JPH0655898A - 光学ガラス製加工品の製法 - Google Patents
光学ガラス製加工品の製法Info
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- JPH0655898A JPH0655898A JP20667792A JP20667792A JPH0655898A JP H0655898 A JPH0655898 A JP H0655898A JP 20667792 A JP20667792 A JP 20667792A JP 20667792 A JP20667792 A JP 20667792A JP H0655898 A JPH0655898 A JP H0655898A
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- mask plate
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- glass molded
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光学ガラスの表面に所望の表示を形成して、ガ
ラス製加工品を容易に製造する。 【構成】この発明の光学ガラス製加工品の製法は、軟化
した光学ガラス材料を一定量取り出して成形型５内に供
給し、ガラス成形品６に成形する工程と、ベースフィル
ムを有するマスク製版に露光により表示を転写する工程
と、マスク製版を現像する工程と、マスク製版をガラス
成形品６に貼着しマスク製版のベースフィルムを剥離す
る工程と、ガラス成形品６にサンドブラスト７を施して
前記の表示の形状にガラス成形品６の表面を彫刻する工
程と、ガラス成形品６の表面を洗浄してマスク製版を完
全に除去する工程とからなる。
ラス製加工品を容易に製造する。 【構成】この発明の光学ガラス製加工品の製法は、軟化
した光学ガラス材料を一定量取り出して成形型５内に供
給し、ガラス成形品６に成形する工程と、ベースフィル
ムを有するマスク製版に露光により表示を転写する工程
と、マスク製版を現像する工程と、マスク製版をガラス
成形品６に貼着しマスク製版のベースフィルムを剥離す
る工程と、ガラス成形品６にサンドブラスト７を施して
前記の表示の形状にガラス成形品６の表面を彫刻する工
程と、ガラス成形品６の表面を洗浄してマスク製版を完
全に除去する工程とからなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は加工品、特に所望の表
示を彫刻できる光学ガラス製加工品の製法に関連する。
示を彫刻できる光学ガラス製加工品の製法に関連する。
【０００２】
【従来の技術】ガラスを軟化点まで加熱しながら成形加
工したり冷間加工を行うことにより古来よりガラス細工
が行われてきた。ガラスの表面に図形を描く方法として
物理的方法と化学的方法がある。物理的方法は砂などの
研磨材を加圧空気と共に吹き付け、サンドブラストを行
う方法又はブラシに砂を付け水で湿らせて研磨する砂掛
け磨きを行う方法がある。また、化学的方法はフッ化水
素によるエッチングを行う方法がある。
工したり冷間加工を行うことにより古来よりガラス細工
が行われてきた。ガラスの表面に図形を描く方法として
物理的方法と化学的方法がある。物理的方法は砂などの
研磨材を加圧空気と共に吹き付け、サンドブラストを行
う方法又はブラシに砂を付け水で湿らせて研磨する砂掛
け磨きを行う方法がある。また、化学的方法はフッ化水
素によるエッチングを行う方法がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記のいずれの方法で
も従来では、所望の図形を短時間に形成することが困難
であったため、短時間でガラスの表面に図形を形成する
ことは困難であった。特に、従来では、サンドブラスト
を行う場合でも加工の容易なクリスタルガラス又は板ガ
ラスのみが対象となり、製法が難しくかつ加工の困難な
光学ガラスは装飾品又は置物等として加工されなかっ
た。
も従来では、所望の図形を短時間に形成することが困難
であったため、短時間でガラスの表面に図形を形成する
ことは困難であった。特に、従来では、サンドブラスト
を行う場合でも加工の容易なクリスタルガラス又は板ガ
ラスのみが対象となり、製法が難しくかつ加工の困難な
光学ガラスは装飾品又は置物等として加工されなかっ
た。
【０００４】そこで、この発明は光学ガラスの表面に所
望の表示を容易に形成できる光学ガラス製加工品の製法
を提供することを目的とする。
望の表示を容易に形成できる光学ガラス製加工品の製法
を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明による光学ガラ
