JPH0649630A - 真空蒸発材料及びその製造方法 - Google Patents
真空蒸発材料及びその製造方法Info
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- JPH0649630A JPH0649630A JP20568192A JP20568192A JPH0649630A JP H0649630 A JPH0649630 A JP H0649630A JP 20568192 A JP20568192 A JP 20568192A JP 20568192 A JP20568192 A JP 20568192A JP H0649630 A JPH0649630 A JP H0649630A
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- evaporation material
- quartz
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビーム照射により昇華して蒸発する真空
蒸発材料の形状を改良し、蒸発効率を高める。 【構成】 石英ブロック20の蒸発面から底面に向けて
溝21を縦横に入れ、蒸発面を溝21によって隔てる。 【効果】 溝21によって熱エネルギーが伝導して拡散
することがないので、蒸発面に電子ビームを照射する
と、熱容量が小さくなった角柱片22ごとに蒸発が行わ
れる。
蒸発材料の形状を改良し、蒸発効率を高める。 【構成】 石英ブロック20の蒸発面から底面に向けて
溝21を縦横に入れ、蒸発面を溝21によって隔てる。 【効果】 溝21によって熱エネルギーが伝導して拡散
することがないので、蒸発面に電子ビームを照射する
と、熱容量が小さくなった角柱片22ごとに蒸発が行わ
れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビームの照射によ
って昇華して蒸発する真空蒸発材料及びその製造方法に
関するものである。
って昇華して蒸発する真空蒸発材料及びその製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】多層干渉薄膜や反射防止膜、さらには光
学フィルタや液晶用ガラスの表面保護膜などの光学薄膜
を形成するには真空蒸着法が用いられる。真空蒸着法に
は抵抗加熱方式と電子ビーム加熱方式とがあるが、抵抗
加熱方式では蒸発材料を加熱する金属スパイラル線やボ
ートが数回の使用により損傷することが多いため、量産
には電子ビーム加熱方式が適している。
学フィルタや液晶用ガラスの表面保護膜などの光学薄膜
を形成するには真空蒸着法が用いられる。真空蒸着法に
は抵抗加熱方式と電子ビーム加熱方式とがあるが、抵抗
加熱方式では蒸発材料を加熱する金属スパイラル線やボ
ートが数回の使用により損傷することが多いため、量産
には電子ビーム加熱方式が適している。
【0003】図5は電子ビーム加熱方式の蒸着装置を概
略的に示したもので、蒸着を行う前に真空槽3内は排気
装置4により高真空状態にされる。真空槽3の内部には
坩堝5が設置され、その中に蒸発材料6が載置されてい
る。電子銃7は集束された電子ビーム7aを蒸発材料6
の表面に照射し、蒸発材料6を局部的に加熱する。な
お、蒸発材料6を効率的に蒸発させ、さらに蒸発の方向
が偏らないようにするために、回転機構8によって坩堝
5を回転させたり、あるいは電子銃7にビームスキャン
機能をもたせ、電子ビーム7aを蒸発材料7の表面上で
走査することも行われている。真空槽3内には、さらに
坩堝5に対面するようにドーム9が設けられ、このドー
ム9にはレンズなどの光学部品10が保持されている。
略的に示したもので、蒸着を行う前に真空槽3内は排気
装置4により高真空状態にされる。真空槽3の内部には
坩堝5が設置され、その中に蒸発材料6が載置されてい
る。電子銃7は集束された電子ビーム7aを蒸発材料6
の表面に照射し、蒸発材料6を局部的に加熱する。な
