JPH0655164A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
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- JPH0655164A JPH0655164A JP21009092A JP21009092A JPH0655164A JP H0655164 A JPH0655164 A JP H0655164A JP 21009092 A JP21009092 A JP 21009092A JP 21009092 A JP21009092 A JP 21009092A JP H0655164 A JPH0655164 A JP H0655164A
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- vacuum degassing
- liquid contact
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 超純水製造装置における真空脱気塔内におい
て、脱気効率を向上し、抽気量を減少させることにより
コストダウンを図るとともに、適正な真空度を保つこと
を目的とする。 【構成】 真空脱気塔内において、抽気口8がその側壁
に形成されている真空脱気塔上部1a内において、充填
材4上に多孔性で、かつ、気体に対して濡れ性の良好な
材質の気液接触増加材9を設ける。 【効果】 原水と雰囲気との気液接触率が上がり、溶存
気体の少ない純度の高い純水を得られ、また、抽気量が
減少するので、コストダウン,設置面積の縮小が図れ
る。
て、脱気効率を向上し、抽気量を減少させることにより
コストダウンを図るとともに、適正な真空度を保つこと
を目的とする。 【構成】 真空脱気塔内において、抽気口8がその側壁
に形成されている真空脱気塔上部1a内において、充填
材4上に多孔性で、かつ、気体に対して濡れ性の良好な
材質の気液接触増加材9を設ける。 【効果】 原水と雰囲気との気液接触率が上がり、溶存
気体の少ない純度の高い純水を得られ、また、抽気量が
減少するので、コストダウン,設置面積の縮小が図れ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は超純水製造装置に関
し、特に、半導体製造工程で使用する超純水を製造する
際の原水の脱気処理を行う超純水製造装置に関するもの
である。
し、特に、半導体製造工程で使用する超純水を製造する
際の原水の脱気処理を行う超純水製造装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図6は従来の超純水製造装置の構造を示
す断面模式図であり、図において、1は円筒形状の真空
脱気塔であり、後述の充填材4により仕切られて形成さ
れる上下2つの領域を、説明の便宜上、それぞれ真空脱
気塔上部1a,下部1bと称する。2は真空脱気塔1の
上面に接続され、処理前の原水を真空脱気塔1内に導く
原水流入パイプ、8は真空脱気塔上部1aの側壁に設け
られた抽気口、6は抽気口8を介して真空脱気塔1内部
の空気を外部へ抽出するための抽気ポンプ、4はその表
面積が大きくなるように形成されている充填材であり、
例えば、微細な目の金属網を多層にしたものなどが用い
られる。5は真空脱気塔1内の処理液が溜まる液溜、3
は真空脱気塔1の底部に接続され、液溜5内の液体を外
部へ導く流出パイプ、7は流出パイプ3に接続された排
水ポンプである。
す断面模式図であり、図において、1は円筒形状の真空
脱気塔であり、後述の充填材4により仕切られて形成さ
れる上下2つの領域を、説明の便宜上、それぞれ真空脱
気塔上部1a,下部1bと称する。2は真空脱気塔1の
上面に接続され、処理前の原水を真空脱気塔1内に導く
原水流入パイプ、8は真空脱気塔上部1aの側壁に設け
られた抽気口、6は抽気口8を介して真空脱気塔1内部
の空気を外部へ抽出するための抽気ポンプ、4はその表
面積が大きくなるように形成されている充填材であり、
例えば、微細な目の金属網を多層にしたものなどが用い
られる。5は真空脱気塔1内の処理液が溜まる液溜、3
は真空脱気塔1の底部に接続され、液溜5内の液体を外
部へ導く流出パイプ、7は流出パイプ3に接続された排
水ポンプである。
【0003】次に上記超純水製造装置の動作について説