ス製加工品の製法は、平面状、トーリック面状又は円柱
面状に形成された内部底面を有する成形型内に軟化した
光学ガラス材料を一定量供給する工程と、形状が変形し
ない状態まで成形型内の光学ガラス材料がやや冷却され
た後、光学ガラス材料を常温まで４時間〜１２時間かけ
て冷却する工程と、ベースフィルムを有するマスク製版
に露光により表示を転写する工程と、マスク製版を現像
する工程と、マスク製版をガラス成形品に貼着しマスク
製版のベースフィルムを剥離する工程と、ガラス成形品
にサンドブラストを施して前記の表示の形状にガラス成
形品の表面を彫刻する工程と、ガラス成形品の表面を洗
浄してマスク製版を完全に除去する工程とからなる。成
形型は常時摂氏５００〜８００度の温度に加熱されてい
る。ガラス成形品はマスク製版を現像した後、乾燥され
る。表示は電子計算機を利用した記録装置により表示さ
れた文字、図形又は記号である。ガラス成形品の屈折率
Ｎdは、Ｎd＝１.６０〜１.８５×１０~6であり、アッベ
数ν＝２５〜６４である。ガラス成形品の上面は自由表
面として形成され、下面は平面、トーリック面又は円柱
面として形成される。
ス製加工品の製法は、平面状、トーリック面状又は円柱
面状に形成された内部底面を有する成形型内に軟化した
光学ガラス材料を一定量供給する工程と、形状が変形し
ない状態まで成形型内の光学ガラス材料がやや冷却され
た後、光学ガラス材料を常温まで４時間〜１２時間かけ
て冷却する工程と、ベースフィルムを有するマスク製版
に露光により表示を転写する工程と、マスク製版を現像
する工程と、マスク製版をガラス成形品に貼着しマスク
製版のベースフィルムを剥離する工程と、ガラス成形品
にサンドブラストを施して前記の表示の形状にガラス成
形品の表面を彫刻する工程と、ガラス成形品の表面を洗
浄してマスク製版を完全に除去する工程とからなる。成
形型は常時摂氏５００〜８００度の温度に加熱されてい
る。ガラス成形品はマスク製版を現像した後、乾燥され
る。表示は電子計算機を利用した記録装置により表示さ
れた文字、図形又は記号である。ガラス成形品の屈折率
Ｎdは、Ｎd＝１.６０〜１.８５×１０~6であり、アッベ
数ν＝２５〜６４である。ガラス成形品の上面は自由表
面として形成され、下面は平面、トーリック面又は円柱
面として形成される。
【０００６】
【作用】常時摂氏５００〜８００度の温度に加熱されて
いる成形型は、大気により冷却され収縮が開始するガラ
ス成形品を加熱して、ガラスの収縮に伴う変形を最小限
度に減少する。また、成形型から取り出されたガラス成
形品は４〜１２時間、好ましくは８〜１２時間かけて徐
冷される。このため、極めて均質のガラス成形品が得ら
れる。ガラス成形品の上面は軟化時のガラス材料の表面
張力により自由表面が形成されるが、ガラス成形品の下
面は平面状、トーリック面状又は円柱面状に形成される
から、ガラス成形品の底面にマスク製版を容易に貼着す
ることが可能となる。
いる成形型は、大気により冷却され収縮が開始するガラ
ス成形品を加熱して、ガラスの収縮に伴う変形を最小限
度に減少する。また、成形型から取り出されたガラス成
形品は４〜１２時間、好ましくは８〜１２時間かけて徐
冷される。このため、極めて均質のガラス成形品が得ら
れる。ガラス成形品の上面は軟化時のガラス材料の表面
張力により自由表面が形成されるが、ガラス成形品の下
面は平面状、トーリック面状又は円柱面状に形成される
から、ガラス成形品の底面にマスク製版を容易に貼着す
ることが可能となる。
【０００７】また、電子計算機を利用した記録装置によ
り表示された文字、図形又は記号により所望の表示を形
成する。ベースフィルムを有するマスク製版に露光によ
り表示を転写するので、所望の表示を容易に形成するこ
とができる。表示が与えられたマスク製版は現像された
後、乾燥させ又は乾燥させずに、マスク製版のベースフ
ィルムが剥離される。他面、軟化した光学ガラス材料を
一定量取り出して成形型内に供給し、屈折率Ｎd＝１.６
０〜１.８５×１０~6、アッベ数ν＝２５〜６４のガラ
ス成形品が成形される。前記のマスク製版はガラス成形
品に貼着され、ガラス成形品にサンドブラストが施され
る。これにより、前記の表示の形状にガラス成形品の表
面が彫刻される。次に、ガラス成形品の表面を洗浄して
マスク製版が完全に除去される。
り表示された文字、図形又は記号により所望の表示を形
成する。ベースフィルムを有するマスク製版に露光によ
り表示を転写するので、所望の表示を容易に形成するこ
とができる。表示が与えられたマスク製版は現像された
後、乾燥させ又は乾燥させずに、マスク製版のベースフ
ィルムが剥離される。他面、軟化した光学ガラス材料を
一定量取り出して成形型内に供給し、屈折率Ｎd＝１.６