お、蒸発材料6を効率的に蒸発させ、さらに蒸発の方向
が偏らないようにするために、回転機構8によって坩堝
5を回転させたり、あるいは電子銃7にビームスキャン
機能をもたせ、電子ビーム7aを蒸発材料7の表面上で
走査することも行われている。真空槽3内には、さらに
坩堝5に対面するようにドーム9が設けられ、このドー
ム9にはレンズなどの光学部品10が保持されている。
【0004】排気装置4で真空槽3内を高真空にした
後、電子銃7を作動させることによって電子ビーム7a
が蒸発材料6の表面に照射される。蒸発材料6が電子ビ
ーム7aによって加熱されると蒸発材料6は分子となっ
て蒸発する。高真空となった真空槽3内では分子の平均
自由行程が長くなっているから、蒸発分子は光学部品1
0の下面に容易に達し、蒸着膜を形成する。なお、符号
12は光学的膜厚監視装置を表し、ドーム9に保持され
た試料11の膜厚変化を光電検出して膜厚を監視するた
めのものである。
後、電子銃7を作動させることによって電子ビーム7a
が蒸発材料6の表面に照射される。蒸発材料6が電子ビ
ーム7aによって加熱されると蒸発材料6は分子となっ
て蒸発する。高真空となった真空槽3内では分子の平均
自由行程が長くなっているから、蒸発分子は光学部品1
0の下面に容易に達し、蒸着膜を形成する。なお、符号
12は光学的膜厚監視装置を表し、ドーム9に保持され
た試料11の膜厚変化を光電検出して膜厚を監視するた
めのものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記した電子ビーム加
熱方式の蒸着装置により、石英(SiO2 ),アルミナ
(Al2 O3 ),ジルコニア(ZrO2 )など、種々の
蒸発材料を蒸発させることができるが、中でも石英は低
屈折率物質として干渉薄膜への用途も広く、また物理的
化学的な耐性に富んでいることから各種の保護膜として
も多用されている。従来では、石英の蒸着には顆粒状石
英が蒸発材料として用いられているが、蒸発の方向性に
偏りがないという利点がある反面、単位体積あたりの分
子の蒸発密度が低い。したがって、多層膜形成のために
何度が繰り返して蒸発する場合や、膜厚が厚い蒸着膜を
形成する場合などには、多量の顆粒状石英を収容できる
ように大容積の坩堝を特別に用意しなければならず、さ
らに電子ビームの走査範囲を変更するなど面倒な処理が
必要であった。
熱方式の蒸着装置により、石英(SiO2 ),アルミナ
(Al2 O3 ),ジルコニア(ZrO2 )など、種々の
蒸発材料を蒸発させることができるが、中でも石英は低
屈折率物質として干渉薄膜への用途も広く、また物理的
化学的な耐性に富んでいることから各種の保護膜として
も多用されている。従来では、石英の蒸着には顆粒状石
英が蒸発材料として用いられているが、蒸発の方向性に
偏りがないという利点がある反面、単位体積あたりの分
子の蒸発密度が低い。したがって、多層膜形成のために
何度が繰り返して蒸発する場合や、膜厚が厚い蒸着膜を
形成する場合などには、多量の顆粒状石英を収容できる
ように大容積の坩堝を特別に用意しなければならず、さ
らに電子ビームの走査範囲を変更するなど面倒な処理が
必要であった。
【0006】これを解決するために、顆粒状石英の代わ
りに棒状あるいは板状の石英ブロックを坩堝の大きさに
合わせて切断加工し、石英ブロックに電子ビームを照射
する手法も行われている。この手法によれば、単位体積
あたり充分な蒸発密度を得ることができるが、蒸発の方
向性に偏りが生じやすいという欠点がある。というの
は、石英ブロックは物理的,化学的に完全に等質である
とは言い難く、電子ビームが照射されている全範囲から
均一な蒸発が得にくいからである。
りに棒状あるいは板状の石英ブロックを坩堝の大きさに
合わせて切断加工し、石英ブロックに電子ビームを照射
する手法も行われている。この手法によれば、単位体積
あたり充分な蒸発密度を得ることができるが、蒸発の方
向性に偏りが生じやすいという欠点がある。というの
は、石英ブロックは物理的,化学的に完全に等質である