明する。半導体製造工程でウエハの洗浄等に使用される
超純水の製造工程においては、一般の水の中に含まれる
種々の不純物を除くために様々な不純物除去作業を行う
が、ここに示す装置は水中の溶存酸素や二酸化炭素等の
気体を脱気するものである。まず、原水流入パイプ2よ
り、ある程度の不純物除去が施された水(以下、原水と
称す)が真空脱気塔1内に流入する。この際、原水は該
真空脱気塔1の上面構造により上面全面から微細な粒状
となって降ってくるように流入される。このとき、真空
脱気塔1内部は抽気口8および抽気ポンプ6により真空
に近い状態にされている。このため、真空脱気塔上部1
a内に流入してきた霧状の水の状態において、該水内部
の溶存気体と真空脱気塔上部1a内部の気体との圧力差
によって、水内部の溶存気体が脱気され、該脱気された
気体は抽気口8より外部に出てゆく。
明する。半導体製造工程でウエハの洗浄等に使用される
超純水の製造工程においては、一般の水の中に含まれる
種々の不純物を除くために様々な不純物除去作業を行う
が、ここに示す装置は水中の溶存酸素や二酸化炭素等の
気体を脱気するものである。まず、原水流入パイプ2よ
り、ある程度の不純物除去が施された水(以下、原水と
称す)が真空脱気塔1内に流入する。この際、原水は該
真空脱気塔1の上面構造により上面全面から微細な粒状
となって降ってくるように流入される。このとき、真空
脱気塔1内部は抽気口8および抽気ポンプ6により真空
に近い状態にされている。このため、真空脱気塔上部1
a内に流入してきた霧状の水の状態において、該水内部
の溶存気体と真空脱気塔上部1a内部の気体との圧力差
によって、水内部の溶存気体が脱気され、該脱気された
気体は抽気口8より外部に出てゆく。
【0004】上記のようにある程度内部の気体が脱気さ
れた霧状の水は、次に充填材4に到達する。霧状の水は
該充填材4に付着し、重力によって真空脱気塔下部1b
方向へと落ちてゆくが、該充填材4の表面積は大きいの
で、真空脱気塔下部1bに達するまでに時間がかかる。
つまり、脱気されて気圧の低くなっている空間に、該水
は長く滞在することとなり、充填材4中でさらに水内部
の脱気が行われることとなる。この後、処理水は充填材
4より液溜5へ流れ、流水パイプ3および排水ポンプ7
により外部へ排出され、脱気処理された水としてその後
の種々の処理に供される。
れた霧状の水は、次に充填材4に到達する。霧状の水は
該充填材4に付着し、重力によって真空脱気塔下部1b
方向へと落ちてゆくが、該充填材4の表面積は大きいの
で、真空脱気塔下部1bに達するまでに時間がかかる。
つまり、脱気されて気圧の低くなっている空間に、該水
は長く滞在することとなり、充填材4中でさらに水内部
の脱気が行われることとなる。この後、処理水は充填材
4より液溜5へ流れ、流水パイプ3および排水ポンプ7
により外部へ排出され、脱気処理された水としてその後
の種々の処理に供される。
【0005】なお、抽気ポンプ6により真空脱気塔1内
部を真空に近い状態としているが、例えば、気圧を下げ
過ぎて完全な真空状態にしてしまうと、水が蒸発してし
まい、該水内部の気体だけでなく、水そのものも抽気口
8より出て行ってしまうので、その抽気は適度な度合い
で行い、適正な真空度を保つ必要がある。
部を真空に近い状態としているが、例えば、気圧を下げ
過ぎて完全な真空状態にしてしまうと、水が蒸発してし
まい、該水内部の気体だけでなく、水そのものも抽気口
8より出て行ってしまうので、その抽気は適度な度合い
で行い、適正な真空度を保つ必要がある。
【0006】また、真空脱気塔下部1bは、抽気口8が
直接その側壁に設けられている真空脱気塔上部1aより
も、充填材4によって隔てられている分、その真空度が
少し低くなるようにしており、よって、液溜5に溜まる
処理水から水が蒸発することを防ぎ、また、真空脱気塔
下部1b空間にある処理水の水蒸気が抽気されることを
防いでいる。
直接その側壁に設けられている真空脱気塔上部1aより
も、充填材4によって隔てられている分、その真空度が
少し低くなるようにしており、よって、液溜5に溜まる
処理水から水が蒸発することを防ぎ、また、真空脱気塔
下部1b空間にある処理水の水蒸気が抽気されることを
防いでいる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の超純水製造装置
