JPH065099U - イオン注入装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 １ロットのウエーハ数がバッチ数よりも少な
い場合に、ウエーハと共にダミーウエーハをディスク６
に存在させることによって、ウエーハをバッチ単位にイ
オン注入処理するものである。そして、ウエーハ数とダ
ミーウエーハ数との合計がディスク６上においてバッチ
数となるように、ダミーウエーハの搬入数および搬出数
を前後する１ロットのウエーハ数を基にして求める管理
手段と、ウエーハのディスク６への搬入時に、搬入数の
ダミーウエーハをディスクに搬入する第１エアロック室
５と、ウエーハのディスク６からの搬出時に、搬出数の
ダミーウエーハをディスク６から搬出する第２エアロッ
ク室７とを有している。 【効果】 ウエーハ数とダミーウエーハ数との合計がデ
ィスク６上においてバッチ数となるように、ダミーウエ
ーハが搬入および搬出されるため、処理対象となるウエ
ーハ数に対するロットの切り替え時間の相対的な増大化
を抑制できる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、１ロットのウエーハの枚数（ウエーハ数）が１バッチの枚数（バッ チ数）よりも少ない場合に、ウエーハと共にダミーウエーハをディスクに存在さ せることによって、ウエーハをバッチ単位にイオン注入処理するイオン注入装置 に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

一般に、大電流型のイオン注入装置は、ディスク外周部に均等に配設された複 数の載置部にウエーハを保持させることによって、バッチ単位にイオン注入処理 （以下、注入処理と称する）を行なうようになっている。上記のディスクは、高 速に回転すると共に往復並進移動することによってウエーハをイオンビームの通 過経路内に位置させるようになっており、全載置部にウエーハが存在している場 合には、ディスクの重心と回転中心とが一致するため、安定した回転により全ウ エーハを同一の条件下で注入処理できることになる。

【０００３】 ところが、例えば試験や研究等においては、バッチ数よりも少ないウエーハに 対して注入処理を行なう場合がある。そして、一部の載置部にウエーハの存在し ない状態でディスクを回転させた場合には、ディスクの重心と回転中心とがずれ て不安定な回転になるため、全ウエーハを同一の条件下で注入処理することが困 難になる。そこで、バッチ数よりも少ないウエーハに対して注入処理する場合に は、ウエーハの存在しない載置部にダミーウエーハを存在させる方法を採ること によって、ディスクの重心と回転中心とを一致させるようになっている。

【０００４】 ところで、ウエーハの存在しない載置部にダミーウエーハを存在させるために は、ウエーハ数とダミーウエーハの枚数（ダミーウエーハ数）との合計をバッチ 数に一致させる必要がある。従って、従来のイオン注入装置は、１ロットの注入 処理毎に、未処理のウエーハ数に対応させてダミーウエーハ数を決定し、バッチ 数に一致した枚数のウエーハとダミーウエーハとをディスクに供給するようにな っている。

【０００５】 即ち、バッチ数が１３枚であり、１ロットの枚数が２枚、３枚、１枚、および ４枚のウエーハに対して注入処理を行なう場合について具体的に説明する。

【０００６】 先ず、図３１に示すように、第１ステージ５１に１ロット目の２枚のウエーハ を収容したカセットが載置されることになると共に、第２ステージ５２に２ロッ ト目の３枚のウエーハを収容したカセットが載置されることになる。そして、図 ３２に示すように、第１ステージ５１から１ロット目の２枚のウエーハが取り出 され、バッファステージ５３に一時的に保管されることになると共に、ダミーウ エーハステージ５４から１１枚のダミーウエーハが取り出され、バッファステー ジ５３に一時的に保管されることになる。これにより、バッファステージ５３に は、２枚のウエーハと１１枚のダミーウエーハとによってバッチ数（１３枚）に 一致したウエーハおよびダミーウエーハが存在することになる。

【０００７】 上記の１ロット目のウエーハおよびダミーウエーハは、図３３に示すように、 バッファステージ５３から第１エアロック室５５に搬送されることになる。また 、これと同時に、第２ステージ５２から２ロット目の３枚のウエーハが取り出さ れ、バッファステージ５３に一時的に保管されることになると共に、ダミーウエ ーハステージ５４から１０枚のダミーウエーハが取り出され、バッファステージ ５３に一時的に保管されることになる。

