JPH0668593B2 - 光論理要素 - Google Patents

光論理要素

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JPH0668593B2
JPH0668593B2 JP61280938A JP28093886A JPH0668593B2 JP H0668593 B2 JPH0668593 B2 JP H0668593B2 JP 61280938 A JP61280938 A JP 61280938A JP 28093886 A JP28093886 A JP 28093886A JP H0668593 B2 JPH0668593 B2 JP H0668593B2
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リー ジェウェル ジャック
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/21Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  by interference
    • G02F1/218Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  by interference using semi-conducting materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
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    • G02F3/00Optical logic elements; Optical bistable devices

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明はより一般的には光論理要素の分野、より具体的
には一連に動作される一群の光論理要素に関する。
技術の背景 現在、光論理要素に対する関心が、これらが潜在的に高
速論理動作を遂行する能力を持つこと及び、大きな並列
コンピュータに構成できる可能性から非常に高まつてい
る。1つの光論理要素のアレイが少なくとも10個の
論理ゲートを含み、これらが同時に機能することが期待
できる。これらアレイの数個を一連のレンズによつて光
学的に相互接続することによつて、一定の時間内に現在
電気論理要素によつて可能と考えられているより多くの
論理要素を動作することが可能であると考えられる。
幾つかのタイプの光論理要素が開発されている。例え
ば、高度に光線形の半導体材質、例えば、InSb、I
nAsあるいはGaAsが光双安定デバイス内に使用さ
れる。これに関しては、例えば、アプライド フイジク
ス レターズ(Applied Physics Le
tters)、ページ131−133、1983年1月
15日号を参照すること。これら半導体の励起子に起因
する吸収効果に基づく多重量子井戸(MQW)デバイス
への使用が実演されている。1つの有望なMQWデバイ
スは自己電気光学効果デバイス(SEED)と呼ばれ、
光学的に影響された電場を使用して光線の変調を行な
う。これに関しては、例えば、アプライド フイジクス
レターズ(Applied Physics Let
ters)、ページ13−15、1984年を参照する
こと。これら要素は単一ビーム論理要素とも呼ばれる。
光論理要素へのもう1つのアプローチは非線形フアブリ
ーペロ エタロンを使用して論理ゲートを構成する。例
えば、アプライド フイジクス レターズ(Appli
ed Physics Letters)、ページ17
2−174、1984年1月15日号を参照すること。
この方法は、例えば、2つの入力ビーム及び1つのプロ
ーブビームを使用し、非線形媒体が、1つの入力パルス
の吸収が屈折率を変化させ、結果としてプローブビーム
波長付近でのフアブリーペロ透過ピークが半最高値の所
で約1波長だけシフトされるように選択される。勿論、
このピークは媒体が緩和されると元の波長の所に戻ど
る。ただし、出力は入力ビームがエタロンに当つた直後
のプローブビームの透過によつて決定されるため問題な
い。パルス式動作も考えられ、むしろこの方が好ましい
場合が多い。このタイプの論理要素は、このデバイスが
2つのビーム、この場合は2つの異なる波長を特徴とす
る2つのビームを区別することから、二重ビームデバイ
スと呼ばれる。
類似の研究、例えば、フアブリーペロ空胴の光学調節に
よる光の変調が報告されているが、論理動作遂行の可能
性に関しては明示されてない。この方法においては、空
胴を通じ伝送される単一ビームが制御ビームによつて変
調される。ここで、制御ビームは空胴媒体の屈折率を変
