JP2706993B2 - Equipment for manufacturing substrates for photoconductive members - Google Patents

Equipment for manufacturing substrates for photoconductive members

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JP2706993B2 JP30326989A JP30326989A JP2706993B2 JP 2706993 B2 JP2706993 B2 JP 2706993B2 JP 30326989 A JP30326989 A JP 30326989A JP 30326989 A JP30326989 A JP 30326989A JP 2706993 B2 JP2706993 B2 JP 2706993B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、金属体を電気乃至電子デバイスの構成部
材、特に電子写真感光体等の光導電部材の基体として好
適に利用できるようにする該金属体の表面処理装置に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field to which the Invention Belongs] The present invention relates to a method for making a metal body suitable for use as a constituent member of an electric or electronic device, particularly a base for a photoconductive member such as an electrophotographic photosensitive member. The present invention relates to a surface treatment device for a metal body.

〔従来技術の説明〕[Description of Prior Art]

電子写真感光体等の光導電部材の基体として、板状、
円筒状、無端ベルト状等の形状の金属体が用いられると
ころ、それら金属体は用途に適した表面形状を有してい
ることを要求され、ためにそれら金属体の表面には各種
切削加工乃至研摩加工が施される。
As a substrate of a photoconductive member such as an electrophotographic photoreceptor,
Where cylindrical or endless belt-shaped metal bodies are used, these metal bodies are required to have a surface shape suitable for the application, and therefore the surface of those metal bodies is subjected to various cutting processes or Polishing is performed.

そして前記金属体として、アルミ合金が至適なものと
して一般に使用され、その表面に前述の加工を施して所
望表面のものにし、該表面上に用途に応じた光受容層が
形成される。
As the metal body, an aluminum alloy is generally used as an optimal one, and its surface is subjected to the above-described processing to obtain a desired surface, and a light receiving layer according to the intended use is formed on the surface.

ところが従来の切削加工方式乃至研摩加工方式による
と、合金組織中にSi−Al−Fe系、Fe−Al系、TiB2等の金
属間化合物、Al,Mg,Ti,Si,Feの酸化物等が介在してしま
ったり、H2による空孔が存在してしまうことの他、結晶
方位の異なる近隣Al組織間で生起する粒界段差といった
表面欠陥が生起することがある。
However according to the conventional cutting method to grinding processing method, Si-Al-Fe-based in the alloy structure, Fe-Al-based intermetallic compounds such as TiB 2, Al, Mg, Ti , Si, oxides such as Fe there or worse interposed, other possible holes by H 2 will be present, sometimes surface defects such grain boundary level difference occurring between crystal orientations different neighboring Al tissues occurring.

また、アルミ合金を基体に適用する場合極めて高清浄
度表面のものが使用されるところ、そうした表面状態の
アルミ合金は、10-9mmHgといった超高真空の下でも、そ
の表面は活性であるために、〜30Å程度厚の酸化膜が形
成されてしまう。
In addition, when an aluminum alloy is applied to a substrate, a surface with an extremely high cleanliness is used, but the surface of such an aluminum alloy is active even under an ultra-high vacuum of 10 -9 mmHg because its surface is active. Then, an oxide film having a thickness of about 30 ° is formed.

こうした問題のあるところで従来の切削加工方式又は
研摩加工方式により表面加工して得られる基体は、結局
はそれを使用して製造される光導電部材の機能に各種の
問題や欠陥を惹起するところとなる。
Where there is such a problem, a substrate obtained by surface processing by a conventional cutting method or polishing method eventually causes various problems and defects in the function of a photoconductive member manufactured using the same. Become.

即ち、例えばそれが電子写真感光体である場合、基体
上に形成される光受容層が均一性、均質性に乏しいもの
になってしまったり、電気的、光学的、又は/及び光導
電的特性が不均一なものになってしまったりして、画像
に欠陥をもたらすところとなり、結局は実用に価しない
ものになってしまうことが往々にしてある。そしてこの
点は、シリコン又はシリコンを主体とする非単結晶材料
で光受容層を形成する場合には顕著である。
That is, for example, when it is an electrophotographic photoreceptor, the photoreceptive layer formed on the substrate becomes poor in uniformity or homogeneity, or has electrical, optical, and / or photoconductive properties. Often becomes non-uniform, causing defects in the image, and eventually becomes unsuitable for practical use. This point is remarkable when the light receiving layer is formed of silicon or a non-single-crystal material mainly containing silicon.

このような従来の加工方式に起因する問題点を排除
し、金属体を表面加工し、電気乃至電子デバイスの構成
部材、特に電子写真感光体等用に用いる基体の製造装置
として特公昭63−20912号に記載された装置がある。
The problem caused by such a conventional processing method is eliminated, and a metal body is surface-processed to produce a component for an electric or electronic device, in particular, a substrate used for an electrophotographic photosensitive member or the like. There is a device described in the issue.

この装置により製造した基体を用いた電子写真感光体
は一応満足のいくものであった。しかしながら、衝突に
より発生する基体材料の微粉末が基体上に埋め込まれる
ことに起因する画像欠陥の発生、あるいは基板の処理後
の洗浄に時間がかかる、さらに基板の処理時間が長くな
る等の問題を有している。
The electrophotographic photosensitive member using the substrate manufactured by this apparatus was satisfactory for the time being. However, there are problems such as the occurrence of image defects due to the fine powder of the base material generated by the collision being embedded in the base, the time required for cleaning after processing the substrate, and the longer processing time of the substrate. Have.

〔発明の目的〕[Object of the invention]

本発明の主たる目的は、上述の従来の加工方式に起因
する各種の物理的問題点及び基体表面に酸化膜が形成さ
れてしまう問題点及び衝突により発生する基体材料の微
粉末が基体上に埋め込まれるという問題点を排除して金
属体を表面加工し、電気乃至電子デバイスの構成部材、
特に電子写真感光体等用に至適な基体を製造する装置を
提供することにある。
The main objects of the present invention are various physical problems caused by the above-mentioned conventional processing method, a problem that an oxide film is formed on the substrate surface, and fine powder of the substrate material generated by collision is embedded in the substrate. The surface of the metal body is eliminated by eliminating the problem of being a component of an electric or electronic device,
In particular, it is an object of the present invention to provide an apparatus for manufacturing an optimal substrate for an electrophotographic photosensitive member or the like.

本発明の他の目的は、前述の方法により得られた基体
を使用し、その加工表面に所望の光受容層を形成せしめ
て、電気的、光学的、光導電的特性が実質的に常時安定
しており、耐光疲労に優れ、繰返し使用に際しても劣化
現象を起こさず耐久性、耐湿性に優れ、残留電位が全く
又は殆んど観測されない、必要に応じて水素原子(H)
又は/及びハロゲン原子(X)を含有するアモルファス
シリコンa−Si(H,X)で構成された光受容層を有する
光受容部材を製造するに適した基体の製造装置を提供す
ることにある。
Another object of the present invention is to use a substrate obtained by the above-described method and form a desired light-receiving layer on the processed surface, so that the electrical, optical and photoconductive properties are substantially always stable. It has excellent light fatigue resistance, has no deterioration phenomenon even when used repeatedly, has excellent durability and moisture resistance, and has no or almost no residual potential observed. If necessary, hydrogen atoms (H)
It is another object of the present invention to provide an apparatus for manufacturing a substrate suitable for manufacturing a light receiving member having a light receiving layer made of amorphous silicon a-Si (H, X) containing a halogen atom (X).

〔発明の構成・効果〕[Structure and effect of the invention]

