JPH0639059B2 - Manufacturing equipment for substrate for photoconductive member - Google Patents

Manufacturing equipment for substrate for photoconductive member

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JPH0639059B2
JPH0639059B2 JP25166485A JP25166485A JPH0639059B2 JP H0639059 B2 JPH0639059 B2 JP H0639059B2 JP 25166485 A JP25166485 A JP 25166485A JP 25166485 A JP25166485 A JP 25166485A JP H0639059 B2 JPH0639059 B2 JP H0639059B2
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substrate
sphere
coating liquid
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hard
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淳 小池
恭介 小川
啓一 村井
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、金属体を、電気乃至電子デバイスの構成部
材、特に電子写真感光体等の光導電部材の基体として好
適に利用できるようにする、該金属体の表面処理装置に
関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention enables a metal body to be suitably used as a substrate of a constituent member of electric or electronic devices, particularly a photoconductive member such as an electrophotographic photoreceptor. , A surface treatment apparatus for the metal body.

〔従来技術の説明〕[Description of Prior Art]

電子写真感光体等の光導電部材の基体として、板状、円
筒状、無端ベルト状等の形状の金属体が用いられるとこ
ろ、それら金属体は用途に適した表面形状を有している
ことが要求され、ためにそれら金属体の表面には各種切
削加工乃至研磨加工が施される。
Where a metal body having a plate shape, a cylindrical shape, an endless belt shape, or the like is used as a substrate of a photoconductive member such as an electrophotographic photoreceptor, the metal body may have a surface shape suitable for the application. For this reason, the surfaces of these metal bodies are subjected to various cutting and polishing processes.

そして前記金属体として、アルミ合金が至適なものとし
て一般に使用され、その表面に前述の加工を施して所望
表面のものにし、該表面上に用途に応じた光受容層が形
成される。
As the metal body, an aluminum alloy is generally used as the optimum one, and the surface thereof is subjected to the above-mentioned processing to obtain a desired surface, and a light-receiving layer according to the application is formed on the surface.

ところが従来の切削加工方式乃至研摩加工方式による
と、合金組織中にSi−Al−Fe系、Fe−Al系、TiB2等の金
属間化合物、Al,Mg,Ti,Si,Feの酸化物等が介在して
しまつたり、H2による空孔が存在してしまうことの他、
結晶方位の異る近隣Al組織間で生起する粒界段差といつ
た表面欠陥が生起することがある。
However according to the conventional cutting method to grinding processing method, Si-Al-Fe-based in the alloy structure, Fe-Al-based intermetallic compounds such as TiB 2, Al, Mg, Ti , Si, oxides such as Fe Interspersed with, and the presence of holes due to H 2 ,
Grain boundary steps and surface defects may occur between neighboring Al structures with different crystallographic orientations.

また、アルミ合金を基体に適用する場合極めて高清浄度
表面のものが使用されるところ、そうした表面状態のア
ルミ合金は、10-9mmHgといつた超高真空の下でも、その
表面は活性であるために、〜30Å程度厚の酸化膜が形成
されてしまう。
In addition, when applying an aluminum alloy to a substrate, an extremely clean surface is used, and an aluminum alloy with such a surface state is active even under an ultrahigh vacuum of 10 -9 mmHg. Therefore, an oxide film having a thickness of about 30Å is formed.

こうした問題のあるところで従来の切削加工方式又は研
摩加工方式により表面加工して得られる基体は、結局は
それを使用して製造される光導電部材の機能に各種の問
題や欠陥を惹起するところとなる。
A substrate obtained by subjecting a surface to a conventional cutting method or a polishing method in such a problem eventually causes various problems and defects in the function of a photoconductive member manufactured using the same. Become.

即ち、例えばそれが電子写真感光体である場合、基体上
に形成される光受容層が均一性、均質性に乏しいものに
なつてしまつたり、電気的、光学的、または/及び光導
電的特性が不均一なものになつてしまつたりして、画像
に欠陥をもたらすところとなり、結局は実用に価しない
ものになつてしまうことが往々にしてある。そしてこの
点は、シリコン又はシリコンを主体とする非単結晶材料
で光受容層を形成する場合には顕著である。
That is, for example, when it is an electrophotographic photosensitive member, the light-receiving layer formed on the substrate may be poor in uniformity or homogeneity, or may be electrically, optically, and / or photoconductive. In some cases, the characteristics become non-uniform, causing defects in the image, and in the end, the characteristics become unusable. This point is remarkable when the light receiving layer is formed of silicon or a non-single crystal material containing silicon as a main component.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の主たる目的は、上述の従来の加工方式に基因す
る各種の物理的問題点及び基体表面に酸化膜が形成され
てしまう問題点を排除して金属体を表面加工し、電気乃
至電子デバイスの構成部材、特に電子写真感光体等用に
至適な基体を製造する装置を提供することにある。
The main object of the present invention is to eliminate the various physical problems caused by the above-mentioned conventional processing methods and the problem that an oxide film is formed on the surface of a substrate, thereby processing the surface of a metal body to produce an electrical or electronic device. An object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a substrate which is optimal for the constituent members, especially for electrophotographic photoreceptors.

