JPH11207623A - Particle dispersed solution stirring device, surface treating method and devide for electrophotographic photosensitive body base material using the same, and electrophotographic photosensitive body treated by the same - Google Patents

Particle dispersed solution stirring device, surface treating method and devide for electrophotographic photosensitive body base material using the same, and electrophotographic photosensitive body treated by the same

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JPH11207623A
JPH11207623A JP1728098A JP1728098A JPH11207623A JP H11207623 A JPH11207623 A JP H11207623A JP 1728098 A JP1728098 A JP 1728098A JP 1728098 A JP1728098 A JP 1728098A JP H11207623 A JPH11207623 A JP H11207623A
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stirring
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升一 増田
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隆 藤本
Kiyoshi Hashimoto
潔 橋本
Hajime Tanaka
一 田中
Futoshi Tage
太 田外
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To unifonoly disperse particles in solution. SOLUTION: A particle dispersed solution stirring device U1 is provided with a stirring container 1 having vertical cylindrical walls 2 and 3 for housing particle dispersed solution, a turning flow forming nozzle 7 for jetting out particle dispersed solution in the circumferential directions of the cylindrical walls 2 and 3 so as to form a turning flow in the particle dispersed solution, a stirring nozzle 8 for jetting out the particle dispersed solution in a vertical direction in a middle position between the cylindrical walls 2 and 3 and the center thereof, and a particle dispersed solution circulating device 11 for circulating the particle solution dispersed in the stirring container 1 and jetting out the same from the turning flow forming nozzle 7 and the stirring nozzle 8. A surface treating method and a surface treating device for an electrophotographic photosensitive body base material W use this particle dispersed stirring device U1. Also, an electrophotographic photosensitive body is treated by the surface treating method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、粒子分散液中の粒
子を均一に分散させるための粒子分散液撹拌装置、前記
粒子分散液撹拌装置を使用した電子写真感光体用基材の
表面処理方法、表面処理装置、および前記表面処理方法
により処理された電子写真感光体に関する。前記本発明
の粒子分散液撹拌装置は、研磨材が分散した粒子分散液
をホーニング液として使用し、ホーニング処理により基
材表面に液均一な凹凸を形成するための前記ホーニング
液を撹拌する際に使用される。前記粒子分散液撹拌装置
は、レーザービームをライン走査する方式の電子写真プ
リンター、複写機等に使用される感光体基材表面に均一
な凹凸を形成する場合等に好適に使用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a particle dispersion stirring device for uniformly dispersing particles in a particle dispersion, and a method for surface treatment of a substrate for an electrophotographic photosensitive member using the particle dispersion stirring device. And a surface treatment apparatus, and an electrophotographic photosensitive member treated by the surface treatment method. The particle dispersion stirring device of the present invention uses a particle dispersion in which an abrasive is dispersed as a honing liquid, and agitates the honing liquid for forming liquid unevenness on a substrate surface by a honing process. used. The particle dispersion stirring device is suitably used when uniform unevenness is formed on the surface of a photoreceptor base material used in an electrophotographic printer, a copying machine, or the like, which uses a laser beam for line scanning.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザービームをライン走査する方式の
電子写真装置には、レーザー光を用いて形成する画像に
干渉縞模様が現れるという特有の問題を解決しなければ
ならない。この種の干渉縞の発生は、感光層内で吸収さ
れなかった透過光が、基材を含む感光層内でレーザービ
ームの多重反射を生じて、感光層表面の入射光との間で
干渉を生じることに起因するとされている。この干渉縞
の発生を防止するために、特公平5−26191号公報
には、基材または、感光層の表面を粗面化して光散乱性
を付与することが示され、その具体的方法として特公平
6−41108号公報、特開平5−216261号公報
等に湿式ホーニングが提案されているが、ホーニングで
は液中の研磨材の分布が不均一な場合、基材表面の凹凸
(粗度)分布が不均一となり、基材表面の一部に干渉縞
を発生させたり、基材表面に塗布される感光層は均一な
成膜性が損なわれ、塗膜欠陥を発生することがある。図
7は液中の研磨材の分散が不均一な場合にはホーニング
後の基材表面の凹凸にバラツキが生じることを示す図で
ある。図8は研磨材が均一に分散されている場合にはホ
ーニング後の基材表面に均一な凹凸が形成されることを
示す図である。
2. Description of the Related Art In an electrophotographic apparatus of the type in which a laser beam is line-scanned, it is necessary to solve a specific problem that an interference fringe pattern appears in an image formed by using a laser beam. This type of interference fringes occurs because transmitted light that has not been absorbed in the photosensitive layer causes multiple reflections of the laser beam in the photosensitive layer including the substrate, causing interference with the incident light on the photosensitive layer surface. It is attributed to the occurrence. In order to prevent the occurrence of this interference fringe, Japanese Patent Publication No. 5-26191 discloses that the surface of a substrate or a photosensitive layer is roughened to impart light scattering properties. Japanese Patent Publication No. 6-41108, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-216261, etc. have proposed wet honing. However, in the honing, when the distribution of the abrasive in the liquid is not uniform, the unevenness (roughness) of the surface of the base material is considered. The distribution may be non-uniform, causing interference fringes on a part of the surface of the substrate, and the photosensitive layer applied to the surface of the substrate may be impaired in uniform film-forming properties, resulting in coating film defects. FIG. 7 is a view showing that unevenness of the surface of the base material after honing varies when the dispersion of the abrasive in the liquid is not uniform. FIG. 8 is a view showing that uniform unevenness is formed on the surface of the substrate after honing when the abrasive is uniformly dispersed.

【0003】近年、電子写真装置においては、オゾン発
生量の低減化、高圧電源の不使用によるコストの削減お
よび帯電器の小型化等を実現するために、感光ドラムに
接触帯電方式が用いられるようになった。ところが、こ
の方式に用いる感光ドラムでは、基材表面粗度がばらつ
くと、粗度が大きい箇所はその突出部に電荷が集中する
ことによって電荷リークが発生し、その結果、プリント
画像上に黒点等の欠陥が現われるという問題がある。こ
の基材表面の突出部は、3μm 程度以上の高さになる
と電荷リークが生じ易いことが知られている。また、粗
度が小さいところは基材表面の一部に干渉縞が生じるこ
とに起因するとされている。
In recent years, in an electrophotographic apparatus, a contact charging method has been used for a photosensitive drum in order to reduce the amount of generated ozone, reduce costs by not using a high-voltage power supply, and reduce the size of a charger. Became. However, in the photosensitive drum used in this method, when the surface roughness of the base material varies, electric charge leaks due to the concentration of electric charges in the protruding portions of the high-roughness portion, and as a result, black spots and the like appear on a printed image. There is a problem that defects appear. It is known that when the height of the protrusion on the surface of the base material is about 3 μm or more, charge leakage is likely to occur. Further, it is said that the portion having a small roughness is caused by the occurrence of interference fringes on a part of the substrate surface.

【0004】ところで、上記した基材の粗面化処理を行
なうと、電荷リークがより発生し易くなることや、画像
に干渉縞模様が現れることがある。すなわち、そのホー
ニングによる粗面化処理により、基材表面全体が、干渉
縞の発生を防止できるように平均的に粗面化されず、粗
度にばらつきが生じると、電荷リークを引き起こして画
像欠陥が発生したり、画像に干渉縞模様が現れるという
問題がある。したがって、レーザービームをライン走査
する方式の電子写真装置用の感光体の基材の粗面化処理
においては、均一に粗面化された基材の提供が重要な課
題となっている。
By the way, when the above-described substrate roughening treatment is performed, charge leakage is more likely to occur, and an interference fringe pattern may appear in an image. That is, the entire surface of the base material is not averagely roughened by the honing roughening treatment to prevent the occurrence of interference fringes. And the problem of interference fringes appearing on the image. Therefore, in the surface roughening treatment of the substrate of the photosensitive member for the electrophotographic apparatus of the type in which the laser beam is line-scanned, the provision of the uniformly roughened substrate is an important issue.

【0005】従来、感光体の基材表面を粗面化する方法
には、例えば、特開平2−87154号公報、特開平2
−191963号公報、特公平6−41108号公報、
特開平5−216261号公報に記載されているよう
に、研磨材の水分散液を用いた湿式ホーニング法があ
る。この方法は、短時間の加工で容易に安定して粗面化
させることができること、所望の粗さを正確に得ること
ができることおよび塗膜欠陥の原因となる異常凹凸部が
極めて少ない均一な粗さを持つ粗面が得られることなど
から、生産上の観点からも、また、黒斑点や干渉縞模様
に対する画質安定性の点からも、陽極酸化法あるいはバ
フ研磨法等の他の粗面化処理法に比べて優れているもの
である。
Conventionally, methods for roughening the surface of a substrate of a photoreceptor include, for example, JP-A-2-87154 and JP-A-2
No. -191963, Japanese Patent Publication No. 6-41108,
As described in JP-A-5-216261, there is a wet honing method using an aqueous dispersion of an abrasive. This method can easily and stably roughen the surface in a short time, can accurately obtain a desired roughness, and has a uniform rough surface having extremely few irregularities that cause coating film defects. From the viewpoint of production and the stability of image quality against black spots and interference fringe patterns, it is possible to obtain a roughened surface with roughness, such as anodizing or buffing. It is superior to the processing method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
感光体に対するライフ要求値が向上するにつれて、従来
のホーニング法による基材の粗面化では不十分であるこ
とが明らかになってきた。すなわち、従来の方法には、
研磨材の基材への衝突により、均一に粗面化された基材
を得るにあたって、以下に示す問題点1および問題点2
が存在することが判明した。
However, in recent years,
As the life requirement for the photoreceptor has increased, it has become clear that roughening of the substrate by the conventional honing method is insufficient. That is, in the conventional method,
In obtaining a uniformly roughened substrate by the collision of the abrasive with the substrate, problems 1 and 2 described below are obtained.
Was found to exist.

