JPH0641550A - ノルマルパラフィンおよびメチルペンタンの再循環を伴なう、ｃ５／ｃ６ノルマルパラフィンの異性化方法 - Google Patents
ノルマルパラフィンおよびメチルペンタンの再循環を伴なう、ｃ５／ｃ６ノルマルパラフィンの異性化方法Info
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- JPH0641550A JPH0641550A JP5044249A JP4424993A JPH0641550A JP H0641550 A JPH0641550 A JP H0641550A JP 5044249 A JP5044249 A JP 5044249A JP 4424993 A JP4424993 A JP 4424993A JP H0641550 A JPH0641550 A JP H0641550A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 −異性化工程(1) ：仕込原料Ｆ（Ｃ5 ／Ｃ6
留分）を異性化反応器Ｉに送る。流出物を分離器Ｓ１に
送り、反応器Ｉに再循環される蒸気相と、粗異性化物を
構成する液相とに分離する。 −吸着工程(2) ：工程
(1) の液体流出物の蒸気フラックスを吸着器Ａに送り、
ｎ−パラフィンが除去された異性化物を回収する。 −
脱着工程(3) ：工程(2) と交互に行う工程。工程(4) で
得られたメチルペンタンに富む気体フラックスを吸着器
Ｄに導入し、流出物を工程(1) に送る。 −脱イソヘキ
サン化工程(4) ：工程(2) の流出物を蒸留塔ＤＩに供給
し、最終異性化生成物を得る。メチルペンタンに富む蒸
気フラックスを、脱着剤として工程(3) へ送る。 【効果】 エネルギー消費量を制限しつつ、ｎ−パラフ
ィンを含む石油留分のオクタン価を増加させることがで
きる。
留分）を異性化反応器Ｉに送る。流出物を分離器Ｓ１に
送り、反応器Ｉに再循環される蒸気相と、粗異性化物を
構成する液相とに分離する。 −吸着工程(2) ：工程
(1) の液体流出物の蒸気フラックスを吸着器Ａに送り、
ｎ−パラフィンが除去された異性化物を回収する。 −
脱着工程(3) ：工程(2) と交互に行う工程。工程(4) で
得られたメチルペンタンに富む気体フラックスを吸着器
Ｄに導入し、流出物を工程(1) に送る。 −脱イソヘキ
サン化工程(4) ：工程(2) の流出物を蒸留塔ＤＩに供給
し、最終異性化生成物を得る。メチルペンタンに富む蒸
気フラックスを、脱着剤として工程(3) へ送る。 【効果】 エネルギー消費量を制限しつつ、ｎ−パラフ
ィンを含む石油留分のオクタン価を増加させることがで
きる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ｎ−パラフィンのイソ
パラフィンへの異性化方法に関する。これは特に、ある
種の石油留分、より詳しくは、ペンタンとノルマルヘキ
サン、およびペンタンと分枝状ヘキサンを含む留分（Ｃ
5 ／Ｃ6 留分）のオクタン価を改善することを目的とす
る。
パラフィンへの異性化方法に関する。これは特に、ある
種の石油留分、より詳しくは、ペンタンとノルマルヘキ
サン、およびペンタンと分枝状ヘキサンを含む留分（Ｃ
5 ／Ｃ6 留分）のオクタン価を改善することを目的とす
る。
【０００２】
【従来技術および解決すべき課題】高い活性を有する、
塩素を含むアルミナ型の白金触媒を用いるＣ5 ／Ｃ6 炭
化水素の現在の異性化方法は、未転換ｎ−パラフィンの
分別後の再循環を行なわない（英語で"ONCE THROUGH")
か、あるいは一部再循環を行なって、あるいは液相の分
子篩システム上の通過後、完全な再循環を行なって、操
作が行なわれる。
塩素を含むアルミナ型の白金触媒を用いるＣ5 ／Ｃ6 炭
化水素の現在の異性化方法は、未転換ｎ−パラフィンの
分別後の再循環を行なわない（英語で"ONCE THROUGH")
か、あるいは一部再循環を行なって、あるいは液相の分
子篩システム上の通過後、完全な再循環を行なって、操
作が行なわれる。
【０００３】再循環を行なわない実施は、簡単ではある
が、オクタン価の増加においては効率が悪い。高いオク
タン価を得るには、分離塔（例えば脱イソヘキサン化
器）内の通過後、あるいは液相または蒸気相での分子篩
上の通過後、低オクタン価成分の再循環を実施しなけれ
ばならない。
が、オクタン価の増加においては効率が悪い。高いオク
タン価を得るには、分離塔（例えば脱イソヘキサン化
器）内の通過後、あるいは液相または蒸気相での分子篩
上の通過後、低オクタン価成分の再循環を実施しなけれ
ばならない。
【０００４】未転換ｎ−パラフィンの蒸気相分離のため
に分子篩を用いる、よく知られた異性化方法は、反応工
程において、分子篩による脱着工程を統合している。こ
れは、例えば特許US-A-4,210,771に記載されている、"T
otal Isomerization Process" （すなわち"TIP" ）と呼
ばれる方法である。これは、仕込原料、脱着流出物、お
よび水素の混合物が供給された異性化反応器の使用と、
ｎ−パラフィンの分子篩への脱着による分離区分の使用
とを組合わせている。脱着は、水素ストリッピングによ
って実施される。このような方法において、反応装置
は、組み込まれた分子篩の塩酸による汚染の危険がある
ので、高い活性を有する、塩素を含むアルミナ工程から
なるわけにはいかない。したがって塩素を用いないゼオ
ライトをベースとした、性能が劣る触媒系を用いる。そ
の結果、塩素を含むアルミナをベースとする触媒を用い
て得られたものより１〜２ポイント劣るオクタン価を示
す生成物が生じる。
に分子篩を用いる、よく知られた異性化方法は、反応工
程において、分子篩による脱着工程を統合している。こ
れは、例えば特許US-A-4,210,771に記載されている、"T
otal Isomerization Process" （すなわち"TIP" ）と呼
ばれる方法である。これは、仕込原料、脱着流出物、お
よび水素の混合物が供給された異性化反応器の使用と、
ｎ−パラフィンの分子篩への脱着による分離区分の使用
とを組合わせている。脱着は、水素ストリッピングによ
って実施される。このような方法において、反応装置
は、組み込まれた分子篩の塩酸による汚染の危険がある
ので、高い活性を有する、塩素を含むアルミナ工程から
なるわけにはいかない。したがって塩素を用いないゼオ
ライトをベースとした、性能が劣る触媒系を用いる。そ
の結果、塩素を含むアルミナをベースとする触媒を用い
て得られたものより１〜２ポイント劣るオクタン価を示
す生成物が生じる。
【０００５】実際、この技術においては、異性化温度が
低くなればなるほど、ｎ−パラフィンのイソパラフィン
への転換が高くなり、さらには低いオクタン価のＣ6 異
性体（メチルペンタン）の、より高いオクタン価のＣ6
異性体（ジメチルブタン）への転換がよりよくなること
は知られている。