本発明者らは、電気乃至電子デバイス、特に電子写真
感光体等用の基体について至適な表面形状を有し、且つ
上述の従来の表面加工方式によりもたらされるような問
題のないものとすべく鋭意研究を重ねた結果、剛体真球
を使用してそれらを所定の金属体の表面に側面から所定
速度で衝突せしめると、例えば金属体がアルミ合金であ
る場合、該合金組織中に何らの金属間化合物、金属酸化
物等の介在、そして空孔の存在がなく、且つまた粒界段
差といった表面欠陥の生起もなくして該金属体の表面を
好ましい表面形状にすることができ、その表面加工を長
鎖状炭化水素を含有する液体の存在下で行うと、常圧条
件下であっても酸化膜の生成は起こらず、また、衝突に
より発生する基体材料の微粉末が速やかに液体の洗浄効
果により基体表面の近くから取り除かれ、基体上に埋め
込まれることがなく、かくして得られる基体の加工表面
にグロー放電法により主としてa−Si(H,X)で構成さ
れる光受容層を形成せしめると、形成される光受容層は
均一にして均質なものとなり、そしてその光受容部材
は、使用にあってその光受容層を通過した光が層界面、
基体表面で反射し、それらが干渉するところとなって、
形成される画像についてそれが縞模様になることを効率
的に防止し、出力される画像を極めて優れた質のものに
するものである知見を得、該知見に基づいて本発明を完
成せしめた。
The inventors of the present invention have made an object to provide a substrate for an electric or electronic device, particularly an electrophotographic photoreceptor, having an optimum surface shape and free from the problems caused by the above-mentioned conventional surface processing method. As a result of intensive studies, as a result of using rigid rigid spheres and colliding them with a predetermined speed from the side to the surface of a predetermined metal body, for example, when the metal body is an aluminum alloy, any metal The surface of the metal body can be formed into a preferable surface shape without any intervening compounds, metal oxides, etc., and no vacancies, and no occurrence of surface defects such as grain boundary steps. When performed in the presence of a liquid containing a long-chain hydrocarbon, the formation of an oxide film does not occur even under normal pressure conditions, and the fine powder of the base material generated by the collision quickly cleans the liquid. Of the substrate surface The photoreceptive layer mainly composed of a-Si (H, X) is formed by the glow discharge method on the processed surface of the substrate obtained without being removed from the substrate and being embedded on the substrate. The light-receiving layer is uniform and homogeneous, and the light-receiving member is such that light that has passed through the light-receiving layer during use is a layer interface,
Reflected on the surface of the substrate, where they interfere,
It has been found that the image to be formed is efficiently prevented from being striped and that the output image is of extremely excellent quality, and the present invention has been completed based on the knowledge. .

即ち、本発明は、多穿孔板で一体形成されてなり、複
数の剛体球を内部に収容して有する円筒形回転容器と、
該容器内で該容器と同軸的に回転する基体保持手段と、
前記回転容器下部に、導電部材用円筒基体の表面を保護
する被覆液の滞溜手段と、同滞溜手段中の表面被覆液を
循環し、回転容器の軸に対しほぼ水平な位置において、
前記循環している被覆液を噴出する噴出供給手段を備え
ていることを特徴とする光導電部材用基体の製造装置に
関するものである。
That is, the present invention is a cylindrical rotating container integrally formed with a multi-perforated plate and having a plurality of rigid spheres housed therein,
Substrate holding means rotating coaxially with the container in the container;
In the lower part of the rotating container, a coating liquid retaining means for protecting the surface of the conductive member cylindrical substrate, and circulating the surface coating liquid in the retaining means, at a position substantially horizontal to the axis of the rotating container,
The present invention relates to an apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member, comprising a jet supply means for jetting the circulating coating liquid.

又、加圧噴出供給される表面被覆液のエネルギーによ
って与えられる剛体球の運動エネルギーがそれら剛体球
の自然落下した場合に得られる0.05m乃至2.0m、望まし
くは0.1m乃至0.5mの位置のエネルギーに相応しており、
上記エネルギーを与える圧力で被覆液が噴出されること
を特徴とする前記した光導電部材用基体の製造装置に関
するものである。
In addition, the kinetic energy of the hard spheres given by the energy of the surface coating liquid supplied by pressurized ejection is 0.05 m to 2.0 m obtained when the hard spheres fall naturally, preferably 0.1 m to 0.5 m. Corresponding to the
The present invention relates to the above-described apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member, wherein the coating liquid is ejected at a pressure that gives the energy.

本発明の装置により表面処理するについて使用される
基体は、導電性のものであっても、或いは電気絶縁性の
ものであってもよい。
Substrates used for surface treatment with the apparatus of the present invention may be conductive or electrically insulating.

導電性基体としては、例えば、NiCr,ステンレス,Al,C
r,Mo,Au,Nb,Ta,V,Ti,Pt,Pb等の金属又はこれ等の合金が
挙げられる。
As the conductive substrate, for example, NiCr, stainless steel, Al, C
Metals such as r, Mo, Au, Nb, Ta, V, Ti, Pt, and Pb, and alloys thereof.

電気絶縁性基体としては、ポリエステル、ポリエチレ
ン、ポリカーボネート、セルロース、アセテート、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ボリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、ポリアミド等の合成樹脂のフィルム又はシ
ート、ガラス、セラミックス、紙等が挙げられる。これ
等の電気絶縁性基体は、好適には少なくともその一方の
表面を導電処理し、該導電処理された表面側に光受容層
を設けるのが望ましい。
Examples of the electrically insulating substrate include films or sheets of synthetic resin such as polyester, polyethylene, polycarbonate, cellulose, acetate, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, and polyamide, glass, ceramics, and paper. It is preferable that at least one surface of these electrically insulating substrates is subjected to a conductive treatment, and a light-receiving layer is provided on the conductive-treated surface.

例えばガラスであれば、その表面に、NiCr,Al,Cr,Mo,
Au,Ir,Nb,Ta,V,Ti,Pt,Pd,In2O3,SnO2,ITO(In2O3+Sn
O2)等から成る薄膜を設けることによって導電性を付与
し、或いはポリエステルフィルム等の金属樹脂フィルム
であれば、NiCr,Al,Ag,Pb,Zn,Ni,Au,Cr,Mo,Ir,Nb,Ta,V,
Tl,Pt等の金属の薄膜を真空蒸着、電子ビーム蒸着、ス
パッタリング等でその表面に設け、又は前記金属でその
表面をラミネート処理して、その表面に導電性を付与す
る。基体の形状は、円筒状、板状等任意の形状であるこ
とができるが、用途、所望によって、その形状は適宜に
決めることのできるものである。例えば、光受容部材を
電子写真用像形成部材として使用するのであれば、連続
高速複写の場合には、円筒状とするのが望ましい。基体
の厚さは、所望通りの光受容部材を形成しうるように適
宜決定するが、光受容部材として可撓性が要求される場
合には、基体としての機能が充分発揮される範囲内で可
能な限り薄くすることができる。しかしながら、基体の
製造上及び取扱い上、機械的強度等の点から、通常は10
μ以上とされる。
For example, in the case of glass, NiCr, Al, Cr, Mo,
Au, Ir, Nb, Ta, V, Ti, Pt, Pd, In 2 O 3 , SnO 2 , ITO (In 2 O 3 + Sn
O 2 ) or the like to provide conductivity by providing a thin film or a metal resin film such as a polyester film such as NiCr, Al, Ag, Pb, Zn, Ni, Au, Cr, Mo, Ir, Nb. , Ta, V,
A thin film of a metal such as Tl or Pt is provided on the surface by vacuum evaporation, electron beam evaporation, sputtering, or the like, or the surface is laminated with the metal to impart conductivity to the surface. The shape of the substrate can be any shape such as a cylindrical shape and a plate shape, but the shape can be appropriately determined depending on the application and the desired. For example, if the light receiving member is to be used as an electrophotographic image forming member, it is desirable to have a cylindrical shape for continuous high-speed copying. The thickness of the base is appropriately determined so that a desired light receiving member can be formed. However, when flexibility is required for the light receiving member, the thickness is within a range in which the function as the base is sufficiently exhibited. It can be as thin as possible. However, from the viewpoints of production and handling of the substrate, mechanical strength, etc., usually 10
μ or more.

また本発明の装置において、前述の基体表面を処理、
即ち該表面に所望の凹凸形状を形成せしめるについて用
いる剛体真球又は凹凸表面形状の剛体球(通常、φ=0.
4〜2.0mm)としては、例えばステンレス、アルミニウ
ム、鋼鉄、ニッケル、真鍮等の金属、セラミックス又は
プラスチック製の各種剛体球を挙げることができる。こ
れらの中、ステンレス製及び鋼鉄製の剛体球が、耐久
性、コスト等を含めた綜合的見地からして好ましい。そ
してそうした球体の硬度は、基体の硬度より高くても、
或いは低くてもよいが、該球体を繰り返し使用する場合
には、基体の硬度よりも高いものであることが望まし
い。
In the apparatus of the present invention, the surface of the base is treated,
That is, a hard true sphere used for forming a desired uneven shape on the surface or a hard sphere having an uneven surface shape (usually, φ = 0.
For example, various hard spheres made of metal such as stainless steel, aluminum, steel, nickel, and brass, ceramics, or plastics may be used as the material (4 to 2.0 mm). Among these, hard balls made of stainless steel or steel are preferable from the comprehensive viewpoint including durability, cost and the like. And even if the hardness of such a sphere is higher than the hardness of the base,
Alternatively, the hardness may be lower, but when the sphere is used repeatedly, the hardness is preferably higher than the hardness of the base.