は以上のように構成されているので、真空度を高くすれ
ば水の脱気効率を上げることができるが、そのためには
大量の抽気が必要となるので、コストも多量にかかり、
さらに、装置の規模も大型化するのでその接地面積を大
きくしてしまうなどの問題点があった。また、脱気効率
上昇の目的で真空度を上昇すると、水が蒸発し、該装置
によって得られる処理水の量が、もとの原水量に対して
少なくなってしまうことともなり、適正な真空度を保つ
ことが困難であるなどの問題点もあった。
は以上のように構成されているので、真空度を高くすれ
ば水の脱気効率を上げることができるが、そのためには
大量の抽気が必要となるので、コストも多量にかかり、
さらに、装置の規模も大型化するのでその接地面積を大
きくしてしまうなどの問題点があった。また、脱気効率
上昇の目的で真空度を上昇すると、水が蒸発し、該装置
によって得られる処理水の量が、もとの原水量に対して
少なくなってしまうことともなり、適正な真空度を保つ
ことが困難であるなどの問題点もあった。
【0008】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、脱気効率を向上し、抽気量を減
少させることによってコストダウンを図るとともに、そ
の内部での適正な真空度を保つことのできる超純水製造
装置を得ることを目的とする。
ためになされたもので、脱気効率を向上し、抽気量を減
少させることによってコストダウンを図るとともに、そ
の内部での適正な真空度を保つことのできる超純水製造
装置を得ることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明に係る超純水製
造装置は、真空脱気塔の上面に設けられた原水供給口
と、真空脱気塔の側壁に設けられ、外部の抽気手段に接
続した抽気口と、該抽気口より下部の上記真空脱気塔の
内部の所定の位置に設けられた充填材と、真空脱気塔の
底面に設けられた排水口と、気液接触を増加させること
のできる、上記充填材に載置して設けられた気液接触増
加材とを有するものである。
造装置は、真空脱気塔の上面に設けられた原水供給口
と、真空脱気塔の側壁に設けられ、外部の抽気手段に接
続した抽気口と、該抽気口より下部の上記真空脱気塔の
内部の所定の位置に設けられた充填材と、真空脱気塔の
底面に設けられた排水口と、気液接触を増加させること
のできる、上記充填材に載置して設けられた気液接触増
加材とを有するものである。
【0010】また、この発明に係る超純水製造装置は、
上記超純水製造装置において、充填材および気液接触増
加材より構成される構造を、互いに所定の距離を隔てて
多段設け、さらに、上記構造間あるいは上記構造と真空
脱気塔上面間の真空脱気塔側壁の所定の位置に抽気口を
設けたものである。
上記超純水製造装置において、充填材および気液接触増
加材より構成される構造を、互いに所定の距離を隔てて
多段設け、さらに、上記構造間あるいは上記構造と真空
脱気塔上面間の真空脱気塔側壁の所定の位置に抽気口を
設けたものである。
【0011】さらに、この発明に係る超純水製造装置
は、真空脱気塔の上面に設けられた原水供給口と、真空
脱気塔の側壁に設けられ、外部の抽気手段に接続した抽
気口と、該抽気口より上部の上記真空脱気塔の内部の所
定の位置に設けられた充填材と、真空脱気塔の底面に設
けられた排水口と、気液接触を増加させることのでき、
る上記充填材と真空脱気塔の底面との間に気液接触増加
材設置台に載置されて設けられた気液接触増加材とを有
するものである。
は、真空脱気塔の上面に設けられた原水供給口と、真空
脱気塔の側壁に設けられ、外部の抽気手段に接続した抽
気口と、該抽気口より上部の上記真空脱気塔の内部の所
定の位置に設けられた充填材と、真空脱気塔の底面に設
けられた排水口と、気液接触を増加させることのでき、
る上記充填材と真空脱気塔の底面との間に気液接触増加
材設置台に載置されて設けられた気液接触増加材とを有
するものである。
【0012】また、この発明に係る超純水製造装置は、
上記超純水製造装置において、充填材と気液接触増加材
設置台および気液接触増加材より構成される構造を、互
いに所定の距離を隔てて多段に設け、さらに、上記充填
材と気液接触増加材間の真空脱気塔側壁の所定の位置に
抽気口を設けたものである。さらに、この発明に係る超
純水製造装置は、上記超純水製造装置において、気液接
触増加材設置台に圧力調整弁を備えたものである。