【０００８】 次いで、図３４に示すように、第１エアロック室５５から１ロット目のウエー ハおよびダミーウエーハがディスク５６に搬送され、第１回目の注入処理が行な われることになる。また、２ロット目のウエーハおよびダミーウエーハが、バッ ファステージ５３から第１エアロック室５５に搬送されることになる。

【０００９】 第１回目のイオン注入が終了すると、図３５に示すように、１ロット目のウエ ーハおよびダミーウエーハが第２エアロック室５７に搬送されることになると共 に、２ロット目のウエーハおよびダミーウエーハが第１エアロック室５５からデ ィスク５６に搬送され、第２回目のイオン注入が行なわれることになる。そして 、図３６に示すように、第２回目の注入処理時に、１ロット目のウエーハおよび ダミーウエーハが第２エアロック室５７から第１ステージ５１およびダミーウエ ーハステージ５４にそれぞれ搬送され、１ロット目の注入処理が終了することに なる。

【００１０】 この後、図３７に示すように、第１ステージ５１に３ロット目の１枚のウエー ハを収容したカセットが載置されることになる。そして、図３８ないし図４６に 示すように、上述と同様の手順によって、バッチ数（１３枚）に一致するように 、１２枚のダミーウエーハがバッファステージ５３に準備された後、第３回目の 注入処理が行なわれ、続けて、第４回目の注入処理の準備が行なわれることにな る。

【００１１】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記従来のイオン注入装置では、１ロットの注入処理毎に、デ ィスクに存在するウエーハおよびダミーウエーハの全数を入れ替えているため、 バッチ数よりも少ないウエーハ数のロットを連続的に注入処理する場合、処理対 象となるウエーハ数に対してロットの切り替え時間が相対的に長くなるという問 題がある。

【００１２】 従って、本考案においては、バッチ数よりも少ないウエーハ数のロットを連続 的に注入処理する場合に生じる上記の問題を解決することができるイオン注入装 置を提供することを目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】

請求項１のイオン注入装置は、上記課題を解決するために、１ロットのウエー ハ数がバッチ数よりも少ない場合に、ウエーハと共にダミーウエーハをディスク に存在させることによって、上記ウエーハをバッチ単位に注入処理するものであ り、下記の特徴を有している。

【００１４】 即ち、イオン注入装置は、ウエーハ数とダミーウエーハ数との合計がディスク 上においてバッチ数となるように、ダミーウエーハの搬入数および搬出数を前後 する１ロットのウエーハ数を基にして求める管理手段と、ウエーハのディスクへ の搬入時に、上記管理手段によって求められた搬入数のダミーウエーハをディス クに搬入する搬入手段と、ウエーハのディスクからの搬出時に、上記管理手段に よって求められた搬出数のダミーウエーハをディスクから搬出する搬出手段とを 有していることを特徴としている。

【００１５】 また、請求項２のイオン注入装置は、ウエーハ数とダミーウエーハ数との合計 がディスク上においてバッチ数となるように、ダミーウエーハの搬入数および搬 出数を前後する１ロットのウエーハ数を基にして求める管理手段と、ウエーハの ディスクへの搬入時に、上記管理手段によって求められた搬入数のダミーウエー ハをディスクに搬入する搬入手段と、ウエーハのディスクからの搬出時に、上記 管理手段によって求められた搬出数のダミーウエーハをディスクから搬出する搬 出手段とを有し、上記ウエーハの複数ロットが同一カセットに収容されて準備さ れることを特徴としている。

【００１６】

【作用】

請求項１および請求項２の構成によれば、ウエーハ数とダミーウエーハ数との 合計がディスク上においてバッチ数となるように、ダミーウエーハの搬入数およ び搬出数が求められ、これらの搬入数および搬出数に応じてダミーウエーハが搬 入および搬出されるため、従来のように、１ロットの注入処理毎に、ディスクに 存在するウエーハおよびダミーウエーハの全数を入れ替える場合よりも、明らか に搬入数および搬出数が減少することになる。これにより、イオン注入装置は、 バッチ数よりも少ないウエーハ数のロットを連続的に注入処理する場合、処理対 象となるウエーハ数に対するロットの切り替え時間の相対的な増大化を抑制する ことが可能になる。

