JPH0644521A

JPH0644521A - 磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0644521A
Application number: JP600692A
Authority: JP
Inventors: Toshio Uehara; 敏夫上原; Shigeru Kobayashi; 茂小林; Yoshinobu Kakihara; 良亘柿原; Takehiro Takojima; 武広蛸島
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1992-01-16
Filing date: 1992-01-16
Publication date: 1994-02-18

Abstract

(57)【要約】【目的】成膜速度の速い蒸着法を使用して製造した、
付着力が大きく、剥離することのないギャップスペーサ
を有した磁気ヘッド。【構成】一対の半コアの磁気ギャップ面にギャップス
ペーサを蒸着法で成膜した後に、該一対の対向する半コ
アを接合して磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造方法
であって、少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面に
コンタクトメタルを蒸着した後に、該コンタクトメタル
上にギャップスペーサを蒸着する。【効果】磁気コアとギャップスペーサの間にクロムか
らなるコンタクトメタルが介在しているので、ギャップ
スペーサの付着力が高まり、ギャップスペーサの剥離が
生じることがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明はオーディオやＶＴＲ等
の磁気ヘッドに関するもので、特に磁気ヘッドの磁気ギ
ャップに介在するギャップスペーサに関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】ＡＶ用磁気ヘッドの音声ヘッドやコント
ロールヘッドはその仕様によって様々な形状、寸法等を
有しているが、図９に示す磁気ヘッドをその基本構造と
することができる。図９に示される磁気ヘッド１０は、
パーマロイやセンダスト等の強磁性体からなる磁気コア
１２と、磁気コア１２を納置するシールドケース２２か
らなり、磁気コア１２にはコイル１８の巻回されたボビ
ン２０が設けられ、さらに磁気コア１２の磁気記録媒体
側には磁気ギャップ１４が形成されている。さらに、磁
気ギャップ１４にはギャップスペーサ１６が介在されて
いる。スペーサとしての機能を有するギャップスペーサ
１６は非磁性体からなり、一般にＴｉ薄板を挿入した
り、あるいはＳｉＯ₂をスパッタ法や蒸着法等の真空薄
膜形成法を利用して成膜していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ギャップスペーサを成
膜する際に、スパッタ法を使用すると、形成された膜の
性状は良好であるものの、成膜時間が非常に長くなって
しまうものであった。例えば、膜厚がおよそ１〜２μm
のキャップスペーサを有するＡＶ用磁気ヘッドの音声ヘ
ッドやコントロールヘッドでは、ギャップスペーサの成
膜工程に２〜３時間を要してしまうものであった。従っ
て、生産性が低く、またその成膜工程に多くのエネルギ
を要してしまうものであった。これに対して真空蒸着法
を利用すると、図１０に示すように、少ない投入電力で
成膜速度を格段に速くすることができる。しかしなが
ら、ギャップスペーサとしてＳｉＯ₂を真空蒸着法で成
膜すると、付着強度が弱く、ギャップスペーサが剥離す
るという問題が生じてしまうものであった。

【０００４】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、成膜速度の速い蒸着法を使用しながら、付着
力が大きく、剥離することのないギャップスペーサを有
した磁気ヘッドを提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の磁気ヘッ
ドは、磁気記録媒体側に磁気ギャップが形成され、該磁
気ギャップ内に非磁性体のギャップスペーサが介在する
磁気コアにコイルが巻回されてなる磁気ヘッドにおい
て、磁気コアとギャップスペーサの間にクロム（Ｃｒ）
からなるコンタクトメタルが介在されてなることを特徴
とするものである。

【０００６】請求項２記載の磁気ヘッドは、請求項１記
載の磁気ヘッドにおいて、ギャップスペーサがＳｉＯ₂
であることを特徴とするものである。

【０００７】請求項３記載の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の半コアの磁気ギャップ面にギャップスペーサを蒸
着法で成膜した後に、該一対の対向する半コアを接合し
て磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造方法であって、
少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着した後に、該コンタクトメタル上にギャッ
プスペーサを蒸着することを特徴とするものである。