上記超純水製造装置において、充填材と気液接触増加材
設置台および気液接触増加材より構成される構造を、互
いに所定の距離を隔てて多段に設け、さらに、上記充填
材と気液接触増加材間の真空脱気塔側壁の所定の位置に
抽気口を設けたものである。さらに、この発明に係る超
純水製造装置は、上記超純水製造装置において、気液接
触増加材設置台に圧力調整弁を備えたものである。
【0013】
【作用】この発明における超純水製造装置は、装置内部
に気液接触増加材を設けて装置内で一番真空度の高い空
間内で原水と雰囲気の気液接触率を増加して、原水の脱
気効率を著しく上昇することができるので、純度の高い
純水を得ることができ、結果、抽気量を減少することも
できるので、コストを抑えて、また、装置全体の規模を
小さくすることができる。
に気液接触増加材を設けて装置内で一番真空度の高い空
間内で原水と雰囲気の気液接触率を増加して、原水の脱
気効率を著しく上昇することができるので、純度の高い
純水を得ることができ、結果、抽気量を減少することも
できるので、コストを抑えて、また、装置全体の規模を
小さくすることができる。
【0014】また、上記気液接触増加材を多段設けるこ
とによって、さらに気液接触率を向上させたので、一層
脱気効率を向上させることができる。さらに、圧力調節
弁を設けたことにより、抽気バランスを最適化して適正
な真空度を保つことができ、純度の高い超純水を製造す
ることができる。
とによって、さらに気液接触率を向上させたので、一層
脱気効率を向上させることができる。さらに、圧力調節
弁を設けたことにより、抽気バランスを最適化して適正
な真空度を保つことができ、純度の高い超純水を製造す
ることができる。
【0015】
実施例1.以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1はこの発明の第1の実施例による超純水製造
装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図6と同一
符号は同一または相当部分を示す。該図1において、9
は充填材4の上に設置されている気液接触増加材であ
る。該気液接触増加材9は直径30cm程度の真空脱気
塔1と同じ外径をもつ筒状に形成されているが、これは
その材質が気体に対して濡れ性を良くできる、例えば、
デミスタのようなものであって、図7に示すような直径
1mm〜100mm程度の素材9aを、縦,横,斜めに
ならべて形成したものである。
する。図1はこの発明の第1の実施例による超純水製造
装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図6と同一
符号は同一または相当部分を示す。該図1において、9
は充填材4の上に設置されている気液接触増加材であ
る。該気液接触増加材9は直径30cm程度の真空脱気
塔1と同じ外径をもつ筒状に形成されているが、これは
その材質が気体に対して濡れ性を良くできる、例えば、
デミスタのようなものであって、図7に示すような直径
1mm〜100mm程度の素材9aを、縦,横,斜めに
ならべて形成したものである。
【0016】次に、動作について説明する。まず、従来
例と同様に、真空脱気塔1の上面全面から原水が微細な
粒状となって降ってくるように真空脱気塔1内に流入さ
れる。真空脱気塔1内部は抽気口8および抽気ポンプ6
により真空に近い状態にされているので、真空脱気塔上
部1a内に流入してきた霧状の水内部の溶存気体が脱気
され、該脱気された気体は抽気口8より外部に出てゆ
く。次に水は気液接触増加材9に付着するが、このと
き、該気液接触増加材9はその表面積が大きく、かつ、
その材質が気体に対して濡れ性が良いので、該気液接触
増加材9に付着した水はしばらくの間、真空度の高くな
っている領域に滞在し、また、水の気液接触効率が上が
ることになるので、脱気効率が良くなる。その後、水は
充填材4を通ってさらに脱気が行われた後、液溜5へ流
れ、流水パイプ3および排水ポンプ7により外部へ排出
され、脱気処理された水としてその後の種々の処理に供
される。
例と同様に、真空脱気塔1の上面全面から原水が微細な
粒状となって降ってくるように真空脱気塔1内に流入さ
れる。真空脱気塔1内部は抽気口8および抽気ポンプ6
により真空に近い状態にされているので、真空脱気塔上
部1a内に流入してきた霧状の水内部の溶存気体が脱気