【0007】(問題点1)従来よりホーニングに使用さ
れる研磨材の供給には、その液の供給濃度のばらつきに
問題がある。現在、この種の研磨材として提案されてい
る炭化珪素、窒化珪素、窒化硼素(特公平6−4110
8号公報)あるいは、酸化アルミニウム(特開平5−2
16261号公報)等は、各材料の比重が水と比較して
大きく、沈降速度が速いため、完全に均一混合した研磨
材を供給することは難しい。
(Problem 1) Conventionally, the supply of the abrasive used for honing has a problem in the variation in the supply concentration of the liquid. At present, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride (Japanese Patent Publication No.
No. 8) or aluminum oxide (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 16261), the specific gravity of each material is larger than that of water, and the sedimentation speed is high. Therefore, it is difficult to supply a completely uniformly mixed abrasive.

【0008】ところで、ホーニング処理は、個々の研磨
材を基材に衝突させることによって行われる。この処理
によると、同一濃度の研磨材を用いる場合には、基材の
単位面積あたりに衝突する研磨材の個数はいずれも同一
であるために、基材は均一な粗さを持つ粗面が得られ
る。ところが一方、濃度が不均一な研磨材を用いる場合
には、それらの単位面積当たりの基材に衝突する研磨材
個数が衝突場所により異なることにより、基材全体とし
て粗さが不均一な粗面が形成されることになる。すなわ
ち濃度が不均一な研磨材でホーニングした場合、基材表
面は異常な凹凸部を形成することになる。その凹凸部の
形成により粗面が不連続になった基材表面は、その上に
形成される塗膜のレベリングによる塗膜追従性が損なわ
れ、微小な部位において塗膜の厚膜化による白班点や薄
膜化による黒班点が発生したり、凸部では基材が露出す
ることによって黒斑点や電荷リーク等の欠陥が発生した
り、凹凸が必要量より不足している位置では、画像に干
渉縞模様が現れたりすることになる。
The honing process is performed by colliding individual abrasives with a substrate. According to this process, when using the same concentration of abrasive, the number of abrasives colliding per unit area of the substrate is the same, so that the substrate has a rough surface having a uniform roughness. can get. On the other hand, when abrasives having non-uniform concentrations are used, the number of abrasives colliding with the base material per unit area differs depending on the collision location, so that the rough surface of the base material as a whole has uneven roughness. Is formed. That is, when honing is performed with an abrasive having a non-uniform concentration, an abnormal uneven portion is formed on the surface of the base material. The surface of the base material whose rough surface has become discontinuous due to the formation of the irregularities loses the ability to follow the coating film due to leveling of the coating film formed thereon, and white spots due to thickening of the coating film in minute parts. Black spots due to spots or thinning, defects such as black spots or charge leaks due to exposure of the base material at the convex portions, or at positions where the unevenness is insufficient than required, An interference fringe pattern may appear.

【0009】これらを防止するには、基材に衝突する研
磨材は、同一濃度とすることが好ましく、その為に均一
濃度の研磨材を安定供給することは必須である。しかし
ながら、従来公知の研磨材供給方法では、均一な濃度の
研磨材を供給することは困難であり、特に液の循環によ
る単純な循環方法では、タンク内の液濃度のバラツキを
除去することができないために、上記の問題を解消する
ことができない。したがって、ホーニング法に供する研
磨材については、液の均一性の改善が望まれている。
In order to prevent these problems, it is preferable that the abrasives colliding with the base material have the same concentration. For this reason, it is essential to supply the abrasives at a uniform concentration stably. However, it is difficult to supply an abrasive having a uniform concentration by a conventionally known abrasive supply method. In particular, a simple circulation method by circulating a liquid cannot remove variations in the liquid concentration in a tank. Therefore, the above problem cannot be solved. Therefore, with respect to the abrasive used for the honing method, it is desired to improve the uniformity of the liquid.

【0010】(問題点2)従来の攪拌方法は一般に、タ
ンク内部に空気噴出口を有し、空気噴出口から圧縮空気
を噴出する方法や、同様にタンク底部に送液機より液を
噴出させるなどの方法により、タンク底部に研磨材が沈
殿するのを防ぐのが目的である。しかしながら、従来の
方法では、研磨材の沈殿を防ぐことは可能であるが、タ
ンク内の上層、下層部では液の状態が異なり、タンク内
の研磨液に研磨材を均一に分散させることは不可能であ
り、均一な濃度の研磨液を供給することは困難であっ
た。そのため、研磨液濃度の変化により、研磨材の基材
単一面積当たりの衝突数が変化し、その結果として基材
表面の粗さや形状を変化させ、最終的には、感光体の干
渉縞の防止を低下させるという問題がある。
(Problem 2) The conventional stirring method generally has an air jet port inside the tank and jets compressed air from the air jet port, and similarly jets liquid from the liquid feeder to the tank bottom. The purpose is to prevent the abrasive from settling at the bottom of the tank by such a method. However, in the conventional method, it is possible to prevent sedimentation of the abrasive, but the liquid state is different between the upper layer and the lower layer in the tank, and it is impossible to uniformly disperse the abrasive in the polishing liquid in the tank. It was possible, and it was difficult to supply a polishing solution having a uniform concentration. Therefore, the number of collisions of the abrasive with respect to a single area of the base material changes due to the change in the concentration of the polishing liquid, and as a result, the roughness and shape of the base material surface change. There is a problem that the prevention is reduced.

【0011】なお、前述の説明は感光体基材の研磨液に
関する従来技術の問題点について説明したが、液体中に
粒子を均一に分散させる必要がある場合には、前記感光
体基材の研磨液に限らず、同様の問題点があった。本発
明は、従来の技術における上記のような問題点に鑑みて
なされたもので、次の記載内容(O01)〜(O03)を課
題とする。 (O01)液体中に粒子を均一に分散させること。 (O02)研磨材が均一に分散した研磨液を造ること。 (O03)レーザー光によって画像を形成した場合に、干
渉縞模様および、黒斑点等の画質欠陥、さらには、接触
帯電方式による電荷リークによる画質欠陥のない改善さ
れた電子写真感光体を提供すること。
In the above description, the problems of the prior art relating to the polishing liquid for the photoreceptor substrate have been described. However, when it is necessary to uniformly disperse the particles in the liquid, the polishing of the photoreceptor substrate is performed. There was a similar problem, not limited to the liquid. The present invention has been made in view of the above-described problems in the conventional technology, and has the following problems (O01) to (O03). (O01) To uniformly disperse particles in a liquid. (O02) To prepare a polishing liquid in which the polishing material is uniformly dispersed. (O03) To provide an improved electrophotographic photoreceptor free from image quality defects such as interference fringe patterns and black spots when images are formed by laser light, and image quality defects due to charge leakage due to a contact charging method. .

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】従来のホーニング法は、
上記したとおり、いずれも使用する研磨材渡度の不均一
が問題を引き起こしていることから、これを解決するた
めに均一濃度の研磨材供給方法について鋭意検討した結
果、問題を引き起こしているタンク攪拌方法に着目し、
本発明を完成するに至った。次に、前記課題を解決する
ために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。な
お、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。
Means for Solving the Problems The conventional honing method is as follows.
As described above, since the non-uniformity of the abrasive transfer rate used in each case has caused a problem, as a result of intensive study on a method of supplying an abrasive having a uniform concentration to solve this problem, the tank stirring which is causing the problem Focus on the method,
The present invention has been completed. Next, the present invention devised to solve the problem will be described. Elements of the present invention are indicated by parentheses in the elements of the embodiment in order to facilitate correspondence with the elements of the embodiments described later. Add the items enclosed in. The reason why the present invention is described in correspondence with the reference numerals of the embodiments described below is to facilitate understanding of the present invention, and not to limit the scope of the present invention to the embodiments.

【0013】(第1発明)前記課題を解決するために本
発明の第1発明の粒子分散液撹拌装置は、次の要件を備
えたことを特徴とする、(A01)鉛直な円筒壁(2,
3)を有し、粒子分散液が収容される撹拌容器(1)、
(A02)前記粒子分散液に旋回流が形成されるように前
記円筒壁(2,3)面の円周方向に前記粒子分散液を噴
出する旋回流形成用ノズル(7)、(A03)前記円筒壁
(2,3)と円筒壁(2,3)の中心との間の中間位置
において鉛直方向に前記粒子分散液を噴出する撹拌用ノ
ズル(8)、(A04)前記撹拌容器(1)内の粒子分散
液を循環させて前記旋回流形成用ノズル(7)および前
記撹拌用ノズル(8)から噴出させる粒子分散液循環装
置(11)。
(First Invention) In order to solve the above-mentioned problems, a particle dispersion stirring device of the first invention according to the present invention has the following requirements. (A01) A vertical cylindrical wall (2) ,
3) a stirring vessel (1) having a particle dispersion therein,
(A02) A swirl flow forming nozzle (7) for ejecting the particle dispersion in a circumferential direction of the cylindrical wall (2, 3) so that a swirl flow is formed in the particle dispersion, (A03) A stirring nozzle (8) for ejecting the particle dispersion liquid in a vertical direction at an intermediate position between the cylindrical wall (2, 3) and the center of the cylindrical wall (2, 3), (A04) the stirring vessel (1) A particle dispersion circulating device (11) for circulating the particle dispersion in the nozzle and ejecting the particles from the swirling flow forming nozzle (7) and the stirring nozzle (8).