【０００８】請求項４記載の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の半コアの磁気ギャップ面にギャップスペーサを蒸
着法で成膜した後に、該一対の対向する半コアを接合し
て磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造方法であって、
少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着した後に、酸素雰囲気中で該コンタクトメ
タル上にギャップスペーサを蒸着することを特徴とする
ものである。

【０００９】請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の半コアの磁気ギャップ面にギャップスペーサを蒸
着法で成膜した後に、該一対の対向する半コアを接合し
て磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造方法であって、
少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着し、その後、該コンタクトメタル上にイオ
ンアシストを伴ってギャップスペーサを蒸着することを
特徴とするものである。

【００１０】請求項６記載の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の半コアの磁気ギャップ面にギャップスペーサを蒸
着法で成膜した後に、該一対の対向する半コアを接合し
て磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造方法であって、
少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着し、その後、酸素雰囲気中で該コンタクト
メタル上にイオンアシストを伴ってギャップスペーサを
蒸着することを特徴とするものである。

【００１１】請求項７記載の磁気ヘッドの製造方法は、
請求項３〜６のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法
において、コンタクトメタルがクロム（Ｃｒ）であるこ
とを特徴とするものである。

【００１２】請求項８記載の磁気ヘッドの製造方法は、
請求項３〜７のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法
において、ギャップスペーサがＳｉＯ₂であることを特
徴とするものである。

【００１３】

【作用】本発明の磁気ヘッドではその磁気ギャップに形
成するギャップスペーサの成膜に短時間で成膜すること
のできる蒸着法を使用するものなので、製造時間を格段
に短くすることができる。しかも蒸着法では要するエネ
ルギを大幅に低減することができる。また、本発明では
ギャップスペーサと磁気コアの間にコンタクトメタルを
介在させることで、ギャップスペーサの付着力を高めて
いる。さらに、コンタクトメタルを介在させることで、
付着力だけでなく、硬度、耐衝撃性、耐環境性をも改善
させることができる。さらに、ギャップスペーサの蒸着
を酸素雰囲気中で行なうことで、成膜されたギャップス
ペーサの膜質を良好にすることができ、ギャップスペー
サの膜厚を安定化することができる。さらにまた、ギャ
ップスペーサの蒸着時にイオンアシストを伴うことで
も、成膜されたギャップスペーサの膜質を良好にするこ
とができ、ギャップスペーサの付着力や耐衝撃性、耐環
境性等を向上させることができる。

【００１４】

【実施例】

〔実施例１〕実施例１の磁気ヘッドを図１に示す。この
磁気ヘッド２４はオーディオ用磁気ヘッドである。磁気
ヘッド２４は、コイル３０の巻回された磁気コア２６を
シールドケース３４内に納置し、さらにシールドケース
３４内にエポキシ樹脂を充填して概略構成されている。
パーマロイからなる複数枚の磁気コア２６はシールドプ
レート２８を介して積層されている。磁気コア２６には
パーマロイ以外でも強磁性体であるフェライトやセンダ
スト、Ｆｅ-Ｃｏ-Ｓｉ-Ｂアモルファス合金等を使用で
きる。磁気コア２６の磁気テープと摺動する前端には磁
気ギャップ３２が形成されている。さらに、磁気ヘッド
２４には磁気記録装置本体に搭載するためのブラケット
３８が設けられ、さらにまた、磁気ヘッド２４の磁気テ
ープ摺動面側には磁気テープをガイドするテープガイド
４０が設けられている。さらに、図１（ｂ）の拡大図に
示すように、本実施例の磁気ヘッド２４では、磁気ギャ
ップ３２にＳｉＯ₂からなるギャップスペーサ４２が形
成され、さらにギャップスペーサ４２の片側と磁気コア
２６の間にはコンタクトメタル４４が介在されている。
即ち、磁気コアの磁気ギャップに面する部分である磁気
ギャップ面にコンタクトメタル４４とギャップスペーサ
４２が順に積層されている配置構成となる。尚、図２
（ｂ）に示すように、ギャップスペーサ４２の両側と磁
気コア２６の間にコンタクトメタル４４，４４が介在さ
れていても良い。ギャップスペーサ４２には成膜性や安
定性に優れたＳｉＯ₂が最も好適に使用されるが、Ｓｉ
Ｎ₄，ＳｉＯＮ系材料，サイアロン（ＳｉＡｌＯＮ）等
のＳｉ系絶縁物や、Ａｌ₂Ｏ₃，Ｔａ₂Ｏ₅等を適用するこ
ともできる。コンタクトメタル４４はクロム（Ｃｒ）か
らなるが、クロム（Ｃｒ）単体以外でもＴｉＣｒ₂，Ｃ
ｒＳｉ₂，ＮｉＣｒ，ＮｉＣｒＦｅ等も適用できる。コ
ンタクトメタル４４の膜厚は２ｎｍ以上であることが好
ましい。膜厚が２ｎｍ以下であると、磁気コアとＳｉＯ
₂膜の付着性の向上が不十分であるからである。この例
の磁気ヘッド２４では、幅１.５μmの磁気ギャップ３２
に厚さ１.４８μmのギャップスペーサ４２と、該ギャッ
プスペーサ４２の片側に幅０.０２μmのコンタクトメタ
ル４４が形成されている。

