JPH0653366B2 - Pellet manufacturing method - Google Patents

Pellet manufacturing method

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JPH0653366B2
JPH0653366B2 JP61018131A JP1813186A JPH0653366B2 JP H0653366 B2 JPH0653366 B2 JP H0653366B2 JP 61018131 A JP61018131 A JP 61018131A JP 1813186 A JP1813186 A JP 1813186A JP H0653366 B2 JPH0653366 B2 JP H0653366B2
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pellet
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insertion plate
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、例えばサイリスタ用のペレットをシリコン(S
i)ウェーハより切抜く(trepanning;トレパニング)す
るときに用いられるペレット製造方法。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to pellets for thyristors made of silicon (S
i) A pellet manufacturing method used when trepanning the wafer.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

一般に、大電力制御用に用いられるサイリスタ(thyrist
er)用の素材は、円筒状のダイヤモンド砥石によるトレ
パニングにより得られている。すなわち、第3図に示す
ように、まず、Siウェーハ(A)を接着剤により基台(B)に
固定し、トレパニング用のダイヤモンド砥石(C)を矢印
(D)方向に送りながら回転させることにより、円板状の
ペレット(E)を切抜いていた。
Generally, thyristors (thyristors) used for high power control.
The material for (er) is obtained by trepanning with a cylindrical diamond grindstone. That is, as shown in FIG. 3, first, the Si wafer (A) is fixed to the base (B) with an adhesive and the trepanning diamond grindstone (C) is indicated by an arrow.
The disc-shaped pellets (E) were cut out by rotating while feeding in the (D) direction.

しかして、上記従来法によるペレット(E)の切抜きにお
いては、Siウェーハ(A)の他端側主面近傍にてダイヤモ
ンド砥石(C)の矢印(D)方向への送りを約10μm切残して
停止したのち、ペレット(E)がまだ付着したままのSi
ウェーハ(A)を接着剤を溶して、基台(B)より分離
した後、ブレーキング処理により、ペレット(E)を分離
していた。その結果、第4図に示すように、ブレーキン
グしたペレット(E)の端縁部にバリ状のエッジ部(F)が残
存する。このエッジ部(F)は、次のアロイ工程でのペレ
ット(E)と基板とを合金により接着する際に、欠け,割
れ等の損傷の原因となり、歩留低下の一因となってい
る。もし、エッジ部(F)を無理にでもなくそうとすれ
ば、接着剤部分まで切断しSiウェーハ(A)を完全切
断することにより達成できるが、加工溝が閉じているた
め、研削液の掛りが悪く、ダイヤモンド砥石(C)の刃
部に接着剤が付着する。そのため、ダイヤモンド砥石
(C)は、目づまりを起しやすく、加工回数の増加とと
もに研削抵抗が顕著に増加して寿命に達するので、頻繁
にダイヤモンド砥石(C)を交換せねばならない不具合を
もっている。
Then, in the cutting of the pellet (E) by the above-mentioned conventional method, the feed in the direction of the arrow (D) of the diamond grindstone (C) is left in the vicinity of the other end side main surface of the Si wafer (A) by about 10 μm. After stopping, Si with pellet (E) still attached
The wafer (A) was melted with an adhesive and separated from the base (B), and then the pellet (E) was separated by a breaking treatment. As a result, as shown in FIG. 4, a burr-shaped edge portion (F) remains at the edge portion of the braked pellet (E). The edge portion (F) causes damage such as chipping or cracking when the pellet (E) and the substrate are bonded with an alloy in the next alloying step, which is one of the causes of the yield reduction. If you try not to force the edge part (F), it can be achieved by cutting to the adhesive part and completely cutting the Si wafer (A). Is poor, and the adhesive adheres to the blade portion of the diamond grindstone (C). Therefore, the diamond grindstone (C) is apt to cause clogging, and the grinding resistance remarkably increases with the increase in the number of times of machining to reach the end of its service life. Therefore, the diamond grindstone (C) must be frequently replaced.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明は、上記事情に着目してなされたもので、ペレッ
トの製造を高能率かつ高精度で行うことのできるペレッ
ト製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a pellet manufacturing method capable of performing pellet manufacturing with high efficiency and high accuracy.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