【0014】前記第1発明の粒子分散液撹拌装置(U
1)において、前記撹拌用ノズル(8)の撹拌用ノズル
先端は、前記円筒壁(2,3)の中心線回りに、前記旋
回流形成用ノズル(7)先端の噴出口の位置から旋回流
方向に225度±90度以内の範囲に回転した位置に配
置することが好ましい。前記第1発明の粒子分散液撹拌
装置(U1)の前記撹拌容器(1)は、下部に小径円筒
壁(2)を有し、上部に大径円筒壁(3)を有し、前記
小径円筒壁(2)上端および前記大径円筒壁(3)下端
を接続する円錐壁(4)を有する構成とすることが可能
である。その場合、前記旋回流形成用ノズル(7)は、
前記小径円筒壁(2)内面に沿って前記粒子分散液を噴
出するように構成し、且つ、前記前記撹拌用ノズル
(8)は前記円錐壁(4)に向かって下向きの粒子分散
液を噴出するように構成することが好ましい。
[0014] The particle dispersion stirring device (U
In 1), the tip of the stirring nozzle of the stirring nozzle (8) is swirled around the center line of the cylindrical wall (2, 3) from the position of the spout at the tip of the swirling flow forming nozzle (7). It is preferable to arrange at a position rotated within a range of 225 degrees ± 90 degrees in the direction. The stirring vessel (1) of the particle dispersion stirring device (U1) of the first invention has a small-diameter cylindrical wall (2) at a lower portion, a large-diameter cylindrical wall (3) at an upper portion, and the small-diameter cylinder. It is possible to have a configuration having a conical wall (4) connecting the upper end of the wall (2) and the lower end of the large-diameter cylindrical wall (3). In that case, the swirl flow forming nozzle (7)
The particle dispersion is ejected along the inner surface of the small-diameter cylindrical wall (2), and the stirring nozzle (8) ejects the particle dispersion downward toward the conical wall (4). It is preferable to configure so that

【0015】(第1発明の作用)前記構成を備えた本発
明の第1発明の粒子分散液撹拌装置(U1)では、鉛直
な円筒壁(2,3)を有する撹拌容器(1)内には粒子
分散液が収容される。粒子分散液循環装置(11)は、
前記撹拌容器(1)内の粒子分散液を循環させて前記旋
回流形成用ノズル(7)および前記撹拌用ノズル(8)
から噴出させる。旋回流形成用ノズル(7)は、前記粒
子分散液に旋回流が形成されるように前記円筒壁(2,
3)面の円周方向に前記粒子分散液を噴出する。これに
より前記撹拌容器(1)内の粒子分散液には旋回流が生
成される。撹拌用ノズル(8)は、前記円筒壁(2,
3)と円筒壁(2,3)の中心との間の中間位置におい
て鉛直方向に前記粒子分散液を噴出する。この撹拌用ノ
ズル(8)の粒子分散液の噴出により前記粒子分散液の
旋回流が撹拌され、粒子が均一に分散される。
(Operation of the First Invention) In the particle dispersion stirring device (U1) according to the first invention of the present invention having the above structure, the stirring vessel (1) having the vertical cylindrical walls (2, 3) is placed in the stirring vessel (1). Contains a particle dispersion. The particle dispersion circulation device (11)
By circulating the particle dispersion in the stirring vessel (1), the swirl flow forming nozzle (7) and the stirring nozzle (8)
Squirt from The nozzle for forming a swirling flow (7) is provided with the cylindrical wall (2, 2) so that a swirling flow is formed in the particle dispersion.
3) Spray the particle dispersion in the circumferential direction of the surface. Thereby, a swirling flow is generated in the particle dispersion liquid in the stirring vessel (1). The stirring nozzle (8) is connected to the cylindrical wall (2, 2).
The particle dispersion is ejected vertically at an intermediate position between 3) and the center of the cylindrical wall (2, 3). By the ejection of the particle dispersion liquid from the stirring nozzle (8), the swirling flow of the particle dispersion liquid is stirred, and the particles are uniformly dispersed.

【0016】前記第1発明の粒子分散液撹拌装置(U
1)において、前記撹拌用ノズル(8)の撹拌用ノズル
先端を、前記円筒壁(2,3)の中心線回りに、前記旋
回流形成用ノズル(7)先端の噴出口の位置から旋回流
方向に225度±90度以内の範囲に回転した位置に配
置した場合には、粒子分散液の撹拌をさらに良好に行う
ことができ、粒子分散液中の粒子を均一に分散させるこ
とができる。また、前記第1発明の粒子分散液撹拌装置
(U1)の前記撹拌容器(1)を、下部に小径円筒壁
(2)を有し、上部に大径円筒壁(3)を有し、前記小
径円筒壁(2)上端および前記大径円筒壁(3)下端を
接続する円錐壁(4)を有する構成とし、前記旋回流形
成用ノズル(7)を、前記小径円筒壁(2)内面に沿っ
て前記粒子分散液を噴出するように構成し、且つ、前記
前記撹拌用ノズル(8)を前記円錐壁(4)に向かって
下向きの粒子分散液を噴出するように構成した場合に
は、粒子分散液の撹拌をさらにいっそう、良好に行うこ
とができる。
The particle dispersion stirring device of the first invention (U
In 1), the tip of the stirring nozzle of the stirring nozzle (8) is swung around the center line of the cylindrical wall (2, 3) from the position of the spout at the tip of the swirling flow forming nozzle (7). When it is arranged at a position rotated within a range of 225 degrees ± 90 degrees in the direction, the stirring of the particle dispersion can be performed more favorably, and the particles in the particle dispersion can be uniformly dispersed. The stirring vessel (1) of the particle dispersion stirring device (U1) of the first invention has a small-diameter cylindrical wall (2) at a lower portion and a large-diameter cylindrical wall (3) at an upper portion. A conical wall (4) connecting the upper end of the small-diameter cylindrical wall (2) and the lower end of the large-diameter cylindrical wall (3) is provided, and the swirling flow forming nozzle (7) is provided on the inner surface of the small-diameter cylindrical wall (2). When the particle dispersion is configured to be ejected along the nozzle and the stirring nozzle (8) is configured to eject the particle dispersion downward toward the conical wall (4), Agitation of the particle dispersion can be performed even better.

【0017】前記本発明の粒子分散液撹拌装置(U1)
により撹拌される粒子分散液が研磨材を分散させた粒子
分散液の場合(粒子が研磨材の場合)には前記研磨材が
均一に分散された粒子分散液を得ることができる。この
ような粒子分散液を使用して基材にホーニング処理を行
う場合、前記基材表面に均一な凹凸を形成することがで
きる。その際使用される基材としては、アルミニウム、
銅、ニッケル、鉄、亜鉛、チタン等の金属及び、それら
の合金からなるドラム又はシート等が挙げられ、また、
プラスチック、紙等の支持体に粗面化処理を施した支持
体表面にアルミニウム、チタン等の金属及びそれらの合
金を真空蒸着法によって被膜形成させたものが挙げられ
る。
The above-mentioned particle dispersion stirring device (U1) of the present invention.
When the particle dispersion stirred by the above is a particle dispersion in which an abrasive is dispersed (when the particles are an abrasive), a particle dispersion in which the abrasive is uniformly dispersed can be obtained. When a honing treatment is performed on a substrate using such a particle dispersion, uniform unevenness can be formed on the surface of the substrate. The base material used at that time is aluminum,
Metals such as copper, nickel, iron, zinc and titanium, and drums or sheets made of alloys thereof, and the like,
Examples thereof include those in which a metal such as aluminum and titanium and an alloy thereof are formed into a film by a vacuum evaporation method on the surface of a support obtained by subjecting a support such as plastic or paper to a surface roughening treatment.

【0018】前記本発明の粒子分散液撹拌装置(U1)
で撹拌された粒子分散液を使用する前記基材の表面処理
方法は、湿式ホーニング処理法である。湿式ホーニング
処理は、水等の液体に粉末状の研磨材を懸濁させて、高
速度で基材表面に吹き付けて粗面化する方法であって、
その場合、表面処理の粗さの程度は、吹きつけの圧力及
び速度、使用する研磨材の量、濃度、種類、形状、大き
さ、硬度、比重、及び粒度分布等の諸条件を適宜選択す
ることにより制御することができる。
The particle dispersion stirring device of the present invention (U1)
The surface treatment method for the base material using the particle dispersion stirred in the above is a wet honing treatment method. Wet honing treatment is a method of suspending a powdered abrasive in a liquid such as water and spraying the substrate at a high speed to roughen the surface.
In this case, the degree of surface treatment roughness is appropriately selected from various conditions such as the pressure and speed of spraying, the amount, concentration, type, shape, size, hardness, specific gravity, and particle size distribution of the abrasive used. Control.

【0019】(第2発明)また本発明の第2発明の電子
写真感光体用基材(W)の表面処理方法は、前記第1発
明の粒子分散液撹拌装置(U1)で撹拌された研磨材を
分散させた粒子分散液をホーニング液として使用し、電
子写真感光体用基材(W)表面に前記ホーニング液を高
速度で吹付けてホーニング処理することを特徴とする。
(Second invention) The surface treatment method for a substrate (W) for an electrophotographic photosensitive member according to the second invention of the present invention is characterized in that the polishing is carried out by the particle dispersion stirring device (U1) of the first invention. The method is characterized in that a honing treatment is carried out by spraying the honing liquid at a high speed onto the surface of the electrophotographic photoreceptor substrate (W) using a particle dispersion in which the material is dispersed as a honing liquid.