【００１５】この磁気ヘッド２４を製造するには、パー
マロイを所定形状に切り出し、略コ字状の半コアを形成
する。この半コアをワーク８２として磁気ギャップ面以
外をマスクして図３に示される真空蒸着装置７０内に設
置する。この時、ワーク８２を複数個設置すれば、同時
に複数の磁気コアを製造することができ、量産性が向上
する。蒸着装置７０には、プラネタリ型（基板自公転
型）蒸着装置、ドーム型蒸着装置、反転パレット型蒸着
装置等を使用できる。ワーク８２を設置したら、まず蒸
着装置７０内を真空ポンプ７４を作動させて蒸着装置７
０内を減圧する。そして、るつぼ８０に入れてある蒸着
材料（クロム（Ｃｒ））を加熱し、クロム（Ｃｒ）を蒸
発させる。るつぼ８０の加熱には抵抗加熱法や電子ビー
ム法等を使用できる。

【００１６】こうしてクロム（Ｃｒ）をワーク８２の磁
気ギャップ面に蒸着した後に、るつぼ８０からＳｉＯ₂
を蒸発させてＳｉＯ₂をクロム（Ｃｒ）上に蒸着する。
こうして、磁気ギャップ面にコンタクトメタル（クロム
（Ｃｒ））とギャップスペーサ（ＳｉＯ₂）が積層され
た半コアが製造される。磁気ヘッド２４は、この製造さ
れた半コアにコイル３０を巻回すると共に、磁気ギャッ
プ面に何も施していない半コアと接合してなる磁気コア
２６をシールドケース３４内に納置して製造される。ま
たは、図２に示すように、コンタクトメタル４４とギャ
ップスペーサ４２が蒸着された２つの半コア２６ａにコ
イル（図示略）を巻回すると共に一対の該半コア２６ａ
を接合してなる磁気コア２６をシールドケース３４内に
納置して製造される。本実施例の磁気ヘッドでは、ギャ
ップスペーサであるＳｉＯ₂膜をスパッタ法でなく、蒸
着法で成膜するものであるので、短時間で成膜すること
ができ、生産性の高いものである。また、製造時に消費
されるエネルギも少なくてすむ。また、ＳｉＯ₂膜が蒸
着法で成膜されているものの、磁気コアとＳｉＯ₂膜の
間にクロム（Ｃｒ）からなるコンタクトメタルが介在さ
れていることで、磁気コアとＳｉＯ₂膜の付着力も十分
に大きくなり、ギャップスペーサの剥離が生じることも
ない。

【００１７】〔実施例２〕実施例２の磁気ヘッドを図４
に示す。この磁気ヘッド４８はＶＴＲ用の音声／コント
ロール磁気ヘッドである。

【００１８】尚、本発明の磁気ヘッドは実施例１に示す
オーディオ用磁気ヘッドや、この実施例２に示すＶＴＲ
用の音声／コントロール磁気ヘッドだけでなく、磁気ギ
ャップの中にギャップスペーサを有するあらゆる種類の
磁気ヘッドに適用できる。

