JPH0653121A - Positioning mechanism for light source lamp in light exposure device - Google Patents

Positioning mechanism for light source lamp in light exposure device

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JPH0653121A
JPH0653121A JP4220637A JP22063792A JPH0653121A JP H0653121 A JPH0653121 A JP H0653121A JP 4220637 A JP4220637 A JP 4220637A JP 22063792 A JP22063792 A JP 22063792A JP H0653121 A JPH0653121 A JP H0653121A
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JP
Japan
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light source
source lamp
illuminance
exposure
arithmetic circuit
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Application number
JP4220637A
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Japanese (ja)
Inventor
Shiro Otaka
史郎 大高
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To ensure illuminance uniformity in an exposing area without manual operation. CONSTITUTION:A mechanism is mounted on the top plane of an exposing stage 3. The mechanism is provided with an illumination meter 5 for providing luminance data of an exposing area on the exposing stage 3, an arithmetic circuit 6 which detects illuminance uniformity in the exposing area based on the luminance data from the illuminance meter 5 and calculates the deviation quantity of a light source lamp 1, and a driving part 7 which shifts the light source lamp 1 in the prescribed direction based on the deviation quantity calculated by the arithmetic circuit 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造のホトリソ
グラフィ工程において半導体基板上のレジストを露光す
る露光装置に係わり、特に露光領域の照度均一性を調整
するための光源ランプの位置決め機構に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus for exposing a resist on a semiconductor substrate in a photolithography process for manufacturing a semiconductor, and more particularly to a light source lamp positioning mechanism for adjusting the illuminance uniformity of an exposure area. Is.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は従来の露光装置を示す概略構成図
である。図において、51は光源ランプ、52は反射
板、53はレンズ、54は露光ステージである。光源ラ
ンプ51から発せられた光は反射板52によって一方向
に集束され、さらにレンズ53を通して露光ステージ5
4上に照射される。そして、この露光ステージ54上に
照射される光によって、図示せぬ半導体基板上のレジス
トが露光されるようになっている。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a schematic block diagram showing a conventional exposure apparatus. In the figure, 51 is a light source lamp, 52 is a reflector, 53 is a lens, and 54 is an exposure stage. The light emitted from the light source lamp 51 is focused in one direction by the reflection plate 52, and further passes through the lens 53 to expose the exposure stage 5
4 is illuminated. Then, the resist on the semiconductor substrate (not shown) is exposed by the light with which the exposure stage 54 is irradiated.

【0003】このような構成からなる露光装置において
は、露光ステージ54上の図示せぬ半導体基板に投影さ
れる、いわゆる露光領域の照度均一性が、光源ランプ5
1と反射板52の配置関係に左右される。換言すると、
露光領域における照度均一性の調整は光源ランプ51を
移動させることによって可能であり、そのための光源ラ
ンプ51の位置決め機構として従来装置では照度計55
と観測用窓56とが設けられていた。
In the exposure apparatus having such a structure, the so-called illuminance uniformity of the so-called exposure area projected on the semiconductor substrate (not shown) on the exposure stage 54 is determined by the light source lamp 5.
1 and the reflection plate 52 are arranged. In other words,
The illuminance uniformity in the exposure area can be adjusted by moving the light source lamp 51, and as a positioning mechanism for the light source lamp 51 for that purpose, the illuminance meter 55 in the conventional apparatus is used.
And an observation window 56 were provided.

【0004】照度計55は、露光ステージ54の上面に
取り付けられており、この照度計55によって露光ステ
ージ54上における露光領域の照度データが得られるよ
うになっている。この照度計55は、露光ステージ54
の移動に従って露光領域内を走査し、照度データを測定
するものである。
The illuminance meter 55 is attached to the upper surface of the exposure stage 54, and the illuminance meter 55 can obtain the illuminance data of the exposure area on the exposure stage 54. The illuminance meter 55 is used in the exposure stage 54.
The illuminance data is measured by scanning the inside of the exposure area according to the movement of.

