JPH0645578B2 - 1−フエニルエチルアミン類の製造方法 - Google Patents
1−フエニルエチルアミン類の製造方法Info
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- JPH0645578B2 JPH0645578B2 JP60289715A JP28971585A JPH0645578B2 JP H0645578 B2 JPH0645578 B2 JP H0645578B2 JP 60289715 A JP60289715 A JP 60289715A JP 28971585 A JP28971585 A JP 28971585A JP H0645578 B2 JPH0645578 B2 JP H0645578B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は1−フェニルエチルアミン類の製造方法に関す
る。さらに詳しくは、本発明は一般式(IV) (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わ
す) で示される1−フェニルエチルアミン類の新しい製造方
法に関するものである。
る。さらに詳しくは、本発明は一般式(IV) (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わ
す) で示される1−フェニルエチルアミン類の新しい製造方
法に関するものである。
<従来の技術> 一般式(IV)で示される1−フェニルエチルアミン類は医
薬、農薬等の分野における光学分割剤などとして重要な
化合物である。
薬、農薬等の分野における光学分割剤などとして重要な
化合物である。
その製造方法としては、例えば、アルキルフェニルアミ
ンをジアゾニウム塩とした後、スチレンと反応させて1
−クロロ−1−フェニル−2−(アルキルフェニル)エ
タンを得、次いでアンモニアを反応させる方法(特公昭
49-6311号公報)、ベンジルニトリルとアルキルベンジ
ルクロリドとを縮合せしめて1−フェニル−2−(アル
キルフェニル)プロピオニトリルを得、次で加水分解し
て対応するアミド化合物を得、次でアルカリ性下にホフ
マン分解させる方法(特開昭55−33442号公報)
等が知られている。
ンをジアゾニウム塩とした後、スチレンと反応させて1
−クロロ−1−フェニル−2−(アルキルフェニル)エ
タンを得、次いでアンモニアを反応させる方法(特公昭
49-6311号公報)、ベンジルニトリルとアルキルベンジ
ルクロリドとを縮合せしめて1−フェニル−2−(アル
キルフェニル)プロピオニトリルを得、次で加水分解し
て対応するアミド化合物を得、次でアルカリ性下にホフ
マン分解させる方法(特開昭55−33442号公報)
等が知られている。
<発明が解決しようとする問題点> 従来法において、前者の方法はジアゾニウム塩の安定性
の問題の他に各工程の収率が低いという問題があり、後
者の方法は危険性物質を多く用いたり、ホフマン分解の
際に加熱を必要とするためエネルギーコストがかさむな
どの問題点があり、いずれの方法も工業的規模での製造
法として、必ずしも満足し得るものではない。
の問題の他に各工程の収率が低いという問題があり、後
者の方法は危険性物質を多く用いたり、ホフマン分解の
際に加熱を必要とするためエネルギーコストがかさむな
どの問題点があり、いずれの方法も工業的規模での製造
法として、必ずしも満足し得るものではない。
<問題を解決するための手段および発明の効果> 本発明者らは一般式(IV)で示される1−フェニルエチル
アミン類の新しい合成法について鋭意研究を行った結
果、従来とは全く異なる新規な経路に基づく方法で、か
つ従来法の上述の欠点を解決し、高収率、高純度で目的
物を得、さらに各工程も温和な条件下で実施することが
でき、工業的に極めて有利な方法を見出し、本発明を完
成するに至った。
アミン類の新しい合成法について鋭意研究を行った結
果、従来とは全く異なる新規な経路に基づく方法で、か
つ従来法の上述の欠点を解決し、高収率、高純度で目的
物を得、さらに各工程も温和な条件下で実施することが
でき、工業的に極めて有利な方法を見出し、本発明を完
成するに至った。
すなわち本発明は一般式(I) (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わ
す) で示される1−フェニルエタノン類と一般式(II) H2NOR2 (II) (式中、R2は水素原子、アルキル基もしくはアラルキ
ル基を表わす) で示されるヒドロキシルアミン類とを反応(第1工程)
させて一般式(III) (式中、R1,R2は前記と同じ意味を有する) で示されるオキシム類を得る工程。