【００１９】図４に示す磁気ヘッド４８は磁気テープと
の摺動面に磁気ギャップ５２の形成されたコントロール
用磁気コア５６と磁気ギャップ５４の形成された音声用
磁気コア５８を一体化し、これをシールドケース５０内
に納置してなるものである。磁気コア５６，５８は図４
（ｂ）に示すように、ホルダ６８で一体化され、各磁気
コア５６，５８にはコイル６０の巻回されたボビン６２
が装着されている。磁気コア５６は一対の略コ字状の半
コア５６ａ，５６ｂを接合してなり、磁気コア５８も一
対の略コ字状の半コア５８ａ，５８ｂを接合してなる。

【００２０】これら磁気コア５６，５８は、それぞれの
半コア５６ａと５６ｂ、５８ａと５８ｂを接合する前に
半コア５６ｂ，５８ｂの磁気ギャップ面にコンタクトメ
タル６６及びギャップスペーサ６４を積層しておく。こ
の磁気ギャップ５２，５４にコンタクトメタル６６及び
ギャップスペーサ６４を形成する方法は、実施例１に記
載したように蒸着法を使用して形成する。即ち、磁気ギ
ャップ面にまず蒸着法にてコンタクトメタル（クロム
（Ｃｒ））６６を形成し、その後、そのコンタクトメタ
ル６６上にＳｉＯ₂を蒸着する。こうして半コア５６
ｂ，５８ｂにコンタクトメタル６６，ギャップスペーサ
６４を形成した後に各半コア５６ａと半コア５６ｂ、半
コア５８ａと半コア５８ｂを接合し、磁気コア５６，５
８を製造する。この際、コイル６０の巻回されたボビン
６２を各磁気コア５６，５８に装着する。そして、ホル
ダ６８で一体化された磁気コア５６，５８をシールドケ
ース５０内に納置して磁気ヘッド４８が製造される。
尚、半コア５６ａ，５６ｂ，５８ａ，５８ｂの各磁気ギ
ャップ面にコンタクトメタル６６とギャップスペーサ６
４をそれぞれ形成した後に、半コア５６ａと半コア５６
ｂ、半コア５８ａと半コア５８ｂをそれぞれ接合し、磁
気コア５６，５８を製造しても良い。

【００２１】実施例２の磁気ヘッドも実施例１の磁気ヘ
ッドと同様に、ギャップスペーサであるＳｉＯ₂膜をス
パッタ法でなく、蒸着法で成膜したものであるので、短
時間で成膜することができ、生産性の高いものである。
また、製造時に消費されるエネルギも少なくてすむ。ま
た、ＳｉＯ₂膜が蒸着法で成膜されているものの、磁気
コアとＳｉＯ₂膜の間にクロム（Ｃｒ）からなるコンタ
クトメタルが介在されていることで、磁気コアとＳｉＯ
₂膜の付着力も十分に大きく、ギャップスペーサの剥離
が生じることもない。

【００２２】〔実施例３〕実施例１及び実施例２に示す
磁気ヘッドの製造において、コンタクトメタルないしギ
ャップスペーサを形成する際に、以下の方法で製造する
ことができる。磁気ギャップ面にコンタクトメタルを蒸
着した後、図３に示す蒸着装置７０に連通された酸素ボ
ンベ７２から蒸着装置７０内に酸素ガスを注入し、酸素
ガスの存在下でギャップスペーサであるＳｉＯ₂を蒸着
する。この際の蒸着装置７０における酸素の動作圧力は
７×１０^-5Ｔｏｒｒ程度が適している。

【００２３】酸素ガス雰囲気中でＳｉＯ₂を蒸着するこ
とで、ＳｉＯ₂膜に酸素がドープされる。ＳｉＯ₂膜は成
膜後に大気中で変質する傾向があり、その膜厚が変化す
ることがある。従来、大気中に放置されておよそ１時間
で膜厚が約１％増加する。しかしながら、この酸素ドー
プを行なうことで、ＳｉＯ₂膜は安定し、膜厚の経時変
化を防止することができる。