【0020】(第2発明の作用)前記構成を備えた本発
明の第2発明の電子写真感光体用基材(W)の表面処理
方法では、前記第1発明の粒子分散液撹拌装置(U1)
で撹拌された研磨材を分散させた粒子分散液をホーニン
グ液として使用するので、粒子分散液中の研磨材が均一
に分散している。このため、電子写真感光体用基材
(W)表面に前記ホーニング液を高速度で吹付けてホー
ニング処理した場合に、電子写真感光体用基材(W)表
面に均一な凹凸を形成することができる。
(Operation of the Second Invention) In the surface treatment method for a substrate (W) for an electrophotographic photosensitive member according to the second invention of the present invention having the above configuration, the particle dispersion stirring device (U1) of the first invention is used. )
Since the particle dispersion liquid in which the abrasive material stirred in the above is dispersed is used as the honing liquid, the abrasive material in the particle dispersion liquid is uniformly dispersed. Therefore, when the honing liquid is sprayed at a high speed on the surface of the electrophotographic photoreceptor substrate (W) to perform honing treatment, uniform unevenness is formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor substrate (W). Can be.

【0021】(第3発明)また、本発明の第3発明の電
子写真感光体は、前記第2発明の電子写真感光体用基材
(W)の表面処理方法で処理された電子写真感光体用基
材(W)を使用したことを特徴とする。
(Third Invention) The electrophotographic photoreceptor of the third invention of the present invention is an electrophotographic photoreceptor treated by the surface treatment method for the substrate (W) for an electrophotographic photoreceptor of the second invention. Characterized in that a base material (W) for use is used.

【0022】(第3発明の作用)前記構成を備えた本発
明の第3発明の電子写真感光体は、前記第2発明の電子
写真感光体用基材(W)の表面処理方法で処理された電
子写真感光体用基材(W)を使用しているので、表面の
凹凸が均一である。
(Effect of the Third Invention) The electrophotographic photoreceptor of the third invention of the present invention having the above-described configuration is treated by the surface treatment method for the substrate (W) for an electrophotographic photoreceptor of the second invention. Since the electrophotographic photoreceptor substrate (W) is used, the surface irregularities are uniform.

【0023】(第4発明)また、本発明の第4発明の電
子写真感光体基材の表面処理装置は、次の要件を備えた
ことを特徴とする、(B1)円筒状の電子写真感光体用
基材(W)をその軸回りに回転可能に収容するとともに
前記電子写真感光体用基材(W)に表面にホーニング液
を高速度で吹付けるホーニングガン(22)を収容する
ホーニング処理槽(15)、(B2)前記円筒状の電子
写真感光体用基材(W)を回転させる基材回転支持装置
(17)、(B3)前記電子写真感光体用基材(W)お
よびホーニングガン(22)を相対的に軸方向に移動さ
せる相対的移動装置、(B4)前記ホーニングガン(2
2)に前記請求項1ないし3のいずれか記載の粒子分散
液撹拌装置(U1)で撹拌された研磨材を分散させた粒
子分散液をホーニング液として前記ホーニングガン(2
2)に供給するホーニング液供給装置(25)。
(Fourth Invention) A surface treatment apparatus for an electrophotographic photosensitive member substrate according to the fourth invention of the present invention has the following requirements: (B1) a cylindrical electrophotographic photosensitive member; A honing process for accommodating a body for substrate (W) rotatably around its axis and for accommodating a honing gun (22) for spraying a honing liquid onto the surface of the electrophotographic photosensitive member (W) at a high speed. Tank (15), (B2) substrate rotation support device (17) for rotating the cylindrical electrophotographic photoreceptor substrate (W), (B3) the electrophotographic photoreceptor substrate (W) and honing A relative movement device for relatively moving the gun (22) in the axial direction; (B4) the honing gun (2);
4. The honing gun (2) using a particle dispersion in which the abrasive material stirred by the particle dispersion stirring device (U1) according to any one of claims 1 to 3 is dispersed as a honing liquid.
Honing liquid supply device (25) to be supplied to 2).

【0024】前記第4発明の相対的移動装置は、電子写
真感光体基材(W)に対してホーニングガン(22)を
移動させる構成、またはホーニングガン(22)に対し
て電子写真感光体用基材(W)を移動させる構成を採用
することが可能である。
The relative moving device according to the fourth aspect of the present invention is configured such that the honing gun (22) is moved with respect to the electrophotographic photosensitive member base material (W), or for the electrophotographic photosensitive member with respect to the honing gun (22). It is possible to adopt a configuration in which the substrate (W) is moved.

【0025】(第4発明の作用)また、本発明の第4発
明の電子写真感光体基材(W)の表面処理装置では、ホ
ーニング処理槽(15)内には、軸回りに回転可能な円
筒状の電子写真感光体用基材(W)およびホーニングガ
ン(22)が収容される。ホーニング液供給装置(2
5)は、前記ホーニングガン(22)に前記請求項1な
いし3のいずれか記載の粒子分散液撹拌装置(U1)で
撹拌された研磨材を分散させた粒子分散液をホーニング
液として前記ホーニングガン(22)に供給する。ホー
ニングガン(22)は、円筒状の前記電子写真感光体用
基材(W)に表面にホーニング液を高速度で吹付ける。
このとき、基材回転支持装置(17)は、前記円筒状の
電子写真感光体用基材(W)を回転させ、前記相対的移
動装置は、前記電子写真感光体用基材(W)およびホー
ニングガン(22)を相対的に軸方向に移動させる。
(Function of the Fourth Invention) In the surface treatment apparatus for an electrophotographic photosensitive member substrate (W) according to the fourth invention of the present invention, the honing tank (15) is rotatable around an axis. A cylindrical electrophotographic photoreceptor substrate (W) and a honing gun (22) are accommodated therein. Honing liquid supply device (2
5) The honing gun uses a particle dispersion obtained by dispersing the abrasive stirred by the particle dispersion stirring device (U1) according to any one of claims 1 to 3 in the honing gun (22) as a honing liquid. (22). The honing gun (22) sprays a honing liquid on the surface of the cylindrical electrophotographic photosensitive member (W) at a high speed.
At this time, the substrate rotation support device (17) rotates the cylindrical electrophotographic photosensitive member base (W), and the relative moving device rotates the electrophotographic photosensitive member base (W) and The honing gun (22) is relatively axially moved.

【0026】したがって、前記電子写真感光体用基材
(W)の全表面にホーニング液を高速度で吹付けること
ができる。前記ホーニング液としては、前記請求項1な
いし3のいずれか記載の粒子分散液撹拌装置(U1)で
撹拌された研磨材を均一に分散させた粒子分散液が使用
されるので、前記電子写真感光体用基材(W)の全表面
に均一な凹凸を形成することができる。したがって、表
面に均一な凹凸が形成された電子写真感光体を製造する
ことが可能となる。その場合、前記表面に均一な凹凸が
形成された電子写真感光体を用いて接触帯電方式により
帯電を行なっても、電荷リークが発生せず、画質欠陥の
生じない電子写真感光体を製造することができる。
Therefore, the honing liquid can be sprayed at a high speed on the entire surface of the electrophotographic photosensitive member substrate (W). A particle dispersion in which an abrasive material stirred by the particle dispersion stirring device (U1) according to any one of claims 1 to 3 is uniformly dispersed is used as the honing liquid. Uniform unevenness can be formed on the entire surface of the body substrate (W). Therefore, it becomes possible to manufacture an electrophotographic photoreceptor having uniform unevenness on the surface. In such a case, even when charging is performed by a contact charging method using an electrophotographic photosensitive member having uniform unevenness formed on the surface, a charge leak does not occur and an electrophotographic photosensitive member that does not cause image quality defects is manufactured. Can be.

【0027】上記のように粗面化された(凹凸が形成さ
れた)電子写真感光体用基材(導電性基材)(W)を使
用して電子写真感光体を製造する際には、所望により下
引き層が形成される。下引き層は公知の樹脂を用いて形
成されるが、膜厚0.05μm〜10μmの範囲、特
に、0.1〜2μmの範囲に設定することが好ましい。
感光層が電荷発生層と電荷輸送層との積層構造の場合、
それらのいずれかを下引き層の上に形成することができ
る。前記電荷発生層は、フタロシアニン等公知の材料を
用いて形成され、その膜厚0.05μm〜1μmの範
囲、特に、0.1〜0.5μmの範囲に設定することが好
ましい。電荷輸送層は、ポリカーボネート等公知の材料
を15〜30μmの膜厚で形成することができる。
When the electrophotographic photoreceptor is manufactured using the electrophotographic photoreceptor substrate (conductive substrate) (W) roughened (having irregularities) as described above, An undercoat layer is formed if desired. The undercoat layer is formed using a known resin, and is preferably set in a range of 0.05 μm to 10 μm, particularly preferably in a range of 0.1 μm to 2 μm.
When the photosensitive layer has a laminated structure of a charge generation layer and a charge transport layer,
Any of them can be formed on the underlayer. The charge generation layer is formed using a known material such as phthalocyanine, and its thickness is preferably set in the range of 0.05 μm to 1 μm, particularly preferably in the range of 0.1 to 0.5 μm. The charge transport layer can be formed of a known material such as polycarbonate with a thickness of 15 to 30 μm.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】次に図面を参照しながら、本発明
の実施の形態の具体例(実施例)を説明するが、本発明
は以下の実施例に限定されるものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, specific examples (embodiments) of the embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments.