低くなればなるほど、ｎ−パラフィンのイソパラフィン
への転換が高くなり、さらには低いオクタン価のＣ6 異
性体（メチルペンタン）の、より高いオクタン価のＣ6
異性体（ジメチルブタン）への転換がよりよくなること
は知られている。
【０００６】白金が含浸された、塩素を含むアルミナを
ベースとする触媒によって、より安定な、塩素を含まな
いゼオライト型の触媒より低い温度で、異性化反応を行
なうことができることも知られている。
ベースとする触媒によって、より安定な、塩素を含まな
いゼオライト型の触媒より低い温度で、異性化反応を行
なうことができることも知られている。
【０００７】したがって（「再循環を行なわずに」最良
のオクタン価増加を得るために）低温の反応系と、組み
込まれていない、あるいは塩素に耐性がある、低オクタ
ン価成分の再循環系とを組合わせることができる方法を
考え出すことは、特に有利であった。
のオクタン価増加を得るために）低温の反応系と、組み
込まれていない、あるいは塩素に耐性がある、低オクタ
ン価成分の再循環系とを組合わせることができる方法を
考え出すことは、特に有利であった。
【０００８】分離塔が塩素による汚染に対して耐性が得
られる(etre immunise) という事実によって、分離塔
（脱イソペンタン化器と脱イソヘキサン化器）を用いる
従来の図式を考えることができる。しかしながらこれら
の図式は、重装備であり、エネルギー消費が多く、した
がって実施のコストが高い。分離塔（脱イソヘキサン化
器だけ）のある図式は、コストがより少ないが、すべて
のノルマルペンタンをイソペンタンに転換する能力はな
く、このことにより、再循環を用いた図式のオクタン価
増加のレベルを得ることはできないであろう。
られる(etre immunise) という事実によって、分離塔
（脱イソペンタン化器と脱イソヘキサン化器）を用いる
従来の図式を考えることができる。しかしながらこれら
の図式は、重装備であり、エネルギー消費が多く、した
がって実施のコストが高い。分離塔（脱イソヘキサン化
器だけ）のある図式は、コストがより少ないが、すべて
のノルマルペンタンをイソペンタンに転換する能力はな
く、このことにより、再循環を用いた図式のオクタン価
増加のレベルを得ることはできないであろう。
【０００９】分離に用いられる分子篩の塩素による汚染
を防ぐために、流出物を吸着工程に送る前に、異性化流
出物の安定化工程を利用する、統合されていない装置を
考えることができる。このアプローチ法は、"PENEX MOL
EX" と呼ばれている組合わせ方法において既に提案され
ている。この方法においては、Ｃ5 ／Ｃ6 炭化水素は、
塩素を含むアルミナ接触反応、ついで底部温度での、安
定器の底部からの、ノルマルパラフィンの液相分子篩へ
の吸着によって異性化される。
を防ぐために、流出物を吸着工程に送る前に、異性化流
出物の安定化工程を利用する、統合されていない装置を
考えることができる。このアプローチ法は、"PENEX MOL
EX" と呼ばれている組合わせ方法において既に提案され
ている。この方法においては、Ｃ5 ／Ｃ6 炭化水素は、
塩素を含むアルミナ接触反応、ついで底部温度での、安
定器の底部からの、ノルマルパラフィンの液相分子篩へ
の吸着によって異性化される。
【００１０】液相での吸着および脱着分子篩の使用は、
蒸気相におけるよりも実施が難しい。実際、移動相で存
在するイソパラフィンの量に対する、吸着されたノルマ
ルパラフィンの量の比は、明らかに蒸気相での実施に有
利である。
蒸気相におけるよりも実施が難しい。実際、移動相で存
在するイソパラフィンの量に対する、吸着されたノルマ
ルパラフィンの量の比は、明らかに蒸気相での実施に有
利である。
【００１１】高い活性の触媒系の使用に対するもう１つ
の障害は、仕込原料の汚染源、すなわち硫黄および水に
対するこれらの感受性である。液体仕込原料および水素
供給物は、反応装置に入る前に、スイートニングされ、
硫黄が除去され、かつ脱水されなければならない。
の障害は、仕込原料の汚染源、すなわち硫黄および水に
対するこれらの感受性である。液体仕込原料および水素
供給物は、反応装置に入る前に、スイートニングされ、
硫黄が除去され、かつ脱水されなければならない。
【００１２】塩素を含むアルミナをベースとする触媒系
を用いる技術の現在の状態において、仕込原料は、いく
つかの分子篩を用いる予備処理操作において乾燥され
る。
を用いる技術の現在の状態において、仕込原料は、いく
つかの分子篩を用いる予備処理操作において乾燥され
る。
【００１３】本発明の目的は、エネルギー消費を制限し
つつ、ノルマルパラフィンを含む石油留分のオクタン価
をできるだけ増加させることができる新規方法を提案す
ることである。
つつ、ノルマルパラフィンを含む石油留分のオクタン価
をできるだけ増加させることができる新規方法を提案す
ることである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明によって特に、既
知の方法の欠点を解消することができる。これは、例え
ば白金で含浸された塩素を含むアルミナからなる触媒を
用いる高活性系と、蒸気相分子篩上の独創的な吸着−脱
着系（統合されていないシステム）とを組合わせるもの
である。さらにｎ−パラフィンの脱着は、圧力低下と、
メチルペンタンに富む蒸気を用いるストリッピング操作
とを組合わせて、エネルギーの観点から、有利な条件下
で実施される。これらのメチルペンタンはまた、再循環
され、異性化反応器の通過の際、ジメチルブタンに転換
される。
知の方法の欠点を解消することができる。これは、例え
ば白金で含浸された塩素を含むアルミナからなる触媒を
用いる高活性系と、蒸気相分子篩上の独創的な吸着−脱
着系（統合されていないシステム）とを組合わせるもの
である。さらにｎ−パラフィンの脱着は、圧力低下と、
メチルペンタンに富む蒸気を用いるストリッピング操作
とを組合わせて、エネルギーの観点から、有利な条件下
で実施される。これらのメチルペンタンはまた、再循環
され、異性化反応器の通過の際、ジメチルブタンに転換
される。
【００１５】脱着サイクルのための、メチルペンタンに
富む蒸気溶離物を供給するために、このシステムの下流
に、脱イソヘキサン化塔を組込む。この塔は、吸着工程
の流出物を２つの留分に分別する。すなわち、高濃度の
ジメチルブタンを有する、非常に高いオクタン価の異性
体しか含まない留出物留分と、留出物よりはるかに低い
オクタン価のメチルペンタンを高い濃度で含む、塔の底
部留分である。
富む蒸気溶離物を供給するために、このシステムの下流
に、脱イソヘキサン化塔を組込む。この塔は、吸着工程
の流出物を２つの留分に分別する。すなわち、高濃度の
ジメチルブタンを有する、非常に高いオクタン価の異性
体しか含まない留出物留分と、留出物よりはるかに低い
オクタン価のメチルペンタンを高い濃度で含む、塔の底
部留分である。
【００１６】さらには、脱着工程において脱イソヘキサ