例えば真空チャックなどの基台に着脱自在にトレパニン
グ研削砥石の目づまりを生じにくい可撓性の弾性部材か
らなる介挿板を着脱自在に装着させ、この介挿板を介し
てウェーハを基台に固着させたのち、トレパニング砥石
によりウェーハからペレットを切抜くに際して、トレパ
ニング砥石を介挿板の一部を切込むまで送りをかけ、ウ
ェーハからペレットを完全に切断分離するようにしたも
のである。
For example, a trepanning grinding wheel is detachably attached to a base such as a vacuum chuck, and an insertion plate made of a flexible elastic member that is unlikely to cause clogging of the trepanning grinding wheel is detachably attached, and the wafer is fixed to the base via the insertion plate After that, when the pellets are cut out from the wafer by the trepanning grindstone, the trepanning grindstone is fed until a part of the insertion plate is cut so that the pellets are completely cut and separated from the wafer.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。 An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

この実施例のペレット製造方法は、第1図に示すよう
に、円板をなすSi製のウェーハ(1)を真空チャック(2)に
介挿板(3)を介して真空吸着する保持工程と、この保持
工程において真吸チャック(2)に保持固定されているウ
ェーハ(1)をトレパニング研削砥石(4)により切抜き円板
をなすペレット(5)(第2図参照)を得るトレパニング
工程と、このトレパニング工程において得られたペレッ
ト(5)を水洗などにより洗浄する洗浄工程とからなって
いる。しかして、真空チャック(2)は、円柱状の基台(6)
と、この基台(6)の内部に配設され一端部が吸引口(7)…
として基台(6)の上面(8)に開口している吸引路(9)と、
この吸引路(9)の他端部に接続された真空源(10)と、基
台(6)の上面(8)に着脱自在に装設された可撓性の弾性部
材からなる前記介挿板(3)とからなっている。上記吸引
路(9)は、基台(6)の内部に同軸に配設された本路(11)
と、この本路(11)から分岐し吸引口(7)…として上面(8)
に開口する分岐路(12)…とからなっている。また、介挿
板(3)は、例えば硬質ゴムなどの研削砥石(4)に目づまり
を生じさせにくい合成樹脂により製造され、その形状
は、厚さ0.1mm,直径125mm程度の円板状をなしている。
そうして、介挿板(3)は、基台(6)の上面の所定位置に載
置されたときに、吸引口(7)…に連通する通孔(13)…が
穿設されている。この介挿板(3)の上面は、ウェーハ(1)
が吸着される吸着面(14)となっている。しかして、真空
源(10)を作動させることにより、分岐路(12)…及び本路
(11)を経由して真空引きを行い、介挿板(3)を介して吸
着面(14)上にウェーハ(1)を真空吸着することができる
ようになっている。しかして、上記トレパニング工程に
おいて用いられる研削砥石(4)は、中空円筒状の研削部
(15)と、この研削部の後端部に同軸に突設された円柱状
の取付部(16)とからなっている。上記研削部(15)は、金
属製で有底円筒状をなす芯体(17)と、この芯体(17)の厚
さ0.2mm程度の内外側壁面に形成された厚さ50μm程度
の砥粒層(18)とからなっている。この砥粒層(18)は、例
えば銅などの結合剤(19)と、この結合剤(19)中に分散保
持された例えばダイヤモンドなどの砥粒(20)…とからな
っている。また、取付部(16)は、図示せぬ駆動機構に取
付けられ、この駆動機構により、研削砥石(4)は、矢印
(21)方向に回転駆動されながら、矢印(22)方向に送り駆
動され、ウェーハ(1)のトレパニング加工が行われるよ
うになっている。そうして、研削砥石(4)は、第2図に
示すように、ウェーハ(1)の切抜きが終了後も、送りを
停止することなく、介挿板(3)の一部に切込ます。しか
るのち、研削砥石(4)を矢印(23)方向に後退させ、研削
を終了させる。かくて、ウェーハ(1)からは、ペレット
(5)が他部から完全に分離される。ついで、真空源(10)
の作動を停止させて、ウェーハ(1)の真空吸着を解除し
たのち、ペレット(5)のみを図示せぬ吸着アームにより
ピックアップして、前記洗浄処理を行う。
As shown in FIG. 1, the pellet manufacturing method of this embodiment includes a holding step in which a disk-shaped Si wafer (1) is vacuum-sucked to a vacuum chuck (2) via an insertion plate (3). , A trepanning step of obtaining a pellet (5) (see FIG. 2) forming a cut disk from the wafer (1) held and fixed to the true suction chuck (2) by the trepanning grinding wheel (4) in this holding step, The pellet (5) obtained in the trepanning step is washed with water or the like. Then, the vacuum chuck (2) has a cylindrical base (6).
And the one end of which is arranged inside the base (6) has a suction port (7) ...
As a suction path (9) opening on the upper surface (8) of the base (6),
The vacuum source (10) connected to the other end of the suction path (9) and the interposition of a flexible elastic member detachably mounted on the upper surface (8) of the base (6). It consists of a board (3). The suction passage (9) is a main passage (11) coaxially arranged inside the base (6).
And branch from this main road (11) and as the suction port (7) ... the upper surface (8)
It consists of a branch road (12) ... The insert plate (3) is made of a synthetic resin that does not easily cause clogging of the grinding wheel (4), such as hard rubber, and has a disk shape with a thickness of 0.1 mm and a diameter of 125 mm. ing.
When the insertion plate (3) is placed at a predetermined position on the upper surface of the base (6), the through holes (13) communicating with the suction ports (7) are bored. There is. The upper surface of this insertion plate (3) is the wafer (1)
Is the adsorption surface (14) on which is adsorbed. Then, by operating the vacuum source (10), the branch path (12) ...
A vacuum can be drawn via (11), and the wafer (1) can be vacuum-sucked on the suction surface (14) via the insertion plate (3). Then, the grinding wheel (4) used in the trepanning process is a hollow cylindrical grinding part.
(15) and a cylindrical mounting portion (16) coaxially protruding from the rear end of the grinding portion. The grinding part (15) comprises a core body (17) made of metal and having a bottomed cylindrical shape, and a grinding body (17) with a thickness of about 50 μm formed on inner and outer wall surfaces with a thickness of about 0.2 mm. It consists of a grain layer (18). The abrasive grain layer (18) is composed of, for example, a binder (19) such as copper, and abrasive grains (20) such as diamond dispersed and held in the binder (19). Further, the attachment portion (16) is attached to a drive mechanism (not shown), and the drive mechanism causes the grinding wheel (4) to move in the direction of the arrow.
While being rotationally driven in the (21) direction, it is fed and driven in the direction of the arrow (22) to perform the trepanning process of the wafer (1). Then, as shown in Fig. 2, the grinding wheel (4) cuts into a part of the insertion plate (3) without stopping the feeding even after the cutting of the wafer (1) is completed. . After that, the grinding wheel (4) is retracted in the direction of the arrow (23) to finish the grinding. Thus, from the wafer (1), pellets
(5) is completely separated from other parts. Then vacuum source (10)
Then, the vacuum suction of the wafer (1) is released, and then only the pellet (5) is picked up by a suction arm (not shown) to perform the cleaning process.

