JPH0643646A - フォトレジスト組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】紫外線を用いたリソグラフィに使用する新規な
フォトレジスト組成物の提供。特に、遠紫外線（ＤＵ
Ｖ）によるサブミクロンのリソグラフィが可能であり、
また現像後に行う１７０℃以上でのプラズマ・エッチン
グ、スパッタリング、イオン注入等の高温処理時にも像
のゆがみがないフォトレジスト組成物の提供。 【構成】インデンとマレイミドとからなる、あるいは重
合成分： （Ａ）インデン ７０〜９９重量％、（Ｂ）スチレ
ン ０．５から２９．５重量％、および（Ｃ）α−
メチルスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、
トリメチルスチレン、メチルインデン、クマロンおよび
ジシクロペンタジエンよりなる群より選ばれる少なくと
も１つまたは２つ以上の合計０．５〜２９．５重量％か
らなるインデンを主成分としたナフサ油の重合成分とマ
レイミドとからなるアルカリ可溶性ポリマーと、そのア
ルカリ可溶性ポリマーを、紫外線への露光により交差結
合させるのに十分な量のビスアジド増感剤とからなるフ
ォトレジスト組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】遠紫外線放射に感受性を有してお
りしかもアルカリ溶解性であるインデンとマレイミドか
ら得られるポリマーあるいはインデンを主成分とする重
合成分とマレイミドから得られるポリマーを基材とする
フォトレジストに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体工業では１ミクロン、またはサブ
ミクロンの形状寸法性に対する要求が急速に高まってい
る。ステップ・アンド・リピート露出装置を用いた多層
レジスト（ＭＬＲ）技術により、サブミクロンの像が得
られるが、この処理は長時間を要し、高価である。費用
効率の最もよい方法は投影プリンタを用いて中波長紫外
線（ＭＵＶ）または遠紫外線（ＤＵＶ）により作像する
単層レジストがある。ＤＵＶを適応する場合は樹脂に対
してさらに制限が加わる。ノボラック樹脂などのＭＵＶ
リソグラフィ（３００〜４００ｎｍ）用の従来のポジ型
レジスト用の樹脂は３００ｎｍ未満の波長に対し、光学
密度が高いためＤＵＶ（２００〜３００ｎｍ）には使用
が不可能である。

【０００３】特開昭６３−１６７３５１号公報ではスチ
レンとマレイミドから得られる樹脂とビスアジド増感剤
からなるフォトレジスト組成物を提案している。この組
成物はＤＵＶに対する感光特性が良好であり、微細なレ
ジストパターンを描くことができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながらサブミ
クロンのレジストパターンの作製では、ベース樹脂であ
るスチレン−マレイミド共重合体のガラス転移温度（Ｔ
ｇ）が１７０℃程度であり、１７０℃付近でのプラズマ
・エッチング、スパッタリング、イオン注入等の高温処
理時に僅かに変形し解像度が低下するという問題があっ
た。

【０００５】そこで、本発明の目的は、紫外線を用いた
リソグラフィに使用する新規なフォトレジスト組成物を
提供することにある。すなわちＤＵＶによるサブミクロ
ンのリソグラフィが可能であり、また現像後に行う１７
０℃以上でのプラズマ・エッチング、スパッタリング、
イオン注入等の高温処理時にも像のゆがみがないフォト
レジスト組成物を提供する。

【０００６】

【問題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決するためスチレン−マレイミド共重合体に代わ
り、しかもフォトレジスト材として使用可能な高耐熱性
の樹脂を種々検索した。種々の検討の後、アルカリ可溶
性であり、かつ高耐熱性のインデンとマレイミドとの共
重合体をビスジアジド化合物と組み合わせたフォトレジ
スト組成物を試作したところ、ＤＵＶによるサブミクロ
ンのリソグラフィが可能である上、驚くべきことに現像
後に行うプラズマ・エッチング、スパッタリング、イオ
ン注入等の処理を１７０℃以上の高温で行えることを見
いだし、本発明に至った。

【０００７】すなわち、インデンとマレイミドとの共重
合体は耐熱性に優れた共重合体であり、熱的に３９０℃
まで安定であり、さらに、インデンとマレイミドとの共
重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、２４５℃と非常に
良好な耐熱性を有するため、これをベース樹脂とするフ
ォトレジスト組成物が、現像後に行う１７０℃以上での
プラズマ・エッチング、スパッタリング、イオン注入等
の高温処理時にも像のゆがみが発生しないことを発見し
た。