ン化によって供給されるメチルペンタンを適切に使用す
ると、この工程の終わりにパージ工程を削除することが
できる。実際、その時にメチルペンタンで満たされた吸
着剤塔は、すぐに吸着において再使用でき、その時、吸
着流出物は、これの初めの時でさえ、ｎ−パラフィンを
含まない。このことによって、この装置を非常に単純化
できる。特に、２つの吸着床しか含まないシステムを使
用することができ、これらの各々は、交互に吸着と脱着
において作動する。
ン化によって供給されるメチルペンタンを適切に使用す
ると、この工程の終わりにパージ工程を削除することが
できる。実際、その時にメチルペンタンで満たされた吸
着剤塔は、すぐに吸着において再使用でき、その時、吸
着流出物は、これの初めの時でさえ、ｎ−パラフィンを
含まない。このことによって、この装置を非常に単純化
できる。特に、２つの吸着床しか含まないシステムを使
用することができ、これらの各々は、交互に吸着と脱着
において作動する。
【００１７】本発明のもう１つの側面によれば、還流物
とこれのノルマル味の留分(distillat net) の凝縮によ
って、脱イソヘキサン化器の再沸騰エネルギー全部を供
給するために、脱イソヘキサン器（熱ポンプ）の頂部蒸
気の再圧縮システムを用いることができる。
とこれのノルマル味の留分(distillat net) の凝縮によ
って、脱イソヘキサン化器の再沸騰エネルギー全部を供
給するために、脱イソヘキサン器（熱ポンプ）の頂部蒸
気の再圧縮システムを用いることができる。
【００１８】本発明の方法は、以下に図１、２および３
を参照して記載される。
を参照して記載される。
【００１９】−図１は、これの原理図式を示す。
【００２０】−図２は、本発明の方法のより詳細な図式
を示す。および −図３は、安定化工程を図式的に示す。
を示す。および −図３は、安定化工程を図式的に示す。
【００２１】より詳しくは、優勢な割合のＣ5 およびＣ
6 炭化水素を含む軽質ナフサ仕込原料の、高いオクタン
価を有する異性化物への異性化について記載する。
6 炭化水素を含む軽質ナフサ仕込原料の、高いオクタン
価を有する異性化物への異性化について記載する。
【００２２】本発明の方法は、主として、下記工程から
なる：脱着工程(3) から来る、ノルマルパラフィンとメ
チルペンタンとに富むフラックスの少なくとも１つの再
循環物と混合された、新品の仕込原料であるＣ5 ／Ｃ6
留分を、異性化反応器に送る異性化工程(1) であって、
この工程の流出物は、分離器に送られて、ここで、反応
器の入口に再循環される蒸気相と、粗異性化物を構成す
る液相とに分離される工程； −ｎ−パラフィンを保持することができる分子篩で満た
された吸着器に、上昇流として、蒸発後、異性化工程の
液体流出物の蒸気フラックスを送り、ｎ−パラフィンが
除去された異性化物を回収する吸着工程(2) ； −工程(2) と交互に行なわれる脱着工程(3) であって、
吸着器内の圧力を低下させ、かつ脱イソヘキサン化(des
isohexanisation)工程(4) において採取されたメチルペ
ンタンに富む気体フラックスを、分子篩を通して通過さ
せ、この脱着工程の流出物が、異性化工程(1) の方へ送
られる工程；および −吸着工程(2) から来る流出物を用いて蒸留塔に供給を
行ない、液体残渣、メチルペンタンに富む蒸気フラック
ス、および最終異性化生成物を生じる留出物が得られる
脱イソヘキサン化工程(4) であって、メチルペンタンに
富む蒸気フラックスが、脱着剤として脱着工程(3) へ送
られる工程。
なる：脱着工程(3) から来る、ノルマルパラフィンとメ
チルペンタンとに富むフラックスの少なくとも１つの再
循環物と混合された、新品の仕込原料であるＣ5 ／Ｃ6
留分を、異性化反応器に送る異性化工程(1) であって、
この工程の流出物は、分離器に送られて、ここで、反応
器の入口に再循環される蒸気相と、粗異性化物を構成す
る液相とに分離される工程； −ｎ−パラフィンを保持することができる分子篩で満た
された吸着器に、上昇流として、蒸発後、異性化工程の
液体流出物の蒸気フラックスを送り、ｎ−パラフィンが
除去された異性化物を回収する吸着工程(2) ； −工程(2) と交互に行なわれる脱着工程(3) であって、
吸着器内の圧力を低下させ、かつ脱イソヘキサン化(des
isohexanisation)工程(4) において採取されたメチルペ
ンタンに富む気体フラックスを、分子篩を通して通過さ
せ、この脱着工程の流出物が、異性化工程(1) の方へ送
られる工程；および −吸着工程(2) から来る流出物を用いて蒸留塔に供給を
行ない、液体残渣、メチルペンタンに富む蒸気フラック
ス、および最終異性化生成物を生じる留出物が得られる
脱イソヘキサン化工程(4) であって、メチルペンタンに
富む蒸気フラックスが、脱着剤として脱着工程(3) へ送
られる工程。
【００２３】工程(1) において、異性化帯域（Ｉ）に、
管路(2) を経て軽質ナフサ仕込原料（管路(1) ）を送
る。この仕込原料は、脱着工程(3) から来る、ノルマル
パラフィンとメチルペンタンとに富むフラックスの少な
くとも１つの再循環物（管路(11)）と、場合によっては
脱イソヘキサン化工程(4) の液体残渣の一部の再循環物
（管路(12)）と混合されている。
管路(2) を経て軽質ナフサ仕込原料（管路(1) ）を送
る。この仕込原料は、脱着工程(3) から来る、ノルマル
パラフィンとメチルペンタンとに富むフラックスの少な
くとも１つの再循環物（管路(11)）と、場合によっては
脱イソヘキサン化工程(4) の液体残渣の一部の再循環物
（管路(12)）と混合されている。
【００２４】異性化反応は、温度140 〜300 ℃におい
て、水素の存在下、圧力10〜40バールにおいて実施され
る。処理される仕込原料を、水素補給物、および場合に
よっては管路(3) から来る水素再循環物とに混合する。
ついで例えば温度140 〜300 ℃において、熱交換器（Ｅ
1 ）における仕込原料／流出物の熱交換と、炉（Ｈ）に
おける最終加熱とを用いて加熱する。
て、水素の存在下、圧力10〜40バールにおいて実施され
る。処理される仕込原料を、水素補給物、および場合に
よっては管路(3) から来る水素再循環物とに混合する。
ついで例えば温度140 〜300 ℃において、熱交換器（Ｅ
1 ）における仕込原料／流出物の熱交換と、炉（Ｈ）に
おける最終加熱とを用いて加熱する。
【００２５】異性化反応は、好ましくは高活性触媒、例
えば低温、例えば130 〜220 ℃、高圧、例えば20〜35バ
ールで、水素／炭化水素の低いモル比例えば0.1/1 〜1/
1 で作動する、塩素を含むアルミナと白金とをベースと
する触媒を用いて行なわれる。使用しうる既知の触媒
は、例えば塩素２〜10重量％、白金0.1 〜0.35重量％、
場合によってはその他の金属を含む高純度のアルミナｇ
および／またはｈ担体からなる。これらは、空間速度0.