また本発明の装置において、前述の基体表面に、前述
の剛体球を使用して所望の凹凸形状を形成せしめる際に
使用する、表面被覆液については、いずれにしても基体
表面を万遍なく一様に、そして出来る限り薄く被覆し、
そこに形成される被覆膜は可及的速やかに固化し、固化
膜は洗浄操作によりムラを残さず洗去されると同時に基
体表面が何らの乾燥ムラ(ダレ)も残すことなく絶対ク
リーンの状態に乾燥されることが要求される。こうした
ことから、前記表面被覆液は、(イ)低粘度液体である
こと、(ロ)除電作用を有すること、(ハ)コーティン
グ作用を有すること、(ニ)形成される被覆膜(コー
ト)が容易に洗去され得るものであること、(ホ)被覆
膜(コート)洗去後加工表面がそこに何らの乾燥ムラも
残さずして絶体クリーンの状態に乾燥されること、の
(イ)乃至(ホ)の条件を満足するものであることが必
要とされる。
Further, in the apparatus of the present invention, the surface coating liquid used for forming the desired irregular shape on the surface of the substrate by using the above-mentioned hard spheres is, in any case, uniformly applied to the surface of the substrate. Like, and as thin as possible,
The coating film formed thereon solidifies as quickly as possible, and the solidified film is washed away by the washing operation without leaving any unevenness, and at the same time the substrate surface is absolutely clean without leaving any drying unevenness (sagging). It is required to be dried to a state. From the above, the surface coating liquid is (a) a low-viscosity liquid, (b) having a charge eliminating action, (c) having a coating action, (d) a coating film to be formed (coat). (E) that the processed surface is dried to an absolutely clean state without leaving any drying unevenness after the coating film (coat) is washed away. It is necessary to satisfy the conditions (a) to (e).

したがって表面被覆液としては、長鎖状炭化水素を適
当な有機溶媒に溶解して得たものが一般に使用される。
Therefore, a solution obtained by dissolving a long-chain hydrocarbon in an appropriate organic solvent is generally used as the surface coating liquid.

そして前記長鎖状炭化水素については、代表的なもの
としてポリブテンが挙げられる。ポリブテンの中で好ま
しいものは下記の一般式で表されるものである。即ち、 但し、式中のnは、3乃至40の整数を表す。前記一般
式で表されるポリブテンの中、nが3乃至20であるもの
が特に好ましいものである。
As the long-chain hydrocarbon, a typical example is polybutene. Preferred polybutenes are those represented by the following general formula. That is, Here, n in the formula represents an integer of 3 to 40. Among the polybutenes represented by the above general formula, those in which n is 3 to 20 are particularly preferred.

なお、前記ポリブテンの中には、それ自身前記(イ)
乃至(ホ)の条件を満足するものがあり、その場合にあ
っては、表面被覆液は実質的に該ポリブテンからなるも
のであることができる。
In addition, the polybutene itself includes the above (a).
There are some which satisfy the conditions of (e) to (e), and in that case, the surface coating liquid can be substantially composed of the polybutene.

前記有機溶媒は、前記長鎖状炭化水素(ポリブテン)
を溶解して、前記(イ)乃至(ホ)の条件を満たす表面
被覆液を与える類のものならば何れのものであってもよ
く、それらの例として、エーテル、ヘプタン、トルエ
ン、トリクロロエチレン、トリクロロエタン等を挙げる
ことができる。しかしこれら有機溶媒の中、トリクロロ
エタンは以下の理由から最も好ましいものである。
The organic solvent is the long-chain hydrocarbon (polybutene)
May be dissolved to give a surface coating solution satisfying the above conditions (a) to (e). Examples thereof include ether, heptane, toluene, trichloroethylene, and trichloroethane. And the like. However, among these organic solvents, trichloroethane is the most preferable for the following reasons.

即ち、トリクロロエタンは、前記ポリブテンを極めて
効率的に溶解し、得られる液体は程よい粘度のものであ
って、極めて展性に富み、基体表面をムラなく一様にし
かも極めて薄い膜を形成して覆い、その薄膜は衝突する
剛体球による基体表面への球状痕跡窪み形成に支障を与
えず、そして前記球状痕跡窪み形成後に前記薄膜の速や
かな固化をもたらし、更にそれを固化膜の洗浄操作に使
用すると、該固化膜は速やかに基体の加工表面から溶離
して洗去され、露呈される基体の加工表面は何らの洗浄
ムラを残すことなく絶体クリーンの状態に乾燥される。
That is, trichloroethane dissolves the polybutene extremely efficiently, and the resulting liquid has a moderate viscosity, is extremely malleable, and forms a uniform and extremely thin film covering the surface of the substrate. The thin film does not interfere with the formation of the spherical trace depression on the substrate surface by the impinging hard spheres, and causes the solidification of the thin film immediately after the formation of the spherical trace depression, which is further used for the cleaning operation of the solidified film. The solidified film is quickly eluted from the processed surface of the substrate and washed away, and the exposed processed surface of the substrate is dried to an absolutely clean state without leaving any cleaning unevenness.

そして、トリクロロエタンに前記ポリブテンを溶解し
てなる表面被覆液は、両物質の液構成割合が重要であ
り、トリクロロエタンに対し前記ポリブテンを1:4〜4:1
の範囲にするのが通常であるが、1:1であるのが最も好
ましい。
The surface coating solution obtained by dissolving the polybutene in trichloroethane is important in the liquid composition ratio of both substances, and the polybutene is used in a ratio of 1: 4 to 4: 1 with respect to trichloroethane.
It is usually within the range, but the ratio is most preferably 1: 1.

ところで本発明の装置により表面加工された基体は、
剛体真球を使用した場合について説明するに、第4図に
示すような表面形状のものである。即ち、第4図(A)
に示す例は、基体21の表面22の異なる部位に向けて、ほ
ぼ同一径の複数の球体23,23…を、表面被覆液の噴出に
よりほぼ同一の運動エネルギーで飛跳せしめ、前記基体
の表面にほぼ同一の曲率(R)及びほぼ同一の幅の複数
の球状痕跡窪み24,24…を互いに重複し合うように万遍
なく生ぜせしめて規則的に凹凸形状を形成せしめてなる
支持体についてのものである。なおこの場合にあって
は、互いに重複する窪み24,24…を形成せしめるについ
ては、球体23,23…の基体表面22への衝突時期が互いに
ずれるようにそれらを飛跳し衝突せしめる必要のあるこ
とはいうまでもない。
By the way, the substrate processed by the device of the present invention is
To explain the case where a rigid true sphere is used, the surface shape is as shown in FIG. That is, FIG.
In the example shown in FIG. 2, a plurality of spheres 23, 23,... Having substantially the same diameter are made to fly with substantially the same kinetic energy by jetting a surface coating liquid toward different portions of the surface 22 of the substrate 21. A plurality of spherical trace depressions 24, 24, 24,... Having substantially the same curvature (R) and substantially the same width are uniformly formed so as to overlap each other to form a regular irregular shape. Things. In this case, in order to form the dents 24, 24, which overlap each other, it is necessary to jump and collide the spheres 23, 23,. Needless to say.

第4図(B)に示す例は、基体21の表面22に向けて異
なる径を有する二種類の複数の球体23,23…及び23′,2
3′…を表面被覆液の噴出によりほぼ同一の運動エネル
ギーで或いは異なる運動エネルギーで飛跳せしめ、前記
基体の表面に曲率と幅のそれぞれが異なる二種類の球状
痕跡窪み24,24…及び24′,24′…を互いに重複し合うよ
うに万遍なく生ぜしめて不規則に凹凸形状を形成せしめ
てなる基体についてのものである。
The example shown in FIG. 4 (B) shows two types of plural spheres 23, 23... And 23 ′, 2 having different diameters toward the surface 22 of the base 21.
3 ′ ... are sputtered with substantially the same kinetic energy or different kinetic energies by the ejection of the surface coating liquid, and two types of spherical trace depressions 24, 24 ... and 24 ′ having different curvatures and widths are formed on the surface of the substrate. , 24 'are uniformly generated so as to overlap each other to form irregularly shaped irregularities.

更に、第4図(C)〔基体表面の正面図(上)及び断
面図(下)〕に示す例は、基体21の表面22に向けて、ほ
ぼ同一径の複数の球体24,24…を表面被覆液の噴出によ
って、ほぼ同一の運動エネルギーで球体単独を或いは複
数個重なりあった状態で飛跳せしめて、前記基体の表面
にほぼ同一径及びほぼ同一幅の複数の窪み24,24…を互
いに重複し合うように万遍なく生ぜしめて不規則に凹凸
形状を形成せしめてなる支持体についてのものである。
Further, in the example shown in FIG. 4C (front view (upper) and cross-sectional view (lower) of the surface of the base), a plurality of spheres 24, 24, having substantially the same diameter, are directed toward the surface 22 of the base 21. By spraying the surface coating liquid, the spheres are jumped with almost the same kinetic energy alone or in a state where a plurality of spheres are overlapped, and a plurality of depressions 24, 24 having substantially the same diameter and substantially the same width are formed on the surface of the base. The present invention relates to a support which is uniformly formed so as to overlap each other to form irregular shapes irregularly.