【0029】(実施例1)図1は本発明の実施例1の表
面処理装置の説明図である。図2は前記図1の表面処理
装置で使用する粒子分散液撹拌装置(U1)の説明図で
ある。図1において、表面処理装置Uは、粒子分散液撹
拌装置U1とホーニング処理装置U2とを有している。粒
子分散液撹拌装置U1は研磨材により構成される粒子を
分散させた粒子分散液を収容する撹拌容器1を有してい
る。前記撹拌容器1は、容器下部の小径円筒壁2、上部
の大径円筒壁3、および前記小径円筒壁2上端および前
記大径円筒壁3下端を接続する円錐壁4を有している。
前記小径円筒壁2下端には円形の底壁5が設けられてい
る。
(Embodiment 1) FIG. 1 is an explanatory view of a surface treatment apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is an explanatory view of a particle dispersion stirring device (U1) used in the surface treatment device of FIG. In FIG. 1, the surface treatment device U has a particle dispersion liquid stirring device U1 and a honing treatment device U2. The particle dispersion stirring device U1 has a stirring container 1 for containing a particle dispersion in which particles composed of an abrasive are dispersed. The stirring vessel 1 has a small-diameter cylindrical wall 2 at a lower part of the vessel, a large-diameter cylindrical wall 3 at an upper part, and a conical wall 4 connecting an upper end of the small-diameter cylindrical wall 2 and a lower end of the large-diameter cylindrical wall 3.
A circular bottom wall 5 is provided at the lower end of the small-diameter cylindrical wall 2.

【0030】前記撹拌容器1の下端部には、前記小径円
筒壁2内面に沿って円周方向に前記粒子分散液を噴出し
て粒子分散液の旋回流を形成する旋回流形成用ノズル7
が設けられている。また、撹拌容器1内部には、前記円
錐壁4に向かって下向きの粒子分散液を噴出して前記旋
回流を撹拌する前記撹拌用ノズル8が設けられている。
撹拌用ノズル8は、前記円筒壁と円筒壁の中心との間の
中間位置に配置されて鉛直方向下向きに前記粒子分散液
を噴出する。図2において、本実施例1の前記旋回流形
成用ノズル7は矢印B1の位置に配置されており、前記
撹拌用ノズル8の先端は、前記円筒壁2,3の中心線回
りに、前記旋回流形成用ノズル7先端の噴出口の位置か
ら旋回流方向に角度θ(θ=225度±90度以内の範
囲に)回転した位置に配置されている。図1において、
粒子分散液循環装置11は、粒子分散液循環路12およ
びポンプ13を有しており、前記ポンプ13は、前記撹
拌容器1内の粒子分散液を吸い込んで、前記旋回流形成
用ノズル7および前記撹拌用ノズル8に移送して、前記
撹拌容器1内に噴出させる。
At the lower end of the stirring vessel 1, a swirling flow forming nozzle 7 for ejecting the particle dispersion in a circumferential direction along the inner surface of the small-diameter cylindrical wall 2 to form a swirling flow of the particle dispersion.
Is provided. Further, inside the stirring vessel 1, the stirring nozzle 8 for jetting the particle dispersion liquid downward toward the conical wall 4 to stir the swirling flow is provided.
The stirring nozzle 8 is disposed at an intermediate position between the cylindrical wall and the center of the cylindrical wall, and ejects the particle dispersion liquid vertically downward. In FIG. 2, the swirling flow forming nozzle 7 of the first embodiment is disposed at the position of arrow B1, and the tip of the stirring nozzle 8 is swung around the center line of the cylindrical walls 2, 3. It is disposed at a position rotated by an angle θ (within a range of θ = 225 degrees ± 90 degrees) in the swirling flow direction from the position of the jet port at the tip of the flow forming nozzle 7. In FIG.
The particle dispersion circulating apparatus 11 has a particle dispersion circulation path 12 and a pump 13. The pump 13 sucks the particle dispersion in the stirring vessel 1, and the swirl flow forming nozzle 7 and the The mixture is transferred to the stirring nozzle 8 and jetted into the stirring vessel 1.

【0031】前記粒子分散液撹拌装置U1の上方に配置
されたホーニング処理装置U2はホーニング処理槽15
を有している。ホーニング処理槽15の底壁にはホーニ
ング処理液を前記撹拌容器1に戻すための処理液排出口
15aが設けられている。前記処理液排出口15aと前記
撹拌容器1とは処理液戻し管16により接続されてい
る。ホーニング処理槽15内には電子写真感光体用基材
Wが基材回転支持装置17により回転可能に支持されて
いる。基材回転支持装置17は円錐状外側面を有する基
材下端支持部材18および基材上端支持部材19、ベア
リング20およびモータM1を有している。前記基材下
端支持部材18はモータM1により回転され、基材上端
支持部材19はベアリング20を介して図示しない支持
部材により回転可能に支持されている。
The honing treatment unit U2 disposed above the particle dispersion stirring device U1 has a honing treatment tank 15
have. On the bottom wall of the honing tank 15, a processing liquid outlet 15a for returning the honing liquid to the stirring vessel 1 is provided. The processing liquid outlet 15a and the stirring vessel 1 are connected by a processing liquid return pipe 16. A substrate W for an electrophotographic photosensitive member is rotatably supported in the honing tank 15 by a substrate rotation support device 17. The substrate rotation support device 17 includes a substrate lower end support member 18 and a substrate upper end support member 19 having a conical outer surface, a bearing 20, and a motor M1. The substrate lower end support member 18 is rotated by a motor M1, and the substrate upper end support member 19 is rotatably supported by a support member (not shown) via a bearing 20.

【0032】前記ホーニング処理槽15内には図示しな
い昇降装置により昇降される昇降ロッド21下端に支持
されたホーニングガン22が昇降可能に支持されてい
る。前記ホーニングガン22を昇降させる図示しない昇
降装置は、前記ホーニングガン22を電子写真感光体用
基材Wに対して相対的に移動させる相対的移動装置とし
ての機能を有している。前記ホーニングガン22には、
前記撹拌容器1内の粒子分散液がポンプ23およびホー
ニング液供給管24から構成されるホーニング液供給装
置25により供給されるとともに、エア供給源26から
圧縮エアAが供給されている。したがって、前記基材回
転支持装置17により前記電子写真感光体用基材Wを回
転させながら、且つ前記昇降ロッド21を上方から下方
に移動させながら、ホーニングガン22により粒子分散
液(ホーニング液)を高速度で前記電子写真感光体用基
材W表面に吹き付けてホーニング処理を行うことによ
り、前記電子写真感光体用基材W表面に微細な凹凸を均
一に形成することができる。
In the honing tank 15, a honing gun 22 supported at the lower end of a lifting rod 21 which is raised and lowered by a lifting device (not shown) is supported so as to be able to move up and down. An unillustrated elevating device that raises and lowers the honing gun 22 has a function as a relative moving device that relatively moves the honing gun 22 with respect to the electrophotographic photosensitive member base material W. The honing gun 22 includes:
The particle dispersion liquid in the stirring vessel 1 is supplied by a honing liquid supply device 25 including a pump 23 and a honing liquid supply pipe 24, and compressed air A is supplied from an air supply source 26. Therefore, while rotating the electrophotographic photosensitive member substrate W by the substrate rotation supporting device 17 and moving the lifting rod 21 from above to below, the honing gun 22 removes the particle dispersion liquid (honing liquid). By performing a honing process by spraying the surface of the substrate W for an electrophotographic photosensitive member at a high speed, fine irregularities can be uniformly formed on the surface of the substrate W for an electrophotographic photosensitive member.

【0033】本実施例1の旋回流形成用ノズル7は図2
の矢印B1の位置に配置されたノズルであり、また、本
実施例1の撹拌用ノズル8は矢印C3の位置に配置され
たノズルである。図2に示された位置B2は後述の実験
で使用する旋回流形成用ノズル7の配置位置を示し、ま
た、図2に示された位置C1,C2,C4は後述の実験で
使用する旋回流形成用ノズル7の配置位置を示してい
る。前記矢印C1〜C4で示す位置は、前記円筒壁2,3
の中心線回りに、前記位置B1の旋回流形成用ノズル7
先端の噴出口の位置から旋回流方向に角度θ(θ=45
度、135度、225度、および315度の4箇所±9
0度)回転した位置を示している。
The swirling flow forming nozzle 7 of the first embodiment is shown in FIG.
And the stirring nozzle 8 of the first embodiment is a nozzle arranged at the position of arrow C3. A position B2 shown in FIG. 2 indicates an arrangement position of the swirl flow forming nozzle 7 used in an experiment described later, and positions C1, C2 and C4 shown in FIG. The arrangement position of the forming nozzle 7 is shown. The positions indicated by the arrows C1 to C4 are the cylindrical walls 2 and 3 respectively.
Of the swirl flow forming nozzle 7 at the position B1 around the center line
Angle θ (θ = 45) in the swirling direction from the position of the jet port at the tip
Degrees, 135 degrees, 225 degrees, and 315 degrees ± 9 places
0 °) indicates a rotated position.

【0034】(実施例1の作用)前記撹拌容器1は容量
200リットルであり、撹拌容器1内には濃度27wt
%の粒子分散液(研磨液)165リットルを入れた。こ
の粒子分散液を図1の2のポンプを介し、各ノズルに送
液することにより、タンク内を攪拌させた。また、感光
体基材Wとして、0.75mm厚×30mmφ×340
mmのアルミニウムパイプを用意し、この感光体基材W
にダイヤモンドバイトを用いた鏡面切削加工を行なっ
て、表面をRa:0.03〜0.04μmの平滑面に仕上
げた。
(Operation of the First Embodiment) The stirring vessel 1 has a capacity of 200 liters, and a concentration of 27 wt.
% Of a particle dispersion (polishing liquid). The inside of the tank was stirred by sending this particle dispersion to each nozzle via the pump shown in FIG. Further, as the photoreceptor base material W, 0.75 mm thickness × 30 mmφ × 340
mm of aluminum pipe,
The surface was finished to a smooth surface of Ra: 0.03 to 0.04 μm by performing a mirror-cutting process using a diamond tool.