【００２４】〔実施例４〕実施例１及び実施例２に示す
磁気ヘッドの製造において、コンタクトメタルないしギ
ャップスペーサを形成する際に、以下の方法で製造する
ことができる。ＳｉＯ₂の蒸着時に、ＳｉＯ₂の蒸着と共
に、酸素ボンベ７８と連通され蒸着装置７０に連設して
いるイオン銃７６から酸素イオンをワーク８２に向けて
放出してイオンアシストをする。この際の成膜速度は６
０〜７０Å／ｓｅｃで十分であるが、より遅い速度、例
えば１０Å／ｓｅｃ位であればより好ましい。イオン銃
７６にはカウフマン（Kaufman）型イオン源や冷陰極型
ＤＣマグネトロンイオン源等を適用することができる。
カウフマン（Kaufman）型イオン源を使用した場合、圧
力２×１０^-4Ｔｏｒｒ、流量７ｓｃｃｍの酸素ガスを加
速電圧７５０Ｖ、加速電流１５０ｍＡ、アノード電流
０.８Ａ程度でイオン化することで良好に実施できる。

【００２５】この酸素イオンのイオンアシストを行なう
ことでＳｉＯ₂膜中の空孔部分に酸素（Ｏ₂）が充填さ
れ、ＳｉＯ₂膜の密度が高くなってＳｉＯ₂膜の膜質が良
好になり、ＳｉＯ₂膜の付着力および耐衝撃性をより高
めることができる。

【００２６】〔実施例５〕実施例１及び実施例２に示す
磁気ヘッドの製造において、コンタクトメタルないしギ
ャップスペーサを形成する際に、以下の方法で製造する
ことができる。実施例３で示した酸素ガス雰囲気中でＳ
ｉＯ₂を蒸着すると共に、このＳｉＯ₂の蒸着時に実施例
４で示したイオンアシストを伴う製造方法である。酸素
ドープとイオンアシストを併用することで、各々の利点
を共に得ることができる。即ち、ＳｉＯ₂膜の付着力を
高めると共に、ＳｉＯ₂膜の膜質が安定し、耐衝撃性を
向上することができる。

【００２７】〔試験例〕クロム（Ｃｒ）とクロム以外の
金属のコンタクトメタルとして必要な諸特性を表１と表
２に示す。

【００２８】

【表１】

【００２９】

【表２】

【００３０】表１と表２から、磁気コアであるパーマロ
イ及びギャップスペーサであるＳｉＯ₂との密着性、コ
ンタクトメタルとしての絶対条件である非磁性、そして
硬度、耐蝕性、および蒸着性、コストの全ての点でクロ
ム（Ｃｒ）がコンタクトメタルとして格段に優れている
ことが明らかである。

【００３１】本実施例の方法で成膜した膜と従来例の方
法で成膜した膜の付着力を試験した。試験は、パーマロ
イからなる基板（１０ｍｍ角）にＳｉＯ₂を成膜し、該
ＳｉＯ₂膜にエポキシ樹脂からなる丸棒（φ２）を接着
し、基板を固定した上で該丸棒を上方に引っ張り、Ｓｉ
Ｏ₂膜が剥離した時の力を測定したものである。サンプ
ルは、１：パーマロイ上にＳｉＯ₂をスパッタ法にて成膜した
もの（比較例）２：パーマロイ上に直接ＳｉＯ₂を酸素ドープ無で蒸着
したもの（比較例）３：パーマロイ上に直接ＳｉＯ₂を酸素ドープ有で蒸着
したもの（比較例）４：パーマロイ上にクロム（Ｃｒ）を蒸着し、さらにそ
の上にＳｉＯ₂を酸素ドープ無で蒸着したもの（実施例
１）５：パーマロイ上にクロム（Ｃｒ）を蒸着し、さらにそ
の上にＳｉＯ₂を酸素ドープ有で蒸着したもの（実施例
３）の５種類とした。試験結果を図５に示す。

【００３２】図５から、比較例のサンプル２，３の付着
力は非常に小さいが、本実施例のサンプル５ではスパッ
タ法で成膜したもの（サンプル１）と遜色なく、磁気ヘ
ッドのギャップスペーサとして十分な付着力を有してい
ることがわかる。

【００３３】さらに、スクラッチ（引っ掻き）テストを
行なった。スクラッチテストでは、先端の曲率半径が一
定の硬い圧子をサンプルに押し付けて引っ掻き、サンプ
ルの膜面に傷が発生する臨界荷重値から剥離強度を求め
た。試験機には島津製作所（株）製薄膜評価用スクラッ
チテスタを使用した。