そして前記第4(A)乃至(C)図に図示の球状痕跡
窪み形状表面を有する基体は、本発明の装置により製造
されるものであるが、第4図(A)乃至(C)において
は簡略のため、表面被覆液についての説明を省略した。
The base having the surface of the spherical trace concave shape shown in FIGS. 4 (A) to 4 (C) is manufactured by the apparatus of the present invention, but in FIGS. 4 (A) to 4 (C). For simplicity, the description of the surface coating liquid is omitted.

第6図に光導電部材の一例である像形成部材の模式的
断面図を示す。図において、61は基体、62は電荷注入阻
止層、63は光導電層、64は表面保護層である。
FIG. 6 is a schematic sectional view of an image forming member which is an example of the photoconductive member. In the figure, 61 is a substrate, 62 is a charge injection blocking layer, 63 is a photoconductive layer, and 64 is a surface protective layer.

電荷注入阻止層は、例えば水素原子及び/又はハロゲ
ン原子を含有するa−Siで構成されると共に、伝導性を
支配する物質として、通常半導体の不純物として用いら
れる周期律表第III族乃至は第V族に属する元素の原子
が含有される。電荷注入阻止層の層厚は、好ましくは0.
01〜10μm、より好適には0.05〜8μm、最適には0.07
〜5μmとされるのが望ましい。
The charge injection blocking layer is made of, for example, a-Si containing a hydrogen atom and / or a halogen atom, and is used as a substance that controls conductivity, and is commonly used as an impurity of a semiconductor. Contains atoms of elements belonging to Group V. The thickness of the charge injection blocking layer is preferably 0.
01-10 μm, more preferably 0.05-8 μm, optimally 0.07
It is preferable that the thickness be 5 μm.

電荷注入阻止層の代わりに、例えばAl2O3,SiO2,Si
3N4,ポリカーボネート等の電気絶縁材料から成る障害層
を設けてもよいし、或いは電荷注入阻止層と障害層とを
併用することもできる。
Instead of the charge injection blocking layer, for example, Al 2 O 3 , SiO 2 , Si
A barrier layer made of an electrically insulating material such as 3 N 4 or polycarbonate may be provided, or the charge injection blocking layer and the barrier layer may be used in combination.

光導電層は、例えば、水素原子とハロゲン原子を含有
するa−Siで構成され、所望により電荷注入阻止層に用
いるのとは別種の伝導性を支配する質が含有される。光
導電層の層厚は、好ましくは1〜100μm、より好適に
は1〜80μm、最適には2〜50μmとされるのが望まし
い。
The photoconductive layer is made of, for example, a-Si containing a hydrogen atom and a halogen atom, and optionally contains a material that controls conductivity different from that used for the charge injection blocking layer. The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 μm, more preferably 1 to 80 μm, and most preferably 2 to 50 μm.

表面保護層は、例えばSiCx,SiNx等で構成され、層厚
は、好ましくは0.01〜10μm、より好適には0.02〜5μ
m、最適には0.04〜5μmとされるのが望ましい。
The surface protective layer is made of, for example, SiCx, SiNx or the like, and the layer thickness is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.02 to 5 μm.
m, and most preferably 0.04 to 5 μm.

第5図にグロー放電分解法による光導電部材の製造装
置を示す。堆積槽41は、ベースプレート42と槽壁43とト
ッププレート44とから構成され、この堆積槽41内には、
カソード電極45が設けられており、a−Si堆積膜が形成
される例えばアルミニウム合金製の本発明に係る支持体
46はカソード電極45の中央部に設置され、アノード電極
としての役割も兼ねている。
FIG. 5 shows an apparatus for producing a photoconductive member by the glow discharge decomposition method. The deposition tank 41 is composed of a base plate 42, a tank wall 43, and a top plate 44.
A support according to the invention, for example made of an aluminum alloy, on which a cathode electrode 45 is provided and on which an a-Si deposited film is formed
Reference numeral 46 is provided at the center of the cathode electrode 45, and also serves as an anode electrode.

この製造装置を使用してa−Si堆積膜を、支持体上に
形成するには、まず、原料ガス流入バルブ47及びリーク
バルブ48を閉じ、排気バルブ49を開け、堆積槽41内を排
気する。真空計40の読みが5×10-6Torrになった時点で
原料ガス流入バルブ47を開いて、マスフローコントロー
ラー51内で所定の混合比に調整された、例えばSiH4
ス,Si2H6ガス,SiF4ガス等を用いた原料混合ガスを堆積
槽41内の圧力が所望の値になるように真空計40の読みを
見ながら排気バルブ49の開口度を調整する。そしてドラ
ム状支持体46の表面温度が加熱ヒーター52により所定の
温度に設定されていることを確認した後、高周波電源53
を所望の電力に設定して堆積槽41内にグロー放電を生起
させる。
In order to form an a-Si deposited film on a support using this manufacturing apparatus, first, the source gas inflow valve 47 and the leak valve 48 are closed, the exhaust valve 49 is opened, and the inside of the deposition tank 41 is exhausted. . When the reading of the vacuum gauge 40 becomes 5 × 10 −6 Torr, the source gas inflow valve 47 is opened, and the mixture ratio is adjusted to a predetermined mixture in the mass flow controller 51, for example, SiH 4 gas, Si 2 H 6 gas. The opening degree of the exhaust valve 49 is adjusted with reference to the reading of the vacuum gauge 40 so that the pressure in the deposition tank 41 becomes a desired value with the raw material mixed gas using SiF 4 gas or the like. After confirming that the surface temperature of the drum-shaped support 46 is set to a predetermined temperature by the heater 52, the high-frequency power supply 53
Is set to a desired electric power to generate glow discharge in the deposition tank 41.

又、層形成を行っている間は、層形成の均一化を図る
ためにドラム状支持体46をモーター54により一定速度で
回転させる。このようにしてドラム状支持体46上にa−
Si堆積膜を形成することができる。
During the layer formation, the drum-shaped support 46 is rotated at a constant speed by the motor 54 in order to achieve uniform layer formation. In this way, a-
A Si deposition film can be formed.

本発明の光導電部材用基体の製造装置について以下に
図示の実施例により説明するが、前記装置はこれらによ
り限定されるものではない。
An apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member according to the present invention will be described below with reference to examples shown in the drawings, but the apparatus is not limited thereto.

第1図は、本発明の光導電部材用基体の製造装置の典
型的一例を示す断面略図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a typical example of an apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member according to the present invention.

第1図において、1は装置周囲壁を示す。該周囲壁
は、円形形状部11を成して該形状に相応の空間Aを形成
し、該円形形状部の底中央部は下方半円形状に突起12し
て被覆液の滞溜手段としての半円空間Bを形成してい
る。装置周囲壁1は、例えばステンレス等の耐圧、耐熱
そして耐薬品性の金属板で内部を完全密封して一体的に
形成されている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a peripheral wall of the apparatus. The peripheral wall forms a circular shape portion 11 to form a space A corresponding to the shape, and a bottom center portion of the circular shape portion projects into a lower semicircle shape 12 to serve as a means for retaining the coating liquid. A semicircular space B is formed. The apparatus peripheral wall 1 is integrally formed with a pressure-resistant, heat-resistant and chemical-resistant metal plate made of, for example, stainless steel so as to completely seal the inside.

装置周囲壁1は、外観横長のハウジングを成してい
て、該ハウジングは、空間A乃至Bで形成される形状の
両側壁部(図示せず)で密封固定されている。2は、装
置支持台であり、該支持台に突起部12が周接嵌合されて
装置全体が支持固定されている。
The device surrounding wall 1 forms a housing having a horizontally long appearance, and the housing is hermetically fixed by both side walls (not shown) having a shape formed by spaces A and B. Reference numeral 2 denotes an apparatus support table, and the protrusion 12 is fitted around the support table to support and fix the entire apparatus.

3は、空間Aの中央部に適宜幅の空隙を残して設置さ
れている円筒形回転容器であり、例えばパンチングメタ
ル等の多穿孔板で一体的に形成されていて、ハウジング
側壁(図示せず)に両端が回転可能に支持されていて、
その一端が駆動手段(図示せず)に連結して全体が回転
するようにされている。4,4,…は、剛体真球又は凹凸表
面形状の剛体球であり、回転容器3内に収容されてい
て、該容器が回転されると、該容器の内壁表面の穿孔凹
凸部の作用と遠心力とにより図示のように容器内壁面に
乗って回転容器の水平点付近まで持ち上げられ、被覆液
により飛ばされる。5は、円筒形基体(例えば支持体作
製用のアルミシリンダー)であり、回転容器3内に、該
容器と同軸的にハウジング側壁で駆動手段(図示せず)
に連結している回転軸6に軸支して設置されている。
Numeral 3 is a cylindrical rotary container which is installed in the center of the space A with a space having an appropriate width, and is formed integrally with a multi-perforated plate such as a punching metal, and has a housing side wall (not shown). ) Is rotatably supported at both ends,
One end thereof is connected to a driving means (not shown) so as to rotate as a whole. Are rigid spheres or rigid spheres having an irregular surface shape, and are accommodated in the rotating container 3, and when the container is rotated, the effect of the perforated irregularities on the inner wall surface of the container is obtained. As shown in the drawing, the container is lifted to a position near the horizontal point of the rotating container by the centrifugal force as shown in FIG. Numeral 5 is a cylindrical substrate (for example, an aluminum cylinder for producing a support), and a driving means (not shown) is provided in the rotating container 3 by a housing side wall coaxially with the container.
And is installed so as to be pivotally supported on a rotating shaft 6 connected to the rotating shaft 6.