本発明の他の目的は、前述の方法により得られた基体を
使用し、その加工表面に所望の光受容層を形成せしめ
て、電気的、光学的、光導電的特性が実質的に常時安定
しており、耐光疲労に優れ、繰返し使用に際しても劣化
現象を起こさず耐久性、耐湿性に優れ、残留電位が全く
又は殆んど観測されない、必要に応じて水素原子(H)又
は/及びハロゲン原子(X)を含有するアモルフアスシリ
コンa−Si(H,X)で構成された光受容層を有する光
受容部材を製造するに適した基体の製造装置を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to use the substrate obtained by the above method and form a desired photoreceptive layer on the processed surface thereof so that the electrical, optical and photoconductive properties are substantially always stable. It has excellent light fatigue resistance, does not cause deterioration phenomenon even after repeated use, has excellent durability and moisture resistance, and has no or almost no residual potential observed. If necessary, hydrogen atoms (H) and / or halogens can be used. An object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a substrate suitable for manufacturing a light receiving member having a light receiving layer composed of amorphous silicon a-Si (H, X) containing atoms (X).

〔発明の構成・効果〕[Constitution / Effect of Invention]

本発明者らは、電気乃至電子デバイス、特に電子写真感
光体等用の基体について至適な表面形状を有し、且つ上
述の従来の表面加工方式によりもたらされるような問題
のないものとすべく鋭意研究を重ねた結果、剛体真球を
使用してそれらを所定の金属体の表面に下方から打ちあ
てると、例えば金属体がアルミ合金である場合、該合金
組織中に何らの金属間化合物、金属酸化物等の介在、そ
して空孔の存在がなく、且つまた粒界段差といつた表面
欠陥の生起もなくして該金属体の表面を好ましい表面形
状にすることができ、その表面加工を長鎖状炭化水素を
含有する液体の存在下で行うと、常圧条件下であつても
酸化膜の生成は起らず、かくして得られる基体の加工表
面にグロー放電法により主としてa−Si(H,X)で構
成される光受容層を形成せしめると、形成される光受容
層は均一にして均質なものとなり、そしてその光受容部
材は、使用にあつてその光受容層を通過した光が層界
面、基体表面で反射し、それらが干渉するところとなつ
て、形成される画像についてそれが縞模様になることを
効率的に防止し、出力される画像を極めて優れた質のも
のにするものである知見を得、該知見に基づいて本発明
を完成せしめた。
The inventors of the present invention should have an optimum surface shape for a substrate for electric or electronic devices, particularly for electrophotographic photoreceptors, and to avoid the problems brought about by the conventional surface processing method described above. As a result of repeated diligent research, when hitting them from below onto the surface of a predetermined metal body using a rigid spherical body, for example, when the metal body is an aluminum alloy, any intermetallic compound in the alloy structure, The surface of the metal body can be formed into a preferable surface shape without any intervening metal oxides or voids, and without the occurrence of grain boundary steps and surface defects. When it is carried out in the presence of a liquid containing a chain hydrocarbon, no oxide film is formed even under normal pressure conditions, and the processed surface of the substrate thus obtained is mainly a-Si (H) by the glow discharge method. , X) When formed, the formed light-receptive layer becomes uniform and homogeneous, and the light-receptive member is such that the light passing through the light-receptive layer is reflected at the layer interface, the substrate surface, in use. Based on the findings, we obtained the knowledge that the interference between the formed image and the formed image can be effectively prevented from becoming a striped pattern, and the output image can be of extremely excellent quality. And completed the present invention.

即ち、本発明は、基体表面を、ポリブテンを含有する液
体(以下、「表面被覆液」という。)で被覆した状態
で、剛体真球又は凹凸表面形状の剛体球を所定の下方距
離から打ちあてることにより処理することを骨子とする
電気乃至電子デバイス、特に電子写真感光体等用に至適
な基体を製造する装置に関するものである。
That is, according to the present invention, a rigid true sphere or a rigid sphere having an uneven surface shape is struck from a predetermined lower distance in a state where the surface of the substrate is coated with a liquid containing polybutene (hereinafter referred to as "surface coating liquid"). The present invention relates to an apparatus for manufacturing an optimal substrate for an electric or electronic device, particularly an electrophotographic photoreceptor, whose main point is to treat the material.

本発明の装置により表面処理するについて使用される基
体は、導電性のものであつても、或いは電気絶縁性のも
のであつてもよい。
The substrate used for surface treatment with the apparatus of the present invention may be electrically conductive or electrically insulating.