【0005】また、照度計55から得られる照度データ
からは、光源ランプ51と反射板52の配置関係によっ
て図7(a)〜(c)のような照度分布が得られる。こ
こで、図中V1は露光ステージ55上において光が均一
に照射される領域(以下、均一領域と称す)、図中V2
は露光領域を示しており、さらに図中P1は均一領域V
1の中心(光軸点)、図中P2は露光領域V2の中心を
示している。
From the illuminance data obtained from the illuminance meter 55, illuminance distributions as shown in FIGS. 7A to 7C can be obtained depending on the positional relationship between the light source lamp 51 and the reflector 52. Here, V1 in the drawing is a region where light is uniformly irradiated on the exposure stage 55 (hereinafter referred to as a uniform region), V2 in the drawing.
Indicates an exposure area, and P1 in the figure indicates a uniform area V.
The center of 1 (optical axis point), P2 in the figure, indicates the center of the exposure region V2.

【0006】まず図7(a)の場合は、露光領域V2に
おいて照度均一性が確保された状態であり、この状態で
は均一領域V1の中心P1と露光領域V2の中心P2と
がほぼ一致しており、しかも全体的な照度の強弱も許容
レベル以上に確保されている。
First, in the case of FIG. 7A, the illuminance uniformity is ensured in the exposure area V2, and in this state, the center P1 of the uniform area V1 and the center P2 of the exposure area V2 substantially coincide with each other. In addition, the intensity of the overall illuminance is secured above the allowable level.

【0007】図7(b)の場合は、露光領域V2におい
て照度均一性が確保されていない状態であり、この状態
では均一領域V1の中心P1と露光領域V2の中心P2
とにズレが生じて、露光領域V2に明暗の差が現れてい
る。このような場合は、先に認められたズレを目安に作
業者が光源ランプ51を水平方向(以下、x、y方向と
称す)に適宜量ずつ移動させて、最終的に各中心P1、
P2の位置が一致するように調整していた。
In the case of FIG. 7B, the illuminance uniformity is not ensured in the exposure area V2, and in this state, the center P1 of the uniform area V1 and the center P2 of the exposure area V2.
There is a deviation between the two, and a difference in brightness appears in the exposure area V2. In such a case, the operator moves the light source lamps 51 in the horizontal direction (hereinafter, referred to as x and y directions) by an appropriate amount based on the previously recognized deviation, and finally each center P1,
It adjusted so that the position of P2 might correspond.

【0008】図7(c)の場合も、露光領域V2におい
て照度均一性が確保されていない状態であり、この状態
では均一領域V1の中心P1と露光領域V2の中心P2
とは一致しているものの、全体的な照度が弱すぎて許容
レベルを下回っている。このような場合は、露光領域の
照度の強弱を目安に作業者が光源ランプ51を垂直方向
(以下、z方向と称す)に適宜量ずつ移動させて、最終
的に許容レベルの照度が得られるように調整していた。
Also in the case of FIG. 7C, the illuminance uniformity is not ensured in the exposure area V2, and in this state, the center P1 of the uniform area V1 and the center P2 of the exposure area V2.
However, the overall illuminance is too weak and is below the acceptable level. In such a case, the operator moves the light source lamp 51 in the vertical direction (hereinafter, referred to as the z direction) by an appropriate amount based on the intensity of the illuminance in the exposure area, and finally an illuminance of an allowable level is obtained. Was adjusted.

