JPH06500266A - 粒状材料を処理するための流動床装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 粒状材料を処理するための流動床装置 本発明は、入口スペースとこのスペースの上に設けられた流動床スペースをもつ 容器と、中間スペースをもつそらせ板のリングを備え、前記中間スペース内で入 口スペースから流動床スペースに上昇するガス流が螺旋運動を与えられ、また、 流動化可能の物質をガス流に噴射するために１対のそらせ板間の個々の中間スペ ース内に配置されタノズルを備えてなる粒状物質を処理するための流動床装置に 関する。

かかる型式の装置の種々の具体例はＤＥ　３８３３９７２３　ＣＩ　から既知で ある。これら装置の場合、乾燥空気の如きプロセスガスは下から中心を通って又 は浸漬チューブを通して入口スペースに供給される。前記チューブは上から流動 床スペースを通って入口スペース内に延びる。入口スペースからプロセスガスは そらせ板間に形成された中間スペース全体を通って流れて流動床スペースに入る 。ノズルを備えた中間スペースはこれらノズルのおかげで、流れスペースが減ら される。それ故、ノズルがない中間スペースを通過する場合よりも単位時間当た りに少ない量のプロセスガスが前記中間スペースを通過することになる。

従って、必ずしも望ましいとは限らない不規則性が流動床スペース内に形成され る流動床内に生じる。完全に一様な流動床は例えばタブレットを乾燥させるとき に望まれる。タブレットはノズルを通して噴霧される液体で砂糖を被覆されたも のである。

従って、本発明の目的は、流動床に影響を与えるため、とりわけ流動床をより一 様にするため、粒状材料処理用の流動床装置に追加の機会を与えることにある。

かかる装置で処理する粒状材料は例えば、円形又は楕円形のタブレット、ペレッ ト等、換言すれば、粒子であり、前記粒子ばばら材料であるので、開放された隙 間を残す。処理は例えば水性溶液又は有機溶液、分散液又は懸濁液からなる耐胃 酸性の皮膜をかかる粒子に付着させることからなる。

上記目的は本発明により、本文冒頭に記載した如き型式の流動床装置から出発し て、第１の入口チャンバは入口スペース内に配置され、そらせ板間にノズルをも たない中間スペースのみが前記入口チャンバと連通し、ノズルを配置された中間 スペースが実質上径方向の通路を通して環状の第２人口チャンバに連結され、こ の径方向通路は前記中間スペースを第１の入口チャンバから遮蔽し、入口チャン バは個別にプロセスガスを供給されることを特徴とする流動床装置によって達成 される。

このようにすれば、そらせ板間にノズルをもつ中間スペース中の流れ関係はノズ ルを含まない中間スペース中の流れ関係から独立して制御することができる。第 ２の入口チャンバ内の圧力は第１の入口チャンバ中の圧力より高いか、同じか又 は低くなすことができる。

第２人口チャンバは好適には、容器と同心に配列した環状チャンバとする。これ に関連して、好適には通路は実質上径方向に第２人口チャンバからノズルのない 中間スペースまで延びる。

好適には、第２の入口チャンバはプロセスガスを放出するために中心パイプの回 り全体をめぐって延び、前記パイプは流動床スペースの上部領域で開始し、下方 へ延びて容器から出る。

本発明の特に好適な実施例では、個別のファンが２つの入口チャンバの各々の上 流側で連結される。

更に、好適には、戻し空気ファンが流動床スペースの下流側に配置されて容器の 周囲環境に比して負の圧力を流動床スペース内に保つ一方、正の圧力が２つの入 口チャンバ内に存在するようになす。

成る場合には、本発明の流動床装置は戻し空気ファンだけによって作業を続行し てもよい、またその場合、もし任意の既知の絞り手段を入口チャンへの上流側に 連結すれば、入口チャンバから流動床スペースに達するガス流は互いに独立して 制御することができる。しかし一般に、入口チャンバの上流側に２つの別個に制 御可能のファンを配置するのが好適である。