化させ、これによつて単一ビームに対する屈折率を変化
させる。これに関しては、例えば、アプライド フイジ
クス レターズ(Applied Physies L
etters)、ページ511−514、1979年4
月15日号を参照すること。
光論理要素は、少なくとも理論上は、電気論理要素と比
較して、非常に向上されたスイツチング能力を持つ。し
かし、多くの論理要素は、電気論理要素にはみられない
制約を持つ。この制約の1つとして方向性の問題があ
る。光要素は好ましい入力側以外の方向からの光線入力
を受け入れる。このため外来光線が入力として受け入れ
られ、結果として、デバイスの動作が妨害される。広い
間隔の論理要素を持つ小さなアレイにおいては、方向性
の欠如は大きな問題とはならないが、大きなアレイ内の
密集した論理要素においては、情報の流れとは逆の方向
に不注意に加えられた外来光線が発生し、結果として、
誤動作あるいは論理要素のノイズに対する抵抗が低下さ
れる場合がある。本発明はこの問題を解決することを目
的とする。
発明の構成 本発明は第1と第2の反射デバイスの間に光学的に非線
形の媒体を持つ光理論要素に関する。プローブビーム及
び少なくとも1つの入力ビームがこの要素に当てられ
る。第1の反射デバイスはこの入力ビームの波長を透過
し、一方、第2の反射デバイスは入力ビーム及びプロー
ブビームの両方の波長を反射する。このため非線形媒体
は第1の反射デバイスに加えられたビームには応答する
が、第2の反射デバイスに加えられたビームには感応し
ない。
発明の実施例 第1図は先行技術による多量ビーム光論理要素の一例と
しての実施態様の略図を示す。プローブ光源1、少なく
とも1つの入力光源3、非線形要素5、及び非線形要素
からの出力を検出するための装置7が示される。装置7
は光検出器であり得る。さらにレンズ11が示される
が、これはそれぞれ入力及びプローブ光線の焦点を非線
形要素に合せるのに使用される。このプローブ及び入力
光線は鏡15によつて非線形要素に向けられる。プロー
ブ光線はレンズ9及び光線スプリツタ17によつて検出
装置に向けられる。光源1及び3は光線の強度を変える
ための装置を含む。非線形要素は19として示される非
線形媒体を含む。
この入力及びプローブ光線は異なる波長を持つ。つま
り、この論理要素は二重光線デバイスである。典型的な
半導体吸収特性から、一般に、ブローブ光線は入力光線
の波長より長いブローブ波長を持つ。これは、プローブ
光線の吸収が最小にされたとき、ある論理動作、例え
ば、NORを遂行する。さらに、パルスモードにて動作
する場合は、プローブ光線に対する入力光線の影響を最
大にするために入力光線がプローブ光線を追跡すること
が要求される。
第1図の非線形要素は、非線形媒体として、例えば、分
子ビームエピタキシーによつて成長された多重量子井戸
(MQW)構造を使用する透過非線形フアブリーペロ
エタロンである。このMQW構造は、公称上、63ピリ
オドの76オングストローム厚GaAs及び81オング
ストローム厚Al0.37Ga0.63As層を含む。この層がAl
0.37Ga0.63As層によつてクラツドされ、全体で約1.
25μMの厚さとされる。このエタロン鏡は4波長厚の
スペーサを持つ10層誘電体干渉フイルタから成る。こ
のフイルタは825nmにて発光するモード固定レーザー
のピーク出力波長の所で高透過率を示し、850nmより
長い波長の所で97%あるいはそれ以上の反射率を示す
ように設計される。プローブ波長の所で高公差を与え、
またプローブ波長に近い波長の入力パルスを効率的に活
用することからこのタイプの鏡が要求される。
プローブ光源にはCW色素レーザーからの850nm10
mW光線が使用され、7ピコ秒入力光線には825nmの所
にピーク出力を持ちキヤビテイダンパーを装備する同期
ポンプモード固定色素レーザーからの出力が使用され
る。プローブはパルスモードにて動作することもでき
る。ただし、ここでは緩和特性をよりはつきり示すため
にCWモードの動作が選択された。入力パルスのエネル
ギーを調節することもできる。このゲートは弱い入力パ
ルスにて制御できる比較的高エネルギーの入力パルスを
使用することもできる。
つまり、フアブリーペロ空胴を通じての透過特性は入力
パルスによつて決定される。
これは以下の説明からより良く理解できる。非線形要素
は、NORゲートとして使用されたとき、入力光線の波
長の所で非常に高い吸収体として機能する。しかし、入
力光線が存在しないと、プローブエネルギーが少しは吸
収されるが、プローブ光線に対して殆んど透明である。
空洞の調節によつて、非線形要素内の非線形媒体は透明
とし、非線形要素は不透明とすることができる。プロー
ブ光線の吸収の変化は、公称上は、エタロンの調節のみ
によるもので、プローブ光線の波長の所での吸収率の変