【0035】このアルミニウムパイプを感光体基材Wと
し、図1に示す表面処理装置Uによって、攪拌された撹
拌容器1内の粒子分散液(研磨液)を用い、感光体基材
Wの表面処理(表面の粗面化処理)を行った。その表面
処理においては、研磨材55.5kgを水100リット
ルに懸濁させ、これを21リットル/分の流量でホーニ
ングガン22に送り込んで、所定の圧縮空気圧(0.1
〜0.2MPa)で吹きつけ、所望の表面粗さ(Ra:
0.1〜0.5μm)になるように感光体基材W表面に吹
き付けた。ホーニングガン22は、2000mm/分で
基材の軸方向に移動させ、感光体基材Wは400rpm
で回転させた。
The aluminum pipe is used as a photoreceptor substrate W, and the surface treatment of the photoreceptor substrate W is performed using a particle dispersion liquid (polishing liquid) in a stirring vessel 1 stirred by a surface treatment apparatus U shown in FIG. (Surface roughening treatment) was performed. In the surface treatment, 55.5 kg of an abrasive is suspended in 100 liters of water, and the suspension is sent to the honing gun 22 at a flow rate of 21 liter / min.
00.2 MPa) to obtain the desired surface roughness (Ra:
(0.1 to 0.5 [mu] m). The honing gun 22 is moved in the axial direction of the substrate at 2000 mm / min.
And rotated.

【0036】次の比較例1〜6は旋回流形成用ノズル7
または撹拌用ノズル8の配置位置が異なる以外は同じ条
件で実験を行った。 (比較例1)旋回流形成用ノズル7の噴出口の位置は図
2のB1であり、撹拌用ノズル8は使用しなかった。 (比較例2)撹拌用ノズル8の噴出口の位置は図2のC
4であり、旋回流形成用ノズル7は使用しなかった。 (比較例3)旋回流形成用ノズル7の噴出口の位置は図
2のB1であり、撹拌用ノズル8の噴出口の位置は図2
のC1であった。 (比較例4)旋回流形成用ノズル7の噴出口の位置は図
2のB1であり、撹拌用ノズル8の噴出口の位置は図2
のC2であった。 (比較例5)旋回流形成用ノズル7の噴出口の位置は図
2のB1およびB2であり、撹拌用ノズル8は使用しなか
った。 (比較例6)旋回流形成用ノズル7の噴出口の位置は図
2のB2であり、撹拌用ノズル8の噴出口の位置は図2
のC2であった。
In the following Comparative Examples 1 to 6, a swirl flow forming nozzle 7 was used.
The experiment was performed under the same conditions except that the arrangement position of the stirring nozzle 8 was different. (Comparative Example 1) The position of the jet port of the swirl flow forming nozzle 7 was B1 in FIG. 2, and the stirring nozzle 8 was not used. (Comparative Example 2) The position of the ejection port of the stirring nozzle 8 is C in FIG.
4 and the swirl flow forming nozzle 7 was not used. (Comparative Example 3) The position of the spout of the swirl flow forming nozzle 7 is B1 in FIG. 2, and the position of the spout of the stirring nozzle 8 is B1 in FIG.
Was C1. (Comparative Example 4) The position of the spout of the swirling flow forming nozzle 7 is B1 in FIG. 2, and the position of the spout of the stirring nozzle 8 is B1 in FIG.
C2. (Comparative Example 5) The positions of the ejection ports of the swirl flow forming nozzle 7 were B1 and B2 in FIG. 2, and the stirring nozzle 8 was not used. (Comparative Example 6) The position of the spout of the swirling flow forming nozzle 7 is B2 in FIG. 2, and the position of the spout of the stirring nozzle 8 is B2 in FIG.
C2.

【0037】上記実施例1並びに比較例1〜6での攪拌
によるタンク液表面濃度及び液表面濃度を調べた。その
結果を表1に示す。
The tank liquid surface concentration and the liquid surface concentration by stirring in Example 1 and Comparative Examples 1 to 6 were examined. Table 1 shows the results.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】なお、下記実施例及び比較例に使用した研
磨材、各塗膜に使用した市販品は、次の通りであった。
研磨材…昭和タイタニウム社製の酸化アルミニウム:ア
ルナビーズ(CB−A30S)、その粒径は27μmで
ある。
The abrasives used in the following Examples and Comparative Examples, and the commercial products used for each coating film were as follows.
Abrasive: Aluminum oxide manufactured by Showa Titanium Co., Ltd .: Alnabeads (CB-A30S), and its particle size is 27 μm.

【0040】粗面化処理を施した基材上に、ジルコニウ
ム化合物としてトリブトキシジルコニウムアセチルアセ
トネート(ZC540、松本交商社製)の50%トルエ
ン溶液100部、シラン化合物としてγ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン(A1100、日本ユニカー社
製)10部、ポリビニルブチラール樹脂(BM−S、積
水化学社製)10部およびn−ブタノール130部を混
合し、得られた塗布液を浸漬塗布法により塗布し、14
0Cで15分間加熱して、1.0μmの下引き層を形成
した。
On a roughened substrate, 100 parts of a 50% toluene solution of tributoxyzirconium acetylacetonate (ZC540, manufactured by Matsumoto Kosho Co., Ltd.) as a zirconium compound, and γ-aminopropyltriethoxysilane as a silane compound (A1100, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 10 parts, polyvinyl butyral resin (BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 10 parts and n-butanol 130 parts were mixed, and the obtained coating solution was applied by dip coating.
Heating at 0C for 15 minutes formed a 1.0 μm undercoat layer.

【0041】次に、ポリビニルブチラール樹脂(商品
名:BM−1 、積水化学社製)の2%シクロヘキサノ
ン溶液に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料(特
開平5−263007号公報に記載のもの)を顔料と樹
脂の比を2:1に混合し、次いでサンドミルにより3時
間分散処理を行った。得られた分散液を、更に酢酸 n
−ブチルで希釈して基材表面に浸漬塗布し、0.15μ
m厚の電荷発生層を形成した。次に、N、N'−ジフェ
ニル−N、N'−ビス(m−トリル)ベンジジン4部及
びポリカーボネートZ樹脂6部を、モノクロルベンゼン
36部に溶解させた溶液を電荷発生層上に浸漬塗布し、
115Cで40分間乾燥して24μm厚の電荷輸送層を
形成し、これを感光体ドラム(電子写真感光体)とし
た。
Next, a hydroxygallium phthalocyanine pigment (described in JP-A-5-263007) was added to a 2% solution of polyvinyl butyral resin (trade name: BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) in cyclohexanone. Was mixed at a ratio of 2: 1 and then subjected to a dispersion treatment by a sand mill for 3 hours. The obtained dispersion is further treated with n-acetic acid.
Diluted with butyl and dip-coated on the substrate surface, 0.15μ
An m-thick charge generating layer was formed. Next, a solution prepared by dissolving 4 parts of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (m-tolyl) benzidine and 6 parts of polycarbonate Z resin in 36 parts of monochlorobenzene was applied onto the charge generating layer by dip coating. ,
After drying at 115 C for 40 minutes, a charge transport layer having a thickness of 24 μm was formed, and this was used as a photosensitive drum (electrophotographic photosensitive member).

【0042】上記で得た感光体ドラム(電子写真感光
体)を、マルチファンクショナルプリンター(富士ゼロ
ックス製 Able−3321、帯電ロールによる接触
帯電方式)に搭載し、中間調濃度を含む画像により連続
50,000枚まで出力試験を行なって、それぞれの出
力画像を調べた。その結果を前記表1に示す。
The photosensitive drum (electrophotographic photosensitive member) obtained above is mounted on a multi-functional printer (Able-3321 manufactured by Fuji Xerox, a contact charging method using a charging roll), and a continuous printing is performed using an image including a halftone density. An output test was performed on up to 4,000 sheets, and each output image was examined. The results are shown in Table 1 above.

【0043】実施例1の場合には、タンク内上層・下層
での液濃度差もなく上層でも濃度は安定し、タンク内が
均一液になるのを確認できた。また、基材表面処理後の
表面粗さについても変動が小さく、基材表面全体が均一
な粗度が得られ、画像50,000枚の出力試験後にお
いても白点、黒点また干渉縞などの画質欠陥は見られな
かった。また、アルミ基材のSEM写真を観察しても、
基材は均一な粗さの面であることが確認された。
In the case of Example 1, there was no difference in liquid concentration between the upper layer and the lower layer in the tank, the concentration was stable in the upper layer, and it was confirmed that the liquid in the tank became uniform. Also, the variation in surface roughness after the substrate surface treatment is small, uniform roughness is obtained on the entire substrate surface, and white spots, black spots, interference fringes, etc., even after an output test of 50,000 images. No image quality defects were found. Also, observing the SEM photograph of the aluminum substrate,
It was confirmed that the substrate had a surface with a uniform roughness.