以下、本発明を図示の実施例につき詳述する。

第１図は本発明装置の容器の垂直縦断面図である。

第２図は第１図の線ＴＩ−ＩＩ上の水平断面図である。

第３は第１図の線ＩＩＩ−ＩＩＩ上の水平断面図である。

第４図は更に細部を示す第１図の部分拡大図である。

第５図は本発明の流動床装置の回路説明図である。

流動床装置はボット形の下部分１２と環状の上部分１４を含む実質上円筒形の容 器１０と、ヒンジ結合された１１６を備える。下部分１２は上部分１４に対して 密封され、上部分は膨張性シール１８によって蓋に対して密封される。中心パイ プ２゜は容器１０をこの容器と同軸に貫通し、上部分１４内に漏斗状の入口２２ をもつ、入口２２は上部分１４の上縁のレベルで開始し、外側から見て凹状湾曲 をなして上部分１４の内向き湾曲２４によって取り囲まれ、小さい環状スペース が入口２２の上縁と上部分１４の上縁の間に開放している。容器１０内で処理す る粒子を保持するのに十分な微細メソシュのスクリーン２６が入口２２に配置さ れる。中心パイプ２ｏが下部分１２の底２８を貫通して外部に延びる。

第１の入口チャンバ３０は容器１０の下部分１２中に画成され、熱い乾燥空気の 如きプロセスガスを第１供給パイプの端部３２を通して供給される。第１人口チ ャンバ３ｏは螺旋体３４を含み、この螺旋体は中心パイプ２ｏをめぐって上方向 に延び、かつ入来するプロセスガスに螺旋運動を与える。第１人口チャンバ３０ は径方向のそらせ板３６のリングによって上側を限定され、正規の作業中前記そ らせ板間に開放された径方向の中間スペース３８を形成する。これらの中間スペ ース３８の幾つかには、複数のノズル４０が夫々互いに径方向に位置をずらせて 配置され“る０図示の実施例では、全部で３６個の中間スペース３８の内の６個 が夫々３個のノズル４０をもち、これらのノズルは多物質ノズルにより構成する ことができる。

各ノズル４０は殆ど遮蔽体４２によって処理すべき粒子の直接衝突から保護され る。各そらせ板３６は閉鎖位置と掃除位置の間を夫々の径方向支持ピン４４の回 りで回動する。複数の作業位置の内の１つだけを第１図と第４図に実線で示す、 掃除位置は２つのそらせ板３６につき第１図に不連続線で示す、閉鎖位置にある とき、そらせ板３６は互いに重なって、緊密な中間床を提供する０種々の作業位 置で、そらせ板３６は入口チャンバ３０に導入されたプロセスガスに既に螺旋体 ３４によって与えられている螺旋運動を多少とも強力に援助する作用する。掃除 位置では、そらせ板３６は垂直上方に向けられる。各そらせ板３６は回動用のレ バー４６を備える。このレバーは無限に制御可能の又は調整可能の空気圧式又は 液圧式ピストン・シリンダユニット４８に枢着される。

第２人口チャンバ５０は螺旋体３４の上端領域の中心パイプ２０の回りに形成さ れる。それは第１の入口チャンバ３ｏがら分離されており、第１人ロチャンパが ら独立して、第２の入口バイブ端部５２を通してプロセスガスを供給される。通 路５４は第２人口チャンバ５ｏがら実質上径方向外方に延びる０通路５４の数は ノズル４０を備えた中間スペース３８の数と等しい。

従って図示の実施例では６個の径方向通路５４がある。これらの通路５４の各々 はノズル４ｏを含む中間スペース３８の１つを第１人口チャンバ３ｏに対して遮 蔽し、プロセスガスを第２人口チャンバ５０から夫々の中間スペースに供給する 。

第２人口チャンバ５０に隣接した領域に、通路５４はＵ形断面をもち、この断面 は第２人口チャンバ５ｏがらの径方向距離が増大するにつれて、はぼ半円形の断 面に狭められる。各通路５４ば隣接した回動可能のそらせ板３６に対して密封帯 材５６によって密封される。前記密封帯材はそらせ板に取付けられる。