とは言い難く、電子ビームが照射されている全範囲から
均一な蒸発が得にくいからである。
【0007】図6はこの様子を模式的に表したものであ
るが、図示のように石英ブロック15の蒸発面15aに
電子ビーム7aを照射したとき、熱エネルギーが図中実
線で示したように石英ブロック15内に不均一に伝導し
たり蓄積されてしまう。このため、電子ビーム7aの照
射範囲の中に不均一な温度分布が生じ、蒸発が促進され
る部位と蒸発しにくい部位とが現れてしまい、照射エネ
ルギーに対する単位時間あたりの蒸発量が不安定になる
だけでなく、蒸発の方向性に偏りが生じてしまう。蒸発
の方向性に偏りが生じると膜厚の監視が極めて困難なも
のとなり、正確な膜厚制御が必要な多層干渉薄膜フィル
タでは、設計どおりの分光特性が得られず歩留りの低下
が避けられない。
るが、図示のように石英ブロック15の蒸発面15aに
電子ビーム7aを照射したとき、熱エネルギーが図中実
線で示したように石英ブロック15内に不均一に伝導し
たり蓄積されてしまう。このため、電子ビーム7aの照
射範囲の中に不均一な温度分布が生じ、蒸発が促進され
る部位と蒸発しにくい部位とが現れてしまい、照射エネ
ルギーに対する単位時間あたりの蒸発量が不安定になる
だけでなく、蒸発の方向性に偏りが生じてしまう。蒸発
の方向性に偏りが生じると膜厚の監視が極めて困難なも
のとなり、正確な膜厚制御が必要な多層干渉薄膜フィル
タでは、設計どおりの分光特性が得られず歩留りの低下
が避けられない。
【0008】本発明は上記背景を考慮してなされたもの
で、単位体積あたりの蒸発密度が大きく、しかも蒸発の
方向性を安定に保つことができるブロック形態の真空蒸
発材料を提供し、またこの蒸発材料の製造方法を提供す
ることを目的とする。
で、単位体積あたりの蒸発密度が大きく、しかも蒸発の
方向性を安定に保つことができるブロック形態の真空蒸
発材料を提供し、またこの蒸発材料の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するにあたり、ブロック形態をなす真空蒸発材料の蒸発
面を空間を隔てて複数の領域に区画した。このために
は、棒状あるいは板状にした蒸発材料を蒸発面に向かっ
て林立させてもよいが、ブロック状をした蒸発材料の蒸
着面から厚み方向(底面方向)に向かって溝を形成し、
この溝によって各領域を空間的に隔てることができる。
この区画により隔てられた領域の個数は最低2個である
が、溝を2方向から複数本ずつ形成して上面の区画個数
を増やすのが有利である。このような真空蒸発材料を簡
便に製造するには、真空蒸発材料をブロック状に整形し
た後、所定のピッチ間隔で配列した複数枚の薄刃で前記
ブロックの上面から一定の深さ位置まで切込みを入れれ
ばよい。上記のように電子ビームが照射される上面を溝
で区画しておくと、熱エネルギーの伝導による拡散を防
ぎ、区画された個々の領域の熱容量を小さくすることが
できる。
するにあたり、ブロック形態をなす真空蒸発材料の蒸発
面を空間を隔てて複数の領域に区画した。このために
は、棒状あるいは板状にした蒸発材料を蒸発面に向かっ
て林立させてもよいが、ブロック状をした蒸発材料の蒸
着面から厚み方向(底面方向)に向かって溝を形成し、
この溝によって各領域を空間的に隔てることができる。
この区画により隔てられた領域の個数は最低2個である
が、溝を2方向から複数本ずつ形成して上面の区画個数
を増やすのが有利である。このような真空蒸発材料を簡
便に製造するには、真空蒸発材料をブロック状に整形し
た後、所定のピッチ間隔で配列した複数枚の薄刃で前記
ブロックの上面から一定の深さ位置まで切込みを入れれ
ばよい。上記のように電子ビームが照射される上面を溝
で区画しておくと、熱エネルギーの伝導による拡散を防
ぎ、区画された個々の領域の熱容量を小さくすることが
できる。
【0010】
【実施例】図1は石英ブロックに本発明を適用した場合
の一例を示している。石英ブロック20は、外径30m