5 〜10ｈ-1、好ましくは１〜４ｈ-1で用いうる。触媒の
塩素化率の維持には、一般に、塩素を含む化合物、例え
ば50〜600 重量ppm の濃度で、仕込原料と混合して注入
された四塩化炭素の連続補給が必要である。
えば低温、例えば130 〜220 ℃、高圧、例えば20〜35バ
ールで、水素／炭化水素の低いモル比例えば0.1/1 〜1/
1 で作動する、塩素を含むアルミナと白金とをベースと
する触媒を用いて行なわれる。使用しうる既知の触媒
は、例えば塩素２〜10重量％、白金0.1 〜0.35重量％、
場合によってはその他の金属を含む高純度のアルミナｇ
および／またはｈ担体からなる。これらは、空間速度0.
5 〜10ｈ-1、好ましくは１〜４ｈ-1で用いうる。触媒の
塩素化率の維持には、一般に、塩素を含む化合物、例え
ば50〜600 重量ppm の濃度で、仕込原料と混合して注入
された四塩化炭素の連続補給が必要である。
【００２６】同様に、その他の既知の触媒、例えば好ま
しくは元素周期表第VIII族の１つまたは複数の金属を含
む、モルデナイト型のゼオライトからなる触媒を用いる
こともできる。よく知られた触媒は、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2
Ｏ3 比10〜40、好ましくは15〜25であって、0.2 〜0.4
重量％の白金を含むモルデナイトからなる。それにもか
かわらず、本発明の対象となるこの方法の枠内では、こ
のグループに属する触媒は、塩素を含むアルミナをベー
スとする触媒より有利ではない。というのは、これらは
より高温（240 〜300 ℃）で作動し、ノルマルパラフィ
ンからの、高オクタン価イソパラフィンへのあまり高く
ない転換率が生じる。
しくは元素周期表第VIII族の１つまたは複数の金属を含
む、モルデナイト型のゼオライトからなる触媒を用いる
こともできる。よく知られた触媒は、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2
Ｏ3 比10〜40、好ましくは15〜25であって、0.2 〜0.4
重量％の白金を含むモルデナイトからなる。それにもか
かわらず、本発明の対象となるこの方法の枠内では、こ
のグループに属する触媒は、塩素を含むアルミナをベー
スとする触媒より有利ではない。というのは、これらは
より高温（240 〜300 ℃）で作動し、ノルマルパラフィ
ンからの、高オクタン価イソパラフィンへのあまり高く
ない転換率が生じる。
【００２７】これらの条件下において、ｎ−パラフィン
の一部がイソパラフィンへ転換され、メチルペンタンの
一部がジメチルブタンへ転換される。しかしながら、管
路(4) を経て異性化反応器から出る流出物中には、高い
割合のｎ−パラフィンとメチルペンタンが残っている。
この割合は、約50モル％までであってもよく、これは好
ましくは25〜40モル％である。
の一部がイソパラフィンへ転換され、メチルペンタンの
一部がジメチルブタンへ転換される。しかしながら、管
路(4) を経て異性化反応器から出る流出物中には、高い
割合のｎ−パラフィンとメチルペンタンが残っている。
この割合は、約50モル％までであってもよく、これは好
ましくは25〜40モル％である。
【００２８】異性化工程(1) の流出物は、冷却後、分離
器（Ｓ1 ）内を通る。これの蒸気は、管路(3) を経て、
異性化反応器（Ｉ）の入口に再循環され、管路(6) を経
て出る液体流出物（異性化物）は、熱交換器（Ｅ2 ）内
で気化され、かつ過熱され、その後、管路(8) を経て吸
着工程(2) の方へ送られる。
器（Ｓ1 ）内を通る。これの蒸気は、管路(3) を経て、
異性化反応器（Ｉ）の入口に再循環され、管路(6) を経
て出る液体流出物（異性化物）は、熱交換器（Ｅ2 ）内
で気化され、かつ過熱され、その後、管路(8) を経て吸
着工程(2) の方へ送られる。
【００２９】吸着工程(2) において、混合物を上昇流と
して、吸着器（Ａ）を通過させ、ここにｎ−パラフィン
が保持される。ｎ−パラフィンが除去された異性化物は
管路(9) を経て出て行き、これは熱交換器（Ｅ3 ）にお
いて少なくとも一部凝縮され、ついで脱イソヘキサン化
塔の方へ送られてもよい。
して、吸着器（Ａ）を通過させ、ここにｎ−パラフィン
が保持される。ｎ−パラフィンが除去された異性化物は
管路(9) を経て出て行き、これは熱交換器（Ｅ3 ）にお
いて少なくとも一部凝縮され、ついで脱イソヘキサン化
塔の方へ送られてもよい。
【００３０】吸着床は、一般に、ｎ−パラフィンを選択
的に吸着することができ、かつ細孔の見掛け直径が５オ
ングストローム＝（５×10-8cm）近くであるゼオライト
をベースとする分子篩からなる。ゼオライト５Ａは、完
全にこの使用に適する。この細孔直径は、５オングスト
ローム＝（５×10-8cm）近くであり、ｎ−パラフィンに
ついてのこの吸着容量は大きい。しかしながらその他の
吸着剤、例えばシャバサイト(chabazite) またはエリオ
ナイトを用いてもよい。好ましい操作条件は、温度200
〜400 ℃、圧力10〜40バールである。吸着サイクルは、
一般に２〜10分続く。管路(9) を経て吸着器（Ａ）の出
口で回収される流出物は、ほとんどイソパラフィン（イ
ソペンタンおよびイソヘキサン）しか含まない。これ
は、熱交換、例えば脱イソヘキサン化工程(4) のリボイ
ラ（Ｅ3 ）の１つとの熱交換によって凝縮される。
的に吸着することができ、かつ細孔の見掛け直径が５オ
ングストローム＝（５×10-8cm）近くであるゼオライト
をベースとする分子篩からなる。ゼオライト５Ａは、完
全にこの使用に適する。この細孔直径は、５オングスト
ローム＝（５×10-8cm）近くであり、ｎ−パラフィンに
ついてのこの吸着容量は大きい。しかしながらその他の
吸着剤、例えばシャバサイト(chabazite) またはエリオ
ナイトを用いてもよい。好ましい操作条件は、温度200
〜400 ℃、圧力10〜40バールである。吸着サイクルは、
一般に２〜10分続く。管路(9) を経て吸着器（Ａ）の出
口で回収される流出物は、ほとんどイソパラフィン（イ
ソペンタンおよびイソヘキサン）しか含まない。これ
は、熱交換、例えば脱イソヘキサン化工程(4) のリボイ