導電性基体としては、例えば、NiCr、ステンレス、Al、
Cr、Mo、Au、Nb、Ta、V、Ti、Pt、Pb等の金属又はこれ
等の合金が挙げられる。
As the conductive substrate, for example, NiCr, stainless steel, Al,
Examples thereof include metals such as Cr, Mo, Au, Nb, Ta, V, Ti, Pt and Pb or alloys thereof.

電気絶縁性支持体としては、ポリエステル、ポリエチレ
ン、ポリカーボネート、セルロース、アセテート、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、ポリアミド等の合成樹脂のフイルム又はシ
ート、ガラス、セラミツク、紙等が挙げられる。これ等
の電気絶縁性基体は、好適には少なくともその一方の表
面を導電処理し、該導電処理された表面側に光受容層を
設けるのが望ましい。
Examples of the electrically insulating support include films or sheets of synthetic resin such as polyester, polyethylene, polycarbonate, cellulose, acetate, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene and polyamide, glass, ceramics, paper and the like. It is desirable that at least one surface of these electrically insulating substrates is subjected to a conductive treatment, and a light receiving layer is provided on the surface side subjected to the conductive treatment.

例えば、ガラスであれば、その表面に、NiCr、Al、Cr、
Mo、Au、Ir、Nb、Ta、V、Ti、Pt、Pd、In2O3、SnO2、I
TO(In2O3+SnO2)等から成る薄膜を設けることによつ
て導電性を付与し、或いはポリエステルフイルム等の合
成樹脂フイルムであれば、NiCl、Al、Ag、Pb、Zn、Ni、
Au、Cr、Mo、Ir、Nb、Ta、V、Tl、Pt等の金属の薄膜を
真空蒸着、電子ビーム蒸着、スパツタリング等でその表
面に設け、又は前記金属でその表面をラミネート処理し
て、その表面に導電性を付与する。基体の形状は、円筒
状、板状等任意の形状であることができるが、用途、所
望によつて、その形状は適宜に決めることのできるもの
である。例えば、光受容部材を電子写真用像形成部材と
して使用するのであれば、連続高速複写の場合には、円
筒状とするのが望ましい。基体の厚さは、所望通りの光
受容部材を形成しうる様に適宜決定するが、光受容部材
として可撓性が要求される場合には、基体としての機能
が充分発揮される範囲内で可能な限り薄くすることがで
きる。しかしながら、基体の製造上及び取扱い上、機械
的強度等の点から、通常は、10μ以上とされる。
For example, if it is glass, NiCr, Al, Cr,
Mo, Au, Ir, Nb, Ta, V, Ti, Pt, Pd, In 2 O 3 , SnO 2 , I
Conductivity is provided by providing a thin film made of TO (In 2 O 3 + SnO 2 ) or the like, or synthetic resin film such as polyester film is NiCl, Al, Ag, Pb, Zn, Ni,
A thin film of a metal such as Au, Cr, Mo, Ir, Nb, Ta, V, Tl, or Pt is provided on the surface by vacuum evaporation, electron beam evaporation, sputtering, or the surface is laminated with the metal. Conductivity is given to the surface. The shape of the substrate can be any shape such as a cylindrical shape or a plate shape, but the shape can be appropriately determined depending on the application and the desire. For example, when the light receiving member is used as an electrophotographic image forming member, it is desirable to have a cylindrical shape for continuous high speed copying. The thickness of the substrate is appropriately determined so that a desired light-receiving member can be formed, but when flexibility is required as the light-receiving member, it is within a range in which the function as the substrate is sufficiently exhibited. It can be made as thin as possible. However, in view of manufacturing and handling of the substrate, mechanical strength, etc., it is usually set to 10 μm or more.

また本発明の装置において、前述の基体表面を処理、即
ち該表面の所望の凹凸形状を形成せしめるについて用い
る剛体真球又は凹凸表面形状の剛体球(通常、φ=0.4
〜2.0mm)としては、例えばステンレス、アルミニウ
ム、鋼鉄、ニツケル、真鍮等の金属、セラミツクまたは
プラスチツク製の各種剛体球を挙げることができる。こ
れらの中、ステンレス製及び鋼鉄製の剛体球が、耐久
性、コスト等を含めた綜合的見地からして好ましい。そ
してそうした球体の硬度は、基体の硬度より高くても、
或いは低くてもよいが、該球体を繰り返し使用する場合
には、基体の硬度よりも高いものであることが望まし
い。
Further, in the apparatus of the present invention, a rigid true sphere or a rigid sphere having an uneven surface shape (usually φ = 0.4
Examples of such hard spheres include stainless steel, aluminum, steel, nickel, brass and other metals, and ceramic or plastic rigid balls. Of these, stainless steel and steel hard spheres are preferable from a comprehensive viewpoint including durability, cost and the like. And the hardness of such a sphere is higher than that of the base,
Alternatively, it may be lower, but when the sphere is repeatedly used, it is preferably higher than the hardness of the substrate.