7は円筒形回転容器3の側部の空間Aの中央部に延び
ていて、周囲壁1の側部より適宜の固定手段により固定
されていて、液体噴出孔71,71…を有する表面被覆液噴
出管である。
The surface coating liquid 7 extends to the center of the space A on the side of the cylindrical rotary container 3 and is fixed from the side of the peripheral wall 1 by an appropriate fixing means, and has liquid ejection holes 71, 71,. It is a spout tube.

8は、ハウジング1の側壁から半円空間Bに連通する
表面被覆液9の送給管81の開口部である。送給管81は、
ポンプ手段を介して噴出管7に連通している。82は、表
面被覆液の滞溜タンクであり、該タンクの底部にはバル
ブ手段84′を備えた排出管84が設けられていて、滞溜に
より下部に沈降した金属微粉等の不要物を除いて表面被
覆液を常時洗澄な状態に保つようにする。そして排出し
た分の表面被覆液が供給タンク83から補給される。ま
た、表面被覆液は、一定数サイクル使用後は交換が必要
とされ、その場合バルブ手段82′を閉じ、バルブ手段8
4′を開にして排出管84から系内の表面被覆液を抜き去
り、新たな表面被覆液を供給タンク83から系内に供給す
るようにする。
Reference numeral 8 denotes an opening of a supply pipe 81 for the surface coating liquid 9 communicating from the side wall of the housing 1 to the semicircular space B. The feed pipe 81
It communicates with the ejection pipe 7 via a pump means. Reference numeral 82 denotes a reservoir tank for the surface coating liquid, and a discharge pipe 84 provided with a valve means 84 'is provided at the bottom of the tank to remove unnecessary substances such as metal fine powder settled at the lower portion due to the reservoir. So that the surface coating solution is always kept in a clear state. Then, the discharged surface coating liquid is supplied from the supply tank 83. The surface coating liquid needs to be replaced after a certain number of cycles, in which case the valve means 82 'is closed and the valve means 8 is closed.
4 'is opened, the surface coating liquid in the system is extracted from the discharge pipe 84, and new surface coating liquid is supplied from the supply tank 83 into the system.

第2図は、本発明の光導電部材用基体の製造装置の他
の例を示す断面略図であって、回転容器3の壁の外周上
に長手方向に平行に液止めバー32,32,…が固定設置さ
れ、該壁の内周面上に長手方向に平行に剛体球係止棒状
バー31,31,…が固定設置されている。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of the apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member according to the present invention, in which liquid stopping bars 32, 32,. Are fixedly installed on the inner peripheral surface of the wall in parallel with the longitudinal direction, and rigid ball locking rod-shaped bars 31, 31,... Are fixedly installed.

第2図の実施例装置の操作は、第1図の場合と同様で
あるが、液止めバー32,32,…の作用により表面被覆液9
の回転容器3内への流入が円滑に進行し、また、係止棒
状バー31,31,…の作用により剛体球4,4,…の持ち上げが
円滑に進行する。
The operation of the apparatus of the embodiment shown in FIG. 2 is the same as that of the apparatus shown in FIG.
Flow smoothly into the rotating container 3, and the lifting of the rigid spheres 4, 4,.

第3図の実施例装置は、第2図に示す実施例装置の変
形であって、第3図における係止棒状バー31,31,…を、
ブレード・バー31′,31′,…にしたものである。回転
容器3の内壁面上にこうしたブレード・バー31′,3
1′,…を設けることにより剛体球4,4,…の持ち上げが
一層円滑に行われるようになると同時に、被覆液の噴出
範囲での剛体球4,4,…の飛跳がより的確に行われるとこ
ろとなる。
The apparatus of the embodiment shown in FIG. 3 is a modification of the apparatus of the embodiment shown in FIG. 2, in which locking bar-shaped bars 31, 31,.
The blade bars 31 ', 31',... These blade bars 31 ', 3
The provision of 1 ′,... Allows the rigid spheres 4, 4,... To be lifted more smoothly, and at the same time allows the rigid spheres 4, 4,. It will be a place to be.

第1図に図示の本発明の光導電部材用基体の製造装置
の操作を説明するに、所要数の剛体球4,4,…の収容され
ている回転容器3内に円筒基体5を設置し、供給タンク
83から表面被覆液〔例えばポリブテン+トリクロロエタ
ン(1:1)液〕を供給して噴出管7の噴出孔71から回転
容器3の表面に表面被覆液9を噴射せしめる。噴射され
た表面被覆液は、回転容器3の多穿孔壁の孔を通って回
転容器内に流下し、その系内に設置されている円筒基体
の表面に到達し、該表面に液膜9′を形成する。その余
の表面被覆液は更に流下して回転容器下部に収容されて
いる剛体球4,4,…の表面をぬらし、更に流下した液体は
回転容器3の多穿孔壁の孔を通って空間B内に流入す
る。空間Bに溜まった表面被覆液は、ポンプ作用により
送給管81を介して滞溜タンク82に入って滞溜した後噴出
管7に循環される。表面被覆液は一定量系内に供給され
たところでバルブ手段83′を閉じて供給タンクからの供
給を停止する。かくしたところで、回転容器3と円筒基
体5の回転を開始する。
In order to explain the operation of the apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member of the present invention shown in FIG. 1, a cylindrical substrate 5 is set in a rotating container 3 in which a required number of rigid spheres 4, 4,. , Supply tank
A surface coating liquid [for example, polybutene + trichloroethane (1: 1) liquid] is supplied from 83 and the surface coating liquid 9 is jetted from the ejection hole 71 of the ejection pipe 7 to the surface of the rotary container 3. The sprayed surface coating liquid flows down through the holes in the multi-perforated wall of the rotary container 3 into the rotary container, reaches the surface of the cylindrical substrate installed in the system, and forms a liquid film 9 'on the surface. To form The remaining surface coating liquid further flows down and wets the surface of the rigid spheres 4, 4,... Accommodated in the lower part of the rotary container, and the liquid further flows through the hole of the multi-perforated wall of the rotary container 3 to form the space B. Flows into. The surface coating liquid accumulated in the space B enters the accumulation tank 82 via the feed pipe 81 by the pump action, stays there, and is circulated to the jet pipe 7. When a certain amount of the surface coating liquid is supplied into the system, the valve means 83 'is closed to stop the supply from the supply tank. At this point, the rotation of the rotating container 3 and the cylindrical base 5 is started.

回転容器3と円筒基体5は互いに順方向あるいは逆方
向に回転するが、互いに逆方向の方が好ましい。
The rotating container 3 and the cylindrical substrate 5 rotate in the forward direction or the reverse direction, but preferably in the opposite directions.

回転容器3の回転速度は、噴射位置において剛体球が
一層あるいは二層に並ぶ速度が好ましい。回転速度が小
さ過ぎると球に働く遠心力が小さく剛体球がきれいに並
ばず、また内壁面に沿って持ち上げられる高さが低くな
るため、均一に剛体球を飛ばすことができなくなる。こ
れに対して、回転速度が速いと剛体球は遠心力によりき
れいに並んで内壁面を高い位置まで持ち上げられる。し
かし、被覆液により剛体球を飛ばすためには、遠心力に
反するだけ噴射圧を上げなければならず、また実質的な
回転容器の穿孔率が小さくなって処理効率が落ちること
になる。
The rotation speed of the rotating container 3 is preferably such that the hard spheres are arranged in one or two layers at the injection position. If the rotation speed is too low, the centrifugal force acting on the sphere is so small that the rigid spheres are not lined up neatly, and the height at which they can be lifted along the inner wall surface becomes low. On the other hand, when the rotation speed is high, the hard spheres are aligned neatly by the centrifugal force and the inner wall surface can be lifted to a high position. However, in order to fly the hard spheres with the coating liquid, it is necessary to increase the injection pressure in opposition to the centrifugal force, and the perforation rate of the rotary container is substantially reduced, thereby reducing the processing efficiency.