各ノズル４０は対応する通路５４内に締着されるスリーブ５８中に長手方向に調 節可能に定着される。

流動床スペース６０は容器１ｏの上部分１４内に画成される。

プラグ６４によって閉鎖される材料用の放出ダクト６２は流動床スペースから接 線方向外方に延びる。プラグ６４は第３図に半分引き出された位置で示される。

そらせ板３６が閉鎖位置にあるとき、蓋１６が開放されると、流動床スペース６ ｏは処理すべき粒子を例えばその高さのほぼ半分まで充填される。

第５図に示すように、２つの入口バイブ３２．５２は夫々のファンＣ５ｏｎｏｂ Ｉｏｃｋｓ）　６６．６８の圧力端に連結され、その吸込端はモノブロック７０ 〜７２に連結される。各モノブロック７０と７２は集積型フィルタ、溶媒用凝縮 器、プロセスガス加熱器を含み、必要に応して既知手段により熱回収を行う。中 心パイプ２０の下端はダスト収集器７４と微細フィルタ７６を経て戻し空気ファ ン７８の吸込端に連結される。このファンの圧力端は２つの補給モノブロック７ ｏ、７２に連結される。微細ファン７６と戻し空気ファン７日の間から導管が外 部に分岐し、この導管は負圧発生ファン８ｏを備える。

好適には本発明の流動床装置は、２つの入口チャンバ３ｏ、５０の各々中のプロ セスガスが２５０とｌ　Ｏ００ｋｐ／ｓ”の間の正圧を有する一方、５〜１０ｋ ｐ／ｍ”の安定した低圧が流動床スペース６０中で流動化される処理すべき材料 の表面と蓋１６の間の領域内に存在するように運転される。この圧力閲係の１１ １ｍを行えば、蓋１６は該プロセスが例えば処理されている材料の試料を抜き取 るために進行しているときに開放することができる。

Ｆｉｇ、１ 和 Ｆｉｇ−４

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. １．入ロスペース（３０、５０）とこのスペースの上に設けられた流動床スペー ス（６０）をもつ容器（１０）と、中間スペース（３８）をもつそらせ板（３６ ）のリングを備え、前記中間スペース内で入ロスペース（３０、５０）から流動 床スペース（６０）に上昇するガス流が螺旋運動を与えられ、また、流動化可能 の物質をガス流に噴射するために１対のそらせ板（３６）間の個々の中間スペー ス（３８）内に配置されタノズル（４０）を備えてなる粒状物質を処理するため の流動床装置において、第１の入口チャンバ（３０）は入ロスペース（３０、５ ０）内に配置され、そらせ板（３６）間にノズル（４０）をもたない中間スペー ス（３８）のみが前記入口チャンバと達通し、ノズル（４０）を配置された中間 スペース（３８）が実質上径方向の通路（５４）を通して環状の第２入口チャン バ（５０）に連結され、この径方向通路は前記中間スペースを第１の入口チャン バ（３０）から遮蔽し、入口チャンバ（３０、５０）は個別にプロセスガスを供 給されることを特徴とする流動床装置。
2. ２．第２の入口チャソバ（５０）は容器（１０）と同心に配列したことを特徴と する請求項１に記載の流動床装置。
3. ３．第２の入口チャンバ（５０）はプロセスガスを放出するため中心バイブ（２ ０）の回り全体をめぐって延び、前記パイプは流動床スペース（６０）の上部領 域で開始し、下方へ延びて容器（１０）から出ることを特徴とする請求項２に記 載の流動床装置。
4. ４．個別のファン（６６、６８）が２つの入口チャンバ（３０、５０）の各々の 上流側で連結されることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の流動 床装置。
5. ５．戻し空気ファン（７８）が流動床スペース（６０）の下流側に配置されて容 器（１０）の周囲環境に比して負の圧力を流動床スペース（６０）内に保つ一方 、正の圧力が２つの入口チャンバ（３０、５０）内に存在するようになしたこと を特徴とする請求項４に記載の流動床装置。