また本発明の装置において、前述の基体表面に、前述の
剛体球を使用して所望の凹凸形状を形成せしめる際に使
用する、表面被覆液については、いずれにしても基体表
面を万遍なく一様にそして出来得る限り薄く被覆し、そ
こに形成される被覆膜は可及的速やかに固化し、固化膜
は洗浄操作によりムラを残さず洗去されると同時に基体
表面が何らの乾燥ムラ(ダレ)も残すことなく絶体クリ
ーンの状態に乾燥されることが要求される。こうしたこ
とから、前記表面被覆液は、(イ)低粘度液体であるこ
と、(ロ)除電作用を有すること、(ハ)コーテイング作用を
有すること、(ニ)形成される被覆膜(コート)が容易に
洗去され得るものであること、(ホ)被覆膜(コート)洗
去後加工表面がそこに何らの乾燥ムラも残さずして絶体
クリーンの状態に乾燥されること、の(イ)乃至(ホ)の条件
を満足するものであることが必要とされる。
Further, in the apparatus of the present invention, the surface coating liquid used when forming the desired uneven shape on the surface of the substrate by using the above-mentioned rigid body spheres is evenly distributed on the surface of the substrate in any case. Coating as thin as possible and the coating film formed there solidifies as quickly as possible, and the solidified film is washed away without any unevenness by the washing operation, and at the same time the substrate surface does not show any drying unevenness. It is required to be dried in an absolutely clean state without leaving any sagging. For these reasons, the surface coating liquid is (a) a low-viscosity liquid, (b) having a static elimination action, (c) a coating action, (d) a coating film formed (coat) Can be easily washed off, and (e) after the coating film (coat) is washed off, the processed surface is dried in an absolutely clean state without leaving any drying unevenness. It is necessary to satisfy the conditions (a) to (e).

したがつて表面被覆液としては、長鎖状炭化水素を適当
な有機溶媒に溶解して得たものが一般に使用される。
Therefore, as the surface coating solution, a solution obtained by dissolving a long chain hydrocarbon in a suitable organic solvent is generally used.

そして前記長鎖状炭化水素については、代表的なものと
してポリブテンが挙げられる。ポリブテンの中で好しい
ものは下記の一般式で表わされるものである。即ち、 但し、式中のnは、3乃至40の整数を表わす。前記一般
式で表わされるポリブテンの中、nが3乃至20であるも
のが特に好ましいものである。
A typical example of the long-chain hydrocarbon is polybutene. Among polybutenes, those represented by the following general formula are preferable. That is, However, n in the formula represents an integer of 3 to 40. Among the polybutenes represented by the above general formula, those in which n is 3 to 20 are particularly preferable.

なお、前記ポリブテンの中には、それ自身前記(イ)乃至
(ホ)の条件を満足するものがあり、その場合にあつて
は、表面被覆液は実質的に該ポリブテンからなるもので
あることができる。
Incidentally, some of the polybutene itself (a) to
Some of them satisfy the condition (e), and in that case, the surface coating liquid may substantially consist of the polybutene.

前記有機溶媒は、前記長鎖状炭化水素(ポリブテン)を
溶解して、前記(イ)乃至(ホ)の条件を満たす表面被覆液を
与える類のものならば何れのものであつてもよく、それ
らの例として、エーテル、ヘプタン、トルエン、トリク
ロロエチレン、トリクロロエタン等を挙げることができ
る。しかしこれらの有機溶媒の中、トリクロロエタンは
以下の理由から最も好ましいものである。
The organic solvent may be any as long as it dissolves the long-chain hydrocarbon (polybutene) and gives a surface coating liquid satisfying the conditions (a) to (e), Examples thereof include ether, heptane, toluene, trichloroethylene, trichloroethane and the like. However, among these organic solvents, trichloroethane is most preferable for the following reasons.

即ち、トリクロロエタンは、前記ポリブテンを極めて効
率的に溶解し、得られる液体は程よい粘度のものであつ
て、極めて展性に富み、基体表面をムラなく一様にしか
も極めて薄い膜を形成して覆い、その薄膜は下方から打
ちあてられる剛体球による基体表面への球状痕跡窪み形
成に支障を与えず、そして前記球状痕跡窪み形成後に前
記薄膜の速やかな固化をもたらし、更にそれを固化膜の
洗浄操作に使用すると、該固化膜は速やかに基体の加工
表面から溶離して洗去され、露呈される基体の加工表面
は何らの洗浄ムラを残すことなく絶体クリーンの状態に
乾燥される。
That is, trichloroethane dissolves the polybutene extremely efficiently, and the liquid obtained has a moderate viscosity and is extremely malleable, covering the surface of the substrate uniformly and evenly with a very thin film. , The thin film does not hinder the formation of spherical trace dents on the surface of the substrate by the hard spheres hit from below, and causes rapid solidification of the thin film after the formation of the spherical trace dents. When used for, the solidified film is quickly eluted from the processed surface of the substrate and washed away, and the exposed processed surface of the substrate is dried in an absolutely clean state without leaving any cleaning unevenness.