す) で示される1−フェニルエタノン類と一般式(II) H2NOR2 (II) (式中、R2は水素原子、アルキル基もしくはアラルキ
ル基を表わす) で示されるヒドロキシルアミン類とを反応(第1工程)
させて一般式(III) (式中、R1,R2は前記と同じ意味を有する) で示されるオキシム類を得る工程。
(2)次いで一般式(III)のオキシムを還元(第II工程)す
る工程 の2工程からなる一般式(IV) (式中、R1は前記と同じ意味を有する) で示される1−フェニルエチルアミン類の工業的に極め
て優れた製造方法を提供するものである。
る工程 の2工程からなる一般式(IV) (式中、R1は前記と同じ意味を有する) で示される1−フェニルエチルアミン類の工業的に極め
て優れた製造方法を提供するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式(III)のオキシム類は一般式(I)の1−フェニルエ
タノン類と一般式(II)のヒドロキシルアミン類とを反応
(第I工程)させることにより製造される。
タノン類と一般式(II)のヒドロキシルアミン類とを反応
(第I工程)させることにより製造される。
ここで一般式(I)の化合物としては例えばR1が水素原
子もしくはo,mまたはp−メチル基,−エチル基,−
プロピル基,−ブチル基,−ペンチル基,−ヘキシル基
などの低級アルキル基である1−フェニルエタノン類が
例示される。
子もしくはo,mまたはp−メチル基,−エチル基,−
プロピル基,−ブチル基,−ペンチル基,−ヘキシル基
などの低級アルキル基である1−フェニルエタノン類が
例示される。
かかる1−フェニルエタノン類は例えば対応するフェニ
ル酢酸ハライド類とベンゼンのフリーデルクラフツ反応
により容易に得られる。
ル酢酸ハライド類とベンゼンのフリーデルクラフツ反応
により容易に得られる。
また一般式(II)の化合物はR2が水素原子、アルキル基
もしくはアラルキル基であるヒドロキシルアミン類であ
り、具体的にはヒドロキシルアミン、O−メチルヒドロ
キシルアミン、O−エチルヒドロキシルアミン、O−プ
ロピルヒドロキシルアミン、O−イソプロピルヒドロキ
シルアミン、O−n−ブチルヒドロキシルアミン類、O
−イソブチルヒドロキシルアミン、O−アミルヒドロキ
シルアミン、O−ヘキシルヒドロキシルアミン、O−ヘ
プチルヒドロキシルアミン、O−オクチルヒドロキシル
アミン、O−2−エチルヘキシルヒドロキシルアミン、
O−ノニルヒドロキシルアミン、O−デシルヒドロキシ
ルアミンなどの炭素数1〜10のアルキルヒドロキシル
アミン、O−ベンジルヒドロキシルアミン、O−p−ト
リルメチルヒドロキシルアミン、O−フェネチルヒドロ
キシルアミンなどのアラルキルヒドロキシルアミンが例
示される。
もしくはアラルキル基であるヒドロキシルアミン類であ
り、具体的にはヒドロキシルアミン、O−メチルヒドロ
キシルアミン、O−エチルヒドロキシルアミン、O−プ
ロピルヒドロキシルアミン、O−イソプロピルヒドロキ
シルアミン、O−n−ブチルヒドロキシルアミン類、O
−イソブチルヒドロキシルアミン、O−アミルヒドロキ
シルアミン、O−ヘキシルヒドロキシルアミン、O−ヘ
プチルヒドロキシルアミン、O−オクチルヒドロキシル
アミン、O−2−エチルヘキシルヒドロキシルアミン、
O−ノニルヒドロキシルアミン、O−デシルヒドロキシ
ルアミンなどの炭素数1〜10のアルキルヒドロキシル
アミン、O−ベンジルヒドロキシルアミン、O−p−ト
リルメチルヒドロキシルアミン、O−フェネチルヒドロ
キシルアミンなどのアラルキルヒドロキシルアミンが例
示される。
かかるヒドロキシルアミン類は通常、塩酸塩、硫酸塩等
の形で入手できるので、塩基の存在下に一般式(I)の化
合物と反応せしめる。
の形で入手できるので、塩基の存在下に一般式(I)の化
合物と反応せしめる。
ここで塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、N−
メチルモルホリン等の有機 塩基、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ソ−ダ等の無機塩基が例示され、
その使用量はヒドロキシルアミン類の塩に対し通常1当
量以上、好ましくは1〜3当量である。
メチルモルホリン等の有機 塩基、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ソ−ダ等の無機塩基が例示され、
その使用量はヒドロキシルアミン類の塩に対し通常1当
量以上、好ましくは1〜3当量である。
溶媒はヒドロキシルアミン類と反応しないものであれば
特に限定されない。例えばトルエン、ベンゼン、等の芳
香族炭化水素、クロロホルム、塩化メチレン、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類、ピリジン、トリエチルアミン等の