一方円筒基体5は、剛体球4,4,…がその表面に万遍な
く飛跳、衝突してそこに剛体球による痕跡窪みが平面部
分を残すことなく形成される速度に調節される。
On the other hand, the cylindrical substrate 5 is adjusted to the speed at which the hard spheres 4, 4,.

以上のように操作することにより、円筒基体表面への
痕跡窪み形成は、円筒基体表面が表面被覆液の薄液膜で
完全に覆われた状態で行われる。
By operating as described above, the formation of the trace depression on the surface of the cylindrical substrate is performed in a state where the surface of the cylindrical substrate is completely covered with the thin liquid film of the surface coating liquid.

上述の操作は、常圧、常温の条件下で行うことができ
るが、剛体球の円筒基体表面への衝突を強くすることを
所望する場合には液の噴出圧を高めた条件又は真空条件
下で行うのが好ましい。
The above operation can be performed under the conditions of normal pressure and normal temperature, but if it is desired to increase the collision of the hard sphere against the surface of the cylindrical base, the condition where the ejection pressure of the liquid is increased or the vacuum condition is used. It is preferable to carry out.

一定時間後、回転容器3と円筒基体5の回転を停め、
表面被覆液の供給を停めると、表面を万遍なく覆って薄
固化膜を有し、万遍なく球状痕跡窪み形状の形成された
表面の円筒基体が得られる。この円筒基体は系外に搬出
して使用に供する迄そのまま保存しても、その表面は固
化膜により外気から完全に遮断されていることから、該
基体がアルミ合金系の材質のものであってもその表面に
酸化膜が形成される等の問題の生ずる機会は全くない。
After a certain time, the rotation of the rotating container 3 and the cylindrical base 5 is stopped,
When the supply of the surface coating liquid is stopped, a cylindrical substrate having a thin solidified film covering the entire surface and having a spherical trace concave shape is obtained. Even if this cylindrical substrate is taken out of the system and stored as it is until it is used, its surface is completely shielded from the outside air by a solidified film. However, there is no chance that a problem such as formation of an oxide film on the surface occurs.

上述の本発明の装置によれば、処理済み円筒基体を搬
出後、新たな円筒基体を系内に搬入し、該基体について
上述の操作を引き続いて繰り返し行えるので、所望の表
面加工の施された基体を連続して製造することができ
る。
According to the above-described apparatus of the present invention, after the treated cylindrical substrate is unloaded, a new cylindrical substrate is loaded into the system, and the above-described operation can be continuously repeated with respect to the substrate. The substrate can be manufactured continuously.

なお、本発明の装置は、被加工円筒形基体の大小に拘
らず、いずれのサイズのものも適用できるように設計さ
れる。一例を挙げれば、円筒形回転容器3については30
0mm(径)×450mm(長さ)のサイズにし、液体噴出孔71
と円筒形回転容器3の水平位置との間の距離を50mmから
100mmとする。
The apparatus according to the present invention is designed so that any size cylindrical body can be used regardless of its size. As an example, for a cylindrical rotating container 3, 30
The size is 0mm (diameter) x 450mm (length), and the liquid ejection holes 71
Distance between the horizontal position of the cylindrical rotating container 3 and 50 mm
100 mm.

表面被覆液噴出管7は、約15mmの径のものであって、
ノズル式の液体噴出孔71,71,…をそこからの噴出液のた
めす角度が大きすぎず、互いの噴出液が干渉し合わない
ように、約5mm乃至50mmの間隔で有するものにする。ま
た回転軸6は、被表面加工円筒形基体のサイズ(径及び
長さ)に応じて取り換え可能なものである。
The surface coating liquid jet pipe 7 has a diameter of about 15 mm,
The nozzle-type liquid ejection holes 71, 71,... Have an angle of about 5 mm to 50 mm so that the angle of the ejected liquid therefrom is not too large and the ejected liquids do not interfere with each other. The rotating shaft 6 can be replaced according to the size (diameter and length) of the surface-processed cylindrical substrate.

円筒形回転容器3は上述のようにパンチングメタル等
の多穿孔版で一体的に形成されたものであるが、剛体球
を容器から飛び出させないために、孔の大きさは使用す
る剛体球より少し小さい(剛球体が0.4〜2.0mmに対し、
孔0.3〜1.9mm程度)程度が好ましい。また容器3に対す
る穿孔率(容器の全面積に対する孔の面積の割合)は高
い程作業の効率は高くなるが、容器の強度(0.6mmSUS球
が1.5kg程度収容される。)が必要となるため、容器の
材質にもよるが最大で穿孔率71%乃至78%程度であり、
通常は約50%程度が作業の容易性から好ましい。
As described above, the cylindrical rotary container 3 is integrally formed with a multi-perforated plate such as a punched metal, but the size of the hole is smaller than that of the rigid sphere used in order to prevent the rigid sphere from jumping out of the container. Small (for a hard sphere of 0.4-2.0mm,
The hole is preferably about 0.3 to 1.9 mm). The higher the piercing rate (the ratio of the area of the hole to the total area of the container) with respect to the container 3 is, the higher the work efficiency is, but the strength of the container (about 1.5 kg of 0.6 mm SUS ball is required) is required. Depending on the material of the container, the maximum perforation rate is about 71% to 78%,
Usually, about 50% is preferable from the viewpoint of workability.

第2図に図示の液止めバー32,32,…及び剛体球係止棒
バー31,31,…は、それぞれ3mm乃至5mmそして3mm乃至6mm
の高さで、100mm乃至150mmの等間隔で設けられる。
The liquid stopping bars 32, 32,... And the hard ball locking bar bars 31, 31,.
Are provided at regular intervals of 100 mm to 150 mm.

なお、上述の説明においては、円筒基体が一つである
場合について説明したが、本発明の装置においては、複
数個の円筒基体を一操作で表面加工できるような規模の
ものにすることは勿論可能である。
In the above description, the case where the number of cylindrical substrates is one has been described. However, in the apparatus of the present invention, it is needless to say that the surface of a plurality of cylindrical substrates can be processed by one operation. It is possible.

また、上述の操作で表面加工して得られた基体は、そ
の使用に際してはいずれにしろ溶媒洗浄処理にかけて固
化膜を溶離し、表面を絶体クリーンの状態に乾燥した
後、成膜(光受容層形成)装置(図示せず)に搬入され
るところ、本発明の装置によれば前記溶媒洗浄処理を行
うこともできる。
In any case, the substrate obtained by processing the surface by the above-described operation is subjected to a solvent washing treatment to elute the solidified film, dry the surface in an absolutely clean state, and then form a film (photoreceptor). When the film is carried into a layer forming (not shown) apparatus, the solvent washing treatment can be performed according to the apparatus of the present invention.

その場合、表面加工終了後、表面被覆液を系から除い
て系内をクリーン状態にした後、洗浄液(例えばトリク
ロロエタン)タンク(図示せず)から洗浄液を供給管81
を介して噴出管7に送り、噴出孔71から側方噴射する。
その際回転容器3は停止しておき、円筒基体5を回転さ
せる。空間Bに滞溜した洗浄液は循環させるか若しくは
バルブ82′を閉じ、バルブ84′を開にして排出管84を介
して系外に排出するようにする。
In this case, after finishing the surface processing, the surface coating liquid is removed from the system to make the inside of the system clean, and then the cleaning liquid is supplied from a cleaning liquid (for example, trichloroethane) tank (not shown) to the supply pipe 81.
To the jet pipe 7 through the jet port 71, and jets laterally from the jet hole 71.
At that time, the rotating container 3 is stopped, and the cylindrical base 5 is rotated. The cleaning liquid accumulated in the space B is circulated or the valve 82 'is closed, the valve 84' is opened, and the cleaning liquid is discharged out of the system through the discharge pipe 84.

以上説明の本発明の装置により表面加工して得られる
基体は、所望の球状痕跡窪みが表面に平面部を残すこと
なく形成されていて、その表面全体が固化膜に覆われて
外気から遮断されて維持されており、洗液に例えばトリ
クロロエタン等の溶剤を使用して洗浄すると、固化膜の
溶離が極めて効率的に進行し、表面の乾燥が全く乾燥ム
ラを残すことなく極めて効率的に行え、光導電部材用基
体として至適なものとなる。
The substrate obtained by surface processing with the apparatus of the present invention described above has a desired spherical trace depression formed without leaving a flat portion on the surface, and the entire surface is covered with a solidified film and is shielded from the outside air. If the washing liquid is washed using a solvent such as trichloroethane, elution of the solidified film proceeds extremely efficiently, and the surface can be dried very efficiently without leaving any drying unevenness. It is optimal as a substrate for a photoconductive member.

上述の本発明の作用及び効果は、下記の実験結果から
明瞭に理解される。
The operation and effect of the present invention described above can be clearly understood from the following experimental results.