【００３４】サンプルは上記引っ張り試験同様、１：パ
ーマロイ上にＳｉＯ₂をスパッタ法にて成膜したもの
（比較例）、２：パーマロイ上にＳｉＯ₂を酸素ドープ
無で蒸着したもの（比較例）、３：パーマロイ上にＳｉ
Ｏ₂を酸素ドープ有で蒸着したもの（比較例）、４：パ
ーマロイ上にクロム（Ｃｒ）を蒸着し、さらにその上に
ＳｉＯ₂を酸素ドープ無で蒸着したもの（実施例１）、
５：パーマロイ上にクロム（Ｃｒ）を蒸着し、さらにそ
の上にＳｉＯ₂を酸素ドープ有で蒸着したもの（実施例
３）の５種類とした。試験結果を図６に示す。

【００３５】図６から、比較例のサンプル２，３の剥離
強度は小さいが、本実施例のサンプル４，５はスパッタ
を使用したサンプル１と同程度の剥離強度を有してい
る。従って、磁気ヘッドのギャップスペーサとして十分
な剥離強度を有していることがわかる。

【００３６】本実施例の方法で成膜した膜と従来例の方
法で成膜した膜の硬度を試験した。試験は、圧子（ダイ
ヤモンド製、綾角８０゜三角錐、先端半径：０.１μm）
をサンプルに押し込み、そのときの押込み荷重と押込み
深さを測定し、それらからサンプルの硬度を算出した。

【００３７】サンプルは、１：パーマロイ上にＳｉＯ₂
をスパッタ法にて成膜したもの（比較例）、２：パーマ
ロイ上にＳｉＯ₂を酸素ドープ無で蒸着したもの（比較
例）、３：パーマロイ上にＳｉＯ₂を酸素ドープ有で蒸
着したもの（比較例）、４：パーマロイ上にクロム（Ｃ
ｒ）を蒸着し、さらにその上にＳｉＯ₂を酸素ドープ無
で蒸着したもの（実施例１）、５：パーマロイ上にクロ
ム（Ｃｒ）を蒸着し、さらにその上にＳｉＯ₂を酸素ド
ープ有で蒸着したもの（実施例３）の５種類とした。
試験結果を図７に示す。

【００３８】図７から本実施例の方法で成膜したＳｉＯ
₂膜（サンプル４，５）はスパッタ法にて成膜したＳｉ
Ｏ₂膜（サンプル１）には及ばないものの、磁気ヘッド
のギャップスペーサとしては十分な硬度を備えているこ
とがわかる。ギャップスペーサの硬度は高いほど、磁気
テープとの摺動時に摩耗しにくく寿命が長くなるという
ことの他にも、磁気ヘッドの製造時の取り扱いが容易に
なるので、コストダウンや歩留りの向上などを図ること
ができる。

【００３９】本実施例の方法で成膜したＳｉＯ₂膜と従
来例の方法で成膜したＳｉＯ₂膜のエッチングレートを
試験した。エッチングレート試験は、フッ化水素とフッ
化アンモニウムを１：１０の比率で混合した液に浸漬
（２５℃）し、そのときのエッチングされる速度を求め
た。

【００４０】サンプルは、１：パーマロイ上にＳｉＯ₂
をスパッタ法にて成膜したもの（比較例）、２：パーマ
ロイ上にＳｉＯ₂を酸素ドープ無で蒸着したもの（比較
例）、３：パーマロイ上にＳｉＯ₂を酸素ドープ有で蒸
着したもの（比較例）、４：パーマロイ上にクロム（Ｃ
ｒ）を蒸着し、さらにその上にＳｉＯ₂を酸素ドープ無
で蒸着したもの（実施例１）、５：パーマロイ上にクロ
ム（Ｃｒ）を蒸着し、さらにその上にＳｉＯ₂を酸素ド
ープ有で蒸着したもの（実施例３）の５種類とした。
試験結果を図８に示す。

【００４１】図８から本実施例のサンプル４，５はギャ
ップスペーサとして十分にエッチングレートが小さいこ
とがわかる。エッチングレートは膜の緻密度、即ち密度
の指標とすることができる。つまり、エッチングレート
が小さいほど、そのＳｉＯ₂膜は緻密であり、密度が高
いことを示す。