アミン類を挙げることができる。
特に限定されない。例えばトルエン、ベンゼン、等の芳
香族炭化水素、クロロホルム、塩化メチレン、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類、ピリジン、トリエチルアミン等の
アミン類を挙げることができる。
反応温度は通常−20〜150℃で特に限定されない
が、室温付近でも反応は円滑に進行する。
が、室温付近でも反応は円滑に進行する。
このような反応により得られた反応混合物から抽出、分
液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により、一般式(III)
の化合物はほぼ定量的得られるが、場合によっては一般
式(III)の化合物は単離することなく反応混合物のまま
次工程へ進んでも良い。
液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により、一般式(III)
の化合物はほぼ定量的得られるが、場合によっては一般
式(III)の化合物は単離することなく反応混合物のまま
次工程へ進んでも良い。
また一般式(III)の化合物はシン体およびアンチ体の二
種類の異性体が存在するが、本発明では、各異性体の単
品でも、両異性体の混合物でも使用できる。
種類の異性体が存在するが、本発明では、各異性体の単
品でも、両異性体の混合物でも使用できる。
次に一般式(III)の化合物を還元して最終目的物である
一般式(IV)で示される1−フェニルエチルアミン類を得
る工程(第2工程)について説明する。
一般式(IV)で示される1−フェニルエチルアミン類を得
る工程(第2工程)について説明する。
一般式(III)の化合物を還元する方法としては水素化ア
ルミニウムリチウム、シボラン等の金属ハイドライドを
用いる方法あるいは触媒の存在下に水素ガスを用いる接
触水素化法等が適応できるが、好ましくは接触水素化法
が採用される。
ルミニウムリチウム、シボラン等の金属ハイドライドを
用いる方法あるいは触媒の存在下に水素ガスを用いる接
触水素化法等が適応できるが、好ましくは接触水素化法
が採用される。
金属ハイドライドを用いて還元反応を行なう場合、溶媒
としてはテトラヒドロフラン、エ−テル等金属ハイドラ
イド還元反応に用いる通常の溶媒で充分であり、これら
を単独にあるいはトルエン、ヘキサン等の溶媒と混合し
て用いることもできる。
としてはテトラヒドロフラン、エ−テル等金属ハイドラ
イド還元反応に用いる通常の溶媒で充分であり、これら
を単独にあるいはトルエン、ヘキサン等の溶媒と混合し
て用いることもできる。
反応温度は−20℃から150℃が採用されるが室温付
近でも反応は充分に進行する。
近でも反応は充分に進行する。
用いる金属ハイドライドの量は基質に対して2当量以上
であるが、好ましくは2〜10当量使用される。
であるが、好ましくは2〜10当量使用される。
接触水素化法で還元する場合、触媒としてはパラジウ
ム、ラネーニッケル、酸化白金等の金属または金属酸化
物あるいはこれらを活性炭、アルミナケイソウ土等の担
体に担持させたものが用いられる。その使用量は用いる
触媒により異なるが通常1/10.000〜1モル%好ましくは
1/1.000〜1/10モル%用いる。
ム、ラネーニッケル、酸化白金等の金属または金属酸化
物あるいはこれらを活性炭、アルミナケイソウ土等の担
体に担持させたものが用いられる。その使用量は用いる
触媒により異なるが通常1/10.000〜1モル%好ましくは
1/1.000〜1/10モル%用いる。
また反応溶媒としてはメタノール、エタノール、酢酸
等、通常の接触水素化反応に用いられる溶媒が使用され
る。
等、通常の接触水素化反応に用いられる溶媒が使用され
る。
水素の圧力は溶媒、触媒等の条件により異なり、常圧〜
100気圧程度まで採用できるが、常圧でも充分目的を
達成できる。
100気圧程度まで採用できるが、常圧でも充分目的を
達成できる。
また反応温度も特に限定されるものではなく、通常−1
0℃から溶媒の沸点の範囲で採用されるが、10〜30
℃の室温下でも充分目的を達成し得る。
0℃から溶媒の沸点の範囲で採用されるが、10〜30
℃の室温下でも充分目的を達成し得る。
このような反応により得られた反応混合物から触媒を分
離した後、濃縮等の操作により一般式(IV)の目的化合物
が極めて高い収率で得られる。
離した後、濃縮等の操作により一般式(IV)の目的化合物
が極めて高い収率で得られる。
一般式(IV)の目的化合物はベンジル位にアミノ基を有す
る。一般にベンジル位のアミノ基は接触水素化反応によ
り水素化分解が起りアミノ基が脱離することが知られて
おり、本発明の目的化合物もアミノ基の脱離が懸念され