【００１７】 さらに、請求項２の構成によれば、ウエーハは、複数ロットが同一のカセット に収容されて準備されるようになっているため、ウエーハを準備する際のカセッ トの交換に要する時間を短縮化できるようにもなる。

【００１８】

【実施例】

〔実施例１〕 本考案の一実施例を図１ないし図１６に基づいて説明すれば、以下の通りであ る。

【００１９】 本実施例に係るイオン注入装置は、図１に示すように、複数のウエーハをバッ チ単位に注入処理させるディスク６を有している。このディスク６は、高速に回 転すると共に往復並進移動することによってウエーハをイオンビームの通過経路 内に位置させるようになっており、ディスク６の外周部には、バッチ数に対応し た載置部が均等に配設されている。

【００２０】 上記のディスクは、高真空状態のターゲットチャンバに配設されており、この ターゲットチャンバの隔壁には、高真空状態と大気圧状態とを短時間に切り替え る第１エアロック室５（搬入手段）および第２エアロック室７（搬出手段）が設 けられている。これにより、ターゲットチャンバは、ウエーハが第１および第２ エアロック室５・７を介して搬入および搬出されることによって、複数のウエー ハからなるロットの切り換え時でも、高真空状態を維持できるようになっている 。

【００２１】 上記の第１および第２エアロック室５・７の大気圧側には、処理対象となるウ エーハをロット単位に収容したカセットが載置される第１および第２ステージ１ ・２、補充用のダミーウエーハが備えられたダミーウエーハステージ４、ウエー ハおよびダミーウエーハを一時的に保管するバッファステージ３が設けられてい る。そして、上記の第１および第２エアロック室５・７および各ステージ１・２ ・３・４間には、図示しない搬送装置（搬入手段、搬出手段）が設けられており 、この搬送装置は、ウエーハおよびダミーウエーハの搬送を行なうようになって いる。

【００２２】 上記の搬送装置により搬送されるウエーハおよびダミーウエーハは、前後する １ロットのウエーハ数Ｓ_n-1 ・Ｓ_n を基にして図示しない管理手段によって搬送 枚数や搬送時期等が管理されるようになっている。

【００２３】 即ち、管理手段は、バッチ数Ｔおよび各ロット（１〜ｎロット）のウエーハ数 Ｓ₁ ・Ｓ₂ ・…・Ｓ_n-1 ・Ｓ_n を記憶している。そして、１ロット目のウエーハ を注入処理する場合には、バッチ数Ｔからウエーハ数Ｓ₁ を減算し、ダミーウエ ーハのディスク６への搬入数ｂを求めた後、ウエーハ数Ｓ₁ のウエーハと搬入数 ａのダミーウエーハとをディスク６に搬入するようになっている。

【００２４】 また、ｎロット目のウエーハを注入処理する場合には、ｎ−１ロット目のウエ ーハ数Ｓ_n-1 と、ｎロット目のウエーハ数Ｓ_n とを比較するようになっている。 そして、ダミーウエーハのディスク６への搬入数ａは、Ｓ_n-1 −Ｓ_n ＞０の場合 、ａ＝Ｓ_n-1 −Ｓ_n から求められるようになっている一方、Ｓ_n-1 −Ｓ_n ≦０の 場合、ａ＝０とされるようになっている。また、ダミーウエーハのディスク６へ の搬出数ｂは、Ｓ_n-1 −Ｓ_n ≧０の場合、ｂ＝０とされるようになっている一方 、Ｓ_n-1 −Ｓ_n ＜０の場合、ｂ＝Ｓ_n −Ｓ_n-1 から求められるようになっている 。

【００２５】 上記の構成において、イオン注入装置の動作を具体的に説明する。尚、バッチ 数Ｔが１３枚であり、１〜４ロット目のウエーハ数Ｓ₁ ・Ｓ₂ ・Ｓ₃ ・Ｓ₄ が２ 枚、３枚、１枚、４枚であるとする。