【0009】また、光源ランプ51の交換作業等によっ
て、露光領域V2の照度が極端に弱くなったり、露光領
域V2に均一な照度領域が得られない場合には、作業者
が観測用窓56から光源ランプ51の位置を確認しなが
ら、その観測用窓56に刻まれた基準点に光源ランプ5
1の中心が位置するように光源ランプ51を移動させ
て、それから上述の調整作業を行うようにしていた。
Further, when the illuminance of the exposure area V2 becomes extremely weak due to the replacement work of the light source lamp 51 or the uniform illuminance area cannot be obtained in the exposure area V2, the operator uses the observation window 56. While confirming the position of the light source lamp 51, the light source lamp 5 is attached to the reference point carved in the observation window 56.
The light source lamp 51 is moved so that the center of 1 is located, and then the above adjustment work is performed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の露光装置においては、露光領域V2の照度均一性を確
保するための光源ランプ51の位置決め作業が、作業者
の熟練を要するうえに、同じような作業を何度も繰り返
しながら所定の位置決め精度を得る方式であるので、作
業者にかかる負担が大きく、しかも調整が完了するまで
多くの時間を要していた。また、光源ランプ51の位置
決め精度や、これに費やされる時間の面で、作業者間に
微妙なバラツキが生じるという問題もあった。
However, in the above-mentioned conventional exposure apparatus, the positioning work of the light source lamp 51 for ensuring the illuminance uniformity of the exposure area V2 requires the skill of the operator and is similar. Since this is a method of obtaining a predetermined positioning accuracy while repeating the work many times, the burden on the operator is great and more time is required until the adjustment is completed. There is also a problem in that there is a slight variation between operators in terms of the positioning accuracy of the light source lamp 51 and the time spent therefor.

【0011】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、人手に頼ることなく露光領域の照度均一性
を確保できる露光装置における光源ランプの位置決め機
構を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a light source lamp positioning mechanism in an exposure apparatus that can ensure the illuminance uniformity of the exposure area without relying on human labor.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、反射板に近接して配置さ
れた光源ランプと、光源ランプと対向状態に設置された
露光ステージと、光源ランプと露光ステージとの間に配
置されたレンズとを備え、光源ランプから発せられた光
がレンズを通して露光ステージ上に照射される露光装置
において、露光ステージの上面に取り付けられたもの
で、その露光ステージ上の露光領域の照度データを得る
ための照度計と、この照度計によって得られる照度デー
タを基に露光領域における照度均一性を検出して光源ラ
ンプの位置ズレ量を算出する演算回路と、この演算回路
によって算出された位置ズレ量を基に光源ランプを所定
方向に移動させる駆動部とを具備した露光装置における
光源ランプの位置決め機構である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above object, and includes a light source lamp disposed in the vicinity of a reflection plate, and an exposure stage installed in a state of facing the light source lamp. In an exposure apparatus that includes a lens disposed between the light source lamp and the exposure stage, and the light emitted from the light source lamp is irradiated onto the exposure stage through the lens, the one mounted on the upper surface of the exposure stage, An illuminance meter for obtaining illuminance data of the exposure area on the exposure stage, and an arithmetic circuit for calculating the amount of positional deviation of the light source lamp by detecting the illuminance uniformity in the exposure area based on the illuminance data obtained by the illuminance meter. And the position determination of the light source lamp in the exposure apparatus, which includes a driving unit that moves the light source lamp in a predetermined direction based on the positional deviation amount calculated by the arithmetic circuit. It is a mechanism.

【0013】また、光源ランプの位置を観測する一対の
CCDカメラを設置して、各CCDカメラによって得ら
れる観測データを基に光源ランプの位置を修正すること
により、少なくとも照度計によって得られる照度データ
から光源ランプの位置ズレ量を算出可能としたものであ
る。
Further, by installing a pair of CCD cameras for observing the position of the light source lamp, and correcting the position of the light source lamp based on the observation data obtained by each CCD camera, at least the illuminance data obtained by the illuminometer. The position shift amount of the light source lamp can be calculated from the above.