た。しかるにアモノ基の脱離反応も殆ど起らず、選択的
にしかも著しく高い収率で一般式(IV)の目的化合物が得
られたのである。
る。一般にベンジル位のアミノ基は接触水素化反応によ
り水素化分解が起りアミノ基が脱離することが知られて
おり、本発明の目的化合物もアミノ基の脱離が懸念され
た。しかるにアモノ基の脱離反応も殆ど起らず、選択的
にしかも著しく高い収率で一般式(IV)の目的化合物が得
られたのである。
ここで一般式(IV)の化合物としては、例えば 1−フェニル−2−フェニルエチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−トリル)エ
チルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−エチルフェ
ニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−プロピルフ
ェニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−イソプロピ
ルフェニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−ブチルフェ
ニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−ペンチルフ
ェニル)エチルアミン等が例示される。
チルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−エチルフェ
ニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−プロピルフ
ェニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−イソプロピ
ルフェニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−ブチルフェ
ニル)エチルアミン 1−フェニル−2−(o−,m−またはp−ペンチルフ
ェニル)エチルアミン等が例示される。
以下、本発明を実施例により、更に具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
実施例1 1−フェニル−2−(p−トリル)エタノンオキシム1
69mg(0.75mmol)をエタノ−ル4mlに溶解し10%p
d−C50mgを加え水素雰囲気下室温常圧で6時間攪拌
した。触媒を別後、反応液を濃縮し155mg(0.74mm
ol),収率=98%)の1−フェニル−2−(p−トリ
ル)エチルアミンを得た。
69mg(0.75mmol)をエタノ−ル4mlに溶解し10%p
d−C50mgを加え水素雰囲気下室温常圧で6時間攪拌
した。触媒を別後、反応液を濃縮し155mg(0.74mm
ol),収率=98%)の1−フェニル−2−(p−トリ
ル)エチルアミンを得た。
実施例2 1−フェニル−2−(p−トリル)エタノンオキシムO
−メチルエ−テル78.7mg(0.33mmol)をエタノール4ml
に溶解し10%pd−C30mgを加え、水素雰囲気下、
常圧、室温で6時間攪拌した。触媒を別後、反応液を
濃縮し67.2mg(0.32mmol、収率=97%)の1−フェニル
−2−(p−トリル)エチルアミンを得た。
−メチルエ−テル78.7mg(0.33mmol)をエタノール4ml
に溶解し10%pd−C30mgを加え、水素雰囲気下、
常圧、室温で6時間攪拌した。触媒を別後、反応液を
濃縮し67.2mg(0.32mmol、収率=97%)の1−フェニル
−2−(p−トリル)エチルアミンを得た。
実施例3 1−フェニル−2−(p−トリル)エタノール0.54g
(2.6mmol)をピリジン5mlに溶解し、ヒドロキシルア
ミン塩酸塩0.28g(4.0mmol)を加え、室温で4時間攪拌
した。エーテルを加え、希硫酸で洗浄後、さらに飽和食
塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後濃縮し0.58g(2.6mmol、収
率100%)の1−フェニル−2−(p−トリル)エタ
ノンオキシムを得た。
(2.6mmol)をピリジン5mlに溶解し、ヒドロキシルア
ミン塩酸塩0.28g(4.0mmol)を加え、室温で4時間攪拌
した。エーテルを加え、希硫酸で洗浄後、さらに飽和食
塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後濃縮し0.58g(2.6mmol、収
率100%)の1−フェニル−2−(p−トリル)エタ
ノンオキシムを得た。
この1−フェニル−2−(p−トリル)エタノンオキシ
ムのうち85mg(0.37mmol)をエタノ−ルに溶解し、1