【０００８】本発明はインデンとマレイミドからなるア
ルカリ可溶性ポリマーと、そのポリマーを紫外線に露光
して交差結合させるのに十分な量のビスアジド増感剤か
らなるフォトレジスト組成物を提供する。

【０００９】さらに、重合成分： （Ａ）インデン ６０〜９９重量％、（Ｂ）スチレン
０．５から２９．５重量％、および（Ｃ）α−メチ
ルスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリ
メチルスチレン、メチルインデン、クマロンおよびジシ
クロペンタジエンよりなる群より選ばれる少なくとも１
つの合計０．５〜２９．５重量％ （但し、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合計は１００重量
％）からなるインデンを主成分としたナフサ油の重合成
分とマレイミドとのアルカリ可溶性ポリマーと、前記ポ
リマーを紫外線に露光して交差結合させるのに十分な量
のビスアジド増感剤とからなるフォトレジスト組成物を
提供する。

【００１０】また、前記ビスアジド増感剤が、３，３′
−ジアジドベンゾフェノン、３，３′−ジアジドジフェ
ニルスルフォン、４，４′−ジアジドジフェニルスルフ
ィドの群から選ばれる少なくとも１つであるフォトレジ
スト組成物を提供する。

【００１１】本発明のアルカリ可溶性ポリマーは、アル
カリ溶液に対して溶解性を有するポリマーで、インデン
とマレイミドとの共重合体、およびインデンを主成分と
したナフサ油の重合成分とマレイミドとの共重合体が使
用できる。好ましくは、数平均分子量が２５００〜３
５，０００とする。３５，０００超であると、アルカリ
に不溶解であり、２５００未満であると、露光後の現象
時に露光によりアルカリ不溶としたはずの部分の溶出が
激しいため、解像度があがらない。

【００１２】インデンとマレイミドとの共重合体は耐熱
性に優れた共重合体であり、熱的に３９０℃まで安定で
ある。さらに、インデンとマレイミドとの共重合体のガ
ラス転移温度（Ｔｇ）は、２４５℃と非常に良好な耐熱
性を有する。従って、インデンとマレイミドとの共重合
体をフォトレジスト組成物として用いることにより、現
像後に行う１７０℃以上でのプラズマ・エッチング、ス
パッタリング、イオン注入等の高温処理時にも像のゆが
みがない。

【００１３】また、本発明ではインデンとマレイミドと
の共重合体に替え、インデンを主成分とするナフサ油の
重合成分とマレイミドとの共重合体を使用しても上記の
目的を達成できる。ナフサ油は石炭の乾留時に発生する
石炭系のナフサ油あるいは石油を熱分解処理し、製造さ
れる石油系のナフサ油があり、定圧での沸点が８０℃〜
２２０℃の範囲の中性油である。本発明に使用可能なナ
フサ油は、ナフサ油に含有されている重合成分の組成が
下記（Ａ）、（Ｂ）および、（Ｃ）からなるものならよ
い（但し、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合計は１００
％）。 （Ａ）インデン ６０〜９９重量％ （Ｂ）スチレン ０．５から２９．５重量％ （Ｃ）α−メチルスチレン、メチルスチレン、ジメチル
スチレン、トリメチルスチレン、メチルインデン、クマ
ロンおよびジシクロペンタジエンよりなる群より選ばれ
る少なくとも１つの合計０．５〜２９．５重量％ さらに、ナフサ油中の重合成分の含量は、通常５〜８０
重量％であるが蒸留等により約１００％とすることもで
きる。

【００１４】インデンを主成分としたナフサ油の重合成
分とマレイミドとの共重合体のガラス転移温度もナフサ
油の重合成分中のインデン含有量の低下に従い、低下す
るが、重合成分中インデンの含有量が６０重量％以上で
あれば、インデンとマレイミドとの共重合体と同等の性
能を示す。