化によるものではないと想定される。入力光線が存在し
ない場合に、プローブ光線の透過率及び吸収率が共に最
大化される。しかし、1つあるいは複数の入力光線が存
在すると、プローブ光線は主に反射される。これは、非
線形媒体による入力光線の吸収がプローブ波長の所での
媒体の屈折率を変化させ、従つて、プローブ光線からみ
た空洞の光路長が変化するためである。プローブ光線は
入力光線よりもかなり高いエネルギーを持つため、非線
形媒体あるいは鏡内のプローブ光線の少しの吸収が結果
として1つの入力光線と同程度のエネルギー吸収を与え
る。従つて、ゼロあるいは1の入力レベルにおいては、
吸収されるエネルギーはほぼ等しく、動作温度は環境温
度より少し高くなるが温度の安定性は確保される。
各種の変形が考えられる。例えば、非線形媒体として、
MQW構造でなく、バルク半導体材質を使用することも
できる。ただし、現時点においては、室温において励起
によつて強い非線形効果があるため、MQW構造の方が
好んで使用される。反射フアブリーペロ エタロン、つ
まり、完全に反射するバツクミラーを持つフアブリーペ
ロ エタロンを使用することができる。一例としての半
導体材質としては、GaAs、InP、及びCdSが含
まれる。
複数の入力光線を使用することも考えられる。この分析
はパルスが空洞ビルドアツプ時間に対して十分に長いこ
とを前提としての概算であることに注意する。従つて、
この分析はプローブ光線の吸収が入力光線の吸収と同一
の物理的効果を与えない場合は妥当でない。ただし、こ
れは、通常、妥当な概算を与えると考えて良い。
これら論理要素は、通常は、負の論理ゲート、例えば、
NORあるいはNANDとして使用される。これは、こ
れらゲートがエネルギー吸収の差を最小化するためであ
る。NORゲートとしての使用が最も有望である。
自己制限NORゲートの場合は、プローブ光源からのパ
ルス間ノイズが概ねコントラストに等しい係数だけ減少
される。従つて、自己制限ゲートは、非自己制限ゲート
と比較してノイズに強い。入力光線及びプローブ光線は
必ずしも非線形要素に空洞の同じ側から入いるとは限ら
ない。これらは反対側から入れてある。つまり、一連の
光論理要素を通じてのデータ流は好ましい方向である
が、反対方向から入いる外来入力光線が論理要素の正常
な動作を妨害する恐れがある。
入力光線及びプローブ光線の両方ともパルスあるいはC
Wのいすれのモードでも動作することができる。ただ
し、両方の光線が同一の時間的特性を持つことが必要で
ある。用語“CW”は強度がデバイス応答時間あるいは
クロツク期間より長い時間一定あるいは概ね一定である
ことを意味する。“パルス”はデバイスクロツク期間よ
りも短かい媒体緩和時間より短かい時間を意味する。
第2図は非対称の本発明による多重ビーム光論理要素の
略図を示す。入力光源201は放射エネルギー、例え
ば、波長λi(例えば、825nm)の光線を鏡215及
びレンズ211を介して反射デバイス230に向ける。
一方、光源203は波長λp(例えば、850nm)の光
線を鏡215及びレンズ211を介して反射デバイスの
左側に向ける。
本発明による反射デバイス230は光源203からのプ
ローブ光線の少しを非線形媒体219にパスし、光源2
01からの入力光線の実質的に全てを非線形媒体219
にパスするように設計された層230−1から230−
8を含む。層230−1、230−3、230−5及び
230−7は高屈折率材質、例えば、硫化亜鉛から成
り、層230−2、230−4、230−6及び230
−8は低屈折率材質、例えば、フツ化マグネシウムから
成る。高屈折率層230−5を除くこれら層の全ては入
力光線波長λiの4分の1波長の幅を持つ。層230−
5は2分の1波長の整数倍の幅を持ち、入力光線をデバ
イス230を通じて非線形媒体219により効率的にパ
ルスする。
デバイス235は層235−1から235−8を含む。
層235−1、235−3、235−5及び235−7
は低屈折率材質(例えば、MgF)から成る。残りの層
は高屈折率材質(例えば、ZnS)から成る。これらは
入力光線周波数の4分の1波長あるいは4分の1波長の
整数倍の幅を持つ。デバイス230内に複数の2分の1
波長の層、例えば、層230−5が存在しない場合は、
層235−8に当たる実質的に全ての光線は、高効率に
て反射され、この方向からの非線形媒体219の右側の
所での入力光線の強度は非常に低くなる。第3図はデバ
イス230及び235の反射率を波長の関数として示
す。波形301はデバイス230の反射率を表わす。こ
れは入力光線の波長λiの所に反射率の顕著な下落を持
つが、その他の所では高い反射率を示す。波形305は
デバイス235の反射率を示すが、これは対象となる全
ての波長の所で高い反射率を示す。