実験1 第1図に図示の装置において、サイズ:300mm(径)×
450mm(長さ)で孔径が0.5mmで穿孔率が50%の円筒形回
転容器と、該容器内に0.6mm径のSUS剛体球を2.5kgを収
容した装置を使用して、80mm(径)×360mm(長さ)の
サイズで5mmの肉厚のアルミニウム合金製基体シリンダ
ーを回転軸6上に設置ポリブテン:トリクロロエタン=
(1:1)の表面被覆液を噴出口71より0.6kg/cm2の噴出圧
で、また容器回転速度30rpmで25分間処理を行った。
Experiment 1 In the apparatus shown in FIG. 1, the size: 300 mm (diameter) ×
Using a cylindrical rotating container with a diameter of 450 mm (length), a hole diameter of 0.5 mm and a piercing rate of 50%, and a device containing 2.5 kg of SUS hard spheres of 0.6 mm diameter in the container, 80 mm (diameter) A base cylinder made of aluminum alloy having a size of 360 mm (length) and a thickness of 5 mm is set on the rotating shaft 6. Polybutene: trichloroethane =
The (1: 1) surface coating solution was treated for 25 minutes at an ejection pressure of 0.6 kg / cm 2 from the ejection port 71 and at a container rotation speed of 30 rpm.

表面加工を終えた基体シリンダーを装置から取り出し
て、トリクロロエタンで洗浄〔温浴(超音波)、冷浴、
蒸気浴〕した後、第5図に示した光導電部材の製造装置
を用い、先に詳述したグロー放電分解法に従い、下記の
条件により第6図に示した構造を有する光導電部材を作
製した。
The surface-finished substrate cylinder is taken out of the apparatus and washed with trichloroethane [warm bath (ultrasonic wave), cold bath,
Steam bath], and a photoconductive member having the structure shown in FIG. 6 is manufactured using the photoconductive member manufacturing apparatus shown in FIG. 5 according to the glow discharge decomposition method described in detail above under the following conditions. did.

なお、その際第1図に図示した装置の液体噴出口の取
り付け装置を可変にしたものを用いた。そして、液体噴
出口の開口角度を水平(0゜)に対して、0゜、45゜、
−45゜及び60゜として、他の条件は前述と同様に操作し
た。得られたものを複数の表面加工したドラムを上述の
ように洗浄し、上述のように成膜して複数の電子写真用
感光ドラム試料を作製した。
In this case, the apparatus shown in FIG. 1 with a variable liquid jet outlet mounting device was used. Then, the opening angle of the liquid jet port is 0 °, 45 °, with respect to the horizontal (0 °).
Other conditions were the same as above, with −45 ° and 60 °. A plurality of surface-processed drums of the obtained drum were washed as described above, and formed into a film as described above to produce a plurality of electrophotographic photosensitive drum samples.

評価 かくして得られた複数の電子写真用感光体ドラム試料
を公知の画像露光装置を用い、波長780nm、スポット径8
0μmのレーザーを照射して画像露光を行い、現像、転
写を行って画像を得、得られた画像について画像欠陥、
画像ムラ、干渉縞の発生状況を観察した。観察結果を第
2表にまとめて示した。
Evaluation A plurality of electrophotographic photoreceptor drum samples obtained in this manner were measured using a known image exposure apparatus at a wavelength of 780 nm and a spot diameter of 8
An image is exposed by irradiating a laser of 0 μm, an image is obtained by performing development and transfer, and an image defect is obtained for the obtained image.
The occurrence of image unevenness and interference fringes was observed. The observation results are summarized in Table 2.

第1表に示す結果から明らかなように、液体噴出口が
ほぼ水平に取り付けた本発明の装置により表面加工処理
した基体シリンダーは、電子写真用感光体等の光受容部
材の基体として極めて適したものであり、優れた特性の
光受容部材を与えるものであることがわかった。
As is evident from the results shown in Table 1, the substrate cylinder surface-treated by the apparatus of the present invention having the liquid ejection port mounted substantially horizontally is extremely suitable as a substrate for a light receiving member such as an electrophotographic photosensitive member. And provided a light-receiving member having excellent characteristics.

又、噴射口における液の拡がり角度は、10度乃至30度
にするのがよいことがわかった。そして、10度以下の場
合には噴出液の切口断面を小さくする必要があるため、
実際に回転容器面にかかる液圧kgf/cm2が大きくなり、
容器面を著しく傷めることになり、又、30度以上とする
と、容器面での拡がり面積が大きくなって、噴射圧を、
所定より高く設定する必要が生ずることもわかった。
It has also been found that the spread angle of the liquid at the injection port is preferably set to 10 to 30 degrees. And when it is 10 degrees or less, it is necessary to reduce the cut cross section of the ejected liquid,
The hydraulic pressure kgf / cm 2 actually applied to the rotating container surface increases,
If the surface of the container is significantly damaged, and if it is set to 30 degrees or more, the spreading area on the surface of the container becomes large, and the injection pressure is increased.
It was also found that it was necessary to set the value higher than the predetermined value.

実験2 第1図に図示の装置を用い、表面被覆液の噴出圧を0.
1kgf/cm2、0.4kgf/cm2そして1.0kgf/cm2にし、液体噴出
口の開口角度を水平(0゜)に対して0゜とした以外は
実験1におけると同様に処理した。得られたものを実験
1におけると同様に洗浄後電子写真用感光ドラムを作製
した。かくして複数の電子写真用感光体ドラム試料を作
製した。
Experiment 2 Using the apparatus shown in FIG.
1 kgf / cm 2, to 0.4 kgf / cm 2 and 1.0 kgf / cm 2, except that the opening angle of the liquid ejecting port to 0 ° relative to the horizontal (0 °) was treated in the same manner as in Experiment 1. The obtained product was washed in the same manner as in Experiment 1, and an electrophotographic photosensitive drum was produced. Thus, a plurality of electrophotographic photosensitive drum samples were prepared.

評価 実験2で得た複数の電子写真用感光ドラム試料のそれ
ぞれを、公知の画像露光装置を用い、波長780nm、スポ
ット径80μmのレーザーを照射して画像露光を行い、現
像、転写を行って画像を得、得られた画像について画像
欠陥、画像ムラ、干渉縞の発生状況を観察した。観察結
果を第3表に示した。
Evaluation Each of the plurality of electrophotographic photosensitive drum samples obtained in Experiment 2 was exposed to an image with a laser having a wavelength of 780 nm and a spot diameter of 80 μm using a known image exposure apparatus, and developed and transferred to perform image transfer. And the occurrence of image defects, image unevenness, and interference fringes was observed for the obtained image. Table 3 shows the observation results.

実験3及び実験4 (実験3) 第2図に図示の、回転容器に液止めバー32と係止棒状
バーが設けられているものを用いた装置を使用して、液
体噴出口の開口角度を水平(0゜)に対して0゜とした
以外は実験1と同様にして22分間処理した。得られた表
面加工ドラムを実験1におけると同様にして洗浄後、電
子写真用感光ドラムを作製した。
Experiment 3 and Experiment 4 (Experiment 3) Using an apparatus shown in FIG. 2 using a rotating container provided with a liquid stopper bar 32 and a locking rod-like bar, the opening angle of the liquid ejection port was adjusted. The treatment was carried out for 22 minutes in the same manner as in Experiment 1 except that the angle was 0 ° with respect to the horizontal (0 °). After washing the obtained surface-treated drum in the same manner as in Experiment 1, a photosensitive drum for electrophotography was produced.

(実験4) 第3図に図示の、回転容器に液止めバー32′とグレー
ド・バーが設けられているものを用いた装置を使用し
て、液体噴出口の開口角度を水平(0゜)に対して0゜
とし処理時間を20分間にした以外は実験1におけると同
様にして処理した。得られた表面加工ドラムを実験1に
おけると同様にして洗浄後、電子写真用感光ドラムを作
製した。
(Experiment 4) Using the apparatus shown in FIG. 3 using a rotating container provided with a liquid stopper bar 32 'and a grade bar, the opening angle of the liquid ejection port was set to be horizontal (0 °). , And the treatment was carried out in the same manner as in Experiment 1 except that the treatment time was set to 20 minutes. After washing the obtained surface-treated drum in the same manner as in Experiment 1, a photosensitive drum for electrophotography was produced.

評価 実験3及び実験4で得た電子写真用感光ドラムを公知
の画像露光装置を用い、波長780nm、スポット径80μm
のレーザーを照射して画像露光を行い、現像、転写を行
って画像を得、得られた画像についての画像欠陥、画像
ムラ、干渉縞の発生状況を観察した。観察結果をまとめ
て第4表に示した。
Evaluation The electrophotographic photosensitive drums obtained in Experiments 3 and 4 were subjected to wavelength 780 nm and spot diameter 80 μm using a known image exposure apparatus.
An image was exposed by irradiating the laser, and an image was obtained by performing development and transfer, and the occurrence of image defects, image unevenness, and interference fringes in the obtained image was observed. The observation results are summarized in Table 4.