m、高さが25mm程度の円柱形状となっている。な
お、これらの寸法は蒸着装置内の坩堝のサイズによって
適宜設定される。図中、上面が電子ビームが照射される
蒸発面となるが、この蒸発面は縦横に数mmのピッチで
切り込んだ複数本の溝21によって格子状に区画されて
いる。溝21は底面から2mmとなる深さ位置まで形成
されており、これにより石英ブロック20は、根元側で
は一体に連なった数mm角の角柱片22を多数本林立さ
せた形状となり、そのまま蒸発材料として用いられる。
の一例を示している。石英ブロック20は、外径30m
m、高さが25mm程度の円柱形状となっている。な
お、これらの寸法は蒸着装置内の坩堝のサイズによって
適宜設定される。図中、上面が電子ビームが照射される
蒸発面となるが、この蒸発面は縦横に数mmのピッチで
切り込んだ複数本の溝21によって格子状に区画されて
いる。溝21は底面から2mmとなる深さ位置まで形成
されており、これにより石英ブロック20は、根元側で
は一体に連なった数mm角の角柱片22を多数本林立さ
せた形状となり、そのまま蒸発材料として用いられる。
【0011】この蒸発材料の蒸発面に図2に示したよう
に電子ビーム7aを照射すると、個々の角柱片22は溝
21によって区画されているため、電子ビーム7aの照
射による熱エネルギーは周囲の角柱片に伝導することが
ない。したがって、個々の角柱片22の蒸発面に照射さ
れた電子ビームの熱エネルギーは、角柱片22ごとに有
効に利用されるようになる。そして、いずれかの角柱片
22の一部に不均質な部位があったとしても、電子ビー
ムの照射による熱エネルギーはその角柱片22の蒸発に
寄与するだけであるから、不均質な部位があってもそれ
に影響されずに蒸発が継続されるようになる。なお、電
子ビーム7aを複数の角柱片22に同時に照射すれば広
い蒸発面積が得られ、単位時間あたりの蒸発量を増やす
ことができるが、電子ビーム7aを一個の角柱片22に
照射する場合でも、熱エネルギーの伝導拡散がないので
蒸発量を安定に維持することができる。
に電子ビーム7aを照射すると、個々の角柱片22は溝
21によって区画されているため、電子ビーム7aの照
射による熱エネルギーは周囲の角柱片に伝導することが
ない。したがって、個々の角柱片22の蒸発面に照射さ
れた電子ビームの熱エネルギーは、角柱片22ごとに有
効に利用されるようになる。そして、いずれかの角柱片
22の一部に不均質な部位があったとしても、電子ビー
ムの照射による熱エネルギーはその角柱片22の蒸発に
寄与するだけであるから、不均質な部位があってもそれ
に影響されずに蒸発が継続されるようになる。なお、電
子ビーム7aを複数の角柱片22に同時に照射すれば広
い蒸発面積が得られ、単位時間あたりの蒸発量を増やす
ことができるが、電子ビーム7aを一個の角柱片22に
照射する場合でも、熱エネルギーの伝導拡散がないので
蒸発量を安定に維持することができる。
【0012】角柱片22は、その根元部分で一体に連結
されているため、この蒸発材料の取り扱いは簡単で、単
に坩堝の所定位置にセットするだけでよい。また、この
蒸発材料を用い、電子銃のビーム加速電圧を7kV、エ
ミッション電流を60mAで蒸発させたところ、1nm
/secの蒸着レートが得られた。数回の繰り返し実験
を行った結果では、エミッション電流に±5%程度のバ
ラツキが生じたが、溝21を形成しないままの石英ブロ
ックを蒸発材料に用いた場合にはエミッション電流が9
0mA〜150mAの範囲で変動し、蒸着レートについ
ても同一エミッション電流のもとでも3倍以上のバラツ
キが生じた。
されているため、この蒸発材料の取り扱いは簡単で、単
に坩堝の所定位置にセットするだけでよい。また、この
蒸発材料を用い、電子銃のビーム加速電圧を7kV、エ
ミッション電流を60mAで蒸発させたところ、1nm
/secの蒸着レートが得られた。数回の繰り返し実験
を行った結果では、エミッション電流に±5%程度のバ
ラツキが生じたが、溝21を形成しないままの石英ブロ