エタロン内の非対称性の程度は、デバイス230を通つ
て入力側から入いる入力光線から吸収された光とデバイ
ス235を通つて出力側から入いる入力光線から吸収さ
れる光の比によつて表わすことができる。反射デバイス
230及び235が吸収を行なわず、入力波長の所でそ
れぞれR及びRの反射率を持ち、αLは(入力波長
の所の)非線形媒体の吸収率×長さの積を表わすものと
すると、非対称性の程度Aは以下の標準のフアブリーペ
ロ エタロン式によつて表わすことができる。
この式から、Rが増加される、あるいはRが減少さ
れると、Aは増加することがわかる。R=1.0である
場合は、Aは期待されるように無限に接近する。αL≧
0.5の場合は、R=0が望ましい構成を与える。これ
は媒体内の2度の通過によつて殆んどの入力光線が十分
に吸収されるためである。αL<<1の場合は、エタロ
ンの厚さが入力波長と共振するとき媒体が入力光線を効
率的に吸収できるように十分に大きなRを持つことが
必要である。この場合、R−2αLが適当な選択で
ある。これらの全ての場合において、Rは、設計が許
す限り最大にされる。これは、これが常に大きな非対称
性を保証するためである。反射デバイス230及び23
5はプローブ光線の波長の所で、これがエタロンと共振
するときプローブ光線の透過を最大限にするため、可能
な限り同一の反射率を持すことが好ましい。この等化は
鏡デバイス235内に1つの厚い層を含めることによつ
て実現できる。この層の厚さは、鏡デバイス230の反
射特性曲線の鏡像であり、またプローブ光線波長に対し
て対称性を持つ反射特性曲線を与えるような厚さにされ
る。この反射特性の最小ポイントは、入力光線の波長よ
り、プローブ波長と入力光線の波長との差の2倍以上長
い波長の所で起こるようにされる。
動作において、入力光源201から鏡230に加えられ
る入力光線は、鏡230によつて非線形媒体(NLM)
219に送くられ、ここで吸収され、次に鏡235によ
つてもう1度NLM内を通過される。入力光線の吸収さ
れなかつた残りの部分は再び鏡230に送くられる。こ
のNLM219の2度の通過によつて、入力光線の吸収
の効率が、鏡230及び235の両方が入力光線を透過
する場合と比較して向上される。論理要素205はこれ
によつて、入力光線が非線形媒体に到達する前に反射さ
れるために層235−8に当たる入力光線に対して高度
にインセンシテイブとなる。従つて、データは第2図の
デバイスの左から右へと流れるのみである。
第4図は本発明による光論理要素のアレイの略図を示
す。図示されるごとく、45として示されるアレイ45
は、個々が450として示される複数の光論理要素を含
む。これら光論理要素は第1図に既に詳細に示されてい
るため、ここで再度詳細には示されない。図示されるご
とく、これら要素はプレーナアレイを形成する。
本発明による光論理要素のアレイは縦接続、つまり、レ
ンズによつて光学的に相互接続することもできる。この
ように縦接続されたアレイが第4図に示されるが、これ
は複数のレンズ507及び509によつて光学的に相互
接続された第4図に示されるような複数のアレイ50
1、503及び505から構成される。本発明による
と、光線はこのアレイを通じて、これら論理要素の非対
称性によつて決定される方向にのみ伝搬される。アレイ
の左側から加えられる光線がこの中の光論理デバイスに
よつて使用される。しかし、これら光論理要素は、論理
要素の反射デバイスの構造の差によつて、このアレイの
右側から加えられる光線に対してはインセンシテイブで
ある。第2のアレイ内の非線形要素は第1のアレイから
の出力を検出するための装置として機能する。必要な特
性を持つレンズの選択及び使用は当業者において明白で
ある。
1つの実施態様においては、このプローブ及び入力光線
の役割が連続するアレイ内で交互に変えられる。つま
り、ある1つのアレイ内のプローブ光線が次のアレイの
入力光線となる。この場合は、例えば、第2のアレイに
対するプローブ光線が第1のアレイに対するプローブ光
線より多く吸収されるため、非線形媒体の選択がより厳
しくなる。一例としての材質には、GaAs及びInP
及びこれらの化合物、並びにCdSが含まれる。後者の
材質は、現時点においては、液体ヘリウムの温度におい
てのみ使用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は先行技術による多重ビーム光論理要素を簡略的
に示す図; 第2図は本発明の一例としての多重ビーム光論理要素を
簡略的に示す図; 第3図は本発明による光論理要素の各部分の反射特性を
表わす波形を示す図; 第4図は本発明による光論理要素のアレイを簡略的に示
す図;そして 第5図は本発明による光論理要素の縦続アレイを簡略的