【００２６】 先ず、図１に示すように、第１ステージ１に１ロット目の２枚のウエーハを収 容したカセットが載置されることになると共に、第２ステージ２に２ロット目の ３枚のウエーハを収容したカセットが載置されることになる。そして、図２に示 すように、第１ステージ１から１ロット目の２枚のウエーハが取り出され、バッ ファステージ３に一時的に保管されることになる。

【００２７】 次に、バッチ数Ｔ（１３枚）からウエーハ数Ｓ₁ （２枚）が減算されることに よって、ダミーウエーハのディスク６への搬入数ａ（１１枚）が求められること になり、ダミーウエーハステージ４から１１枚のダミーウエーハが取り出され、 バッファステージ３に一時的に保管されることになる。これにより、バッファス テージ３には、２枚のウエーハと１１枚のダミーウエーハとによってバッチ数Ｔ （１３枚）のウエーハとダミーウエーハとが存在することになる。

【００２８】 上記の１ロット目のウエーハおよびダミーウエーハは、図３に示すように、バ ッファステージ３から第１エアロック室５に搬送されることになる。また、これ と同時に、第２ステージ２から２ロット目の３枚のウエーハが取り出され、バッ ファステージ３に一時的に保管されることになると共に、ｎ−１ロット目である １ロット目のウエーハ数Ｓ₁ （２枚）と、ｎロット目である２ロット目のウエー ハ数Ｓ₂ （３枚）とが比較されることになる。そして、この場合には、Ｓ₁ （２ 枚）−Ｓ₂ （３枚）＜０であるため、ダミーウエーハのディスク６への搬入数ａ がａ＝０から０枚とされると共に、ダミーウエーハのディスク６からの搬出数ｂ がｂ＝Ｓ₂ （３枚）−Ｓ₁ （２枚）から１枚とされることになる。これにより、 バッファステージ３には、ダミーウエーハがダミーウエーハステージ４から搬送 されずに、２ロット目の３枚のウエーハのみが存在することになる。

【００２９】 この後、図４に示すように、第１エアロック室５から１ロット目のウエーハお よびダミーウエーハがディスク６に搬入され、第１回目の注入処理が行なわれる ことになる。また、２ロット目のウエーハがバッファステージ３から第１エアロ ック室５に搬送されることになる。

【００３０】 第１回目のイオン注入が終了すると、図５に示すように、１ロット目の２枚の ウエーハと、上述の判定により搬出数ｂが求められた１枚のダミーウエーハとが 第２エアロック室７に搬出されることになる。一方、２ロット目のウエーハが第 １エアロック室５からディスク６に搬入され、第２回目のイオン注入が行なわれ ることになる。そして、図６に示すように、第２回目の注入処理時に、１ロット 目のウエーハおよびダミーウエーハが第２エアロック室７から第１ステージ１お よびダミーウエーハステージ４にそれぞれ搬送され、１ロット目の注入処理が終 了することになる。

【００３１】 この後、図７に示すように、第１ステージ１に３ロット目の１枚のウエーハを 収容したカセットが載置されることになる。そして、図８に示すように、第１ス テージ１から３ロット目の３枚のウエーハが取り出され、バッファステージ３に 一時的に保管されることになると共に、ｎ−１ロット目である２ロット目のウエ ーハ数Ｓ₂ （３枚）と、ｎロット目である３ロット目のウエーハ数Ｓ₃ （１枚） とが比較されることになる。そして、この場合には、Ｓ₂ （３枚）−Ｓ₃ （１枚 ）＞０であるため、ダミーウエーハのディスク６への搬入数ａがａ＝Ｓ₂ （３枚 ）−Ｓ₃ （１枚）から２枚とされると共に、ダミーウエーハのディスク６からの 搬出数ｂがｂ＝０から０枚とされることになる。これにより、バッファステージ ３には、２枚のダミーウエーハがダミーウエーハステージ４から搬送され、２ロ ット目の１枚のウエーハと２枚のダミーウエーハとが存在することになる。