ックを蒸発材料に用いた場合にはエミッション電流が9
0mA〜150mAの範囲で変動し、蒸着レートについ
ても同一エミッション電流のもとでも3倍以上のバラツ
キが生じた。
【0013】なお、石英を蒸発するにあたり、従来の石
英ブロックを収容した坩堝を常時回転させ、しかも電子
ビームの焦点を特別に操作しながら高電力で電子銃を作
動させることによって蒸発の方向性を安定に維持し、か
つ充分な蒸発量を確保することも可能ではあるが、石英
以外の材料を含む多層膜の形成のためには、別仕様の電
子銃をもつ蒸着装置がさらに必要になり、設備費用の増
大や製造行程の複雑化を避けることができない。この
点、溝21により蒸発面を複数の領域に区画した図1の
蒸発材料を用いれば、現有の蒸着装置をそのまま利用
し、蒸発の方向性に偏りがなく効率的な蒸着を行うこと
ができる。また、溝21のピッチをさらに細かくし、角
柱片22ごとの熱容量を小さくして蒸発効率をさらに高
めることもできるが、図3に示したように石英ブロック
20の蒸発面に一方向だけから溝21を形成し、壁状の
突出片24を林立させるようにしてもよい。
英ブロックを収容した坩堝を常時回転させ、しかも電子
ビームの焦点を特別に操作しながら高電力で電子銃を作
動させることによって蒸発の方向性を安定に維持し、か
つ充分な蒸発量を確保することも可能ではあるが、石英
以外の材料を含む多層膜の形成のためには、別仕様の電
子銃をもつ蒸着装置がさらに必要になり、設備費用の増
大や製造行程の複雑化を避けることができない。この
点、溝21により蒸発面を複数の領域に区画した図1の
蒸発材料を用いれば、現有の蒸着装置をそのまま利用
し、蒸発の方向性に偏りがなく効率的な蒸着を行うこと
ができる。また、溝21のピッチをさらに細かくし、角
柱片22ごとの熱容量を小さくして蒸発効率をさらに高
めることもできるが、図3に示したように石英ブロック
20の蒸発面に一方向だけから溝21を形成し、壁状の
突出片24を林立させるようにしてもよい。
【0014】蒸発面を溝21で区画した蒸発材料の製造
行程について図4を参照して説明する。まず、外径30
mmの円柱ロッドとして供給される石英を長さ25mm
ごとに切断して石英ブロック20を作る。この石英ブロ
ック20を25個用意し、縦横150mmの台盤25上
に5行5列のマトリクス状に並べ、それぞれ底面を接着
剤あるいは蜜蝋で固定する。しかる後、台盤25をスラ
イシングマシンの固定台に位置決めしてマグネット等に
より固定する。
行程について図4を参照して説明する。まず、外径30
mmの円柱ロッドとして供給される石英を長さ25mm
ごとに切断して石英ブロック20を作る。この石英ブロ
ック20を25個用意し、縦横150mmの台盤25上
に5行5列のマトリクス状に並べ、それぞれ底面を接着
剤あるいは蜜蝋で固定する。しかる後、台盤25をスラ
イシングマシンの固定台に位置決めしてマグネット等に
より固定する。
【0015】次に、厚さ0.1mmに薄刃仕上げされた
ダイヤモンドカッター26が4mm間隔で配列されたマ
ルチカッター28を駆動し、紙面に垂直な方向に掃引し
ながら石英ブロック20の上面から23mmの深さ位置
まで垂直に下降させる。これにより、各石英ブロック2
0には一方向の溝21が形成され、図3に示した形態の
蒸発材料が得られる。したがって、この形状ままで用い
る場合には、各石英ブロック20を台盤25から外して
充分に洗浄すれば、乾燥の後にすぐに使うことができ
る。さらに図1に示した形状の蒸発材料にするには、マ
ルチカッター28の掃引方向を90°変え、同様に上面
から23mmの深さ位置まで溝21を切り込み、その後
で各々を台盤25から取り外し、洗浄,乾燥を行えばよ
い。
ダイヤモンドカッター26が4mm間隔で配列されたマ
ルチカッター28を駆動し、紙面に垂直な方向に掃引し
ながら石英ブロック20の上面から23mmの深さ位置
まで垂直に下降させる。これにより、各石英ブロック2
0には一方向の溝21が形成され、図3に示した形態の
蒸発材料が得られる。したがって、この形状ままで用い