【００１５】なお、インデンとマレイミドとは交互の共
重合体を形成するため、インデンとマレイミドは、１対
１モル比から大きく変化した単量体比率は製造時の収率
低下を招くため好ましくない。本発明に使用可能な重合
成分中インデンを主成分としたナフサ油の重合成分とマ
レイミドとの共重合体製造の場合もインデンとマレイミ
ドとの共重合体製造の場合と同様、ナフサ油の重合成分
とマレイミドは、１対１モル比から大きく変化した単量
体比率は製造時の収率低下を招くため好ましくない。

【００１６】本発明の重合反応に使用可能なラジカル重
合開始剤は、開始剤の１０時間半減温度が５０℃から１
３５℃の範囲であれば、使用可能であり、アゾ系重合開
始剤、過酸化物系重合開始剤のいずれでもよい。具体的
には、アゾイソブチロニトリル、パーヘキサ３Ｍ（日本
油脂株式会社製）、過酸化ベンゾイル、パーブチルＯ、
パーブチルＩＢ（日本油脂株式会社製）等が挙げられ
る。本発明の共重合体を製造する際に使用するラジカル
重合開始剤の添加量は、本発明の共重合体に対して０．
０１〜５重量％であるのが好ましい。

【００１７】さらに、必要に応じて、メチルエチルケト
ン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、
トルエン、キシレン等の溶媒を適宜添加してもよい。ま
た、ナフサ油を使用した場合、特に溶媒を添加しなくて
もよい。

【００１８】本発明に使用する共重合体の製造方法は、
インデンとマレイミドとを、またはインデンを主成分と
したナフサ油とマレイミドとを、ラジカル開始剤の存在
下、５０〜１４０℃の温度範囲で重合させる。所望によ
り、重合反応時に、溶媒を加えてもよい。反応温度が５
０℃未満では、重合の反応速度が遅いため工業的に有利
ではない。また１４０℃超の場合は、生成した共重合体
の重合度が低いため、そのような反応温度で製造した共
重合体をフォトレジスト組成物として使用しても、露光
後の現像時に露光によりアルカリ不溶としたはずの部位
の溶出が激しいため、解像度があがらない。本発明に使
用する共重合体のこのましい分子量は数平均分子量で２
５００〜３５０００の範囲である。

【００１９】次に、本発明のフォトレジスト組成物につ
いて説明する。

【００２０】本発明のフォトレジスト組成物は、前述の
アルカリ可溶性ポリマーとビスアジド増感剤を含有する
ものである。

【００２１】本発明に使用するビスアジド増感剤には、
３，３′−ジアジドベンゾフェノン、４，４′−ジアジ
ドジフェニルスルフィド、３，３′−ジアジドジフェニ
ルスルホン等がよい。ビスアジド増感剤は、本発明のア
ルカリ可溶性ポリマーを紫外線に露光して交差結合させ
るのに十分な量で加える必要があり、好適な量は、本発
明の共重合体１００重量部に対して、０．５〜５重量部
である。

【００２２】さらに、必要に応じて、希釈剤、可塑剤等
の添加剤を加えてもよい。

【００２３】希釈剤としては、ジグリム等の溶媒が挙げ
られる。好ましくは、本発明のアルカリ可溶性ポリマー
１００重量部に対して、希釈剤を加えるのがよい。

【００２４】また、可塑剤としては、アジピン酸ジオク
チル等が挙げられる。好ましくは、本発明のアルカリ可
溶性ポリマー１００重量部に対して、可塑剤を０．０１
〜２０重量部加えるのがよい。

【００２５】本発明のフォトレジスト組成物の製造方法
は、インデンとマレイミドとの共重合体あるいはナフサ
油の重合成分とマレイミドとの共重合体をジグリム中に
加えて数時間振盪あるいは他の方法で攪拌して溶解する
ことにより調製する。

【００２６】次にビスアジド増感剤および他の添加剤を
添加し、混合物をさらに１時間、均質な溶液が得られる
まで攪拌する。得られた混合物を０．２ミクロンのフィ
ルターで濾過し、不溶物を除去する。濾過後の混合物を
フォトレジスト組成物とする。

【００２７】本発明のフォトレジスト組成物を用いたコ
ーティングは下記方法によった。ただし、本方法は使用
例の１例を示しただけであり、本発明のフォトレジスト
組成物は本方法に限定されるものではない。

