JPH065206A - プラズマディスプレイパネルのセル障壁形成方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネルのセル障壁形成方法

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Publication number
JPH065206A
JPH065206A JP4184697A JP18469792A JPH065206A JP H065206 A JPH065206 A JP H065206A JP 4184697 A JP4184697 A JP 4184697A JP 18469792 A JP18469792 A JP 18469792A JP H065206 A JPH065206 A JP H065206A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wax
cell barrier
barrier
substrate
cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP4184697A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Ishiga
浩 石賀
Motohiro Oka
素裕 岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPH065206A publication Critical patent/JPH065206A/ja
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 工程の簡略化を図るとともに、高さが一定で
精度のよいセル障壁を形成する。 【構成】 基板1上にセル障壁5の高さに相当する厚み
でワックス2を塗布し、このワックス2にセル障壁5の
パターンで溝3を形成し、この溝3内にガラスペースト
4を充填した後、熱処理を行って基板1上のワックス2
を溶融除去し、基板1全体に対して焼成を行う。この1
回の操作で高さの一定した精度の良いセル障壁5が形成
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル(以下PDPと記す)の製造工程に係るものであ
り、詳しくはPDPのセル障壁形成方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、PDPにおけるセル障壁の形成方
法としては、ガラス等の基板上にガラスペーストをスク
リーン印刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、この
ペーストを乾燥、焼成して所望のパターンからなるセル
障壁を形成する方法が知られている。また、PDPのセ
ル障壁形成に利用できる他の方法として、基板上の非パ
ターン部にフォトレジストからなる焼却除去層を形成し
ておき、さらに基板上の全面にパターン形成層を施して
から基板全体を焼成することにより目的の厚膜パターン
を得る方法も知られている(例えば、特開昭63−11
6846号公報参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のスクリーン印刷
による方法では、PDPのセル障壁のような厚膜パター
ンを形成するに際し、上記したように複数回のスクリー
ン印刷により重ね刷りをして所定の厚さにする方法が採
られているが、スクリーン印刷で例えば50〜100μ
mの膜厚を得るためには5〜10回の重ね刷りを必要と
し、そのたびごとに乾燥工程が入ることとなり、その結
果として極めて生産性が悪く歩留りを低下させるという
問題点があった。さらにペーストの粘度、チクソトロピ
ー性などによりパターンの線幅精度が損なわれるという
問題点もあった。
【0004】また、基板上にフォトレジストからなる焼
却除去層を設けておき、パターン形成層を施した後に全
面焼成を行う方法では、現像にウェットプロセスが入る
ことから操作が煩雑になるとともに、高価なフォトレジ
ストを焼却するためにコスト高になるという問題点があ
った。さらに、フォトレジスト層の厚みが増えれば、焼
成時に障壁材にダメージを与えたり有機分が完全に焼却
しきれないという重大な問題点も有していた。
【0005】本発明は、このような従来技術の問題点を
解消するために創案されたものであり、生産性を改善し
歩留りを向上させ、かつ高さが一定で精度の良いセル障
壁を形成できるPDPのセル障壁形成方法を提供するこ
とを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のPDPのセル障壁形成方法は、前面板と、
表示要素用セルを構成するマトリクス状又はライン状の
パターンからなるセル障壁を有する背面板とを、互いに
平行に対向するように配設してなるPDPにおける前記
セル障壁を形成する方法において、次の各工程を順に行
うことを要旨とする。 (1)背面板となる基板上に所望のセル障壁の高さに相
当する厚みでワックスを塗布する第1工程。 (2)目的とするセル障壁のパターンに対応した部分の
ワックスを除去して溝を形成する第2工程。 (3)焼成して障壁材となるガラスペーストを前記の溝
内に充填し、乾燥して硬化させる第3工程。 (4)熱処理を行い、基板上のワックスを除去する第4
工程。 (5)基板全体に対して焼成を行ってガラスペーストの
有機分を焼失し無機質からなる障壁部分を形成する第5
工程。
【0007】ここで、ワックスを補助材料として使用す
るのは、一般にワックスが次のような性質を有している
からである。(a)融点がハッキリしている。(b)溶
融粘度が低い。(c)燃焼可能である。(d)無味、無
臭、無害である。(e)化学的に安定している。(f)
溶剤に対する溶解度が小さい。(g)溶融時の濡れ性が
良好である。(h)熱伝導度が小さい。(i)切削加工
が容易である。(j)離型性が良好である。(k)低価
格である。
【0008】これらの性質を有するためにワックスは溝
加工を容易に行うことができ、また、基板全体を焼成す
る前に約50℃から約150℃という低温で熱処理する
ことによりワックスを溶融し、基板を立てかけて流した
り或いは吸収剤で吸収するなどして容易に基板上から除
去することができる。また、少量残留したとしても、簡
単に焼成され全て焼却されてしまう。また、(d)及び
(e)の性質から他の部材と接触しても相手を化学的に
腐蝕するようなことがない。
【0009】ワックスの種類としては大きく天然ワック
スと合成ワックスに分けられる。そして、天然ワックス
の中では石油系ワックスのパラフィンワックス、マイク
ロクリスタリンワックス、鉱物系ワックスのモンタンワ
ックスが、合成ワックスの中では合成炭化水素ワックス
のフィッシャー・トロプシュワックス、ポリエチレンワ
ックスが本発明には有用である。
【0010】そして、ワックスに溝を形成する手段とし
ては、サンドブラスト、ワイヤーソー、マイクロスライ
サー、YAGレーザー等による手段が適宜用いられる。
【0011】また、充填するガラスペーストとしては、
従来のスクリーン印刷による方法で使用されているガラ
スペースト以外に、含有バインダー樹脂として紫外線硬
化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用したもの、さらにはこれ
らの樹脂の代わりに水ガラスをバインダー樹脂に使用し
たものが使用できる。
【0012】
【作用】本発明によれば、基板上にワックスを塗布して
これに溝を形成し、この溝に充填したガラスペーストを
乾燥して硬化させた後、約150℃以下の低温でワック
スを溶融除去して焼却すべき有機分を極力少なくできる
ので、基板全体に対して焼成を行うことにより、基板全
面で高さの一定した形状の良いかつ有機分のないセル障
壁が形成される。
【0013】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を具体的
に説明する。
【0014】図1は本発明に係るワックスの塗布方法を
示すものであり、(a)〜(e)はそれぞれ前記の第1
〜5工程を示している。
【0015】まず、(a)に示すように、ガラスからな
る基板1上にワックス2を膜厚100μmで塗布した。
本実施例ではワックス2としてポリエチレンワックス
(BASF社製「AF30」(融点:約120℃))を
使用した。
【0016】次に、(b)に示すように、ライン幅10
0μm、ピッチ300μmの溝3をサンドブラストによ
り形成した。使用した装置は不二製作所(株)のSC−
3型(エアー圧:5kgf/cm2 )で、研摩材はアラ
ンダム♯800である。ブラスト用のレジストには東京
応化工業(株)製「ORDYL BF−200」を使用
し、このブラスト用レジストのパターニングは所望パタ
ーンのマスクを介しフォトリソ法によって行った。
【0017】続いて、(c)に示すように、水ガラスを
用いたガラスペースト4を溝3の内部に充填し、これを
90℃で約20分間オーブンで乾燥させた。このガラス
ペーストの組成は、アルミナ(昭和電工(株)製「CB
−A05S」)=7重量部、耐熱黒色顔料(大日精化
(株)製「ダイピロサイドカラーblack♯959
0」)=1重量部、水ガラス=2重量部である。
【0018】次いで、(d)に示すように、約140℃
で10分間熱処理した後、溶融したワックス2を吸収剤
で除去した。
【0019】最後に、(e)に示すように、基板1全体
に焼成を行い、線幅100μm、ピッチ300μm、高
さ100μmのセル障壁5を形成した。
【0020】以上の工程により、高さが一定で形状の精
度が良く、かつ有機分のないセル障壁5が得られた。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のPDPの
セル障壁形成方法は、1回の操作で所望の膜厚にパター
ンが得られることから、従来のスクリーン印刷による方
法に比べ、処理時間が短縮されるとともに、位置合わせ
等の操作も1回で済むため、工程の簡略化とセル障壁の
形状や高さの均一性向上を図ることができ、また、フォ
トレジストを使用する方法に比べ、安価にしかも有機分
のないセル障壁を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプラズマディスプレイパネルのセ
ル障壁形成方法の実施例を示す工程図である。
【符号の説明】
1 基板 2 ワックス 3 溝 4 ガラスペースト 5 セル障壁