０〜１.８５×１０~6、アッベ数ν＝２５〜６４のガラ
ス成形品が成形される。前記のマスク製版はガラス成形
品に貼着され、ガラス成形品にサンドブラストが施され
る。これにより、前記の表示の形状にガラス成形品の表
面が彫刻される。次に、ガラス成形品の表面を洗浄して
マスク製版が完全に除去される。
【０００８】
【実施例】以下、置物の製法に適用した本発明による光
学ガラス製加工品の製法の実施例を図１〜図３について
説明する。
学ガラス製加工品の製法の実施例を図１〜図３について
説明する。
【０００９】この発明によるガラス製置物の製造の際に
は、溶融され軟化した光学ガラス材料が図１に示す第１
の溶解炉１内に収容され、光学ガラス材料は第１の溶解
炉１から第２の溶解炉２及びノズル３から成形型５に供
給される。図２Ａに示すように、光学ガラス材料はノズ
ル３から押し出され、一定量のガラス材料が押し出され
たとき、図２Ｂに示すように切断機４によりほぼ一定の
重量毎の光学ガラス材料が切断され、成型機の成形型５
内に供給される。成形型５は、平面状、トーリック面状
又は円柱面状に形成された内部底面を有する。成形型５
は常時摂氏５００〜８００度の温度に加熱され、成形型
５内に軟化した光学ガラス材料が切断機４により一定量
供給される。成形型５は必要に応じて種々の形状に形成
されている。光学ガラス材料は成形型５により所望の形
状を有するガラス成形品６に形成される。このガラス成
形品６の屈折率Ｎdは、Ｎd＝１.６０〜１.８５×１０~6
であり、アッベ数ν＝２５〜６４である。
は、溶融され軟化した光学ガラス材料が図１に示す第１
の溶解炉１内に収容され、光学ガラス材料は第１の溶解
炉１から第２の溶解炉２及びノズル３から成形型５に供
給される。図２Ａに示すように、光学ガラス材料はノズ
ル３から押し出され、一定量のガラス材料が押し出され
たとき、図２Ｂに示すように切断機４によりほぼ一定の
重量毎の光学ガラス材料が切断され、成型機の成形型５
内に供給される。成形型５は、平面状、トーリック面状
又は円柱面状に形成された内部底面を有する。成形型５
は常時摂氏５００〜８００度の温度に加熱され、成形型
５内に軟化した光学ガラス材料が切断機４により一定量
供給される。成形型５は必要に応じて種々の形状に形成
されている。光学ガラス材料は成形型５により所望の形
状を有するガラス成形品６に形成される。このガラス成
形品６の屈折率Ｎdは、Ｎd＝１.６０〜１.８５×１０~6
であり、アッベ数ν＝２５〜６４である。
【００１０】常時摂氏５００〜８００度の温度に加熱さ
れている成形型５は、大気により冷却され収縮が開始す
るガラス成形品６を加熱して、ガラスの収縮に伴う変形
を最小限度に減少する。図２Ｃに示すように、形状が変
形しない状態まで成形型５内の光学ガラス材料が冷却さ
れる。その後、ガラス成形品６の上面は軟化時のガラス
材料の表面張力により自然な形で透明な自由表面が形成
されるが、下面は平面、トーリック面又は円柱面として
形成される。ガラス成形品６の屈折率ＮdはＮd＝１.６
０〜１.８５×１０~6、アッベ数νはν＝２５〜６４で
ある。成形型５から取り出されたガラス成形品６は、徐
冷炉８のベルトコンベア９上で４〜１２時間、好ましく
は８〜１２時間かけて徐冷される。このため、極めて均
質のガラス成形品６が得られる。ガラス成形品６の表面
から埃、ゴミ等が完全に除去される。
れている成形型５は、大気により冷却され収縮が開始す
るガラス成形品６を加熱して、ガラスの収縮に伴う変形
を最小限度に減少する。図２Ｃに示すように、形状が変
形しない状態まで成形型５内の光学ガラス材料が冷却さ
れる。その後、ガラス成形品６の上面は軟化時のガラス
材料の表面張力により自然な形で透明な自由表面が形成
されるが、下面は平面、トーリック面又は円柱面として
形成される。ガラス成形品６の屈折率ＮdはＮd＝１.６
０〜１.８５×１０~6、アッベ数νはν＝２５〜６４で
ある。成形型５から取り出されたガラス成形品６は、徐
冷炉８のベルトコンベア９上で４〜１２時間、好ましく
は８〜１２時間かけて徐冷される。このため、極めて均
質のガラス成形品６が得られる。ガラス成形品６の表面
から埃、ゴミ等が完全に除去される。
【００１１】また、電子計算機を利用した記録装置によ
り表示された文字、図形又は記号により表示を形成す
る。文字、図形又は記号等の表示はワープロ又はパソコ
ン等の電子計算機を利用した記録装置により容易に作成
された原紙をオーバーヘッドプロジェクタに使用する透
明紙に複写することによりネガフィルムを作り、このネ
ガフィルムをマスク製版に当てて、紫外線を照射するこ
とによりマスク製版を露光し、表示が露光により転写さ
れる。ベースフィルムを有するマスク製版に露光により