【００２８】（フォトレジスト組成物のコーティング）
厚み５０００Ａの二酸化シリコン被膜を有する直径８２
ｍｍのシリコン・ウェハーを硫酸／硝酸浴で洗浄し、脱
イオン水ですすいだ後、空気乾燥を行う。その後、フレ
オンＴＦ：ＨＭＤＳが８０：２０の還流浴上に懸垂する
ことで接着促進処理を行う。次にウェハーの中心に２ｍ
ｌの本発明のフォトレジスト組成物を塗り、４０００ｒ
ｐｍで２５秒回転させて、コーティングを行う。コーテ
ィング後、９０℃で３０分間焼付けを行い、タリステッ
プ(Talystep)測定で厚み１．０ミクロン程度の被膜が得
られる。

【００２９】好ましい実施例では本発明のフォトレジス
ト組成物をコーティングしたウェハーに４．５重量％ポ
リビニルアルコール（ＰＶＡ）水溶液によるコーティン
グを行い８０℃で３分間焼き付けて、厚み１０００Ａの
ＰＶＡ被膜により、本発明のフォトレジスト組成物の被
膜を被覆する。このＰＶＡ被膜は紫外線に対して透明で
あり、露光中に存在する酸素のバリアとして作用し、露
出領域の感度を高め、被膜が薄くなるのを最小にする。
このＰＶＡ層はフォトレジストの露出後、レジストの現
像中に塩基性の現像液で容易に除去することができる。

【００３０】本発明のフォトレジスト組成物を、ビスア
ジド増感剤と供に紫外線、特に遠紫外線（２００〜３０
０ｎｍ）に総エネルギー量５０〜５００ｍＪ／ｃｍ² で
露光すると、紫外線に露出していた部分のアルカリ可溶
性のポリマーが交差結合をおこして画面に定着する。こ
れを、ＫＯＨ等の市販の現像液に入れると紫外線に露出
していなかった部分が溶出し、鮮明なネガティブ像を得
ることができる。また、ポジティブ・フォトレジストの
場合、アルキル化工程により、本発明のインデン・マレ
イミド共重合体を修飾し、インデン・マレイミド・Ｎ−
メチルマレイミド三元重合体を形成する。上記のアルキ
ル化工程により、インデン・マレイミド共重合体の溶解
速度が、制御可能な方式で再現性良く減少する。これに
より、フォトレジストの現像中の工程管理が改善され
る。三元重合体を、紫外線ポジティブ光活性化合物と配
合して、アルカリ水溶液に可溶な、リソグラフィ特性が
改善されたポジティブ・フォトレジストが得られる。ま
た、紫外線に露出していなかった部分を現像液で除去し
た後、さらに、プラズマ・エッチング、スパッタリン
グ、イオン注入など、高温処理を行っても、像のゆがみ
のないネガティブ像を得ることができる。

【００３１】

【実施例】以下に具体的に実施例を挙げて、本発明を説
明する。

【００３２】（実施例１）内容量５００ｍｌのガラス製
重合釜（攪拌機付、水冷冷却機付）に反応溶媒のメチル
エチルケトン（ＭＥＫ）を１００ｍｌ仕込み、反応釜中
に少量の窒素ガスを流通させ、６５℃の反応温度に保持
した。その後、ＭＥＫ１００ｍｌにインデン（東京化成
（株）製、純度９４％）６１．７ｇとマレイミド４８．
５ｇおよび重合開始剤のアゾイソブチロニトリル４１０
ｍｇを溶解させた。この反応溶液を定量ポンプにより、
１時間で反応釜に送液した。その後、８時間、反応を続
け反応を完結させた。

【００３３】反応終了後、反応液を１Ｌのヘキサンに注
ぎ、生成樹脂を沈殿分離した。吸引濾過にて樹脂を分離
し、真空乾燥後の樹脂収量は１０１．２ｇ（収率９５
％）であった。

【００３４】（実施例２および３）反応溶媒、反応温
度、重合開始剤を表１に変えた以外は、実施例１と同様
の方法でインデンとマレイミドとの共重合体の製造を行
った。実施例１の結果を含め、表１に合成結果を示す。