【００３２】 この後、図９に示すように、３ロット目のウエーハおよびダミーウエーハがバ ッファステージ３から第１エアロック室５に搬送されることになる。そして、第 ２回目のイオン注入が終了すると、図１０に示すように、上述の判定により搬出 数ｂが０枚とされているため、２ロット目の３枚のウエーハのみが第２エアロッ ク室７に搬出されることになる。また、３ロット目のウエーハおよびダミーウエ ーハが第１エアロック室５からディスク６に搬入され、第３回目のイオン注入が 行なわれることになる。そして、図１１に示すように、２ロット目のウエーハが 第２エアロック室７から第２ステージ２に搬送され、２ロット目の注入処理が終 了することになる。

【００３３】 次いで、図１２に示すように、第２ステージ２に４ロット目の４枚のウエーハ を収容したカセットが載置され、図１３に示すように、４ロット目のウエーハが バッファステージ３に一時的に保管されることになる。そして、ｎ−１ロット目 である３ロット目のウエーハ数Ｓ₃ （１枚）と、ｎロット目である４ロット目の ウエーハ数Ｓ₄ （４枚）とが比較され、Ｓ₃ （１枚）−Ｓ₄ （４枚）＜０の成立 により、ダミーウエーハのディスク６への搬入数ａがａ＝０から０枚とされるこ とになると共に、ダミーウエーハのディスク６からの搬出数ｂがＳ₄ （４枚）− Ｓ₃ （１枚）から３枚とされることになる。これにより、バッファステージ３に は、ダミーウエーハがダミーウエーハステージ４から搬送されずに、４ロット目 の４枚のウエーハのみが存在することになる。

【００３４】 この後、図１４に示すように、４ロット目のウエーハのみがバッファステージ ３から第１エアロック室５に搬送されることになる。そして、第３回目のイオン 注入が終了すると、図１５に示すように、上述の判定により搬出数ｂが３枚とさ れているため、３ロット目の１枚のウエーハと３枚のダミーウエーハとが第２エ アロック室７に搬出されることになると共に、４ロット目のウエーハが第１エア ロック室５からディスク６に搬入され、第４回目のイオン注入が行なわれること になる。この後、図１６に示すように、３ロット目のウエーハおよびダミーウエ ーハが第２エアロック室７から第１ステージ１およびダミーウエーハステージ４ に搬送され、３ロット目の注入処理が終了することになる。

【００３５】 このように、本実施例のイオン注入装置は、ウエーハ数とダミーウエーハ数と の合計がディスク６上においてバッチ数Ｔとなるように、ダミーウエーハの搬入 数および搬出数を前後する１ロットのウエーハ数Ｓ_n-1 ・Ｓ_n を基にして求める ようになっている。これにより、本実施例のイオン注入装置は、従来のように、 １ロットの注入処理毎に、ディスク６に存在するウエーハおよびダミーウエーハ の全数を入れ替える場合よりも、明らかに搬入数および搬出数が減少することに なっている。従って、バッチ数よりも少ないウエーハ数のロットを連続的に注入 処理する場合、処理対象となるウエーハ数に対するロットの切り替え時間の相対 的な増大化を抑制することが可能になっている。

【００３６】 〔実施例２〕 本考案の他の一実施例を図１７ないし図３０に基づいて説明すれば、以下の通 りである。尚、実施例１と同一の構成部材には同一の符号を付記し、その説明を 省略する。

【００３７】 本実施例に係るイオン注入装置は、図１７に示すように、ターゲットチャンバ 内に配設されたディスク６と、ターゲットチャンバの隔壁に設けられた第１エア ロック室５および第２エアロック室７と、処理対象となるウエーハが備えられる 第１および第２ステージ１・２と、補充用のダミーウエーハが備えられたダミー ウエーハステージ４と、ウエーハおよびダミーウエーハを一時的に保管するバッ ファステージ３とを有している。