【0014】[0014]

【作用】本発明の光源ランプの位置決め機構において
は、照度計から得られる照度データを基に演算回路が露
光領域の照度均一性を検出して光源ランプの位置ズレ量
を算出し、さらにこの算出した位置ズレ量を基に駆動部
が光源ランプを移動させることにより、光源ランプの位
置決めが行われるとともに、露光領域における照度均一
性が確保される。また、光源ランプの位置ズレが大きす
ぎて演算回路で位置ズレ量が算出できない場合は、CC
Dカメラからの観測データに基づいて光源ランプの位置
修正が行われ、これにより上記位置ズレ量が算出可能と
なる。
In the light source lamp positioning mechanism of the present invention, the arithmetic circuit detects the illuminance uniformity of the exposure area based on the illuminance data obtained from the illuminance meter, and calculates the positional deviation amount of the light source lamp. By the drive unit moving the light source lamp based on the amount of positional deviation, the light source lamp is positioned and the illuminance uniformity in the exposure area is secured. Also, if the position shift amount of the light source lamp is too large to calculate the position shift amount by the arithmetic circuit, CC
The position of the light source lamp is corrected on the basis of the observation data from the D camera, whereby the amount of positional deviation can be calculated.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を基に詳
細に説明する。図1は実施例における露光装置の概略構
成図である。図において、1は光源ランプであり、この
光源ランプ1は反射板2に近接して配置されている。一
方、図中3は露光ステージであり、この露光ステージ3
は上述の光源ランプ1と対向状態に設置されている。さ
らに、光源ランプ1と露光ステージ3との間にはレンズ
4が配置されている。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus in the embodiment. In the figure, reference numeral 1 is a light source lamp, and the light source lamp 1 is arranged in the vicinity of the reflection plate 2. On the other hand, reference numeral 3 in the drawing is an exposure stage.
Is installed to face the above-mentioned light source lamp 1. Further, a lens 4 is arranged between the light source lamp 1 and the exposure stage 3.

【0016】また本実施例の露光装置では、光源ランプ
の位置決め機構として、照度計5、演算回路6、駆動部
7が具備されている。照度計5は、露光ステージ3上の
露光領域の照度データを得るためのもので、露光ステー
ジ3の上面に取り付けられている。この照度計5は、演
算回路5に接続されており、これにより照度計5からの
照度データが演算回路6に送られるようになっている。
因みに照度計5には、光の強弱によって電流値が変化す
る、いわゆる光電素子が用いられている。
Further, the exposure apparatus of this embodiment is provided with an illuminance meter 5, an arithmetic circuit 6, and a drive section 7 as a light source lamp positioning mechanism. The illuminance meter 5 is for obtaining illuminance data of the exposure area on the exposure stage 3, and is attached to the upper surface of the exposure stage 3. The illuminance meter 5 is connected to the arithmetic circuit 5, whereby the illuminance data from the illuminance meter 5 is sent to the arithmetic circuit 6.
Incidentally, the illuminance meter 5 uses a so-called photoelectric element whose current value changes depending on the intensity of light.

【0017】演算回路6は、照度計5によって得られる
照度データを基に露光領域における照度均一性を検出し
て光源ランプ1の位置ズレ量を算出する機能を有してい
る。この演算回路6は制御回路8に接続されており、こ
れにより演算回路6で算出された位置ズレ量が制御回路
8に送られるようになっている。
The arithmetic circuit 6 has a function of detecting the illuminance uniformity in the exposure area based on the illuminance data obtained by the illuminance meter 5 and calculating the positional deviation amount of the light source lamp 1. The arithmetic circuit 6 is connected to the control circuit 8 so that the positional deviation amount calculated by the arithmetic circuit 6 is sent to the control circuit 8.

【0018】駆動部7は、演算回路6によって算出され
た位置ズレ量を基に光源ランプ1を所定方向に移動させ
るもので、制御回路8に接続されている。本例では制御
回路8の指令に従って駆動部7が動作するようになって
いるが、回路構成によっては駆動部7の動作を演算回路
6で直接制御させることも可能である。
The drive unit 7 moves the light source lamp 1 in a predetermined direction based on the amount of positional deviation calculated by the arithmetic circuit 6, and is connected to the control circuit 8. In this example, the drive unit 7 operates according to a command from the control circuit 8, but the operation of the drive unit 7 can be directly controlled by the arithmetic circuit 6 depending on the circuit configuration.