る場合には、各石英ブロック20を台盤25から外して
充分に洗浄すれば、乾燥の後にすぐに使うことができ
る。さらに図1に示した形状の蒸発材料にするには、マ
ルチカッター28の掃引方向を90°変え、同様に上面
から23mmの深さ位置まで溝21を切り込み、その後
で各々を台盤25から取り外し、洗浄,乾燥を行えばよ
い。
【0016】図1あるいは図3に示した形状の蒸発材料
を製造するには、その他の方法を採ることもできる。例
えば、棒状あるいは板状の石英材料を所定サイズにして
から軟化点まで加熱し、これにプレス加工を施して図1
や図3の形状にする方法、さらには溶融した石英材料を
ダイレクトに金型に入れて角柱片22や壁状の突出片2
4を林立させた形状に成型する方法がある。その他に
も、細い角柱状,円筒状にした石英材料や薄い板状にし
た石英材料を、基板となる石英板の上に林立するように
一方の端面を溶着あるいは接着する方法もある。なお、
セラミックや高融点金属等の非蒸発物質で作った専用の
固定板を前記石英基板代わりに用いてもよく、この場合
には固定板を含めて蒸発材料として取り扱うのが簡便で
ある。
を製造するには、その他の方法を採ることもできる。例
えば、棒状あるいは板状の石英材料を所定サイズにして
から軟化点まで加熱し、これにプレス加工を施して図1
や図3の形状にする方法、さらには溶融した石英材料を
ダイレクトに金型に入れて角柱片22や壁状の突出片2
4を林立させた形状に成型する方法がある。その他に
も、細い角柱状,円筒状にした石英材料や薄い板状にし
た石英材料を、基板となる石英板の上に林立するように
一方の端面を溶着あるいは接着する方法もある。なお、
セラミックや高融点金属等の非蒸発物質で作った専用の
固定板を前記石英基板代わりに用いてもよく、この場合
には固定板を含めて蒸発材料として取り扱うのが簡便で
ある。
【0017】さらに最近では石英を効率的、かつ均一的
に蒸発させるために、模式的に図7に示した構造のもの
が用いられている。この蒸発装置は、水冷電極30を回
転軸31により回転させ、電子銃33からの電子ビーム
33aを偏向磁界により屈曲させて水冷電極30の上面
にセットされた石英ブロックに照射する構造となってい
る。この蒸発装置に適した蒸発材料に本発明を適用する
ことも可能である。この場合には、水冷電極30の外径
に対応した外径100mm、厚み20mm程度のディス
ク状の石英ブロック35に、その蒸発面から厚み方向に
向かって溝36を格子状に刻み込んで蒸発材料とする。
に蒸発させるために、模式的に図7に示した構造のもの
が用いられている。この蒸発装置は、水冷電極30を回
転軸31により回転させ、電子銃33からの電子ビーム
33aを偏向磁界により屈曲させて水冷電極30の上面
にセットされた石英ブロックに照射する構造となってい
る。この蒸発装置に適した蒸発材料に本発明を適用する
ことも可能である。この場合には、水冷電極30の外径
に対応した外径100mm、厚み20mm程度のディス
ク状の石英ブロック35に、その蒸発面から厚み方向に
向かって溝36を格子状に刻み込んで蒸発材料とする。
【0018】水冷電極30を回転させながら電子ビーム
33aを照射すると、蒸発が進むにしたがって蒸発面か
ら厚み方向に向かって、図中に斜線を施して表したよう
にリング状の窪みが形成されてゆく。そして、溝36を
入れた石英ブロック35を蒸発材料として用いたときに
は、リング状の窪みの底面は凹凸がなく滑らかな面とな
っており、蒸発の方向性が均一かつ安定に維持されてい
ることが分る。なお、従来の溝なしの石英ブロックを蒸
発材料にして用いた場合には、リング状の窪みの底面に
多数の凹凸が現れることが多く、必ずしも蒸発の方向性
が安定に維持されてはいなかった。したがって本発明の
蒸発材料は、図7のような蒸発装置に対しても全く同様
の効果を発揮するものである。
33aを照射すると、蒸発が進むにしたがって蒸発面か
ら厚み方向に向かって、図中に斜線を施して表したよう
にリング状の窪みが形成されてゆく。そして、溝36を