かくて、この実施例のペレット製造方法によれば、基台
(6)へのウェーハ(1)の固定をウェーハ(1)よりも目づま
りを起こしにくい可撓性の弾性部材からなり且つ基台
(6)及びウェーハ(1)に着脱自在に取付けられる介挿板
(3)を介して行い、かつ、トレパニング研削砥石(4)を介
挿板(3)の一部にも切込ませるようにしているので、ウ
ェーハ(1)からペレット(5)を完全に分離することができ
る。したがって、従来のように、ウェーハ(1)に対して
切残すことによりペレット(5)を付着させ、次のブレー
キング工程にて、ウェーハ(1)からペレット(5)を分離す
る煩雑さがなくなるとともに、工程が短縮し、加工能率
が向上する。また、ブレーキングに伴ってウェーハ(1)
端縁部に生じるバリ状のエッジ部がなくなるので、次工
程のペレット(5)と基板とを合金により接着させるアロ
イ工程における欠けなどの不良発生の虞がなくなる。ま
た、介挿板(3)は、研削砥石が目づまりを行しにくい材
種でできているので、研削砥石(4)の寿命が長くなる。
ちなみに、従来の不完全切断により、Siウェーハ(1)の
みを研削した場合、ペレット(5)を30個トレパニング加
工すると目づまりにより法線方向の研削抵抗が約2倍と
なるのに対して、この実施例の介挿板(3)を用いて完全
切断を行う方法によれば、ペレット(5)を30個加工して
もほとんど目づまりは生ぜず、法線方向の研削抵抗の増
加は、たかだか20%程度であった。
Thus, according to the pellet manufacturing method of this embodiment, the base
The fixing of the wafer (1) to the (6) is made of a flexible elastic member that is less likely to cause clogging than the wafer (1) and is a base.
(6) and wafer (1) with an insertion plate that can be detachably attached
The pellet (5) is completely separated from the wafer (1) because it is done through (3) and the trepanning grinding wheel (4) is also cut into a part of the insertion plate (3). can do. Therefore, as in the prior art, the pellet (5) is attached by leaving the wafer (1) uncut, and the complexity of separating the pellet (5) from the wafer (1) in the next braking step is eliminated. At the same time, the process is shortened and the processing efficiency is improved. In addition, the wafer (1)
Since the burr-like edge portion generated at the end edge portion is eliminated, there is no possibility of occurrence of defects such as chipping in the alloy step of adhering the pellet (5) and the substrate in the next step with an alloy. In addition, since the insert plate (3) is made of a material that does not easily cause clogging of the grinding wheel, the life of the grinding wheel (4) is extended.
By the way, when only Si wafer (1) is ground by conventional incomplete cutting, if 30 pellets (5) are trepanning processed, the grinding resistance in the normal direction will be about doubled due to clogging. According to the method of performing a complete cutting using the insertion plate (3) of this example, almost no clogging occurs even when processing 30 pellets (5), the increase in the grinding resistance in the normal direction, It was about 20% at most.

