斜を補正する。
【0025】また同時に以下の動作も行う。すなわち、
アパーチャ6及びアパーチャ8は設計上光学的に共役と
なる位置にあるが、前記光軸傾斜補正により、両アパー
チャ6,8の中心位置にずれが生じることがある。図7
はずれがある状態、図8はずれの無い状態を示す。図7
のような場合はアパーチャ像ズレ検出回路17によりず
れ量を演算し、アクチュエータ駆動回路19により、ア
クチュエータ13を駆動して第1の光学系を直交する方
向に変位し、光軸のずれ量を補正し、図8のような状態
となる。
【0026】以上の2つの動作を同時に行うことによ
り、光軸の傾斜並びにアパーチャのずれを補正し、良好
な重ね合せ精度の測定が可能となる。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、光軸の傾
きの自動校正機能を有するため、人手による光軸の傾き
の調整作業が不要となり、校正にかかる時間も極端に短
縮することができる。
【0028】また自動化したことで光軸の傾き調整を定
量的に常に一定したレベルで行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図2】基準パターンを示す平面図である。
【図3】基準パターンを示す断面図である。
【図4】信号波形を示す図である。
【図5】信号波形を示す図である。
【図6】光軸のずれを示す図である。
【図7】アパーチャのずれを示す図である。
【図8】アパーチャのずれを示す図である。
【符号の説明】
4 基準パターン 6 アパーチャ 7 プリズム 8 アパーチャ 10 光源 11 保持部材 12 アクチュエータ 13 アクチュエータ 14 照明鏡筒 15 CCDカメラ 16 画像信号検出回路 17 アパーチャ像ズレ検出回路 18 光軸傾斜検出回路 19 アクチュエータ駆動回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/22 H 9122−2H 9/00 H 9122−2H

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、第1及び第2の光学系と、撮像
    部と、画像処理部と、基準パターンと、アクチュエータ
    と、補正部とを有する重ね合せ精度測定装置であって、 光源は、照明用光線を照射するものであり、 第1の光学系は、光線を照射用対象物の照射面に向けて
    直角に屈折させて照射するものであり、 第2の光学系は、照射用対象物の照射面に対して垂直方
    向に反射する反射光を取込むものであり、 第1の光学系は、照射用対象物の照射面に対しては、平
    行な面上に直交する2軸方向に移動可能に、照射面に対
    しては、垂直な面上に角回転可能に設けられ、第2の光
    学系は、定位置に固定されており、 撮像部は、第2の光学系からの画像を取込むものであ
    り、 画像処理部は、撮像部からの画像信号を処理するもので
    あり、 基準パターンは、照射用対象物と同一高さに設置され、
    所望の高さに立上った定形の平坦面と、該平坦面の両端
    に傾斜をもって左右対称に形成されたエッジとを有し、
    照射用対象物と切替えて第1の光学系の照射位置に配置
    されるものであり、 アクチュエータは、第1の光学系を直交する2軸方向及
    び角回転方向に変位させるものであり、 補正部は、基準パターンからの反射光を撮像部及び画像
    処理部に通して処理した画像データに基づいて、アクチ
    ュエータにより第1の光学系及び第2の光学系を相対変
    位させ、両光学系相互間の光軸のずれを補正するもので
    あることを特徴とする重ね合せ精度測定装置。
JP24268092A 1992-08-19 1992-08-19 重ね合せ精度測定装置 Expired - Lifetime JP2861671B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24268092A JP2861671B2 (ja) 1992-08-19 1992-08-19 重ね合せ精度測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24268092A JP2861671B2 (ja) 1992-08-19 1992-08-19 重ね合せ精度測定装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0669097A true JPH0669097A (ja) 1994-03-11
JP2861671B2 JP2861671B2 (ja) 1999-02-24

Family

ID=17092640

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24268092A Expired - Lifetime JP2861671B2 (ja) 1992-08-19 1992-08-19 重ね合せ精度測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2861671B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5754299A (en) * 1995-01-13 1998-05-19 Nikon Corporation Inspection apparatus and method for optical system, exposure apparatus provided with the inspection apparatus, and alignment apparatus and optical system thereof applicable to the exposure apparatus
JP2003092249A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Nikon Corp 光学的位置ずれ検出装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5754299A (en) * 1995-01-13 1998-05-19 Nikon Corporation Inspection apparatus and method for optical system, exposure apparatus provided with the inspection apparatus, and alignment apparatus and optical system thereof applicable to the exposure apparatus
JP2003092249A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Nikon Corp 光学的位置ずれ検出装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2861671B2 (ja) 1999-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5694214A (en) Surface inspection method and apparatus
US4704020A (en) Projection optical apparatus
US4650983A (en) Focusing apparatus for projection optical system
US20020025482A1 (en) Exposure method
JP2523227Y2 (ja) 異物検査装置
US6219442B1 (en) Apparatus and method for measuring distortion of a visible pattern on a substrate by viewing predetermined portions thereof
JPH09243573A (ja) 表面検査装置
US4897553A (en) Projection exposure apparatus
JPH0669097A (ja) 重ね合せ精度測定装置
JPS6336526A (ja) ウエハ露光装置
JPH09133636A (ja) 照明装置及びこれを適用した欠陥検査装置
JP2001013388A (ja) レンズ系光軸調整方法およびレンズ系光軸調整装置
JPH09236425A (ja) 面位置検出方法
JPH0616483B2 (ja) 投影光学装置
JP3865459B2 (ja) 半導体素子実装装置
CN214898335U (zh) 基底背面缺陷检测装置
JPH07190735A (ja) 光学式測定装置およびその測定方法
JP2597711B2 (ja) 3次元位置測定装置
JPS63205775A (ja) パタ−ン欠陥検査装置
JPH07142346A (ja) 投影露光装置
JP2924485B2 (ja) 重ね合わせ精度測定機
JPH0677096B2 (ja) 投影装置の焦点合せ装置
JP3575576B2 (ja) 表面状態検査装置および検査方法
KR100254253B1 (ko) 스테이지 초점 및 수평조정장치 및 방법
JP3255301B2 (ja) 位置検出方法及び装置