【0019】ここで、上記駆動部7の具体例を図2に基
づいて説明する。図示のように駆動部7は、x、y、z
方向に配置された移動用ねじ9、10、11と、各移動
用ネジ9、10、11に螺合された支持部材12、1
3、14と、各移動用ネジ9、10、11を回転させる
ためのモータ15、16、(不図示)とから構成されて
おり、各モータ15、16、(不図示)は上述の制御回
路8に接続されている。光源ランプ1は、支持部材12
の下部に取り付けられており、各モータ15、16、
(不図示)の回転に応じてx、y、z方向に移動可能と
なっている。
Here, a specific example of the drive unit 7 will be described with reference to FIG. As shown in the figure, the driving unit 7 is x, y, z.
Direction moving screws 9, 10, 11 and supporting members 12, 1 screwed to the moving screws 9, 10, 11 respectively.
3 and 14 and motors 15 and 16 (not shown) for rotating the respective moving screws 9, 10 and 11, and each motor 15, 16 and (not shown) is the above-mentioned control circuit. 8 is connected. The light source lamp 1 includes a support member 12
Attached to the bottom of each motor 15, 16,
It can move in the x, y, and z directions in response to rotation (not shown).

【0020】さらに本実施例の露光装置においては、光
源ランプ1の位置を観測する一対のCCDカメラ17
a、17bが設置されている。各CCDカメラ17a、
17bは、光源ランプ1に対してほぼ直角をなす状態で
水平に設置されており、しかも光源ランプ1が正規の配
置状態(露光領域の照度均一性が確保された状態)でカ
メラ中心と光源中心とが一致するように位置決めされて
いる。この構成によりxyz方向における光源ランプ1
の位置がCCDカメラ17a、17bによって観測され
るようになる。
Further, in the exposure apparatus of this embodiment, the pair of CCD cameras 17 for observing the position of the light source lamp 1 is used.
a and 17b are installed. Each CCD camera 17a,
17b is installed horizontally at a right angle to the light source lamp 1, and the center of the camera and the center of the light source are arranged with the light source lamp 1 in a regular arrangement state (where the illuminance uniformity in the exposure area is secured). Are positioned so that and match. With this configuration, the light source lamp 1 in the xyz directions
Will be observed by the CCD cameras 17a and 17b.

【0021】加えて、各CCDカメラ17a、17bは
第2の演算回路18に接続されており、これにより各C
CDカメラ17a、17bからの観測データが第2の演
算回路18に送られるようになっている。第2の演算回
路18は、各CCDカメラ17a、17bから得られる
観測データを基に光源ランプ1の位置ズレ量を算出する
機能を有している。また、第2の演算回路18は、駆動
部7の動作を制御する制御回路8に接続されており、こ
れによりCCDカメラ17a、17bから得られる観測
データを基に光源ランプ1の位置が修正される構成とな
っている。
In addition, each CCD camera 17a, 17b is connected to the second arithmetic circuit 18, whereby each C
The observation data from the CD cameras 17a and 17b are sent to the second arithmetic circuit 18. The second arithmetic circuit 18 has a function of calculating the positional deviation amount of the light source lamp 1 based on the observation data obtained from the CCD cameras 17a and 17b. Further, the second arithmetic circuit 18 is connected to the control circuit 8 for controlling the operation of the drive unit 7, whereby the position of the light source lamp 1 is corrected based on the observation data obtained from the CCD cameras 17a and 17b. It is configured to.