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 前面板と、表示要素用セルを構成するマ
    トリクス状又はライン状のパターンからなるセル障壁を
    有する背面板とを、互いに平行に対向するように配設し
    てなるプラズマディスプレイパネルにおける前記セル障
    壁を形成する方法において、次の各工程を順に行うこと
    を特徴とするプラズマディスプレイパネルのセル障壁形
    成方法。 (1)背面板となる基板上に所望のセル障壁の高さに相
    当する厚みでワックスを塗布する第1工程。 (2)目的とするセル障壁のパターンに対応した部分の
    ワックスを除去して溝を形成する第2工程。 (3)焼成して障壁材となるガラスペーストを前記の溝
    内に充填し、乾燥して硬化させる第3工程。 (4)熱処理を行い、基板上のワックスを除去する第4
    工程。 (5)基板全体に対して焼成を行ってガラスペーストの
    有機分を焼失し無機質からなる障壁部分を形成する第5
    工程。
JP4184697A 1992-06-19 1992-06-19 プラズマディスプレイパネルのセル障壁形成方法 Pending JPH065206A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10800223B2 (en) 2016-09-27 2020-10-13 Hitachi Automotive Systems, Ltd. Air suspension system

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US10800223B2 (en) 2016-09-27 2020-10-13 Hitachi Automotive Systems, Ltd. Air suspension system

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