これは、一般に、研削砥石(4)のウェーハ(1)の送
り速度は、目づまりを生じない最適送り速度の範囲内で
行われているが、不完全切断の場合は、研削砥石(4)
の先端がウェーハ(1)の中途部で停止するのにともな
い、研削砥石(4)の送り速度が最適送り速度の範囲外
に偏倚し、研削砥石(4)の目づまりが生じやすくなる
ためである。これに対して、完全切断の場合は、研削砥
石(4)の先端が停止するのは、介挿板(3)に進入し
てからであるので、少なくともウェーハ(1)を切り抜
いているときの研削砥石(4)の送り速度は最適状態に
設定することが可能となり、研削砥石(4)の目づまり
を不完全切断の場合に比べて改善することができる。な
お、研削砥石(4)の先端が介挿板(3)に進入して
も、介挿板(3)はウェーハ(1)よりも目づまりしに
くい材料でできているので、介挿板(3)による研削砥
石(4)の目づまりは回避することができる。また、研
削砥石(4)の先端が介挿板(3)内部に到達し送りが
停止し、送り速度が最適送り速度の範囲外に偏倚して
も、このときのウェーハ(1)は研削砥石(4)により
完全切断された後であるので、研削砥石(4)の目づま
りはほとんど生じることはない。さらに、介挿板(3)
は基台(6)及びウェーハ(1)に対して着脱自在に取
付けられているのので、多数回のトレパニング加工に対
しての使用が可能となり、また、介挿板(3)が研削砥
石(4)による多数回の切込みにより減耗したとして
も、容易に交換が可能であり、生産能率上且つ経済上、
顕著な改善効果を奏する。
Generally, this is done within the range of the optimum feed rate of the wafer (1) of the grinding wheel (4) that does not cause clogging, but in the case of incomplete cutting, the grinding wheel (4)
This is because the feed rate of the grinding wheel (4) is deviated outside the range of the optimum feed rate as the tip of the grinding wheel stops in the middle of the wafer (1), and the grinding wheel (4) easily becomes clogged. . On the other hand, in the case of complete cutting, the tip of the grinding wheel (4) stops after entering the insertion plate (3), so at least when the wafer (1) is cut out. The feed speed of the grinding wheel (4) can be set to an optimum state, and the clogging of the grinding wheel (4) can be improved as compared with the case of incomplete cutting. Even if the tip of the grinding wheel (4) enters the interposing plate (3), the interposing plate (3) is made of a material that is less likely to be clogged than the wafer (1). The clogging of the grinding wheel (4) due to 3) can be avoided. In addition, even if the tip of the grinding wheel (4) reaches the inside of the insertion plate (3) and the feeding is stopped and the feeding speed is deviated from the range of the optimum feeding speed, the wafer (1) at this time is the grinding wheel. Since it has been completely cut by (4), the grinding wheel (4) is hardly clogged. Furthermore, the interposition plate (3)
Since it is removably attached to the base (6) and the wafer (1), it can be used for a large number of trepanning processes, and the insert plate (3) is a grinding wheel ( Even if it is worn out due to multiple cuts due to 4), it can be easily replaced, and in terms of production efficiency and economy,
Has a significant improvement effect.

なお、上記実施例においては、介挿板(3)として硬質ゴ
ムを使用したが、研削砥石が目づまりをおこしにくいも
のであれば、例えばプラスチックシート等、どのような
ものでもよい。また、介挿板(3)に穿設されている通孔
(13)…は、吸引口(7)…に対応させることなく、ランダ
ムに分散配置したものでもよい。
Although hard rubber is used as the interposition plate (3) in the above-mentioned embodiment, any material such as a plastic sheet may be used as long as the grinding wheel is less likely to cause clogging. Also, the through holes formed in the insertion plate (3).
The (13) ... may be randomly distributed without being associated with the suction ports (7).