され、該脱気された気体は抽気口8より外部に出てゆ
く。次に水は気液接触増加材9に付着するが、このと
き、該気液接触増加材9はその表面積が大きく、かつ、
その材質が気体に対して濡れ性が良いので、該気液接触
増加材9に付着した水はしばらくの間、真空度の高くな
っている領域に滞在し、また、水の気液接触効率が上が
ることになるので、脱気効率が良くなる。その後、水は
充填材4を通ってさらに脱気が行われた後、液溜5へ流
れ、流水パイプ3および排水ポンプ7により外部へ排出
され、脱気処理された水としてその後の種々の処理に供
される。
【0017】このように、上記実施例においては、充填
材4の上に気液接触増加材9を載置して用いることによ
り、装置内で一番真空度の高い空間内(真空脱気等上部
1a内)で原水と雰囲気の気液接触率を増加して、原水
の脱気効率を著しく上昇することができるので、純度の
高い純水を得ることができ、またその結果、抽気量を減
少することができるので、コストを抑えて、かつ、装置
全体の規模を小さくすることができる。
材4の上に気液接触増加材9を載置して用いることによ
り、装置内で一番真空度の高い空間内(真空脱気等上部
1a内)で原水と雰囲気の気液接触率を増加して、原水
の脱気効率を著しく上昇することができるので、純度の
高い純水を得ることができ、またその結果、抽気量を減
少することができるので、コストを抑えて、かつ、装置
全体の規模を小さくすることができる。
【0018】実施例2.次にこの発明の第2の実施例に
ついて説明する。図2はこの発明の第2の実施例による
超純水製造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、
図1あるいは図6と同一符号のものは同一または相当部
分を示す。該図2において、10は第2の充填材、13
は第2の気液接触増加材、1cは充填材4および第2の
気液接触増加材13との間に形成される領域であり、便
宜上、真空脱気塔中部と称する。12は真空脱気塔中部
1cの側壁に設けられた抽気口、11は抽気口12を介
して真空脱気塔1内部の空気を外部へ抽出するための抽
気ポンプである。
ついて説明する。図2はこの発明の第2の実施例による
超純水製造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、
図1あるいは図6と同一符号のものは同一または相当部
分を示す。該図2において、10は第2の充填材、13
は第2の気液接触増加材、1cは充填材4および第2の
気液接触増加材13との間に形成される領域であり、便
宜上、真空脱気塔中部と称する。12は真空脱気塔中部
1cの側壁に設けられた抽気口、11は抽気口12を介
して真空脱気塔1内部の空気を外部へ抽出するための抽
気ポンプである。
【0019】本実施例では、上記第1の実施例に示す装
置に新たに第2の充填材10,第2の気液接触増加材1
3を設けて充填材および気液接触増加材を多段とし、さ
らに、各気液接触増加材9,13上の空間が真空度の高
い雰囲気となるように、真空脱気塔上部1aおよび中部
1cの側壁部に抽気口8,12を設けているので、さら
に気液接触効率を向上した装置とすることができる。
置に新たに第2の充填材10,第2の気液接触増加材1
3を設けて充填材および気液接触増加材を多段とし、さ
らに、各気液接触増加材9,13上の空間が真空度の高
い雰囲気となるように、真空脱気塔上部1aおよび中部
1cの側壁部に抽気口8,12を設けているので、さら
に気液接触効率を向上した装置とすることができる。
【0020】実施例3.次に、第3の実施例について説
明する。図3はこの発明の第3の実施例による超純水製
造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図1およ
び図6と同一符号は同一または相当部分を示す。該図3
において、14は気液接触増加材9をその上に載置する
ための気液接触増加材設置台である。上記第1および第
2の実施例では、気液接触増加材を充填材上に設けた場
合のものについて示したが、装置の種類によっては、充
填材4の下に抽気口8が設けられたものもあり、その場
合は本実施例のように、充填材4の下に気液接触増加材
9を設けても構わない。この場合、気液接触増加材9は
抽気口8より下部に位置して、気液接触増加材設置台1
4に載置して設けることによって、真空度の一番高い雰