ラ（Ｅ3 ）の１つとの熱交換によって凝縮される。
【００３１】工程(2) の間に吸着されたｎ−パラフィン
は、ついで図(2) で示されている脱着工程(3) におい
て、吸着器（Ｄ）によって脱着される。この吸着器は、
ｎ−パラフィンが飽和し、脱着作動している吸着器(abs
orbeur) （Ａ）にほかならない。この操作は、メチルペ
ンタンに富んだ気体フラックスを用いたストリッピング
によって、圧力を５バール以下、好ましくは３バール以
下の値まで低下させることによって実施される。このフ
ラックスは、適切な脱イソヘキサン化塔のレベルで抜出
され、管路(10)を経てもたらされて、下降流として吸着
器（Ｄ）を通るものである。この気体フラックスは一般
に、熱交換器（Ｅ7 ）において、温度250〜350 ℃にさ
れる。脱着に必要なメチルペンタンに富んだフラックス
の割合は、有利には、脱着されるｎ−パラフィン１モル
あたり、メチルペンタンに富んだ蒸気0.5 〜２モルに相
当する。この操作は一般に２〜10分続く。脱着工程(3)
の流出物は、管路(11)を経て、異性化工程の方へ再循環
される。これはエジェクタ（Ｊ）において、管路(1) を
経て到着する軽質ナフサの新品の仕込原料、および管路
(13)を流れる液体と接触して直接凝縮され、また熱交換
器（Ｅ6 ）によって冷却される。
は、ついで図(2) で示されている脱着工程(3) におい
て、吸着器（Ｄ）によって脱着される。この吸着器は、
ｎ−パラフィンが飽和し、脱着作動している吸着器(abs
orbeur) （Ａ）にほかならない。この操作は、メチルペ
ンタンに富んだ気体フラックスを用いたストリッピング
によって、圧力を５バール以下、好ましくは３バール以
下の値まで低下させることによって実施される。このフ
ラックスは、適切な脱イソヘキサン化塔のレベルで抜出
され、管路(10)を経てもたらされて、下降流として吸着
器（Ｄ）を通るものである。この気体フラックスは一般
に、熱交換器（Ｅ7 ）において、温度250〜350 ℃にさ
れる。脱着に必要なメチルペンタンに富んだフラックス
の割合は、有利には、脱着されるｎ−パラフィン１モル
あたり、メチルペンタンに富んだ蒸気0.5 〜２モルに相
当する。この操作は一般に２〜10分続く。脱着工程(3)
の流出物は、管路(11)を経て、異性化工程の方へ再循環
される。これはエジェクタ（Ｊ）において、管路(1) を
経て到着する軽質ナフサの新品の仕込原料、および管路
(13)を流れる液体と接触して直接凝縮され、また熱交換
器（Ｅ6 ）によって冷却される。
【００３２】吸着器（Ｄ）は、脱着後、再び吸着に用い
られる。
られる。
【００３３】吸着工程から出る流出物は、ついで吸着加
圧下、脱イソヘキサン化工程(4) の方へ送られる。
圧下、脱イソヘキサン化工程(4) の方へ送られる。
【００３４】工程(4) において、管路(9) を経て、前記
吸着工程(2) から来る流出物を用いて、例えば圧力１〜
２バール（絶対圧力）で、脱イソヘキサン化塔に供給を
行なう。
吸着工程(2) から来る流出物を用いて、例えば圧力１〜
２バール（絶対圧力）で、脱イソヘキサン化塔に供給を
行なう。
【００３５】脱イソヘキサン化塔は、一般に、分別内壁
(internes)（構造化充填物(garnissage)またはタナ段）
を備える蒸留塔からなる。脱イソヘキサン化操作は、仕
込原料を、例えば20〜40モル％のジメチルブタンを含
む、ジメチルブタンリッチな留出物と、例えば５〜10モ
ル％のジメチルブタンを含むジメチルブタンプアな残渣
とに分離する。
(internes)（構造化充填物(garnissage)またはタナ段）
を備える蒸留塔からなる。脱イソヘキサン化操作は、仕
込原料を、例えば20〜40モル％のジメチルブタンを含
む、ジメチルブタンリッチな留出物と、例えば５〜10モ
ル％のジメチルブタンを含むジメチルブタンプアな残渣
とに分離する。
【００３６】仕込原料は、脱イソヘキサン化塔に導入さ
れる前に、場合によっては熱交換器（Ｅ3 ）内の脱イソ
ヘキサン化塔のリボイラの１つとの熱交換によって、例
えば温度100 〜120 ℃に凝縮され、かつ冷却されてもよ
い。
れる前に、場合によっては熱交換器（Ｅ3 ）内の脱イソ
ヘキサン化塔のリボイラの１つとの熱交換によって、例
えば温度100 〜120 ℃に凝縮され、かつ冷却されてもよ
い。
【００３７】脱イソヘキサン化塔は、一般に、80〜100
℃の底部温度、20〜60℃の頂部温度で操作が行なわれ
る。
℃の底部温度、20〜60℃の頂部温度で操作が行なわれ
る。
【００３８】管路(12)を経て出る脱イソヘキサン化塔の
熱い残渣は、ついで、エジェクタ／混合器（Ｊ）におい
て、新品仕込原料（管路(1) ）および脱着流出物（管路
(11)）との混合後、再循環され、異性化反応器の方へ送
られる。側面方向の抜出しによって、メチルペンタンに
富む蒸気流を抜出すことができ、これは管路(10)を経て
脱着中の吸着器（Ｄ）の方へ送られる。
熱い残渣は、ついで、エジェクタ／混合器（Ｊ）におい
て、新品仕込原料（管路(1) ）および脱着流出物（管路
(11)）との混合後、再循環され、異性化反応器の方へ送
られる。側面方向の抜出しによって、メチルペンタンに
富む蒸気流を抜出すことができ、これは管路(10)を経て
脱着中の吸着器（Ｄ）の方へ送られる。
【００３９】管路(7) を経て出る頂部蒸気（留出物）
は、一般に、凝縮器（Ｅ4 ）における冷却水での熱交換
器を用いて凝縮される。凝縮物の一部は、脱イソヘキサ
ン化器の頂部へ再循環され（還流物）、一部はポンピン
グによって、管路(14)を経て、主な異性化生成物または
異性化物として送られる。
は、一般に、凝縮器（Ｅ4 ）における冷却水での熱交換
器を用いて凝縮される。凝縮物の一部は、脱イソヘキサ
ン化器の頂部へ再循環され（還流物）、一部はポンピン
グによって、管路(14)を経て、主な異性化生成物または
異性化物として送られる。
【００４０】好ましい操作態様において、管路(7) を経
て出る頂部蒸気（留出物）は、圧縮機（熱ポンプ）にお
いて、塔底部の再沸騰に必要な温度より、10〜25℃高い
温度で凝縮されるのに十分な圧力（５〜６バール）で圧
縮されてもよい。その際これらの蒸気の凝縮は、外部の