【００３５】 表１ 実施例１〜３の製造条件と製造結果 ──────────────────────────────────── 重合開始剤 ─────────── 実施例 反応温度 反応溶媒 開始剤種 使用量 収 量 数平均 （℃） （ｇ） 分子量 ──────────────────────────────────── １ 65 ＭＥＫ アゾイソブチロ 0.41 101.2 28000 ニトリル ２ 114 ＭＩＢＫ パーヘキサ３Ｍ 3.02 99.0 3200 ３ 80 ＭＥＫ 過酸化ベンゾイル 1.21 102.2 8000 ──────────────────────────────────── 注）パーヘキサ３Ｍは、日本油脂 (株）製過酸化物重合
開始剤の商品名 ＭＥＫ ：メチルエチルケトン ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン

【００３６】（実施例４〜６）表２に示した組成のナフ
サ油を使用し、ナフサ油の重合成分とマレイミド４８．
５ｇとの共重合体を製造した。製造方法は実施例１の製
造方法に従った。反応溶媒、反応温度、重合開始剤およ
び反応結果を表３に示す。

【００３７】 表２ ナフサ油の組成及び使用量 ──────────────────────────────────── 重合成分 ナフサ油の重合成分組成（ｗｔ％） 使用量 実施例 含有量 ───────────────────── （重量％） （Ａ）インデン（Ｂ）スチレン（Ｃ）その他 （ｇ） ──────────────────────────────────── ４ ９２ ９６ １ ３ ６３．０ ５ ３５ ７０ １０ ２０ １６５．７ ６ ４５ ８５ ５ １０ １２８．９ ──────────────────────────────────── 注）その他の重合成分（Ｃ）：α−メチルスチレン、メ
チルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、メチルインデン、クマロンおよびジシクロペンタジ
エンによりなる群より選ばれる少なくとも１つ

【００３８】 表３ 実施例４〜６の製造条件と製造結果 ──────────────────────────────────── 重合開始剤 ────────── 実施例 反応温度 反応溶媒 開始剤種 使用量 収 量 数平均 （℃） （ｇ） （ｇ） 分子量 ──────────────────────────────────── ４ 110 ＭＩＢＫ 過酸化ベンゾイル 3.025 101.2 4000 ５ 80 ＭＥＫ アゾイソブチロ 0.41 99.0 15000 ニトリル ６ 95 ＭＩＢＫ 過酸化ベンゾイル 1.21 102.2 9500 ────────────────────────────────────

【００３９】（実施例７〜１２）調製方法は下記方法に
よった。

【００４０】フォトレジスト組成物は、インデンとマレ
イミドとの共重合体あるいはナフサ油の重合成分とマレ
イミドとの共重合体をジグリム中に加えて数時間振盪あ
るいは他の方法で攪拌して溶解することにより調製す
る。次にビスアジド増感剤および他の添加剤を添加し、
混合物をさらに１時間、均質な溶液が得られるまで攪拌
する。得られた混合物を０．２ミクロンのフィルターで
濾過し、不溶物を除去する。

【００４１】フォトレジスト組成物の組成例を下記に示
した。

【００４２】 表４ 実施例７（フォトレジスト組成物の組成例） ──────────────────────────────── 組 成 重 量（ｇ） ──────────────────────────────── 共重合体（実施例１） ４．２ アジピン酸ジオクチル ０．９ ３，３′−ジアジドベンゾフェノン １．０ ジグリム １４．５ ────────────────────────────────

【００４３】 表５ 実施例８（フォトレジスト組成物の組成例） ──────────────────────────────── 組 成 重 量（ｇ） ──────────────────────────────── 共重合体（実施例２） ９．０ ３，３′−ジアジドベンゾフェノン １．３ ジグリム ２５．０ ────────────────────────────────

【００４４】 表６ 実施例９（フォトレジスト組成物の組成例） ──────────────────────────────── 組 成 重 量（ｇ） ──────────────────────────────── 共重合体（実施例３） ７．０ ４，４′−ジアジドジフェニルスルフィド １．２ ジグリム ３５．０ ────────────────────────────────

【００４５】 表７ 実施例１０（フォトレジスト組成物の組成例） ──────────────────────────────── 組 成 重 量（ｇ） ──────────────────────────────── 共重合体（実施例４） ４．２ ３，３′−ジアジドジフェニルスルホン １．０ ジグリム １４．５ ────────────────────────────────