囲気と気液接触増加材9を接触させ、その脱気効果を最
大限に引き出すようにしている。
明する。図3はこの発明の第3の実施例による超純水製
造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図1およ
び図6と同一符号は同一または相当部分を示す。該図3
において、14は気液接触増加材9をその上に載置する
ための気液接触増加材設置台である。上記第1および第
2の実施例では、気液接触増加材を充填材上に設けた場
合のものについて示したが、装置の種類によっては、充
填材4の下に抽気口8が設けられたものもあり、その場
合は本実施例のように、充填材4の下に気液接触増加材
9を設けても構わない。この場合、気液接触増加材9は
抽気口8より下部に位置して、気液接触増加材設置台1
4に載置して設けることによって、真空度の一番高い雰
囲気と気液接触増加材9を接触させ、その脱気効果を最
大限に引き出すようにしている。
【0021】次に動作について説明する。原水流入パイ
プ2より真空脱気塔1内に供給された霧状の原水は、充
填材4を通過するまでの間にある程度脱気はされてい
る。次に充填材4と気液接触増加材9との間の領域にお
いて、その高い真空度の環境下でさらに脱気が行われる
が、その後の気液接触増加材9内で長く留まることによ
り、脱気は続けられる。最後に液溜5を経て、排水パイ
プ3および排水ポンプ7により排水される。このよう
に、充填材の下に抽気口が設けられている構造の装置の
場合でも、気液接触増加材を用いて脱気効率を向上する
ことができる。
プ2より真空脱気塔1内に供給された霧状の原水は、充
填材4を通過するまでの間にある程度脱気はされてい
る。次に充填材4と気液接触増加材9との間の領域にお
いて、その高い真空度の環境下でさらに脱気が行われる
が、その後の気液接触増加材9内で長く留まることによ
り、脱気は続けられる。最後に液溜5を経て、排水パイ
プ3および排水ポンプ7により排水される。このよう
に、充填材の下に抽気口が設けられている構造の装置の
場合でも、気液接触増加材を用いて脱気効率を向上する
ことができる。
【0022】実施例4.次に、第4の実施例について説
明する。図4はこの発明の第4の実施例による超純水製
造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図1ない
し図3と同一符号は同一または相当部分を示す。該図4
において、15は第2の気液接触増加材13をその上に
載置するための第2の気液接触増加材設置台である。
明する。図4はこの発明の第4の実施例による超純水製
造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図1ない
し図3と同一符号は同一または相当部分を示す。該図4
において、15は第2の気液接触増加材13をその上に
載置するための第2の気液接触増加材設置台である。
【0023】本実施例では、上記第3の実施例に示す装
置に新たに第2の充填材10,第2の気液接触増加材1
3を設けて、充填材および気液接触増加材を多段とし、
さらに、各気液接触増加材9,13上の空間が真空度の
高い雰囲気となるように、抽気口8,12をそれぞれ設
けているので、さらに気液接触効率の良い、脱気効率の
向上した装置とすることができる。
置に新たに第2の充填材10,第2の気液接触増加材1
3を設けて、充填材および気液接触増加材を多段とし、
さらに、各気液接触増加材9,13上の空間が真空度の
高い雰囲気となるように、抽気口8,12をそれぞれ設
けているので、さらに気液接触効率の良い、脱気効率の
向上した装置とすることができる。
【0024】実施例5.次に、第5の実施例について説
明する。図5はこの発明の第5の実施例による超純水製
造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図3と同
一符号は同一または相当部分を示す。該図5において、
16は気液接触増加材設置台14の中央部に設置された
圧力調整弁であり、これは気液接触増加材9を通して流
れる水の量を調整することによって真空脱気塔1内の圧
力を調整できるようになっている。
明する。図5はこの発明の第5の実施例による超純水製
造装置の構造を示す断面模式図であり、図中、図3と同
一符号は同一または相当部分を示す。該図5において、