入れた石英ブロック35を蒸発材料として用いたときに
は、リング状の窪みの底面は凹凸がなく滑らかな面とな
っており、蒸発の方向性が均一かつ安定に維持されてい
ることが分る。なお、従来の溝なしの石英ブロックを蒸
発材料にして用いた場合には、リング状の窪みの底面に
多数の凹凸が現れることが多く、必ずしも蒸発の方向性
が安定に維持されてはいなかった。したがって本発明の
蒸発材料は、図7のような蒸発装置に対しても全く同様
の効果を発揮するものである。
【0019】本発明蒸発材料の特徴は、図1,図3,図
7に示したように、少なくとも電子ビームが照射される
蒸発面側が溝21,36等により複数に区画され、底面
に向かって角柱片22や突出片24のような柱状,壁状
の複数の突出片があればよく、溝21,36のピッチ間
隔、あるいは石英ブロック20,35の形状やサイズに
ついては、電子ビームの径,蒸着装置の構造に対応して
適宜設定すればよい。また、突出片の蒸着面側の形状も
四角形に限定されるものではない。さらに本発明は、電
子ビームの照射により完全に溶融することなく昇華し、
あるいは昇華に近い状態で蒸発する材料に適用可能であ
り、石英以外にもシリコン等の金属材料や、アルミナや
ジルコニアのように粉末焼結材料にも適用できる。
7に示したように、少なくとも電子ビームが照射される
蒸発面側が溝21,36等により複数に区画され、底面
に向かって角柱片22や突出片24のような柱状,壁状
の複数の突出片があればよく、溝21,36のピッチ間
隔、あるいは石英ブロック20,35の形状やサイズに
ついては、電子ビームの径,蒸着装置の構造に対応して
適宜設定すればよい。また、突出片の蒸着面側の形状も
四角形に限定されるものではない。さらに本発明は、電
子ビームの照射により完全に溶融することなく昇華し、
あるいは昇華に近い状態で蒸発する材料に適用可能であ
り、石英以外にもシリコン等の金属材料や、アルミナや
ジルコニアのように粉末焼結材料にも適用できる。
【0020】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明を用いた
真空蒸発材料によれば、電子ビームが照射される蒸発面
が空間を隔てて複数の領域に区画され、各々の領域ごと
に熱容量を小さくすることかできるから、電子ビームに
よって与えられる熱エネルギーが蒸発材料そのものの伝
導により周囲に拡散されることがなく、各領域ごとに効
率的な蒸発を行うことができる。さらに、領域ごとに蒸
発効率が向上される結果、局部的に蒸発しない部位が生
じることもなく、蒸発の方向性も安定に維持されるよう
になる。
真空蒸発材料によれば、電子ビームが照射される蒸発面
が空間を隔てて複数の領域に区画され、各々の領域ごと
に熱容量を小さくすることかできるから、電子ビームに
よって与えられる熱エネルギーが蒸発材料そのものの伝
導により周囲に拡散されることがなく、各領域ごとに効
率的な蒸発を行うことができる。さらに、領域ごとに蒸
発効率が向上される結果、局部的に蒸発しない部位が生
じることもなく、蒸発の方向性も安定に維持されるよう
になる。
【図1】本発明を用いた蒸発材料の一例を示す斜視図で
ある。
ある。
【図2】図1の蒸発材料に電子ビームを照射したときの
説明図である。
説明図である。
【図3】本発明を用いた蒸発材料の他の例を示す説明図
である。
である。
【図4】マルチカッターを用いた本発明蒸発材料の製造
工程を示す説明図である。
工程を示す説明図である。
【図5】真空蒸着装置の構成を示す概略図である。
【図6】従来のブロック状蒸発材料に電子ビームを照射
したときの説明図である。
したときの説明図である。
【図7】本発明を用いた蒸発材料のさらに他の例を示す
斜視図である。
斜視図である。
6 蒸発材料 7a,33a 電子ビーム 15,20,35 石英ブロック 21,36 溝 22 角柱片 24 突出片 28 マルチカッター
Claims (4)
- 【請求項1】 電子ビームの照射により蒸発するブロッ