エネルギーの補給をやめて、熱交換器（Ｅ5 ）を介し
て、リボイラに必要なエネルギーを供給するのに役立つ
こともある。凝縮は大部分、このようにして行なわれ
る。このことによって、還流物および留出物の全体の凝
縮に必要な冷却手段を節約することができる。
て出る頂部蒸気（留出物）は、圧縮機（熱ポンプ）にお
いて、塔底部の再沸騰に必要な温度より、10〜25℃高い
温度で凝縮されるのに十分な圧力（５〜６バール）で圧
縮されてもよい。その際これらの蒸気の凝縮は、外部の
エネルギーの補給をやめて、熱交換器（Ｅ5 ）を介し
て、リボイラに必要なエネルギーを供給するのに役立つ
こともある。凝縮は大部分、このようにして行なわれ
る。このことによって、還流物および留出物の全体の凝
縮に必要な冷却手段を節約することができる。
【００４１】本発明の方法のもう１つの好ましい変形例
によれば、特に塩素を含むアルミナベースの触媒を用い
る時、異性化工程(1) と、吸着工程(2) との間に、異性
化流出物の安定化工程を挿入する。これは主として、水
素とＣ1 〜Ｃ4 軽質炭化水素と同時に、触媒から来る塩
酸を除去するためのものである。
によれば、特に塩素を含むアルミナベースの触媒を用い
る時、異性化工程(1) と、吸着工程(2) との間に、異性
化流出物の安定化工程を挿入する。これは主として、水
素とＣ1 〜Ｃ4 軽質炭化水素と同時に、触媒から来る塩
酸を除去するためのものである。
【００４２】例えば熱交換器（Ｅ1 ）における、前記反
応器に供給される仕込原料との熱交換による冷却後、二
相混合物からなる異性化反応器の流出物は、管路(4) を
経て、直接、安定化塔（Ｓ2 ）へ送られる。この塔は、
一般に10〜20バールの圧力で、有利には約15バールの圧
力で作動する。安定化器（Ｓ2 ）は、図３に図式的に示
されている。
応器に供給される仕込原料との熱交換による冷却後、二
相混合物からなる異性化反応器の流出物は、管路(4) を
経て、直接、安定化塔（Ｓ2 ）へ送られる。この塔は、
一般に10〜20バールの圧力で、有利には約15バールの圧
力で作動する。安定化器（Ｓ2 ）は、図３に図式的に示
されている。
【００４３】安定化器は、頂部において、最も軽質な生
成物と、管路(15)を経て出る、場合によって存在する過
剰水素とを除去する。この留出物は、熱交換器（Ｅ8 ）
において水での冷却により一部凝縮され、得られた凝縮
物は、少なくとも一部、管路(16)を経て安定化器の頂部
の方へ再循環されてもよい。所望であれば、管路(17)を
経て、ノルマル味の留出物として、LPG を回収すること
もできる。
成物と、管路(15)を経て出る、場合によって存在する過
剰水素とを除去する。この留出物は、熱交換器（Ｅ8 ）
において水での冷却により一部凝縮され、得られた凝縮
物は、少なくとも一部、管路(16)を経て安定化器の頂部
の方へ再循環されてもよい。所望であれば、管路(17)を
経て、ノルマル味の留出物として、LPG を回収すること
もできる。
【００４４】場合によって存在する塩酸（異性化触媒
が、白金含浸の塩素を含むアルミナをベースとするもの
である場合）は、安定化器の頂部において全部通過する
のに十分な揮発性があり、管路(15)を経て気体生成物と
ともに排出される。塩酸が除去された、安定化器の底部
の生成物は、管路(6) を経て、蒸気フラックスの形態
で、安定化器の圧力で抜出され、熱交換器（Ｅ2 ）での
補足加熱後、吸着器の方へ送られる。
が、白金含浸の塩素を含むアルミナをベースとするもの
である場合）は、安定化器の頂部において全部通過する
のに十分な揮発性があり、管路(15)を経て気体生成物と
ともに排出される。塩酸が除去された、安定化器の底部
の生成物は、管路(6) を経て、蒸気フラックスの形態
で、安定化器の圧力で抜出され、熱交換器（Ｅ2 ）での
補足加熱後、吸着器の方へ送られる。
【００４５】このように安定化器のリボイラは、吸着器
（Ａ）の仕込原料を、温度約150 〜200 ℃で気化させる
のに役立つ。これによって、蒸気相でのこの吸着器の供
給が可能になる。
（Ａ）の仕込原料を、温度約150 〜200 ℃で気化させる
のに役立つ。これによって、蒸気相でのこの吸着器の供
給が可能になる。
【００４６】本発明の方法によって、リサーチ法オクタ
ン価(IOR) が65〜75の、Ｃ5 ／Ｃ6に富む軽質ナフサ仕
込原料から、IOR が89〜92の異性化物を得ることができ
る。
ン価(IOR) が65〜75の、Ｃ5 ／Ｃ6に富む軽質ナフサ仕
込原料から、IOR が89〜92の異性化物を得ることができ
る。
【００４７】
【実施例】下記実施例は非限定的なものであるが、本発
明を例証する。
明を例証する。
【００４８】本発明の対象となっている方法は、図２の
図式に対応するパイロット装置において使用される。こ
れは図３にしたがって変更されている。したがって分離
器（Ｓ1 ）は、安定化塔（Ｓ2 ）と代えられ、水素は異
性化反応器（Ｉ）に再循環されない。
図式に対応するパイロット装置において使用される。こ
れは図３にしたがって変更されている。したがって分離
器（Ｓ1 ）は、安定化塔（Ｓ2 ）と代えられ、水素は異
性化反応器（Ｉ）に再循環されない。
【００４９】仕込原料（Ｆ）は、予め脱硫され、かつ乾
燥された軽質ナフサからなる。これは下記モル組成を有
する。
燥された軽質ナフサからなる。これは下記モル組成を有
する。
【００５０】
【表１】
【００５１】これの硫黄含量は0.5 重量ppm であり、こ
の水含量は１重量ppm であり、このリサーチ法オクタン
価(IOR) は、70.2である。
の水含量は１重量ppm であり、このリサーチ法オクタン
価(IOR) は、70.2である。
【００５２】液体仕込原料が、導管(1) を経て、流量7
7.6 kg/h で、エジェクタ／混合器（Ｊ）に導入され
る。同時にこのエジェクタ／混合器に、平均流量44 kg/
h で、管路(11)を経て脱着帯域（Ｄ）から出る再循環フ
ラックスが吸い込まれる。このエジェクタ／混合器は、
圧力２バールで作動し、駆動流体(fluide moteur) とし
て中に導入された、新品および再循環液体仕込原料は、
脱着から出た蒸気との直接接触によって、約80℃の温度