16は気液接触増加材設置台14の中央部に設置された
圧力調整弁であり、これは気液接触増加材9を通して流
れる水の量を調整することによって真空脱気塔1内の圧
力を調整できるようになっている。
【0025】本実施例では、上記第3の実施例に示す装
置において気液接触増加材設置台14に圧力調整弁16
を設けたものであり、これによって、充填材4と気液接
触増加材9との間の空間の真空度を最適な値に、かつ、
一定に保つことができるようになり、より一層気液接触
効率が上がり、また、抽気量を減少することができる。
さらに、このような圧力調整弁14を充填材4の下部に
も設けて多段構造としても、圧力の調整により一層の効
果を得ることができる。
置において気液接触増加材設置台14に圧力調整弁16
を設けたものであり、これによって、充填材4と気液接
触増加材9との間の空間の真空度を最適な値に、かつ、
一定に保つことができるようになり、より一層気液接触
効率が上がり、また、抽気量を減少することができる。
さらに、このような圧力調整弁14を充填材4の下部に
も設けて多段構造としても、圧力の調整により一層の効
果を得ることができる。
【0026】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る超純水製
造装置によれば、装置内部に気液接触増加材を設けて装
置内で一番真空度の高い空間内で原水と雰囲気の気液接
触率を増加して、原水の脱気効率を著しく上昇するよう
にしたので、溶存気体を低減した純度の高い純水を得る
ことができ、結果、抽気量を減少することもできるの
で、コストを抑えて、また、装置全体の規模を小さくし
て設置面積を小さくすることもできる効果がある。
造装置によれば、装置内部に気液接触増加材を設けて装
置内で一番真空度の高い空間内で原水と雰囲気の気液接
触率を増加して、原水の脱気効率を著しく上昇するよう
にしたので、溶存気体を低減した純度の高い純水を得る
ことができ、結果、抽気量を減少することもできるの
で、コストを抑えて、また、装置全体の規模を小さくし
て設置面積を小さくすることもできる効果がある。
【0027】また、この発明に係る超純水製造装置によ
れば、気液接触増加材を多段設けるようにしたので、さ
らに気液接触率を向上させ、脱気効率を一層向上させる
ことができる効果がある。
れば、気液接触増加材を多段設けるようにしたので、さ
らに気液接触率を向上させ、脱気効率を一層向上させる
ことができる効果がある。
【0028】さらに、この発明に係る超純水製造装置に
よれば、圧力調節弁を設けたことにより、抽気バランス
が最適化して適正な真空度を保つことができる、純度の
高い超純水を製造することができる効果がある。
よれば、圧力調節弁を設けたことにより、抽気バランス
が最適化して適正な真空度を保つことができる、純度の
高い超純水を製造することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例による超純水製造装置
の構造を示す断面模式図である。
の構造を示す断面模式図である。
【図2】この発明の第2の実施例による超純水製造装置
の構造を示す断面模式図である。
の構造を示す断面模式図である。
【図3】この発明の第3の実施例による超純水製造装置
の構造を示す断面模式図である。
の構造を示す断面模式図である。
【図4】この発明の第4の実施例による超純水製造装置
の構造を示す断面模式図である。
の構造を示す断面模式図である。
【図5】この発明の第5の実施例による超純水製造装置
の構造を示す断面模式図である。
の構造を示す断面模式図である。
【図6】従来の超純水製造装置の構造を示す断面模式図
である。
である。
【図7】この発明の第1の実施例による超純水製造装置
に用いる気液接触増加剤の素材を示す断面模式図であ
る。
に用いる気液接触増加剤の素材を示す断面模式図であ
る。
1 真空脱気塔 1a 真空脱気塔上部 1b 真空脱気塔下部 1c 真空脱気塔中部 2 原水流入パイプ 3 排水パイプ 4 充填材 5 液溜 6 抽気口ポンプ 7 排水ポンプ 8 抽気口 9 気液接触増加材 10 第2の充填材 11 第2の抽気ポンプ 12 第2の抽気口 13 第2の気液接触増加材 14 気液接触増加材設置台 15 第2の気液接触増加材設置台 16 圧力調整弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伴 功二 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 福本 隼明 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内