そして、トリクロロエタンに前記ポリブテンを溶解して
なる表面被覆液は、両物質の液構成割合が重要であり、
トリクロロエタンに対し前記ポリブテンを1:4〜4:
1の範囲にするのが通常であるが、1:1であるのが最
も好ましい。
Then, the surface coating liquid obtained by dissolving the polybutene in trichloroethane, the liquid composition ratio of both substances is important,
The above polybutene was added to trichloroethane at a ratio of 1: 4 to 4: 4.
It is usually in the range of 1, but is most preferably 1: 1.

ところで本発明の装置により表面加工された基体は、剛
体真球を使用した場合について説明するに、第1図に示
すような表面形状のものである。即ち、第1図(A)図に
示す例は、基体101 の表面102 の異なる部位に向けて、
ほゞ同一径の複数の球体103 ,103 …を、ほゞ同一の下
方距離から規則的に打ちあてて、前記基体の表面にほゞ
同一の曲率(R)及びほゞ同一の幅の複数の球状痕跡窪
み104 ,104 …を互に重複し合うように万遍なく生ぜせ
しめて規則的に凹凸形状を形成せしめてなる支持体につ
いてのものである。
By the way, the substrate surface-treated by the apparatus of the present invention has a surface shape as shown in FIG. 1 for explaining the case of using a rigid spherical body. That is, in the example shown in FIG. 1 (A), the surface 102 of the base 101 is directed to different parts,
A plurality of spheres 103, 103 having substantially the same diameter are regularly struck from the substantially same lower distance, and a plurality of spheres having substantially the same curvature (R) and substantially the same width are applied to the surface of the base body. The present invention relates to a support in which spherical trace depressions 104, 104 ... Are evenly generated so as to overlap each other to form a regular uneven shape.

第1(B)図に示す例は、基体101 の表面102 に向けて異
なる径を有する二種類の複数の球体103 ,103 …及び10
3 ′,103 ′…をほゞ同一の下方距離から、又は異る下
方距離から打ちあてて、前記基体の表面に曲率と幅のそ
れぞれ異る二種類の球状痕跡窪み104 ,104 …及び104
′,104 ′…を互に重複し合うように万遍なく生ぜし
めて不規則に凹凸形状を形成せしめてなる基体について
のものである。
In the example shown in FIG. 1 (B), a plurality of two types of spheres 103, 103, ...
3 ', 103' ... are struck from almost the same downward distance or from different downward distances, and two kinds of spherical dents 104, 104 ... And 104 having different curvatures and widths are formed on the surface of the base body.
′, 104 ′, etc. are evenly generated so as to overlap each other, and irregularly shaped irregularities are formed.

更に、第1(C)図〔基体表面の正面図(上)および断面
図(下)〕に示す例は、基体101 の表面102 に向けて、
ほゞ同一径の複数の球体 104,104 …をほゞ同一の下方
距離から不規則に打ちあてて、前記基体の表面にほゞ同
一径及びほゞ同一幅の複数の窪み104 ,104 …を互に重
複し合うように万遍なく生ぜしめて不規則に凹凸形状を
形成せしめてなる支持体についてのものである。
Further, in the example shown in FIG. 1 (C) [front view (top) and cross-sectional view (bottom) of the surface of the substrate], the surface 102 of the substrate 101 is directed toward
A plurality of spheres 104, 104 with approximately the same diameter are randomly struck from the same lower distance to form a plurality of dents 104, 104 with the approximately same diameter and approximately the same width on the surface of the base body. The present invention relates to a support which is irregularly formed by irregularly generating the particles so that they overlap each other.

そして前記第1(A)乃至(C)図に図示の球状痕跡窪み形状
表面を有する基体は、本発明の装置により製造されるも
のであるが、第1(A)乃至(C)図においては簡略のため、
表面被覆液についての説明を省略した。
The substrate having the spherical trace-recessed surface shown in FIGS. 1 (A) to (C) is manufactured by the apparatus of the present invention, but in FIGS. 1 (A) to (C) For brevity,
The description of the surface coating liquid is omitted.

本発明の光導電部材用基体の製造装置を以下に、図面に
図示の実施例により説明する。
The apparatus for producing a substrate for a photoconductive member of the present invention will be described below with reference to the embodiments shown in the drawings.

なお、本発明の装置は、該実施例により限定されるもの
ではないことはいうまでもない。
Needless to say, the device of the present invention is not limited to the embodiment.