【0044】また、比較例1,2,4,5においては、
タンク内は上層部まで十分には攪拌されず、タンク内渡
度にはバラツキがある。しかし、タンク内局部の濃度は
比較的安定しており、画像出力試験において画質欠陥は
見られなかった。比較例3,6ではタンク内は上層部ま
では攪拌されず、タンク内は濃度のバラツキを持ち、均
一液の供給をするべく攪拌は可能ではなかった。また、
基材表面粗さは、基材内バラツキが大きく表面は不均一
な凹凸になる。そのため、画像出力試験では表面粗さの
バラツキにより、電化リークによる画像欠陥、また干渉
縞が現れた。
In Comparative Examples 1, 2, 4, and 5,
The inside of the tank is not sufficiently agitated to the upper layer portion, and the tank delivery varies. However, the local concentration in the tank was relatively stable, and no image quality defect was observed in the image output test. In Comparative Examples 3 and 6, the inside of the tank was not stirred up to the upper layer, the inside of the tank varied in concentration, and stirring was not possible to supply a uniform liquid. Also,
As for the surface roughness of the substrate, the dispersion in the substrate is large and the surface becomes uneven. Therefore, in the image output test, image defects due to electrification leak and interference fringes appeared due to variations in surface roughness.

【0045】攪拌容器1において旋回流及び下向流を用
いて攪拌を行う場合、下向流を形成する噴出口を、旋回
流を形成する憤出口から旋回流方向に225度の法線方
向に設置すると最も表面粗さの安定した画質欠陥のない
基材を得ることができる。また、下向流を形成する噴出
口のみ、旋回流を形成する噴出口のみ、下向流を形成す
る噴出口を、旋回流を形成する噴出口から旋回流方向に
225度±90度以内の法線方向に設置する組み合わせ
においても画質欠陥のない基材を得ることができる。
In the case where stirring is performed using a swirling flow and a downward flow in the stirring vessel 1, the jet port for forming the downward flow is moved from the resent port for forming the swirling flow in the normal direction of 225 degrees in the direction of the swirling flow. When installed, a substrate with the most stable surface roughness and no image quality defects can be obtained. In addition, only the jets forming the downward flow, only the jets forming the swirl flow, the jets forming the downward flow, the swirl flow from the jet forming the swirl flow within 225 degrees ± 90 degrees A base material free from image quality defects can be obtained even in a combination of installation in the normal direction.

【0046】(実施例2)図3は本発明の実施例2の表
面処理装置の説明図である。図4は前記図3の斜視図で
ある。なお、この実施例2の説明において、前記実施例
1の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付し
て、その詳細な説明を省略する。この実施例2は、下記
の点で前記実施例1と相違しているが、他の点では前記
実施例1と同様に構成されている。図3、図4におい
て、この実施例2ではホーニング処理槽15は2槽設け
られており、2槽のホーニング処理槽15,15は一体
に形成された容器を仕切壁31により仕切られて構成さ
れている。前記ホーニング処理槽15および基材回転支
持装置17はモータM2により回転する回転テーブル3
2上に支持されている。基材上端支持部材19は昇降可
能に構成されており、回転テーブル32の回転時には一
度上昇して感光体基材Wを離し、回転テーブル32の回
転後に下降し、前記感光体基材Wを押さえるように構成
されている。前記ホーニング処理槽15内の処理液を前
記撹拌容器1に戻す処理液戻し管16は1個だけ設けら
れており、前記2槽の各ホーニング処理槽15の各処理
液排出口15aは前記処理液戻し管16と接触せずに回
転するように構成されている。
(Embodiment 2) FIG. 3 is an explanatory view of a surface treatment apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 4 is a perspective view of FIG. In the description of the second embodiment, components corresponding to the components of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The second embodiment differs from the first embodiment in the following points, but has the same configuration as the first embodiment in other points. 3 and 4, in the second embodiment, two honing treatment tanks 15 are provided, and the two honing treatment tanks 15 and 15 are configured by partitioning an integrally formed container by a partition wall 31. ing. The honing tank 15 and the substrate rotation supporting device 17 are rotated by a motor M2.
2 supported. The substrate upper end support member 19 is configured to be able to move up and down. When the rotating table 32 rotates, it rises once to separate the photosensitive member W, and after rotating the rotating table 32, it descends to hold the photosensitive member W. It is configured as follows. Only one processing liquid return pipe 16 for returning the processing liquid in the honing processing tank 15 to the stirring vessel 1 is provided, and each processing liquid outlet 15a of each of the two honing processing tanks 15 is provided with the processing liquid. It is configured to rotate without contacting the return pipe 16.

【0047】前記ホーニングガン22を前記ホーニング
処理槽15の上方に上昇させた状態で、前記モータM2
を回転して回転テーブル32を回転させることにより前
記2槽の各ホーニング処理槽15,15のうちの一方を
交互にホーニング処理位置(前記ホーニング処理槽15
の各処理液排出口15aが前記処理液戻し管16上端に
対向する位置)に回転移動させるように構成されてい
る。また、この実施例2も、前記実施例1と同様に、旋
回流形成用ノズル7の配置位置をB1(図2参照)と
し、撹拌用ノズル8の配置位置はC3(θ=225度、
図2参照)に設定した。
With the honing gun 22 raised above the honing tank 15, the motor M2
By rotating the rotary table 32 by rotating the honing processing tanks 15, 15, one of the two honing processing tanks 15 and 15 is alternately turned to the honing processing position (the honing processing tank 15).
(A position where each processing liquid discharge port 15a faces the upper end of the processing liquid return pipe 16). In the second embodiment, as in the first embodiment, the position of the swirling flow forming nozzle 7 is B1 (see FIG. 2), and the position of the stirring nozzle 8 is C3 (θ = 225 degrees,
(See FIG. 2).

【0048】(実施例2の作用)前記ホーニングガン2
2を上昇させた状態で、前記モータM2により回転テー
ブル32を回転させて前記2槽のうちの一方のホーニン
グ処理槽15を前記ホーニング処理位置に移動させる。
その状態で前記ホーニングガン22を下降させてホーニ
ング処理槽15に移動させて、前記実施例1と同様にホ
ーニング処理を行う。この実施例2も、前記実施例1と
同様に、撹拌容器1内の研磨材を分散させた粒子分散処
理液を旋回流形成用ノズル7および撹拌用ノズル8によ
り均一に撹拌することができるので、感光体基材W表面
に均一な凹凸を形成することができる。
(Operation of the Second Embodiment) The Honing Gun 2
In a state where 2 is raised, the rotary table 32 is rotated by the motor M2 to move one of the two tanks, the honing tank 15, to the honing processing position.
In this state, the honing gun 22 is lowered and moved to the honing processing tank 15, and the honing processing is performed in the same manner as in the first embodiment. In the second embodiment, similarly to the first embodiment, the particle dispersion treatment liquid in which the abrasive is dispersed in the stirring vessel 1 can be uniformly stirred by the swirl flow forming nozzle 7 and the stirring nozzle 8. As a result, uniform unevenness can be formed on the surface of the photoconductor substrate W.

【0049】(実施例3)図5は本発明の実施例3の表
面処理装置の説明図である。図6は前記図5の斜視図で
ある。なお、この実施例3の説明において、前記実施例
2の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付し
て、その詳細な説明を省略する。この実施例3は、下記
の点で前記実施例2と相違しているが、他の点では前記
実施例2と同様に構成されている。図5、図6におい
て、この実施例3ではホーニング処理槽15の底壁中央
部は回転底壁33により構成されている。また、前記仕
切壁31は外側部の一対の固定仕切壁31a,31a(図
6参照)と、中央部の回転仕切壁31bとにより構成さ
れている。前記回転底壁33は前記回転仕切壁31bと
一体的に回転するように構成されている。
(Embodiment 3) FIG. 5 is an explanatory view of a surface treatment apparatus according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 6 is a perspective view of FIG. In the description of the third embodiment, components corresponding to the components of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The third embodiment differs from the second embodiment in the following points, but has the same configuration as the second embodiment in other points. 5 and 6, in the third embodiment, the center of the bottom wall of the honing tank 15 is constituted by a rotating bottom wall 33. The partition wall 31 is composed of a pair of fixed partition walls 31a, 31a (see FIG. 6) on the outer side and a rotary partition wall 31b on the center. The rotary bottom wall 33 is configured to rotate integrally with the rotary partition wall 31b.

【0050】また、前記回転テーブル32およびモータ
M2は昇降テーブル34により昇降可能に支持されてい
る。また、前記モータM1,M1により回転される基材下
端支持部材18,18の軸18a,18aは、前記回転底
壁33をスライド可能且つ回転可能に貫通している。し
たがって、回転テーブル32が回転するときには前記回
転底壁33および回転仕切壁31bが回転して、前記各
モータM1,M1およびそれによって回転される感光体基
材W,Wの位置が入れ代わるように構成されている。ま
た、この実施例3では、前記回転底壁33の外側の底壁
部分は回転しないので、前記処理液戻し管16に前記処
理液排出口15aに一体的に連結されている。この実施
例3では前記ホーニングガン22が昇降する代わりに、
前記昇降テーブル34の昇降により感光体基材Wを昇降
させながら、ホーニング処理を行う。この実施例3も前
記実施例2と同様に、撹拌容器1内の研磨材を分散させ
た粒子分散処理液を旋回流形成用ノズル7および撹拌用
ノズル8により均一に撹拌することができるので、感光
体基材W表面に均一な凹凸を形成することができる。
The rotary table 32 and the motor M 2 are supported by a lifting table 34 so as to be able to move up and down. Further, the shafts 18a, 18a of the substrate lower end supporting members 18, 18 rotated by the motors M1, M1 penetrate the rotating bottom wall 33 slidably and rotatably. Therefore, when the rotary table 32 rotates, the rotary bottom wall 33 and the rotary partition wall 31b rotate, and the positions of the motors M1, M1 and the photoconductor substrates W, W rotated by the motors M1, M1 are switched. Have been. In the third embodiment, since the bottom wall portion outside the rotating bottom wall 33 does not rotate, it is integrally connected to the processing liquid return pipe 16 and the processing liquid discharge port 15a. In the third embodiment, instead of the honing gun 22 moving up and down,
The honing process is performed while the photosensitive member base material W is moved up and down by raising and lowering the lifting table 34. In the third embodiment, similarly to the second embodiment, the particle dispersion treatment liquid in which the abrasive is dispersed in the stirring vessel 1 can be uniformly stirred by the swirling flow forming nozzle 7 and the stirring nozzle 8. Uniform irregularities can be formed on the surface of the photoconductor substrate W.