【0022】次に、斯かる光源ランプの位置決め機構の
動作について、図3のフローチャートを参照しながら説
明する。まず、露光装置の電源を入れて露光ステージ1
上に光を照射する(S1)。次いで照度計5を走査させ
て露光領域の照度データを得る(S2)。続いて、照度
計5から得られた照度データを基に図4に示すようなデ
ータマップを作成する(S3)。図4のデータマップで
は、露光領域V2が例えばマス目状に細かく区画されて
おり、各々の区画Wにおける照度データが照度計5によ
って測定される。
Next, the operation of the light source lamp positioning mechanism will be described with reference to the flow chart of FIG. First, turn on the power of the exposure apparatus to expose stage 1
Light is radiated on the top (S1). Next, the illuminance meter 5 is scanned to obtain illuminance data of the exposure area (S2). Then, a data map as shown in FIG. 4 is created based on the illuminance data obtained from the illuminance meter 5 (S3). In the data map of FIG. 4, the exposure area V2 is finely divided into, for example, a grid, and the illuminance data in each of the divisions W is measured by the illuminance meter 5.

【0023】続いて、図4のデータマップを基に露光領
域の照度均一性が演算回路6によって検出される(S
4)。本実施例では、露光領域の照度均一性が以下のよ
うに検出される。まず、データマップの各区画Wにおけ
る照度データの中から最大値と最小値とを抽出し、これ
ら各値を所定の数式に当てはめて得られる数値と、予め
設定された基準値とを比較することにより検出される。
また、これと同時に、露光領域全体の照度が許容レベル
に確保されているかどうかによっても検出される。ここ
で、露光領域の照度均一性が(良)と検出された場合
は、光源ランプ1が正規の配置状態にあるのでそのまま
動作を終了し(S5)、(否)と検出された場合は次の
ステップ(S6)に進む。
Subsequently, the illuminance uniformity of the exposure area is detected by the arithmetic circuit 6 based on the data map of FIG. 4 (S
4). In this embodiment, the illuminance uniformity of the exposure area is detected as follows. First, the maximum value and the minimum value are extracted from the illuminance data in each section W of the data map, and a numerical value obtained by applying each of these values to a predetermined mathematical expression is compared with a preset reference value. Detected by.
At the same time, it is also detected depending on whether or not the illuminance of the entire exposure area is secured at an allowable level. Here, when the illuminance uniformity of the exposure area is detected as (good), the light source lamp 1 is in the regular arrangement state, and thus the operation is ended (S5). To step (S6).

【0024】さらに演算回路6は、照度計5から得られ
る照度データを基にxy方向における光源ランプ1の位
置ズレ量を算出する(S6)。ここで光源ランプ1の位
置ズレ量の算出に際しては、例えば図4に示すデータマ
ップの中でハッチングを施した区画Wの照度データを抽
出し、さらにこの抽出した照度データの中から許容レベ
ル以下の区画Wを割り出して、その寸法領域を算出す
る。この寸法領域が、図5に示すようなx、y方向にお
ける光源ランプ1の位置ズレ量L1、L2として算出さ
れる。
Further, the arithmetic circuit 6 calculates the amount of positional deviation of the light source lamp 1 in the xy directions based on the illuminance data obtained from the illuminance meter 5 (S6). Here, when calculating the amount of positional deviation of the light source lamp 1, for example, the illuminance data of the hatched section W in the data map shown in FIG. 4 is extracted, and the illuminance data below the allowable level is extracted from the extracted illuminance data. The section W is calculated, and the size area thereof is calculated. This size region is calculated as the positional deviation amounts L1 and L2 of the light source lamp 1 in the x and y directions as shown in FIG.