第2図は、本発明の装置全体の該断面図である。図にお
いて、1は円筒状基体を示す。円筒状基体1は、両端で
軸支されてその一端で駆動手段に連結されていて(図示
せず)回転する回転軸2に弾性部材21を介して嵌装固定
されている。3は、噴射孔31,31……を備えた噴出管で
あり、ポンプ手段を介して表面被覆液11の滞溜タンク
5に管連結4している。51は、図示しない表面被覆液供
給源から表面被覆液を滞溜タンク5に導入する供給管で
あり、バルブ51′を備えている。52は、滞溜タンク5中
で沈降する固形物を排出するための排出管であり、バル
ブ52′を備えている。6は、表面被覆液受け容器7中の
表面被覆液11を滞溜タンク5に供給する給送管である。
8は、多穿孔板で形成されている剛体球容器である。91
は、剛体球を上方に飛ばすブレード様羽根9,9,…を
有する羽根車であり、両端で軸支されてその一端で駆動
手段に連結されていて(図示せず)回転する回転軸92に
固定されている。羽根車91は、その剛体球飛ばし羽根9
の先端が、剛体球容器8の底部に存在する剛体球12,12
…を回転する羽根9がすくい挙げられる位置に設置され
ている。10は、回転する飛ばし羽根9,9,…の作用に
より飛ばされる剛体球12,12,…及び表面被覆液11の系
外への逸散を防止すると共に、それらを円筒形基体表面
方向に導くようにする案内板である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the entire device of the present invention. In the figure, 1 indicates a cylindrical substrate. The cylindrical substrate 1 is pivotally supported at both ends, is connected to a driving means at one end thereof, and is fitted and fixed via an elastic member 21 to a rotating shaft 2 that rotates (not shown). Reference numeral 3 is an ejection pipe having injection holes 31, 31 ... And is connected to a retention tank 5 for the surface coating liquid 11 through a pump means by a pipe connection 4. Reference numeral 51 is a supply pipe for introducing the surface coating liquid into the retention tank 5 from a surface coating liquid supply source (not shown), and is provided with a valve 51 '. Reference numeral 52 is a discharge pipe for discharging the solid matter settling in the retention tank 5, and is provided with a valve 52 '. Reference numeral 6 is a feed pipe for supplying the surface coating liquid 11 in the surface coating liquid receiving container 7 to the retention tank 5.
Reference numeral 8 is a rigid sphere container formed of a multi-perforated plate. 91
Is an impeller having blade-like blades 9, 9 ... For flying a rigid sphere upward, and is attached to a rotating shaft 92 which is rotatably supported at both ends and is connected to drive means at one end thereof (not shown). It is fixed. The impeller 91 has its rigid-sphere flying blade 9
Of the hard spheres 12, 12 existing at the bottom of the hard sphere container 8
The blades 9 that rotate the ... Are installed at a position where the scooping is possible. Numeral 10 prevents the hard spheres 12, 12, ... And the surface coating liquid 11 blown out by the action of the rotating blast blades 9, 9 ,. It is a guide board to do.

なお、本発明の装置は、図示しない適宜のハウジングに
よりその内部に密封内蔵されているものであることはい
うまでもない。
It is needless to say that the device of the present invention is hermetically sealed inside by an appropriate housing (not shown).

以上説明の本発明の操作を以下に説明する。The operation of the present invention described above will be described below.

先づ、基体1を回転軸2上に設置して系内の所定位置に
おき、回転せしめておく。一方、供給管51を介して表面
被覆液〔例えばポリブテンキトリクロロエタン(1:
1)液〕を滞溜タンク5に導入し、ポンプ手段を作動
させて該液を噴出管3,3に導き、噴射孔31,31,…を
介して前記基体表面に噴射せしめて、その表面全体をく
まなく覆って表面被覆液の液膜を形成せしめる。
First, the substrate 1 is placed on the rotary shaft 2 and placed at a predetermined position in the system and rotated. On the other hand, a surface coating solution [for example, polybutene trichloroethane (1:
1) liquid] is introduced into the retention tank 5, the pump means is operated to guide the liquid to the ejection pipes 3 and 3, and is ejected to the surface of the substrate through the ejection holes 31, 31 ,. A liquid film of the surface coating liquid is formed by covering the whole surface.

そうしたところで羽根車91を回転せしめて、剛体球容器
8に収容されている剛体球12,12…を飛ばし羽根9,
9,…により上方に強制的に飛ばしてそれらを基体1の
表面に衝突せしめる。
At such a place, the impeller 91 is rotated to fly the hard spheres 12, 12, ...
, Are forced to fly upward to collide them with the surface of the substrate 1.