【００４６】 表８ 実施例１１（フォトレジスト組成物の組成例） ──────────────────────────────── 組 成 重 量（ｇ） ──────────────────────────────── 共重合体（実施例５） ８．２ ４，４′−ジアジドジフェニルスルフィド １．４ ジグリム ３５．０ ────────────────────────────────

【００４７】 表９ 実施例１２（フォトレジスト組成物の組成例） ──────────────────────────────── 組 成 重 量（ｇ） ──────────────────────────────── 共重合体（実施例６） ７．０ ４，４′−ジアジドジフェニルスルフィド １．５ ジグリム ２５．０ ────────────────────────────────

【００４８】（実施例１３）実施例７のフォトレジスト
組成物を本発明のコーティング方法によりコーティング
を行い、さらにＰＶＡによるオーバーコートを行った。
次にパーキン・エルマー５００をＵＶ−２モードにし
て、波長２４０〜２８０ｎｍの範囲の紫外線にウェハー
をパターンに従って露出した。エネルギーの総量は１０
０ｍＪ／ｃｍ²とした。現像はウェハーを市販のＫＯＨ
現像液（Azoplate Co.のＡＺ２４０１）を水で０．１２
５Ｎの濃度に希釈した溶液に６分浸漬して行い、ＰＶＡ
および露出しないレジスト層を溶解し、フォトマスクの
パターンのネガティブ像を形成した。

【００４９】走査型電子顕微鏡による断面分析の結果、
良質の０．７ミクロンの像が得られたことが判明した。
この像は、現像後に行う１７０℃以上でのプラズマ・エ
ッチング、スパッタリング、イオン注入等の高温処理時
にも像のゆがみは見られなかった。

【００５０】（実施例１４）実施例９で得られたフォト
レジスト組成物を実施例１３と同様の方法にて露光と現
像を行った。走査型電子顕微鏡による断面分析の結果、
良質の０．８ミクロンの像が得られたことが判明した。
この像は、現像後に行う１７０℃以上でのプラズマ・エ
ッチング、スパッタリング、イオン注入等の高温処理時
にも像のゆがみは見られなかった。

【００５１】（実施例１５）実施例１２で得られたフォ
トレジスト組成物を実施例１３と同様の方法にて露光と
現像を行った。走査型電子顕微鏡による断面分析の結
果、良質の０．６ミクロンの像が得られたことが判明し
た。この像は、現像後に行う１７０℃以上でのプラズマ
・エッチング、スパッタリング、イオン注入等の高温処
理時にも像のゆがみは見られなかった。

【００５２】

【発明の効果】本発明のフォトレジスト組成物を用いる
と、遠紫外線（ＤＵＶ）によるサブミクロンのリソグラ
フィが可能であり、また、現像後にプラズマ・エッチン
グ、スパッタリング、イオン注入等の１７０℃以上の高
温処理を行っても像のゆがみを生じない。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】インデンとマレイミドとのアルカリ可溶性
   ポリマーと、該アルカリ可溶性ポリマーを紫外線に露光
   して交差結合させるのに十分な量のビスアジド増感剤と
   からなるフォトレジスト組成物。
2. 【請求項２】下記重合成分からなるインデンを主成分と
   したナフサ油の重合成分とマレイミドとのアルカリ可溶
   性ポリマーと、該アルカリ可溶性ポリマーを紫外線に露
   光して交差結合させるのに十分な量のビスアジド増感剤
   とからなるフォトレジスト組成物。 重合成分： （Ａ）インデン ６０〜９９重量％、 （Ｂ）スチレン ０．５から２９．５重量％、および （Ｃ）α−メチルスチレン、メチルスチレン、ジメチル
   スチレン、トリメチルスチレン、メチルインデン、クマ
   ロンおよびジシクロペンタジエンよりなる群より選ばれ
   る少なくとも１つの合計０．５〜２９．５重量％ （但し、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合計は１００重量
   ％）
3. 【請求項３】請求項１および請求項２のビスアジド増感
   剤が３，３′−ジアジドベンゾフェノン、３，３′−ジ
   アジドジフェニルスルフォン、４，４′−ジアジドジフ
   ェニルスルフィドの群から選ばれる少なくとも１つであ
   る請求項１および２に記載のフォトレジスト組成物。