【0025】続いて、演算回路6はステップS6で算出
されたxy方向の位置ズレ量が0(ゼロ)であるかどう
かを判定(S7)する。ステップS7において、xy方
向の位置ズレ量が0(ゼロ)でないと判定された場合
は、その位置ズレ量を基に制御回路8が駆動部7を操作
し、これによりxy方向における光源ランプ1の位置が
修正される(S8)。
Subsequently, the arithmetic circuit 6 determines whether or not the amount of positional deviation in the xy directions calculated in step S6 is 0 (zero) (S7). When it is determined in step S7 that the amount of positional deviation in the xy directions is not 0 (zero), the control circuit 8 operates the drive unit 7 based on the amount of positional deviation, whereby the light source lamp 1 in the xy directions is operated. The position is corrected (S8).

【0026】一方、ステップS7において、xy方向の
位置ズレ量が0(ゼロ)であると判定された場合は、照
度計5から得られた照度データを基にz方向における光
源ランプ1の位置ズレ量が算出され(S9)、さらにそ
の算出した位置ズレ量を基に制御回路8が駆動部7を操
作して、z方向における光源ランプ1の位置が修正され
る(S8)。
On the other hand, when it is determined in step S7 that the amount of positional deviation in the xy directions is 0 (zero), the positional deviation of the light source lamp 1 in the z direction is based on the illuminance data obtained from the illuminance meter 5. The amount is calculated (S9), and the control circuit 8 operates the drive unit 7 based on the calculated amount of positional deviation to correct the position of the light source lamp 1 in the z direction (S8).

【0027】こうしてxyz方向における光源ランプ1
の位置修正が完了したら、再度ステップS2に戻って照
度計5を走査させ、先程と同様に露光領域の照度均一性
を確認し、OKであれば位置決め動作を終了する(S
5)。
Thus, the light source lamp 1 in the xyz directions
When the position correction is completed, the process returns to step S2 again, the illuminance meter 5 is scanned, the illuminance uniformity of the exposure area is confirmed in the same manner as before, and if OK, the positioning operation is ended (S).
5).

【0028】また、上述したステップS6において、光
源ランプ1の位置ズレの度合いが大きすぎるなどの理由
から位置ズレ量が算出できない場合は、算出不能となっ
てステップS10へ進む。ステップS10では、光源ラ
ンプ1の側方に設置したCCDカメラ17a、17bに
より光源ランプ1の位置が確認される。ここで確認され
た観測データは第2の演算回路18に送られる。第2の
演算回路18では、CCDカメラ17a、17bから得
られる観測データを基にxyz方向における光源ランプ
1の位置ズレ量を算出する(S11)。後は、その位置
ズレ量を基に光源ランプ1の位置修正を行い(S8)、
その後ステップS2に戻って動作を再開する。ここで説
明したステップS10、S11、S8の動作を行うこと
により、次の動作フローでは少なくとも光源ランプ1の
位置ズレ量がステップS6で算出可能となる。
In step S6 described above, if the positional deviation amount cannot be calculated because the degree of positional deviation of the light source lamp 1 is too large, the calculation becomes impossible and the process proceeds to step S10. In step S10, the position of the light source lamp 1 is confirmed by the CCD cameras 17a and 17b installed on the side of the light source lamp 1. The observation data confirmed here is sent to the second arithmetic circuit 18. The second arithmetic circuit 18 calculates the positional deviation amount of the light source lamp 1 in the xyz directions based on the observation data obtained from the CCD cameras 17a and 17b (S11). After that, the position of the light source lamp 1 is corrected based on the position shift amount (S8),
Then, the process returns to step S2 to restart the operation. By performing the operations of steps S10, S11, and S8 described here, at least the positional deviation amount of the light source lamp 1 can be calculated in step S6 in the next operation flow.