【００４２】ＳｉＯ₂膜は成膜時には酸素欠乏状態であ
る傾向があり、成膜後に大気に触れることで大気中の酸
素を吸気し、膜厚が増加する。密度が高いとＳｉＯ₂膜
は大気中で酸素を吸気しなくなるので、密度が高ければ
経時変化が起こりにくいことを示すことができる。さら
に、密度が大きいと、硬度が高まるので、ギャップスペ
ーサとしてより望ましい。

【００４３】上記各種試験結果、即ち付着力、硬度、密
度、さらに耐衝撃性、耐環境性の試験結果の評価を表３
にまとめた。尚、表３において、付着力とは、上記引っ
張り試験、スクラッチテストとテープ剥離試験の総合評
価をしたものである。

【００４４】耐衝撃性は、ウォータージェット試験と組
合せ試験から評価したものである。ここで、ウォーター
ジェット試験とは、４０ｋｇ／ｃｍ²の水圧に対して膜
の剥がれの有無を顕微鏡で観察したものである。また、
組合せ試験は、実際に各方法で成膜したギャップスペー
サを有する磁気ヘッドを作成し、それを破壊し、そのと
きのギャップスペーサの剥がれ状態を顕微鏡にて観察し
たものである。

【００４５】耐環境性は以下に示す試験結果から総合判
断したものである。耐熱試験：９０℃×７２時間耐寒試験：−３０℃×７２時間耐湿試験：６０℃×９０〜９５％ＲＨ×２４０時間温度サイクル試験：（−３０℃×３０分）→（ＲＴ２
分）→（７０℃×３０分）→（ＲＴ２分）からなる１サ
イクルを５サイクル温度ショック：１００℃×２時間→急冷

【００４６】

【表３】

【００４７】表３から、本実施例の方法で成膜したＳｉ
Ｏ₂膜（サンプル４，５）は、付着力においてはスパッ
タ法により成膜したＳｉＯ₂膜（サンプル１）には及ば
ないものの、従来例のサンプル２，３よりは向上してい
ることがわかる。硬度および密度も本実施例のＳｉＯ₂
膜（サンプル４，５）はギャップスペーサとしては十分
な評価を得ることができている。耐衝撃性および耐環境
性はスパッタ法により成膜した膜（サンプル１）には及
ばないものの、本実施例の方法で成膜したＳｉＯ₂膜
（サンプル４，５）は従来例のサンプル２，３よりは格
段に向上していることがわかる。

【００４８】本実施例のようにクロム（Ｃｒ）を介して
ＳｉＯ₂をパーマロイ上に蒸着した膜の耐環境性が向上
する理由としては、クロム（Ｃｒ）の熱膨張係数（６.
２×１０^-6／℃）がパーマロイの熱膨張係数（１３×１
０^-6／℃）とＳｉＯ₂の熱膨張係数（０.３×１０^-6／
℃）の中間に位置するからであると考えられる。

【００４９】表３から得られる総合評価として、本実施
例の方法で成膜したＳｉＯ₂膜は磁気ヘッドのギャップ
スペーサとして十分な付着力、硬度、密度、耐衝撃性、
耐環境性を有しているといえる。

【００５０】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法では磁気
ギャップに介在するギャップスペーサを蒸着法で形成す
るものであるので、短時間でギャップスペーサを成膜す
ることができる。従って、生産性が高く、しかも製造に
要するエネルギも少なくてすむものである。

【００５１】しかも、本発明の磁気ヘッドでは、ギャッ
プスペーサを蒸着法で形成するにもかかわらず、磁気コ
アとギャップスペーサの間にクロム（Ｃｒ）からなるコ
ンタクトメタルが介在しているので、ギャップスペーサ
の付着力が高まり、ギャップスペーサの剥離が生じるこ
とがない。しかも、付着力の高まりと共に、ギャップス
ペーサの硬度や耐衝撃性、耐環境性も改善される。

【００５２】特に、請求項４記載の磁気ヘッドの製造方
法では、ギャップスペーサの蒸着を酸素雰囲気中で行な
うことで、ギャップスペーサの膜質を安定化させること
ができる。