第4表に示す結果から明らかなように、本発明の第2
図及び第3図に図示の装置により表面加工処理した基体
シリンダーは、短時間の処理で極めて良好な特性の光受
容部材を与えるものであることが判った。
As is clear from the results shown in Table 4, the second aspect of the present invention
It has been found that the substrate cylinder surface-treated by the apparatus shown in FIGS. 3 and 3 gives a light receiving member having extremely good characteristics in a short time.

〔発明の効果の概要〕 以上説明したように、被覆液を極低圧でシャワーとし
て供給するのではなく、側面より所定の圧力で噴出する
ことにより、 (1) 基体シリンダーを表面処理する時、衝突により
発生する基体材料の微粉末が基体上に埋め込まれる事な
く、又、衝突により形成される凹凸が一定サイズに巾狭
く分布せしめる事を可能とするものである。
[Summary of Effects of the Invention] As described above, instead of supplying the coating liquid as a shower at an extremely low pressure, the coating liquid is ejected from a side surface at a predetermined pressure. Thus, the fine powder of the base material generated by the above-mentioned process is not embedded in the base, and the unevenness formed by the collision can be narrowly distributed to a certain size.

(2) 回転容器内壁に貼りついている剛体球に、運動
エネルギーを付与し、基体シリンダー表面に衝突させる
ことを得るので、条件設定の巾が広くなり、且つ、条件
設定が容易である。
(2) Kinetic energy is applied to the rigid sphere attached to the inner wall of the rotating container to collide with the surface of the base cylinder, so that the condition setting range is widened and the condition setting is easy.

(3) 自然落下エネルギーをもとに球状痕跡窪みの望
ましい状態を得る場合には、回転容器をφ500mm乃至φ1
000mmという大口径のものとする必要があるが、(2)
の如く運動エネルギーを付与しているので、必要最小限
の回転容器径でよい。
(3) In order to obtain a desirable state of a spherical trace depression based on the energy of natural fall, the rotating container should be φ500 mm to φ1
It is necessary to have a large diameter of 000mm, but (2)
Since the kinetic energy is applied as described above, the required minimum rotating container diameter is sufficient.

(4) 被覆液供給系統が加圧されているので、装置の
段取り替え時において、容器等をトリエタン等の洗浄液
で速やかに洗浄できる。
(4) Since the coating liquid supply system is pressurized, the container and the like can be quickly cleaned with a cleaning liquid such as triethane when the equipment is changed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(A)は、本発明の光導電部材用基体の製造装置
の一例を示す断面略図である。第1図(B)は回転容器
の拡大断面図である。第2図(A)は本発明の光導電部
材用基体の製造装置の他の実施例を示す部分断面略図で
ある。第2図(B)は第2図(A)の装置の回転容器の
拡大断面図である。第3図(A)(B)は本発明の他の
例を示すための第2図(A)の装置の回転容器壁部の一
部を変形したものの略図及びその拡大断面図である。第
4図(A)(B)(C)は、本発明の装置により形成さ
れる基体表面の凹凸形状を説明するための模式図であ
る。第5図は、グロー放電分解法による光導電部材の製
造装置を示す図である。第6図は実施例、比較例で形式
した像形成部材の模式的断面図である。 第1,2及び3図において、 1……装置周壁(ハウジング)、2……支持台、 3……回転容器、4……剛体球、5……円筒形基体、 6……回転軸、7……噴出管、8……給送管開口部、 9……表面被覆液、11……円形形状部、 12……半円形状の突起、31……係止棒状バー、 31′……ブレード・バー、32……液止めバー、 71……液体噴出、81……送給管、 82……滞溜タンク、83……供給タンク、 84……排出管、 82′,83′,84′……バルブ手段。 第4図において、 21……基体、22……表面、23,23′……球体、 24,24′,……窪み。 第5図において、 41……堆積槽、42……ベースプレート、 43……槽壁、44……トッププレート、 45……カソード電極、46……支持体(アノード電極)、 47……原料ガス流入バルブ、48……リークバルブ、 49……排気バルブ、50……真空計、 51……マスフローコントローラー、 52……加熱ヒーター、53……高周波電源、 54……モーター。 第6図において、 61……基体、62……電荷注入阻止層、 63……光導電層、64……表面保護層。
FIG. 1 (A) is a schematic cross-sectional view showing an example of the apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member of the present invention. FIG. 1B is an enlarged sectional view of the rotating container. FIG. 2 (A) is a schematic partial sectional view showing another embodiment of the apparatus for manufacturing a photoconductive member base according to the present invention. FIG. 2 (B) is an enlarged sectional view of the rotating container of the apparatus of FIG. 2 (A). FIGS. 3 (A) and 3 (B) are a schematic view and an enlarged sectional view of a part of a rotating container wall of the apparatus of FIG. 2 (A) for showing another example of the present invention. FIGS. 4 (A), (B) and (C) are schematic views for explaining the uneven shape of the substrate surface formed by the apparatus of the present invention. FIG. 5 is a view showing an apparatus for manufacturing a photoconductive member by a glow discharge decomposition method. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an image forming member according to Examples and Comparative Examples. 1, 2 and 3, 1 ... peripheral wall of the device (housing), 2 ... support base, 3 ... rotating container, 4 ... rigid sphere, 5 ... cylindrical body, 6 ... rotating shaft, 7 ... Ejection pipe, 8 ... Supply pipe opening, 9 ... Surface coating liquid, 11 ... Circular part, 12 ... Semi-circular projection, 31 ... Lock bar-shaped bar, 31 '... Blade・ Bar, 32: Liquid stop bar, 71: Liquid ejection, 81: Feeding pipe, 82: Reservoir tank, 83: Supply tank, 84: Discharge pipe, 82 ', 83', 84 ' ... Valve means. In FIG. 4, 21... Base, 22... Surface, 23, 23 ′ sphere, 24, 24 ′, recess. In FIG. 5, 41: deposition tank, 42: base plate, 43: tank wall, 44: top plate, 45: cathode electrode, 46: support (anode electrode), 47: source gas inflow Valve, 48 Leak valve, 49 Exhaust valve, 50 Vacuum gauge, 51 Mass flow controller, 52 Heater, 53 High frequency power supply, 54 Motor. In FIG. 6, reference numeral 61 denotes a base, 62 denotes a charge injection blocking layer, 63 denotes a photoconductive layer, and 64 denotes a surface protective layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 啓一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特公 昭63−20912(JP,B2) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Keiichi Murai 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (56) References JP-B-63-20912 (JP, B2)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】多穿孔板で一体形成されてなり、複数の剛
体球を内部に収容して有する円筒形回転容器と、該容器
内で該容器と同軸的に回転する基体保持手段と、前記回
転容器下部に、導電部材用円筒基体の表面を保護する被
覆液の滞溜手段と、同滞溜手段中の表面被覆液を循環
し、回転容器の軸に対しほぼ水平な位置において、前記
循環している被覆液を噴出する噴出供給手段を備えてい
ることを特徴とする光導電部材用基体の製造装置。
1. A cylindrical rotary container integrally formed of a multi-perforated plate and having a plurality of rigid spheres housed therein, a substrate holding means rotating in the container coaxially with the container, A coating liquid accumulating means for protecting the surface of the conductive member cylindrical substrate at a lower portion of the rotating container, and a surface coating liquid in the accumulating means is circulated. An apparatus for manufacturing a substrate for a photoconductive member, comprising: a jet supply means for jetting a coating liquid.
【請求項2】加圧噴出供給される被覆液のエネルギーに
よって与えられる剛体球の運動エネルギーがそれら剛体
球の自然落下した場合に、得られる0.05m乃至2.0m、望
ましくは0.1m乃至0.5mの位置のエネルギーに相応してお
り、上記エネルギーを与える圧力で被覆液が噴出される
ことを特徴とする請求項(1)に記載の装置。
2. The method according to claim 1, wherein the kinetic energy of the hard spheres given by the energy of the coating liquid supplied under pressure is 0.05 to 2.0 m, preferably 0.1 to 0.5 m, obtained when the hard spheres fall naturally. 2. The device according to claim 1, wherein the coating liquid is ejected at a pressure which corresponds to the energy of the position and which gives said energy.
【請求項3】循環している被覆液を噴出する位置が、回
転容器の軸に対して水平な位置から上に45度、下に45度
の範囲の位置であることを特徴とする請求項(1)に記
載の装置。
3. The position where the circulating coating liquid is ejected is located in a range of 45 degrees upward and 45 degrees downward from a position horizontal to the axis of the rotating container. The device according to (1).
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