【0029】本実施例における露光装置では、このよう
な動作に従って光源ランプ1の位置決めが行われるとと
もに、この位置決め動作によって露光領域の照度均一性
が確保される。
In the exposure apparatus of this embodiment, the light source lamp 1 is positioned in accordance with such an operation, and the positioning operation ensures the illuminance uniformity of the exposure area.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
露光領域における照度均一性の調整が、人手を頼ること
なく全て自動で行われるようになるため、従来において
要求されていた作業者の熟練度や、調整にかかる作業負
担が解消される。また、従来のように同じような作業を
何度も繰り返し行う必要がないことから、調整作業の時
間が大幅に短縮される。さらに、調整作業の自動化によ
って、作業者間での調整精度のバラツキや、調整作業に
おける所要時間のバラツキも解消される。
As described above, according to the present invention,
Since the adjustment of the illuminance uniformity in the exposure area can be automatically performed without relying on human hands, the skill level of the operator and the work load required for the adjustment, which have been conventionally required, can be eliminated. In addition, since it is not necessary to repeat the same work many times as in the conventional case, the time for the adjustment work is significantly shortened. Further, the automation of the adjustment work eliminates the variations in the adjustment accuracy among the workers and the variations in the time required for the adjustment work.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例における露光装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus in an embodiment.

【図2】駆動部の一例を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a drive unit.

【図3】実施例における動作フローチャートである。FIG. 3 is an operation flowchart in the embodiment.

【図4】データマップを説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a data map.

【図5】露光領域の配置状態の一例を説明する図であ
る。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a layout state of exposure areas.

【図6】従来の露光装置を示す概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a conventional exposure apparatus.

【図7】照度分布を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating an illuminance distribution.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源ランプ 2 反射板 3 露光ステージ 4 レンズ 5 照度計 6 演算回
路 7 駆動部 17a、1
7b CCDカメラ
1 Light Source Lamp 2 Reflector 3 Exposure Stage 4 Lens 5 Illuminance Meter 6 Arithmetic Circuit 7 Drive Unit 17a, 1
7b CCD camera

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 反射板に近接して配置された光源ランプ
と、前記光源ランプと対向状態に設置された露光ステー
ジと、前記光源ランプと前記露光ステージとの間に配置
されたレンズとを備え、前記光源ランプから発せられた
光が前記レンズを通して前記露光ステージ上に照射され
る露光装置において、 前記露光ステージの上面に取り付けられたもので、前記
露光ステージ上の露光領域の照度データを得るための照
度計と、 前記照度計によって得られる照度データを基に前記露光
領域における照度均一性を検出して前記光源ランプの位
置ズレ量を算出する演算回路と、 前記演算回路によって算出された位置ズレ量を基に前記
光源ランプを所定方向に移動させる駆動部とを具備した
ことを特徴とする露光装置における光源ランプの位置決
め機構。
1. A light source lamp disposed in the vicinity of a reflector, an exposure stage disposed opposite to the light source lamp, and a lens disposed between the light source lamp and the exposure stage. An exposure apparatus in which light emitted from the light source lamp is irradiated onto the exposure stage through the lens, which is mounted on an upper surface of the exposure stage to obtain illuminance data of an exposure area on the exposure stage. Illuminance meter, an arithmetic circuit that detects the illuminance uniformity in the exposure area based on the illuminance data obtained by the illuminance meter, and calculates the positional deviation amount of the light source lamp, and the positional deviation calculated by the arithmetic circuit. A light source lamp positioning mechanism in an exposure apparatus, comprising: a drive unit that moves the light source lamp in a predetermined direction based on an amount.
【請求項2】 前記光源ランプの位置を観測する一対の
CCDカメラを設置して、前記各CCDカメラによって
得られる観測データを基に前記光源ランプの位置を修正
することにより、少なくとも前記照度計によって得られ
る照度データから前記光源ランプの位置ズレ量を算出可
能としたことを特徴とする請求項1記載の露光装置にお
ける光源ランプの位置決め機構。
2. A pair of CCD cameras for observing the position of the light source lamp is installed, and the position of the light source lamp is corrected based on the observation data obtained by each CCD camera, so that at least the illuminance meter 2. The light source lamp positioning mechanism in an exposure apparatus according to claim 1, wherein the positional deviation amount of the light source lamp can be calculated from the obtained illuminance data.
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