【００５３】さらに、請求項５記載の磁気ヘッドの製造
方法では、ギャップスペーサの蒸着にイオンアシストを
伴うもので、付着力、特に耐衝撃性を向上させることが
できる。

【００５４】さらにまた、請求項６記載の磁気ヘッドの
製造方法では、ギャップスペーサの蒸着を酸素雰囲気中
でイオンアシストを伴って行なうものであるので、膜質
を安定化すると共に付着力や耐衝撃性を向上することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例の磁気ヘッドの斜視図であって、図１
（ａ）は要部透視斜視図、図１（ｂ）は磁気ギャップ周
部の拡大図である。

【図２】実施例１の磁気ヘッドにおいて、コンタクトメ
タルがギャップスペーサの両側に形成されている磁気コ
アの側面図であり、図２（ａ）は半コアを接合する前、
図２（ｂ）は接合した後を示すものである。

【図３】本実施例の磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの概念図である。

【図４】実施例２の磁気ヘッドであって、図４（ａ）は
斜視図、図４（ｂ）は分解図である。

【図５】引っ張り試験結果を示すグラフである。

【図６】スクラッチ試験結果を示すグラフである。

【図７】薄膜硬度試験結果を示すグラフである。

【図８】エッチングレート試験結果を示すグラフであ
る。

【図９】従来例の磁気ヘッドの断面図である。

【図１０】スパッタ法と蒸着法の成膜速度を示すグラフ
である。

【符号の説明】

１０磁気ヘッド１２磁気コア１４磁気ギャップ１６ギャップスペーサ１８コイル２４磁気ヘッド２６磁気コア２６ａ半コア３０コイル３２磁気ギャップ４２ギャップスペーサ４４コンタクトメタル４８磁気ヘッド５２磁気ギャップ５４磁気ギャップ５６磁気コア５６ａ半コア５６ｂ半コア５８磁気コア５８ａ半コア５８ｂ半コア６０コイル６４ギャップスペーサ６６コンタクトメタル７０蒸着装置８２ワーク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者蛸島武広東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気記録媒体側に磁気ギャップが形成さ
れ、該磁気ギャップ内に非磁性体のギャップスペーサが
介在する磁気コアにコイルが巻回されてなる磁気ヘッド
において、磁気コアとギャップスペーサの間にクロム（Ｃｒ）から
なるコンタクトメタルが介在されてなることを特徴とす
る磁気ヘッド。
【請求項２】請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、ギ
ャップスペーサがＳｉＯ₂であることを特徴とする磁気
ヘッド。
【請求項３】一対の半コアの磁気ギャップ面にギャッ
プスペーサを蒸着法で成膜した後に、該一対の対向する
半コアを接合して磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造
方法であって、少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着した後に、該コンタクトメタル上にギャッ
プスペーサを蒸着することを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。
【請求項４】一対の半コアの磁気ギャップ面にギャッ
プスペーサを蒸着法で成膜した後に、該一対の対向する
半コアを接合して磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造
方法であって、少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着した後に、酸素雰囲気中で該コンタクトメ
タル上にギャップスペーサを蒸着することを特徴とする
磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】一対の半コアの磁気ギャップ面にギャッ
プスペーサを蒸着法で成膜した後に、該一対の対向する
半コアを接合して磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造
方法であって、少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着した後に、該コンタクトメタル上にイオン
アシストを伴ってギャップスペーサを蒸着することを特
徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】一対の半コアの磁気ギャップ面にギャッ
プスペーサを蒸着法で成膜した後に、該一対の対向する
半コアを接合して磁気コアを形成する磁気ヘッドの製造
方法であって、少なくとも一方の半コアの磁気ギャップ面にコンタクト
メタルを蒸着した後に、酸素雰囲気中で該コンタクトメ
タル上にイオンアシストを伴ってギャップスペーサを蒸
着することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】請求項３〜６のいずれかに記載の磁気ヘ
ッドの製造方法において、コンタクトメタルがクロム
（Ｃｒ）であることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項８】請求項３〜７のいずれかに記載の磁気ヘ
ッドの製造方法において、ギャップスペーサがＳｉＯ₂
であることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。