衝突後の剛体球12,12,…は落下して容器8の底部に溜
り、それらが再び上述の様にして上方に飛ばされる。表
面被覆液は、落下し、剛体球容器8の壁孔を流下して表
面被覆液受け容器7に入り、ついで滞溜タンクに入り、
噴出管3,3に循環される。
After the collision, the hard balls 12, 12, ... Drop and collect at the bottom of the container 8, and they are again propelled upward as described above. The surface coating liquid drops, flows down through the wall hole of the hard sphere container 8 and enters the surface coating liquid receiving container 7, and then enters the retention tank,
It is circulated to the ejection pipes 3 and 3.

上記操作中、滞溜タンク5中の表面被覆液の清澄度合を
チエツクし、前記タンクの底部に固形物が沈澱している
場合、それらを排出管52を介して取り除き、必要とあら
ば新たな表面被覆液を供給管51を介して補給するように
する。
During the above operation, the degree of clarification of the surface coating liquid in the retention tank 5 is checked, and if solid matters are deposited at the bottom of the tank, they are removed through the discharge pipe 52, and if necessary, a new one is added. The surface coating liquid is supplied through the supply pipe 51.

以上のように操作することにより、円筒基体表面への痕
跡窪み形成は、円筒基体表面が表面被覆液の薄液膜で完
全に覆われた状態で行われる。
By operating as described above, the formation of the trace dents on the surface of the cylindrical substrate is performed in a state where the surface of the cylindrical substrate is completely covered with the thin liquid film of the surface coating liquid.

上述の操作は、常圧、常温の条件下で行うことができる
が、剛体球の円筒基体表面への衝突を強くすることを所
望する場合には真空条件下で行うのが好ましい。
The above-mentioned operation can be carried out under normal pressure and normal temperature, but it is preferably carried out under vacuum condition when it is desired to strengthen the collision of the hard sphere with the surface of the cylindrical substrate.

所定時間経過後、操作を止めると、表面を万遍なく覆っ
て薄固化膜を有し、平面部分を残すことなく万遍なく球
状痕跡窪み形状の形成された表面の基体が得られる。こ
の基体は系外に搬出して使用に供する迄そのまゝ保存し
ても、その表面は固化膜により外気から完全に遮断され
ていることから、該基体がアルミ合金系の材質のもので
あってもその表面に酸化膜が形成される等の問題の生ず
る機会は全くない。
When the operation is stopped after the lapse of a predetermined time, a substrate having a thin solidified film covering the surface evenly and having a spherical trace dent shape is uniformly obtained without leaving a flat portion. Even if this substrate is carried out of the system and stored as it is until it is used, since its surface is completely shielded from the outside air by the solidified film, the substrate is made of aluminum alloy. However, there is no chance of causing a problem such as the formation of an oxide film on the surface.

上述の本発明の装置によれば、処理済み基体を搬出後、
新たな基体を系内に搬入し、該基体について上述の操作
を引き続いて繰返し行えるので、所望の表面加工の施さ
れた基体を連続して製造することができる。
According to the apparatus of the present invention described above, after carrying out the treated substrate,
Since a new substrate is loaded into the system and the above-described operation can be repeated for the substrate, a substrate having a desired surface treatment can be continuously produced.

なお、上述の説明においては基体が単一である場合につ
いて説明したが、本発明の装置においては、複数個の基
体を一操作で表面加工できるような規模のものにするこ
とは勿論可能である。
In the above description, the case where a single substrate is used has been described, but in the apparatus of the present invention, it is of course possible to make the scale such that a plurality of substrates can be surface-processed by one operation. .

また、上述の操作で表面加工して得られた基体は、その
使用に際してはいずれにしろ溶媒洗浄処理にかけて固化
膜を溶離し、表面を絶体クリーンの状態に乾燥した後、
成膜(光受容層形成)装置(図示せず)に搬入されると
ころ、本発明の装置によれば前記溶媒洗浄処理を行うこ
ともできる。
In addition, the substrate obtained by the surface treatment by the above-mentioned operation, in any case, is subjected to a solvent washing treatment to elute the solidified film in any case, and after drying the surface to an absolutely clean state,
When the apparatus is carried into a film forming (photoreceptive layer forming) apparatus (not shown), the solvent cleaning treatment can be performed by the apparatus of the present invention.

その場合、表面加工終了後、表面被覆液を系から除いて
系内をクリーニング状態にした後、図示しない洗浄液タ
ンクから洗浄液(例えば、トリクロロエタン)を管4を
介して噴出管3,3に送り、噴出孔31,31,…から下方
噴射する。その際、羽根車91は停止しておき、基体1を
回転させる。
In that case, after finishing the surface processing, the surface coating liquid is removed from the system to bring the inside of the system into a cleaning state, and then a cleaning liquid (for example, trichloroethane) is sent from a cleaning liquid tank (not shown) to the ejection pipes 3 and 3 via the pipe 4, The downward injection is made from the ejection holes 31, 31, .... At that time, the impeller 91 is stopped and the base 1 is rotated.