【0051】[0051]

【発明の効果】前述の本発明の粒子分散液撹拌装置、前
記粒子分散液撹拌装置を使用した電子写真感光体用基材
の表面処理方法、表面処理装置、および前記表面処理方
法により処理された電子写真感光体は、下記の効果を奏
することができる。 (E01)液体中に粒子を均一に分散させることができ
る。 (E02)研磨材が均一に分散した研磨液を造ることがで
きる。 (E03)レーザー光によって画像を形成した場合に、干
渉縞模様および、黒斑点等の画質欠陥、さらには、接触
帯電方式による電荷リークによる画質欠陥のない改善さ
れた電子写真感光体を提供することができる。本発明の
電子写真感光体は、レーザー光を利用する電子写真複写
装置、特に、接触帯電方式を用いるレーザービームプリ
ンタに使用することにより、良好な画像品質を安定して
提供することができる。
As described above, the particle dispersion stirring device of the present invention, the surface treatment method for a substrate for an electrophotographic photosensitive member using the particle dispersion stirring device, the surface treatment device, and the surface treatment method are used. The electrophotographic photoreceptor has the following effects. (E01) The particles can be uniformly dispersed in the liquid. (E02) A polishing liquid in which the polishing material is uniformly dispersed can be produced. (E03) To provide an improved electrophotographic photoreceptor free from image quality defects such as interference fringe patterns and black spots when images are formed by laser light, and image quality defects due to charge leakage due to contact charging. Can be. The electrophotographic photoreceptor of the present invention can stably provide good image quality by being used in an electrophotographic copying machine using a laser beam, in particular, a laser beam printer using a contact charging system.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本発明の実施例1の表面処理装置の説
明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a surface treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図2は前記図1の表面処理装置で使用する粒
子分散液撹拌装置の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view of a particle dispersion stirring device used in the surface treatment device of FIG.

【図3】 図3は本発明の実施例2の表面処理装置の説
明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a surface treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 図4は前記図3の斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of FIG. 3;

【図5】 図5は本発明の実施例3の表面処理装置の説
明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a surface treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図6】 図6は前記図5の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of FIG. 5;

【図7】 図7は液中の研磨材の分散が不均一な場合に
はホーニング後の基材表面の凹凸にバラツキが生じるこ
とを示す図である。
FIG. 7 is a view showing that unevenness of the surface of the base material after honing varies when the dispersion of the abrasive in the liquid is not uniform.

【図8】 図8は研磨材が均一に分散されている場合に
はホーニング後の基材表面に均一な凹凸が形成されるこ
とを示す図である。
FIG. 8 is a view showing that uniform unevenness is formed on the surface of a substrate after honing when the abrasive is uniformly dispersed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

U1…粒子分散液撹拌装置、W…電子写真感光体用基
材、1…撹拌容器、2…小径円筒壁、3…大径円筒壁、
4…円錐壁、7…旋回流形成用ノズル、8…撹拌用ノズ
ル、11…粒子分散液循環装置、15…ホーニング処理
槽、22…ホーニングガン、25…ホーニング液供給装
置。
U1: a particle dispersion stirring device, W: a substrate for an electrophotographic photosensitive member, 1: a stirring container, 2: a small-diameter cylindrical wall, 3: a large-diameter cylindrical wall,
Reference numeral 4 denotes a conical wall, 7 denotes a swirling flow forming nozzle, 8 denotes a stirring nozzle, 11 denotes a particle dispersion liquid circulation device, 15 denotes a honing treatment tank, 22 denotes a honing gun, and 25 denotes a honing liquid supply device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 一 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 田外 太 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Kazu Tanaka 1600 Takematsu, Minami Ashigara City, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Xerox Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 次の要件を備えたことを特徴とする粒子
分散液撹拌装置、(A01)鉛直な円筒壁を有し、粒子分
散液が収容される撹拌容器、(A02)前記粒子分散液に
旋回流が形成されるように前記円筒壁面の円周方向に前
記粒子分散液を噴出する旋回流形成用ノズル、(A03)
前記円筒壁と円筒壁の中心との間の中間位置において鉛
直方向に前記粒子分散液を噴出する撹拌用ノズル、(A
04)前記撹拌容器内の粒子分散液を循環させて前記旋回
流形成用ノズルおよび前記撹拌用ノズルから噴出させる
粒子分散液循環装置。
1. A particle dispersion stirring device having the following requirements, (A01) a stirring container having a vertical cylindrical wall and containing a particle dispersion, (A02) the particle dispersion A nozzle for forming a swirling flow which jets the particle dispersion in a circumferential direction of the cylindrical wall surface so that a swirling flow is formed in the swirl flow, (A03)
A stirring nozzle for ejecting the particle dispersion vertically at an intermediate position between the cylindrical wall and the center of the cylindrical wall, (A
04) A particle dispersion circulating device that circulates the particle dispersion in the stirring vessel and jets out from the swirl flow forming nozzle and the stirring nozzle.
【請求項2】 次の要件を備えたことを特徴とする請求
項1記載の粒子分散液撹拌装置、(A05)前記円筒壁の
中心線回りに、前記旋回流形成用ノズル先端の噴出口の
位置から旋回流方向に225度±90度以内の範囲に回
転した位置に撹拌用ノズル先端が配置された前記撹拌用
ノズル。
2. The particle dispersion stirring device according to claim 1, wherein the stirring device has the following requirements: (A05) a nozzle at the tip of the swirling flow forming nozzle around a center line of the cylindrical wall; The stirring nozzle having a stirring nozzle tip disposed at a position rotated within a range of 225 degrees ± 90 degrees in a swirling flow direction from the position.
【請求項3】 次の要件を備えたことを特徴とする請求
項1または2記載の粒子分散液撹拌装置、(A06)下部
に小径円筒壁を有し、上部に大径円筒壁を有し、前記小
径円筒壁上端および前記大径円筒壁下端を接続する円錐
壁を有する前記撹拌容器、(A07)前記小径円筒壁内面
に沿って前記粒子分散液を噴出する前記旋回流形成用ノ
ズル、(A08)前記円錐壁に向かって下向きの粒子分散
液を噴出する前記撹拌用ノズル。
3. The particle dispersion stirring device according to claim 1, wherein the device has the following requirements: (A06) a small-diameter cylindrical wall is provided at a lower portion, and a large-diameter cylindrical wall is provided at an upper portion. A stirring vessel having a conical wall connecting the upper end of the small-diameter cylindrical wall and the lower end of the large-diameter cylindrical wall, (A07) the swirl flow forming nozzle for jetting the particle dispersion along the inner surface of the small-diameter cylindrical wall, A08) The stirring nozzle for ejecting a particle dispersion liquid downward toward the conical wall.
【請求項4】 前記請求項1ないし3のいずれか記載の
粒子分散液撹拌装置で撹拌された研磨材を分散させた粒
子分散液をホーニング液として使用し、電子写真感光体
用基材表面に前記ホーニング液を高速度で吹付けてホー
ニング処理することを特徴とする電子写真感光体用基材
の表面処理方法。
4. A particle dispersion in which an abrasive is stirred by the particle dispersion stirring device according to any one of claims 1 to 3 is used as a honing liquid, and is applied to a surface of a substrate for an electrophotographic photosensitive member. A method for surface treatment of a substrate for an electrophotographic photosensitive member, comprising spraying the honing liquid at a high speed to perform a honing treatment.
【請求項5】 前記請求項4記載の電子写真感光体用基
材の表面処理方法で処理された電子写真感光体用基材を
使用した電子写真感光体。
5. An electrophotographic photoreceptor using an electrophotographic photoreceptor substrate that has been treated by the surface treatment method for an electrophotographic photoreceptor substrate according to claim 4.
【請求項6】 次の要件を備えたことを特徴とする電子
写真感光体基材の表面処理装置、(B1)円筒状の電子
写真感光体用基材をその軸回りに回転可能に収容すると
ともに前記電子写真感光体用基材に表面にホーニング液
を高速度で吹付けるホーニングガンを収容するホーニン
グ処理槽、(B2)前記円筒状の電子写真感光体用基材
を回転させる基材回転支持装置、(B3)前記電子写真
感光体用基材およびホーニングガンを相対的に軸方向に
移動させる相対的移動装置、(B4)前記ホーニングガ
ンに前記請求項1ないし3のいずれか記載の粒子分散液
撹拌装置で撹拌された研磨材を分散させた粒子分散液を
ホーニング液として前記ホーニングガンに供給するホー
ニング液供給装置。
6. An electrophotographic photoreceptor substrate surface treatment apparatus characterized by having the following requirements: (B1) A cylindrical electrophotographic photoreceptor substrate is rotatably accommodated around its axis. A honing tank containing a honing gun for spraying a honing liquid onto the surface of the electrophotographic photosensitive member at a high speed, and (B2) a substrate rotating support for rotating the cylindrical electrophotographic photosensitive member. An apparatus, (B3) a relative moving device for relatively moving the substrate for the electrophotographic photoreceptor and the honing gun in the axial direction, and (B4) the particle dispersion according to any one of claims 1 to 3 to the honing gun. A honing liquid supply device for supplying a particle dispersion in which an abrasive material stirred by a liquid stirring device is dispersed to the honing gun as a honing liquid.
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