0%pd−C25mgを加え、水素雰囲気下常圧、室温で
6時間攪拌した。触媒を別後、反応液を濃縮し、77
mg(0.36mmol、収率99%)の1−フェニル−2−(p
−トリル)エチルアミンを得た。
ムのうち85mg(0.37mmol)をエタノ−ルに溶解し、1
0%pd−C25mgを加え、水素雰囲気下常圧、室温で
6時間攪拌した。触媒を別後、反応液を濃縮し、77
mg(0.36mmol、収率99%)の1−フェニル−2−(p
−トリル)エチルアミンを得た。
実施例4 1−フェニル−2−(p−トリル)エタノンオキシムO
−メチルエ−テル66mgをテトラヒドロフラン3mlに溶
解し、室温でジボランのテトラヒドロフラン溶液0.5mmo
lを滴下し12時間反応させた後、50℃で1時間攪拌
した。塩酸1mlを加え同温度で1時間攪拌後、溶媒を留
去しトルエンと苛性ソーダ水溶液を加えトルエン抽出を
行った。得られたトルエン層からトルエンを留去後アル
ミナカラムで精製し、41mg(71%)の2−フェニル
−2−(p−トリル)エチルアミンを得た。
−メチルエ−テル66mgをテトラヒドロフラン3mlに溶
解し、室温でジボランのテトラヒドロフラン溶液0.5mmo
lを滴下し12時間反応させた後、50℃で1時間攪拌
した。塩酸1mlを加え同温度で1時間攪拌後、溶媒を留
去しトルエンと苛性ソーダ水溶液を加えトルエン抽出を
行った。得られたトルエン層からトルエンを留去後アル
ミナカラムで精製し、41mg(71%)の2−フェニル
−2−(p−トリル)エチルアミンを得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 249/08 251/48 9160−4H
Claims (2)
- 【請求項1】一般式(III) (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を、R2
は水素原子、アルキル基もしくはアラルキル基を表わ
す。) で示されるオキシム類を還元することを特徴とする一般
式(IV) (式中、R1は前記と同じ意味を有する。) で示される1−フェニルエチルアミン類の製造方法。 - 【請求項2】一般式(I) (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わ
す。) で示される1−フェニルエタノン類と一般式(II) H2NOR2 (II) (式中、R2は水素原子、アルキル基もしくはアラルキ
ル基を表わす。) で示されるヒドロキシルアミン類とを反応させて一般式
(III) (式中、R1,R2は前記と同じ意味を有する。) で示されるオキシム類を得、次いで還元することを特徴
とする一般式(IV) (式中、R1は前記と同じ意味を有する。) で示される1−フェニルエチルアミン類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60289715A JPH0645578B2 (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 1−フエニルエチルアミン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60289715A JPH0645578B2 (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 1−フエニルエチルアミン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62148454A JPS62148454A (ja) | 1987-07-02 |
JPH0645578B2 true JPH0645578B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=17746811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60289715A Expired - Lifetime JPH0645578B2 (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 1−フエニルエチルアミン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0645578B2 (ja) |
-
1985
- 1985-12-23 JP JP60289715A patent/JPH0645578B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62148454A (ja) | 1987-07-02 |
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