以上説明の本発明の装置により表面加工して得られる基
体は、所望の球状痕跡窪みが表面に平面部を残すことな
く形成されていて、その表面全体が固化膜に覆われて外
気から遮断されて維持されており、洗液に例えばトリク
ロロエタン等の溶剤を使用して洗浄すると、固化膜の溶
離が極めて効率的に進行し、表面の乾燥が全く乾燥ムラ
を残すことなく極めて効率的に行え、絶体クリーンの表
面状態のものとなり、光導電部材用基体として至適なも
のとなる。
The substrate obtained by surface processing with the apparatus of the present invention described above has desired spherical trace dents formed without leaving a flat surface on the surface, and the entire surface is covered with a solidified film and shielded from the outside air. When the washing liquid is washed using a solvent such as trichloroethane, elution of the solidified film proceeds extremely efficiently, and the surface can be dried extremely efficiently without leaving any drying unevenness. The surface state is absolutely clean, which makes it optimal as a substrate for photoconductive members.

因みに上述のようにして得た、球状痕跡窪み形状表面の
支持体上に、グロー放電法によりa−Si(H,X)〔但
し、Xはハロゲン原子を表わす。〕で構成される膜を形
成し、本発明の方法におけるような表面被覆液を使用し
ない方法により得た球状痕跡窪み形状表面の支持体上に
前記と同様にして同様の膜を形成して、両者を画像露光
装置を用い波長780nm、スポツト径80μmのレーザーを
照射して画像露光を行い現像、転写を行つて画像を得、
得られた画像の干渉縞の発生状況を観察したところ、前
者のものが顕著に優れていることがわかつた。
By the way, a-Si (H, X) [where X represents a halogen atom is obtained by the glow discharge method on the support having the surface of the spherical trace dent shape obtained as described above. ], A film similar to the above is formed on a support having a spherical trace dent shape surface obtained by a method not using a surface coating solution as in the method of the present invention, Both of them are irradiated with a laser having a wavelength of 780 nm and a spot diameter of 80 μm using an image exposure device to perform image exposure, develop and transfer to obtain an image.
The appearance of interference fringes in the obtained image was observed, and it was found that the former one was remarkably excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1(A)乃至1(C)図は、本発明の装置により形成され
る、基体表面の凹凸形状を説明するための模式図であ
る。第2図は、本発明の装置全体の略断面図である。 第2図において 1……円筒状基体、2……回転軸、3……噴出管、4…
…導管、5……滞溜タンク、6……給送管、7……表面
被覆液受け容器、8……剛体給容器、9……ブレード様
羽根、91……羽根車、10……案内板、11……表面被覆
液、12……剛体球、
FIGS. 1 (A) to 1 (C) are schematic views for explaining the uneven shape of the substrate surface formed by the apparatus of the present invention. FIG. 2 is a schematic sectional view of the entire apparatus of the present invention. In FIG. 2, 1 ... Cylindrical substrate, 2 ... Rotating shaft, 3 ... Jet pipe, 4 ...
… Conduit, 5 …… Stagnant tank, 6 …… Supply pipe, 7 …… Surface coating liquid receiving container, 8 …… Rigid body supply container, 9 …… Blade-like blade, 91 …… Impeller, 10 …… Guide Plate, 11 …… Surface coating liquid, 12 …… Hard sphere,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 啓一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特公 昭63−20912(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Keiichi Murai 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (56) References Japanese Patent Publication No. Sho 63-20912 (JP, B2)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基体を保持する回転軸と、回転軸上の前記
基体の表面に液膜を形成せしめるための表面被覆液供給
手段と、液膜で覆われた基体表面に下方から剛体球を打
ちあてる剛体球上方飛ばし手段とを備えてなることを特
徴とする光導電部材用基体の製造装置。
1. A rotary shaft for holding a substrate, a surface coating liquid supply means for forming a liquid film on the surface of the substrate on the rotary shaft, and a rigid sphere from below on the substrate surface covered with the liquid film. An apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member, comprising: a hard-sphere upper fly-out means for hitting.
【請求項2】剛体球上方飛ばし手段が羽根車である、特
許請求の範囲第(1)項に記載の装置。
2. An apparatus according to claim 1, wherein the hard sphere upward flying means is an impeller.
【請求項3】剛体球の系外飛行を防止する板体を備えて
いる、特許請求の範囲(1)又は(2)項に記載の装置。
3. The apparatus according to claim 1, further comprising a plate body for preventing the rigid body sphere from flying out of the system.
【請求項4】剛体球上方飛ばし手段が多穿孔部材で一体
形成されてなる剛体球容器系内に設けられている、特許
請求の範囲(1)乃至(3)項のいずれかに記載の装置。
4. An apparatus according to any one of claims (1) to (3), wherein the hard sphere upward flying means is provided in a hard sphere container system integrally formed by multi-perforated members. .
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