表示を転写するので、所望の表示を容易に形成すること
ができる。次に、露光したマスク製版を摂氏約２０度の
水中に浸漬して画像部を除去して現像する。表示が与え
られたマスク製版は現像された後、摂氏５０度以下の温
風で乾燥させた後、濡れ材を添加した水でガラス材料の
表面を均一に濡らして、マスク製版を貼り付ける。続い
て、マスク製版のベースフィルムを剥離し、マスク製版
を再び乾燥させる。必要に応じて、マスク製版の周囲を
マスキングフィルム又はテープで保護してもよい。その
後、マスク製版はガラス成形品６に貼着される。ガラス
成形品６の下面は平面状、トーリック面状又は円柱面状
に形成されるから、ガラス成形品６の底面にマスク製版
を容易に貼着することが可能となる。
り表示された文字、図形又は記号により表示を形成す
る。文字、図形又は記号等の表示はワープロ又はパソコ
ン等の電子計算機を利用した記録装置により容易に作成
された原紙をオーバーヘッドプロジェクタに使用する透
明紙に複写することによりネガフィルムを作り、このネ
ガフィルムをマスク製版に当てて、紫外線を照射するこ
とによりマスク製版を露光し、表示が露光により転写さ
れる。ベースフィルムを有するマスク製版に露光により
表示を転写するので、所望の表示を容易に形成すること
ができる。次に、露光したマスク製版を摂氏約２０度の
水中に浸漬して画像部を除去して現像する。表示が与え
られたマスク製版は現像された後、摂氏５０度以下の温
風で乾燥させた後、濡れ材を添加した水でガラス材料の
表面を均一に濡らして、マスク製版を貼り付ける。続い
て、マスク製版のベースフィルムを剥離し、マスク製版
を再び乾燥させる。必要に応じて、マスク製版の周囲を
マスキングフィルム又はテープで保護してもよい。その
後、マスク製版はガラス成形品６に貼着される。ガラス
成形品６の下面は平面状、トーリック面状又は円柱面状
に形成されるから、ガラス成形品６の底面にマスク製版
を容易に貼着することが可能となる。
【００１２】続いて、図３に示すように、ガラス成形品
６にサンドブラストを施して前記の表示の形状にガラス
成形品６の表面が彫刻される。最後に、ガラス成形品６
の表面は水で洗浄され、マスク製版がガラス成形品６か
ら完全に除去される。
６にサンドブラストを施して前記の表示の形状にガラス
成形品６の表面が彫刻される。最後に、ガラス成形品６
の表面は水で洗浄され、マスク製版がガラス成形品６か
ら完全に除去される。
【００１３】本実施例では、電子計算機を利用した記録
装置により表示された文字、図形又は記号により所望の
表示を形成して、ベースフィルムを有するマスク製版に
露光により表示を転写するので、所望の表示を容易にか
つ量産体制で形成することができる。
装置により表示された文字、図形又は記号により所望の
表示を形成して、ベースフィルムを有するマスク製版に
露光により表示を転写するので、所望の表示を容易にか
つ量産体制で形成することができる。
【００１４】この発明の実施態様は前記の実施例に限定
されず、更に変更が可能である。例えば、ガラス材料を
切断機により一定の重量に切断せずに、予め所定の大き
さの光学ガラス材料を軟化炉を通じて成形機に順次投入
してもよい。また、ガラス成形品の平面状、トーリック
面状又は円柱状の下面を更に研磨して平面度を高めた
後、上記工程で所望の光学ガラス製加工品を製造しても
よい。前述の例では、置物の製法に適用したこの発明の
実施例を説明したが、この発明は置物以外にペンダント
等の身回品に適用できることは明白である。
されず、更に変更が可能である。例えば、ガラス材料を
切断機により一定の重量に切断せずに、予め所定の大き
さの光学ガラス材料を軟化炉を通じて成形機に順次投入
してもよい。また、ガラス成形品の平面状、トーリック
面状又は円柱状の下面を更に研磨して平面度を高めた
後、上記工程で所望の光学ガラス製加工品を製造しても
よい。前述の例では、置物の製法に適用したこの発明の
実施例を説明したが、この発明は置物以外にペンダント
等の身回品に適用できることは明白である。
【００１５】
【発明の効果】前述のように、この発明では、マスク製
版及びサンドブラストを使用することにより光学ガラス
の表面に所望の表示を形成して、ガラス製加工品を容易
に製造することが可能となる。
版及びサンドブラストを使用することにより光学ガラス
の表面に所望の表示を形成して、ガラス製加工品を容易
に製造することが可能となる。
【図１】溶解されたガラス材料が成形機を介して徐冷路
までの工程を示すブロック図
までの工程を示すブロック図
【図２】一定重量のガラス材料を成形型に供給する状態
を示す工程図
を示す工程図
【図３】ガラス成形品にサンドブラストを施す状態を示
す斜視図
す斜視図
１・・第１の溶解炉、２・・第２の溶解炉、３・・ノズ