Claims (6)
- 【請求項1】 原水の脱気を円筒形の真空脱気塔内で行
う超純水製造装置において、 上記真空脱気塔の上面に設けられた原水供給口と、 上記真空脱気塔の側壁に設けられ、外部の抽気手段に接
続した抽気口と、 該抽気口より下部の上記真空脱気塔の内部の所定の位置
に設けられた充填材と、 上記真空脱気塔の底面に設けられた排水口と、 気液接触を増加させることができる、上記充填材に載置
して設けられた気液接触増加材とを有することを特徴と
する超純水製造装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の超純水製造装置におい
て、 上記充填材および気液接触増加材より構成される構造
を、互いに所定の距離を隔てて多段設け、さらに、上記
構造間あるいは上記構造と真空脱気塔上面間の真空脱気
塔側壁の所定の位置に抽気口を設けたことを特徴とする
超純水製造装置。 - 【請求項3】 原水の脱気を円筒形の真空脱気塔内で行
う超純水製造装置において、 上記真空脱気塔の上面に設けられた原水供給口と、 上記真空脱気塔の側壁に設けられ、外部の抽気手段に接
続した抽気口と、 該抽気口より上部の上記真空脱気塔の内部の所定の位置
に設けられた充填材と、 上記真空脱気塔の底面に設けられた排水口と、 気液接触を増加させることのできる、上記充填材と真空
脱気塔の底面との間に気液接触増加材設置台に載置され
て設けられた気液接触増加材とを有することを特徴とす
る超純水製造装置。 - 【請求項4】 請求項3記載の超純水製造装置におい
て、 充填材と気液接触増加材設置台および気液接触増加材よ
り構成される構造を、互いに所定の距離を隔てて多段設
け、さらに、上記充填材と気液接触増加材間の真空脱気
塔側壁の所定の位置に抽気口を設けたことを特徴とする
超純水製造装置。 - 【請求項5】 請求項3または4記載の超純水製造装置
において、 上記気液接触増加材設置台に圧力調整弁を備えたことを
特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項6】 請求項1ないし5記載の超純水製造装置
において、 上記気液接触増加材はデミスタであることを特徴とする
超純水製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21009092A JPH0655164A (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21009092A JPH0655164A (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | 超純水製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0655164A true JPH0655164A (ja) | 1994-03-01 |
Family
ID=16583658
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21009092A Pending JPH0655164A (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0655164A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102502904A (zh) * | 2011-12-15 | 2012-06-20 | 汪亮亮 | 降膜法高效脱氮器及其脱氮方法 |
-
1992
- 1992-08-06 JP JP21009092A patent/JPH0655164A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102502904A (zh) * | 2011-12-15 | 2012-06-20 | 汪亮亮 | 降膜法高效脱氮器及其脱氮方法 |
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