【００３８】 上記の第１および第２ステージ１・２のウエーハは、例えば図２９および図３ ０に示すように、カセット８に収容された形態でもって準備されるようになって いる。このカセット８は、バッチ数以上の段数の収容部を有しており、バッチ数 よりも少ないウエーハ数のロットを連続的に注入処理する場合には、連続するロ ットのウエーハ数の合計がカセット８の段数を越えない範囲において、異なるロ ットのウエーハ９が同一のカセット８に収容されるようになっている。尚、カセ ット８は、図２９に示すように、収容部の間隔を開けてウエーハ９を収容するよ うになっていても良いし、或いは図３０に示すように、各ロットのウエーハを混 在して収容するようになっていても良い。

【００３９】 上記のカセット８に収容された複数のロットからなるウエーハ９は、カセット ８の収容部ＮＯ．とロットＮＯ．とが管理手段によって記憶されるようになって いる。また、この管理手段は、実施例１と同様に、ウエーハ数とダミーウエーハ 数との合計がディスク６上においてバッチ数Ｔとなるように、ダミーウエーハの 搬入数および搬出数を前後する１ロットのウエーハ数Ｓ_n-1 ・Ｓ_n を基にして求 めるようになっている。

【００４０】 上記の構成において、イオン注入装置の動作を具体的に説明する。尚、バッチ 数Ｔが１３枚であり、１〜６ロット目のウエーハ数Ｓ₁ ・Ｓ₂ ・Ｓ₃ ・Ｓ₄ ・Ｓ₅ ・Ｓ₆ が２枚、３枚、１枚、４枚、５枚、５枚であるとする。

【００４１】 先ず、図１７に示すように、第１ステージ１に１〜４ロット目のウエーハを収 容した図２９のカセット８が載置されることになると共に、第２ステージ２に５ ・６ロット目のウエーハを収容したカセットが載置されることになる。そして、 図１８に示すように、第１ステージ１から１ロット目の２枚のウエーハが取り出 され、ダミーウエーハステージ４から１１枚のダミーウエーハが取り出され、バ ッチ数Ｔ（１３枚）に一致したウエーハとダミーウエーハとがバッファステージ ３に一時的に保管されることになる。

【００４２】 上記の１ロット目のウエーハおよびダミーウエーハは、図１９に示すように、 バッファステージ３から第１エアロック室５に搬送されることになる。また、こ れと同時に、第１ステージ１から２ロット目の３枚のウエーハが取り出されるこ とになる。そして、ｎ−１ロット目である１ロット目のウエーハ数Ｓ₁ （２枚） と、ｎロット目である２ロット目のウエーハ数Ｓ₂ （３枚）とが比較されること によって、２ロット目の３枚のウエーハのみがバッファステージ３に一時的に保 管されることになる。

【００４３】 この後、図２０に示すように、第１エアロック室５から１ロット目のウエーハ およびダミーウエーハがディスク６に搬入され、第１回目の注入処理が行なわれ ることになる。また、２ロット目のウエーハがバッファステージ３から第１エア ロック室５に搬送されることになると共に、第１ステージ１から３ロット目の３ 枚のウエーハが取り出され、バッファステージ３に一時的に保管されることにな る。そして、ｎ−１ロット目である２ロット目のウエーハ数Ｓ₂ （３枚）と、ｎ ロット目である３ロット目のウエーハ数Ｓ₃ （１枚）とが比較されることによっ て、ダミーウエーハのディスク６への搬入数ａがａ＝Ｓ₂ （３枚）−Ｓ₃ （１枚 ）から２枚とされると共に、ダミーウエーハのディスク６からの搬出数ｂがｂ＝ ０から０枚とされることになる。

【００４４】 この後、図２１ないし図２８に示すように、第１ステージ１および第２ステー ジ２に備えられた６ロット目までの前後するウエーハ数Ｓ_n-1 ・Ｓ_n が比較され ることによって、ダミーウエーハのディスク６への搬入数ａおよびダミーウエー ハのディスク６からの搬出数ｂが求められ、ディスク６上においてウエーハ数と ダミーウエーハ数との合計がバッチ数Ｔとなるように、ウエーハおよびダミーウ エーハが搬入および搬出されることになる。