に予備加熱される。蒸気は完全に凝縮され、同じ温度に
冷却される。同時にまた、この混合器内に、平均流量25
kg/h で、管路(12)を経て蒸留塔（ＤＩ）の底部から出
る再循環流体を注入する。
7.6 kg/h で、エジェクタ／混合器（Ｊ）に導入され
る。同時にこのエジェクタ／混合器に、平均流量44 kg/
h で、管路(11)を経て脱着帯域（Ｄ）から出る再循環フ
ラックスが吸い込まれる。このエジェクタ／混合器は、
圧力２バールで作動し、駆動流体(fluide moteur) とし
て中に導入された、新品および再循環液体仕込原料は、
脱着から出た蒸気との直接接触によって、約80℃の温度
に予備加熱される。蒸気は完全に凝縮され、同じ温度に
冷却される。同時にまた、この混合器内に、平均流量25
kg/h で、管路(12)を経て蒸留塔（ＤＩ）の底部から出
る再循環流体を注入する。
【００５３】この混合器の底部液体は、ポンプによって
再び取られ、管路(2) を経て、水素の補給後、および圧
力30バール、温度140 ℃での予備加熱後、異性化反応器
（Ｉ）の方へ、管路(2) を経て送られる。この反応器に
は、塩素７重量％と白金0.23重量％とを含む、アルミナ
ｈをベースとする異性化触媒62リットルが入っている。
触媒の活性を維持するために、仕込原料中に、四塩化炭
素42ｇ／時の連続補給を実施する。これは、500 重量pp
m の含量に相当する。異性化反応は、平均圧力30バー
ル、温度140 ℃（入口）〜160 ℃（出口）で実施され
る。これらの条件下、異性化反応器の炭化水素流出物
は、ｎＣ5 約８モル％、ｎＣ6 を5.5 モル％、およびメ
チルペンタン約26モル％を含む。
再び取られ、管路(2) を経て、水素の補給後、および圧
力30バール、温度140 ℃での予備加熱後、異性化反応器
（Ｉ）の方へ、管路(2) を経て送られる。この反応器に
は、塩素７重量％と白金0.23重量％とを含む、アルミナ
ｈをベースとする異性化触媒62リットルが入っている。
触媒の活性を維持するために、仕込原料中に、四塩化炭
素42ｇ／時の連続補給を実施する。これは、500 重量pp
m の含量に相当する。異性化反応は、平均圧力30バー
ル、温度140 ℃（入口）〜160 ℃（出口）で実施され
る。これらの条件下、異性化反応器の炭化水素流出物
は、ｎＣ5 約８モル％、ｎＣ6 を5.5 モル％、およびメ
チルペンタン約26モル％を含む。
【００５４】異性化反応器の流出物全部が、直接、管路
(4) を経て安定化塔（Ｓ2 ）（図３）に送られる。この
塔は、圧力15.5バールで作動し、リボイラーは約200 ℃
の温度であり、還流タンクは30℃の温度である。頂部に
おいて、管路(15)によって、主として水素を含む気体混
合物をパージする。0.5 重量ppm 以下のＨＣｌを含む底
部フラクションは、蒸気相で、リボイラのレベルで、管
路(6) から抜出される。このフラクションは、温度300
℃で予備加熱され、蒸気相で、管路(8) を経て吸着器
（Ａ）の低部に導入される。この吸着器は、平均圧力15
バール、平均温度300 ℃で吸着段階の間作動する。この
吸着段階は、約６分続く。内径16 cm 、高さ４ｍの吸着
器には、直径1.6 mmの押出し物の形態の60 kg のゼオラ
イト５Ａが入っている。この吸着器を出た時、管路(9)
によって、平均流量約123 kg/hで、異性化物を回収す
る。この異性化物は、１モル％以下のＣ5 およびＣ6 ノ
ルマルパラフィンを含み、IOR が88〜88.5であり、これ
は次に加圧下、蒸留塔（ＤＩ）のリボイラ（Ｅ3 ）の方
へ送られる。
(4) を経て安定化塔（Ｓ2 ）（図３）に送られる。この
塔は、圧力15.5バールで作動し、リボイラーは約200 ℃
の温度であり、還流タンクは30℃の温度である。頂部に
おいて、管路(15)によって、主として水素を含む気体混
合物をパージする。0.5 重量ppm 以下のＨＣｌを含む底
部フラクションは、蒸気相で、リボイラのレベルで、管
路(6) から抜出される。このフラクションは、温度300
℃で予備加熱され、蒸気相で、管路(8) を経て吸着器
（Ａ）の低部に導入される。この吸着器は、平均圧力15
バール、平均温度300 ℃で吸着段階の間作動する。この
吸着段階は、約６分続く。内径16 cm 、高さ４ｍの吸着
器には、直径1.6 mmの押出し物の形態の60 kg のゼオラ
イト５Ａが入っている。この吸着器を出た時、管路(9)
によって、平均流量約123 kg/hで、異性化物を回収す
る。この異性化物は、１モル％以下のＣ5 およびＣ6 ノ
ルマルパラフィンを含み、IOR が88〜88.5であり、これ
は次に加圧下、蒸留塔（ＤＩ）のリボイラ（Ｅ3 ）の方
へ送られる。
【００５５】同時に、吸着器（Ｄ）に入っている吸着剤
床は、吸着器（Ａ）と同じ大きさを有し、かつ前の吸着
段階で用いられたものであるが、脱着段階に入る。この
段階は、15バールから２バールへの圧力低下により、お
よびメチルペンタンに富む、塔（ＤＩ）の蒸気の抜出し
物の、温度300 ℃、平均流量20 kg/h での反応器の上部
からの注入によって実施される（管路(10)）。吸着剤床
の温度は、脱着段階全体を通じて、300 ℃付近である。
これは６分間続く。吸着器（Ｄ）の低部において抜出さ
れた脱着流出物は、ｎＣ5 約29モル％、ｎＣ6 21モル％
を含む。これは管路(11)を経て、エジェクタ／混合器
（Ｊ）の方へ再循環される。
床は、吸着器（Ａ）と同じ大きさを有し、かつ前の吸着
段階で用いられたものであるが、脱着段階に入る。この
段階は、15バールから２バールへの圧力低下により、お
よびメチルペンタンに富む、塔（ＤＩ）の蒸気の抜出し
物の、温度300 ℃、平均流量20 kg/h での反応器の上部
からの注入によって実施される（管路(10)）。吸着剤床
の温度は、脱着段階全体を通じて、300 ℃付近である。
これは６分間続く。吸着器（Ｄ）の低部において抜出さ
れた脱着流出物は、ｎＣ5 約29モル％、ｎＣ6 21モル％
を含む。これは管路(11)を経て、エジェクタ／混合器
（Ｊ）の方へ再循環される。
【００５６】６分間の各期間が終わった時、吸着器
（Ａ）および（Ｄ）は、吸着段階と脱着段階で交互に作
動するように、１組のバルブを用いて相互交換される。