ク状の真空蒸発材料において、電子ビームが照射される
蒸発面を空間を隔てて複数の領域に区画したことを特徴
とする真空蒸発材料。 - 【請求項2】 電子ビームの照射により蒸発するブロッ
ク状の真空蒸発材料において、電子ビームが照射される
蒸発面から厚み方向に溝を形成し、この溝により蒸発面
を複数の領域に区画したことを特徴とする真空蒸発材
料。 - 【請求項3】 前記溝を2方向から複数本ずつ形成し、
蒸発面を格子状に区画したことを特徴とする請求項1記
載の真空蒸発材料。 - 【請求項4】 電子ビームの照射により蒸発する真空蒸
発材料を所定形状のブロックに整形した後、所定のピッ
チ間隔で配列した複数枚の薄刃で前記ブロックの一面か
ら一定の深さ位置まで切込みを入れることを特徴とする
真空蒸発材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20568192A JPH0711064B2 (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 真空蒸発材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20568192A JPH0711064B2 (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 真空蒸発材料及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0649630A true JPH0649630A (ja) | 1994-02-22 |
JPH0711064B2 JPH0711064B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=16510936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20568192A Expired - Lifetime JPH0711064B2 (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 真空蒸発材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0711064B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008255479A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-10-23 | Mitsubishi Materials Corp | 蒸着材 |
JP2011111654A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Mitsubishi Materials Corp | 蒸着材の製造方法及び該方法により製造された蒸着材 |
-
1992
- 1992-07-31 JP JP20568192A patent/JPH0711064B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008255479A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-10-23 | Mitsubishi Materials Corp | 蒸着材 |
JP2011111654A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Mitsubishi Materials Corp | 蒸着材の製造方法及び該方法により製造された蒸着材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0711064B2 (ja) | 1995-02-08 |
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