【００４５】 このように、本実施例のイオン注入装置は、実施例１と同様に、ウエーハ数と ダミーウエーハ数との合計がディスク６上においてバッチ数Ｔとなるように、ダ ミーウエーハの搬入数および搬出数を前後する１ロットのウエーハ数Ｓ_n-1 ・Ｓ_n を基にして求めるようになっているため、バッチ数よりも少ないウエーハ数の ロットを連続的に注入処理する場合、処理対象となるウエーハ数に対するロット の切り替え時間の相対的な増大化を抑制することが可能になっている。

【００４６】 さらに、本実施例においては、図２９および図３０に示すように、複数のロッ トを同一のカセット８に収容するようになっているため、２つのカセット８によ って６ロットのウエーハ９を注入処理することが可能になっている。よって、こ のイオン注入装置は、ウエーハ９を準備する際のカセット８の交換に要する時間 を短縮化できるようにもなっている。

【００４７】

【考案の効果】

請求項１のイオン注入装置は、以上のように、ウエーハ数とダミーウエーハ数 との合計がディスク上においてバッチ数となるように、ダミーウエーハの搬入数 および搬出数を前後する１ロットのウエーハ数を基にして求める管理手段と、上 記ウエーハのディスクへの搬入時に、上記管理手段によって求められた搬入数の ダミーウエーハをディスクに搬入する搬入手段と、上記ウエーハのディスクから の搬出時に、上記管理手段によって求められた搬出数のダミーウエーハをディス クから搬出する搬出手段とを有している構成である。

【００４８】 これにより、ウエーハ数とダミーウエーハ数との合計がディスク上においてバ ッチ数となるように、ダミーウエーハが搬入および搬出されるため、１ロットの 注入処理毎に、ディスクに存在するウエーハおよびダミーウエーハの全数を入れ 替える場合よりも、処理対象となるウエーハ数に対するロットの切り替え時間の 相対的な増大化を抑制することが可能になるという効果を奏する。

【００４９】 また、請求項２のイオン注入装置は、以上のように、ウエーハ数とダミーウエ ーハ数との合計がディスク上においてバッチ数となるように、ダミーウエーハの 搬入数および搬出数を前後する１ロットのウエーハ数を基にして求める管理手段 と、上記ウエーハのディスクへの搬入時に、上記管理手段によって求められた搬 入数のダミーウエーハをディスクに搬入する搬入手段と、上記ウエーハのディス クからの搬出時に、上記管理手段によって求められた搬出数のダミーウエーハを ディスクから搬出する搬出手段とを有し、上記ウエーハの複数ロットが同一カセ ットに収容されて準備されることを特徴としている。

【００５０】 これにより、請求項１の効果に加えて、複数ロットのウエーハを同一のカセッ トに収容するようになっているため、ウエーハを準備する際のカセットの交換に 要する時間を短縮化できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示すものであり、１および
２ロット目のウエーハが第１および第２ステージに準備
された時の状態を示す説明図である。

【図２】１ロット目のウエーハがバッファステージに移
動された時の状態を示す説明図である。

【図３】１ロット目のウエーハが第１エアロック室に移
動された時の状態を示す説明図である。

【図４】第１回目の注入処理が行なわれる時の状態を示
す説明図である。

【図５】第２回目の注入処理が行なわれる時の状態を示
す説明図である。

【図６】１ロット目のウエーハが第１ステージに移動さ
れた時の状態を示す説明図である。

【図７】３ロット目のウエーハが第１ステージに準備さ
れた時の状態を示す説明図である。

【図８】３ロット目のウエーハがバッファステージに移
動された時の状態を示す説明図である。

【図９】３ロット目のウエーハが第１エアロック室に移
動された時の状態を示す説明図である。

【図１０】第３回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図１１】２ロット目のウエーハが第２ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図１２】４ロット目のウエーハが第１ステージに準備
された時の状態を示す説明図である。

【図１３】４ロット目のウエーハがバッファステージに
移動された時の状態を示す説明図である。

【図１４】４ロット目のウエーハが第１エアロック室に
移動された時の状態を示す説明図である。

【図１５】第４回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図１６】３ロット目のウエーハが第１ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図１７】本考案の他の実施例を示すものであり、１〜
４ロット目および５・６ロット目のウエーハが第１およ
び第２ステージに準備された時の状態を示す説明図であ
る。