に示す図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1…透過非線形フエブリーペロ エタロン 3…入力光源 5、19…非線形要素 30、35、230…反射デバイス 201、203…光源 219…非線形媒体

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の反射デバイス(30)及び第2の反
    射デバイス(35); 該第1及び第2の反射デバイスの間の放射エネルギー非
    線形媒体(19); 第1の波長の放射エネルギービームを該反射デバイスに
    加えるための手段(1);及び 少なくとも1つの第2の波長の放射エネルギービームを
    該反射デバイスに加えるための手段(3)を含む放射エ
    ネルギー論理素子において、 該非線形媒体が該第1と第2の反射デバイスの2つの対
    向する面の間にあり、該2つの放射エネルギー印加手段
    は該非線形媒体が対面している面と反対側の該第1の反
    射デバイスの面に該放射エネルギーを向けており、そし
    て 該第1の反射デバイスが該第2の波長の放射エネルギー
    ビームの波長を透過し該第1の波長の放射エネルギービ
    ームの波長を反射し、該第2の反射デバイスが該第1及
    び第2の波長の放射エネルギービームの両方の波長を反
    射することを特徴とする放射エネルギー論理素子。
  2. 【請求項2】特許請求の範囲第1項に記載の放射エネル
    ギー論理素子において、 該第1及び第2の反射デバイスの各々が高及び低屈折率
    材質の交互の層を含み; 該第1の反射デバイスの交互の層が同一の厚さの複数の
    層及び少なくとも1つの該同一の厚さの層よりも高い屈
    折率の層を含み、該第2の反射デバイスの交互の層が同
    一の厚さの複数の層を含み、これによって、第1の反射
    デバイスがこれに加えられる第2の波長の放射エネルギ
    ービームに対して実質的に透明にされ、一方、第2の反
    射デバイスがこれに加えられる第2の波長の放射エネル
    ギービームを実質的に反射するようにされることを特徴
    とする放射エネルギー論理素子。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第2項に記載の放射エネル
    ギー論理素子において、 該同一の厚さの交互の層が該第2の波長の4分の1の奇
    数倍の厚さを持ち、該より厚い高屈折率の層が第2の波
    長の2分の1の整数倍の厚さを持つことを特徴とする放
    射エネルギー論理素子。
  4. 【請求項4】特許請求の範囲第3項に記載の放射エネル
    ギー論理素子において、該第2の反射デバイスがさらに
    少なくとも1つの高屈折率の層を含み、該層の厚さが、
    該第1及び第2の反射デバイスが該第1の波長の放射エ
    ネルギービームの波長を同程度反射するように、該第2
    の波長の放射エネルギービームの波長より該第1と第2
    の波長の差の2倍以上長い波長の整数倍にされることを
    特徴とする放射エネルギー論理素子。
  5. 【請求項5】特許請求の範囲第1項または第3項または
    第4項に記載の放射エネルギー論理素子において、該高
    屈折率層が硫化亜鉛層から成り、該低屈折率層がフツ化
    マグネシウム層から成ることを特徴とする放射エネルギ
    ー論理素子。
  6. 【請求項6】特許請求の範囲第5項に記載の放射エネル
    ギー論理素子において、該第1及び第2の放射エネルギ
    ービームが光線であることを特徴とする放射エネルギー
    論理素子。
  7. 【請求項7】特許請求の範囲第2項に記載の放射エネル
    ギー論理素子において、該第1の反射デバイスが該第2
    の波長の2分の1の整数倍の厚さの1つの高屈折率層及
    び複数の該第2の放射エネルギービームの波長の4分の
    1の厚さの層を含み、該第2の反射デバイスが該第2の
    放射エネルギービームの波長の4分の1の厚さの複数の
    層を含むことを特徴とする放射エネルギー論理素子。
  8. 【請求項8】特許請求の範囲第7項に記載の放射エネル
    ギー論理素子において、該高屈折率層がフツ化亜鉛層か
    ら成り、該低屈折率層がフツ化マグネシウム層から成る
    ことを特徴とする放射エネルギー論理素子。
  9. 【請求項9】特許請求の範囲第8項に記載の放射エネル
    ギー論理素子において、該第1及び第2の波長の放射エ
    ネルギーの波長が光学波長であることを特徴とする放射
    エネルギー論理素子。
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