さらに、上記実施例においては、介挿板(3)を介してウ
ェーハ(1)を真空チャックにより吸着したが、同じく、
静電チャックにより介挿板(3)を介してウェーハ(1)を吸
着固定してもよい。この場合、介挿板(3)には通孔を設
ける必要はない。
Furthermore, in the above example, the wafer (1) was sucked by the vacuum chuck through the interposing plate (3), but similarly,
The wafer (1) may be adsorbed and fixed by an electrostatic chuck via the insertion plate (3). In this case, it is not necessary to provide a through hole in the insertion plate (3).

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明のペレット製造方法によれば、ウェーハの固定を
トレパニング研削砥石の目づまりをおこしにくい可撓性
の弾性部材からなる介挿板を介して行い、かつ、トレパ
ニング加工によるウェーハの切抜きを研削砥石を介挿板
の一部に切込むまで行うことにより、ペレットをウェー
ハから完全切断するようにしているので、後工程でウェ
ーハからペレットをブレーキングにより分離する必要が
なくなる。その結果、ブレーキングにともなう種々の不
具合がなくなる。また、介挿板は、保持部及びウェーハ
に対して着脱自在に取付けられているので、多数回のト
レパニング加工に対しての使用が可能となり、また、ト
レパニング研削砥石による多数回の切込みにより減耗し
たとしても、容易に交換が可能である。以上の諸効果が
相俟って本発明によれば、生産能率および加工精度を大
幅に改善することが可能となる。
According to the pellet manufacturing method of the present invention, the wafer is fixed through an interposing plate made of a flexible elastic member that is unlikely to cause clogging of the trepanning grinding wheel, and the cutting wheel is cut by the trepanning process. Since the pellets are completely cut from the wafer by performing cutting up to a part of the interposing plate, it is not necessary to separate the pellets from the wafer by breaking in a subsequent process. As a result, various problems associated with braking are eliminated. Further, since the insertion plate is detachably attached to the holding portion and the wafer, it can be used for a large number of trepanning processes, and it has been worn down due to a large number of cuts made by the trepanning grinding wheel. However, it can be easily replaced. According to the present invention combined with the above effects, it is possible to greatly improve the production efficiency and the processing accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例のペレット製造方法に用いら
れる装置の説明図,第2図は同じくトレパニング工程の
説明図,第3図は従来のペレット製造方法の説明図,第
4図は従来法によるペレットを示す図である。 (1):ウェーハ,(2):真空チャック(保持部材),
(3):介挿板,(4):研削砥石,(5):ペレット。
FIG. 1 is an explanatory view of an apparatus used in a pellet manufacturing method according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view of the same trepanning process, FIG. 3 is an explanatory view of a conventional pellet manufacturing method, and FIG. It is a figure which shows the pellet by the conventional method. (1): Wafer, (2): Vacuum chuck (holding member),
(3): Insert plate, (4): Grinding wheel, (5): Pellet.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 樋口 勝敏 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8 株式会 社東芝生産技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭60−31918(JP,A) 特公 昭57−43408(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Katsutoshi Higuchi 8 Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Inside the Toshiba Industrial Research Institute (56) Reference JP-A-60-31918 (JP, A) JPB 57-43408 (JP, B2)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ウェーハを保持部材に対して上記ウェーハ
よりも目づまりを起こしにくい可撓性の弾性部材からな
り且つ上記保持部材及び上記ウェーハに着脱自在に取付
けられる介挿板を介して保持する保持工程と、上記保持
部材に保持されているウェーハに対して中空円筒状のト
レパニング砥石を回転させながら上記介挿板の一部まで
切込み上記ウェーハから円板をなすペレットを切抜くト
レパニング工程とからなることを特徴とするペレット製
造方法。
1. A holder for holding a wafer by a flexible elastic member which is less likely to cause clogging of the holding member than the wafer, and which holds the wafer via the holding member and an insertion plate detachably attached to the wafer. And a trepanning step of cutting out a pellet forming a disk from the wafer while cutting a hollow cylindrical trepanning grindstone with respect to the wafer held by the holding member while rotating a hollow cylindrical trepanning grindstone. A method for producing a pellet, comprising:
【請求項2】保持部材への保持を有孔の介挿板を介して
真空吸着により行うことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のペレット製造方法。
2. The pellet manufacturing method according to claim 1, wherein the holding member is held by vacuum suction through an insertion plate having a hole.
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