【図１８】１ロット目のウエーハがバッファステージに
移動された時の状態を示す説明図である。

【図１９】１ロット目のウエーハが第１エアロック室に
移動された時の状態を示す説明図である。

【図２０】第１回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図２１】第２回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図２２】１ロット目のウエーハが第１ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図２３】第３回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図２４】２ロット目のウエーハが第１ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図２５】第４回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図２６】３ロット目のウエーハが第１ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図２７】第５回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図２８】４ロット目のウエーハが第１ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図２９】複数ロットのウエーハがカセットに収容され
た状態を示す説明図である。

【図３０】複数ロットのウエーハがカセットに収容され
た状態を示す説明図である。

【図３１】従来例を示すものであり、１および２ロット
目のウエーハが第１および第２ステージに準備された時
の状態を示す説明図である。

【図３２】１ロット目のウエーハがバッファステージに
移動された時の状態を示す説明図である。

【図３３】１ロット目のウエーハが第１エアロック室に
移動された時の状態を示す説明図である。

【図３４】第１回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図３５】第２回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図３６】１ロット目のウエーハが第１ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図３７】３ロット目のウエーハが第１ステージに準備
された時の状態を示す説明図である。

【図３８】３ロット目のウエーハがバッファステージに
移動された時の状態を示す説明図である。

【図３９】３ロット目のウエーハが第１エアロック室に
移動された時の状態を示す説明図である。

【図４０】第３回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図４１】２ロット目のウエーハが第２ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【図４２】４ロット目のウエーハが第２ステージに準備
された時の状態を示す説明図である。

【図４３】４ロット目のウエーハがバッファステージに
移動された時の状態を示す説明図である。

【図４４】４ロット目のウエーハが第１エアロック室に
移動された時の状態を示す説明図である。

【図４５】第４回目の注入処理が行なわれる時の状態を
示す説明図である。

【図４６】３ロット目のウエーハが第１ステージに移動
された時の状態を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 第１ステージ ２ 第２ステージ ３ バッファステージ ４ ダミーウエーハステージ ５ 第１エアロック室（搬入手段） ６ ディスク ７ 第２エアロック室（搬出手段） ８ カセット ９ ウエーハ

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】１ロットのウエーハ数がバッチ数よりも少
   ない場合に、ウエーハと共にダミーウエーハをディスク
   に存在させることによって、上記ウエーハをバッチ単位
   にイオン注入処理するイオン注入装置において、 上記ウエーハ数とダミーウエーハ数との合計がディスク
   上においてバッチ数となるように、ダミーウエーハの搬
   入数および搬出数を前後する１ロットのウエーハ数を基
   にして求める管理手段と、 上記ウエーハのディスクへの搬入時に、上記管理手段に
   よって求められた搬入数のダミーウエーハをディスクに
   搬入する搬入手段と、 上記ウエーハのディスクからの搬出時に、上記管理手段
   によって求められた搬出数のダミーウエーハをディスク
   から搬出する搬出手段とを有していることを特徴とする
   イオン注入装置。
2. 【請求項２】カセットによって準備されるウエーハの１
   ロットのウエーハ数がバッチ数よりも少ない場合に、ウ
   エーハと共にダミーウエーハをディスクに存在させるこ
   とによって、上記ウエーハをバッチ単位にイオン注入処
   理するイオン注入装置において、 上記ウエーハ数とダミーウエーハ数との合計がディスク
   上においてバッチ数となるように、ダミーウエーハの搬
   入数および搬出数を前後する１ロットのウエーハ数を基
   にして求める管理手段と、 上記ウエーハのディスクへの搬入時に、上記管理手段に
   よって求められた搬入数のダミーウエーハをディスクに
   搬入する搬入手段と、 上記ウエーハのディスクからの搬出時に、上記管理手段
   によって求められた搬出数のダミーウエーハをディスク
   から搬出する搬出手段とを有し、 上記ウエーハは、複数ロットが同一カセットに収容され
   て準備されることを特徴とするイオン注入装置。