（Ａ）および（Ｄ）は、吸着段階と脱着段階で交互に作
動するように、１組のバルブを用いて相互交換される。
【００５７】蒸留塔のリボイラ（Ｅ3 ）で完全に凝縮さ
れた吸着器（Ａ）の流出物（管路(9) ）は、圧力調節バ
ルブで減圧され、減圧された混合物は、蒸留塔（ＤＩ）
に導入される。約40段の理論段の効率を有する、構造化
充填物で満たされた塔は、圧力２バール、ノルマル味の
留出物に対する還流比４で作動する。
れた吸着器（Ａ）の流出物（管路(9) ）は、圧力調節バ
ルブで減圧され、減圧された混合物は、蒸留塔（ＤＩ）
に導入される。約40段の理論段の効率を有する、構造化
充填物で満たされた塔は、圧力２バール、ノルマル味の
留出物に対する還流比４で作動する。
【００５８】塔の頂部の蒸気は、冷却水で凝縮され、凝
縮物は、還流タンクに回収される。この還流タンクか
ら、管路(14)を経て留出物76 kg/h を抜出す。これは最
終生成物を構成する。
縮物は、還流タンクに回収される。この還流タンクか
ら、管路(14)を経て留出物76 kg/h を抜出す。これは最
終生成物を構成する。
【００５９】この方法は、前記条件下に34日間連続的に
実施された。これはリサーチ法オクタン価(IOR) が、8
9.5〜91.7にとどまる異性化物を生じた。
実施された。これはリサーチ法オクタン価(IOR) が、8
9.5〜91.7にとどまる異性化物を生じた。
【図１】本発明の方法を示すフローシートである。
【図２】本発明の方法を詳細に示すフローシートであ
る。
る。
【図３】本発明の方法の安定化工程を示すフローシート
である。
である。
（Ｉ）…異性化反応器 （Ｓ1 ）…分離器 （Ｓ2 ）…安定化塔 （Ａ）…吸着器 （Ｄ）…吸着器 （ＤＩ）…蒸留塔 （Ｊ）…エジェクタ （Ｆ）…仕込原料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンドレ デシャン フランス国 ノワジー ル ロワ シュマ ン デ プランス ３ (72)発明者 ジャン ポール カリウ フランス国 オルジュヴァル リュ デ コタージュ 15
Claims (10)
- 【請求項１】 主としてＣ5 ／Ｃ6 留分からなる仕込原
料におけるｎ−パラフィンのイソパラフィンへの異性化
方法において、下記工程からなることを特徴とする方
法： −脱着工程(3) から来る、ノルマルパラフィンとメチル
ペンタンとに富むフラックスの少なくとも１つの再循環
物と混合された、新品の仕込原料であるＣ5 ／Ｃ6 留分
を、異性化反応器に送る異性化工程(1) であって、この
工程の流出物は、分離器に送られて、ここで、反応器の
入口に再循環される蒸気相と、粗異性化物を構成する液
相とに分離される工程； −ｎ−パラフィンを保持することができる分子篩で満た
された吸着器に、上昇流として、蒸発後、異性化工程の
液体流出物の蒸気フラックスを送り、ｎ−パラフィンが
除去された異性化物を回収する吸着工程(2) ； −工程(2) と交互に行なわれる脱着工程(3) であって、
吸着器内の圧力を低下させ、かつ脱イソヘキサン化(des
isohexanisation)(4) 工程において採取されたメチルペ
ンタンに富む気体フラックスを、分子篩を通して通過さ
せ、この脱着工程の流出物が、異性化工程(1) の方へ送
られる工程；および −吸着工程(2) から来る流出物を用いて蒸留塔に供給を
行ない、液体残渣、メチルペンタンに富む蒸気フラック
ス、および最終異性化生成物を生じる留分が得られる脱
イソヘキサン化工程(4) であって、メチルペンタンに富
む蒸気フラックスが、脱着剤として脱着工程(3) へ送ら
れる工程。 - 【請求項２】 前記Ｃ5 ／Ｃ6 留分が、軽質ナフサであ
ることを特徴とする、請求項１による方法。 - 【請求項３】 異性化工程(1) において、圧力10〜40バ
ール、温度140 〜300 ℃で、メチルペンタンおよびノル
マルパラフィンの再循環物と混合された新品の仕込原料
を、水素の存在下、元素周期表第VIII族の金属から選ば
れる少なくとも１つの金属を含むゼオライト、または白
金で含浸された塩素を含むアルミナから主としてなる触
媒上を通過させることを特徴とする、請求項１または２
による方法。 - 【請求項４】 脱着工程(2) は、200 〜400 ℃、圧力10
〜40バールにされ、２〜10分間続くことを特徴とする、
請求項１〜３のうちの１つによる方法。 - 【請求項５】 脱着工程(3) において、圧力は５バール
以下の値に低下され、また工程(4) で採取され、温度25
0 〜350 ℃にされたメチルペンタンに富む気体フラック
スを、脱着されるｎ−パラフィン１モルあたり0.5 〜２
モルの蒸気に相当する割合で、２〜10分間通過させるこ
とを特徴とする、請求項１〜４のうちの１つによる方
法。 - 【請求項６】 脱イソヘキサン化工程(4) において、留
出物が５〜10モル％のジメチルペンタンを含むように、
かつ残渣が５〜10モル％のジメチルブタンを含むよう
に、圧力１〜２バール、80〜100 ℃の底部温度および20
〜60℃の頂部温度で操作を行なうことを特徴とする、請
求項１〜５のうちの１つによる方法。 - 【請求項７】 脱イソヘキサン化工程(4) の留分が、圧
力５〜６バールに圧縮され、この凝縮は、脱イソヘキサ
ン化塔の底部の再沸騰に必要な熱を供給することを特徴
とする、請求項１〜６のうちの１つによる方法。 - 【請求項８】 脱イソヘキサン化工程(4) の液体残渣
が、異性化工程(1) へ一部再循環されることを特徴とす
る、請求項１〜７のうちの１つによる方法。 - 【請求項９】 異性化工程(1) の流出物が、圧力10〜20
バールにおいて安定化塔へ送られ、ここで頂部では最も
軽質な生成物および場合によっては異性化触媒から来る
塩酸とが排出され、底部では吸着工程(2) の方へ送られ
る流出物が排出されることを特徴とする、請求項１〜８
のうちの１つによる方法。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のうちの１つによる方法
によって得られた、高オクタン価を有する異性化物。
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