ル、４・・切断機、５・・成形機、６・・ガラス成形
品、７・・サンドブラスト、
ル、４・・切断機、５・・成形機、６・・ガラス成形
品、７・・サンドブラスト、
Claims (6)
- 【請求項１】 平面状、トーリック面状又は円柱面状に
形成された内部底面を有する成形型内に軟化した光学ガ
ラス材料を一定量供給する工程と、 形状が変形しない状態まで成形型内の光学ガラス材料が
冷却された後、光学ガラス材料を常温まで４時間〜１２
時間かけて冷却する工程と、 ベースフィルムを有するマスク製版に露光により表示を
転写する工程と、 マスク製版を現像する工程と、 マスク製版をガラス成形品に貼着しマスク製版のベース
フィルムを剥離する工程と、 ガラス成形品にサンドブラストを施して前記の表示の形
状にガラス成形品の表面を彫刻する工程と、 ガラス成形品の表面を洗浄してマスク製版を完全に除去
する工程と、からなる光学ガラス製加工品の製法。 - 【請求項２】 マスク製版を現像した後、乾燥する工程
を含む「請求項１」に記載の光学ガラス製加工品の製
法。 - 【請求項３】 表示は電子計算機を利用した記録装置に
より表示された文字、図形又は記号を含む「請求項１」
に記載の光学ガラス製加工品の製法。 - 【請求項４】 ガラス成形品の屈折率Ｎdは、Ｎd＝１.
６０〜１.８５×１０~6であり、アッベ数ν＝２５〜６
４である「請求項１」に記載の光学ガラス製加工品の製
法。 - 【請求項５】 ガラス成形品の上面は自由表面として形
成され、下面は平面、トーリック面又は円柱面として形
成される「請求項１」に記載の光学ガラス製加工品の製
法。 - 【請求項６】 成形型を常時摂氏５００〜８００度の温
度に加熱する工程を含む「請求項１」に記載の光学ガラ
ス製加工品の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20667792A JPH0655898A (ja) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | 光学ガラス製加工品の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20667792A JPH0655898A (ja) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | 光学ガラス製加工品の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0655898A true JPH0655898A (ja) | 1994-03-01 |
Family
ID=16527291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20667792A Pending JPH0655898A (ja) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | 光学ガラス製加工品の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0655898A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100330737B1 (ko) * | 1999-09-09 | 2002-04-03 | 임부원 | 장식용 몰딩제품의 성형방법 |
| US20220380652A1 (en) * | 2021-05-25 | 2022-12-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermally conductive silicone composition and cured product thereof |
-
1992
- 1992-08-03 JP JP20667792A patent/JPH0655898A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100330737B1 (ko) * | 1999-09-09 | 2002-04-03 | 임부원 | 장식용 몰딩제품의 성형방법 |
| US20220380652A1 (en) * | 2021-05-25 | 2022-12-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermally conductive silicone composition and cured product thereof |
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