JP2525654B2 - Film forming method - Google Patents

Film forming method

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JP2525654B2
JP2525654B2 JP26643888A JP26643888A JP2525654B2 JP 2525654 B2 JP2525654 B2 JP 2525654B2 JP 26643888 A JP26643888 A JP 26643888A JP 26643888 A JP26643888 A JP 26643888A JP 2525654 B2 JP2525654 B2 JP 2525654B2
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Description

【発明の詳細な説明】 イ.産業上の利用分野 本発明は、被膜形成方法に関し、例えば電子写真感光
体の感光層の塗布方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film forming method, for example, a method for coating a photosensitive layer of an electrophotographic photosensitive member.

ロ.従来技術 感光体の層形成に際しては、各層を薄膜でかつ均一に
層形成しなければならない。こうした塗布方法として
は、例えばスプレー塗布、ディップ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布方法等が検討されている。なかでも、円
筒状の導電性基体等に均一な塗膜を塗布形成するにはデ
ィップ塗布が多用される。
B. 2. Description of the Related Art In forming a layer of a photoreceptor, each layer must be formed as a thin film and uniformly. As such a coating method, for example, spray coating, dip coating, blade coating, roll coating and the like have been studied. Of these, dip coating is often used to form a uniform coating film on a cylindrical conductive substrate or the like.

しかし、かかるディップ塗布方法には以下のような問
題がある。
However, such a dip coating method has the following problems.

(a).塗布液の必要液量が非常に多く、かつ塗布液の
うち塗膜形成に有効に使用される率が低いため塗布液の
無駄が多い。
(A). Since the required amount of the coating liquid is very large and the ratio of the coating liquid effectively used for forming a coating film is low, the coating liquid is wasted a lot.

(b).塗布液液面の上下動により、塗布槽の壁面に塗
布液が付着し、付着した塗布液が乾燥して乾固物が生成
する。このため、塗布欠陥等の不都合が生じている。
(B). By the vertical movement of the liquid level of the coating liquid, the coating liquid adheres to the wall surface of the coating tank, and the adhered coating liquid dries to produce a dry solid. Therefore, inconveniences such as coating defects occur.

(c).いわゆるオーバーフロー方式のディップ塗布装
置においては、ポンプの動力によって塗布槽とタンクと
の間で塗布液を循環させているので、ポンプを塗布液が
通過する際に塗布液に加わる剪断力により塗布液が劣化
する。
(C). In the so-called overflow type dip coating device, the coating liquid is circulated between the coating tank and the tank by the power of the pump, so that the coating liquid is generated by the shearing force applied to the coating liquid when the coating liquid passes through the pump. to degrade.

他の方法として、導電性基体ドラムにスライドホッパ
ー等の塗布手段を通過させ、この通過時に感光液をドラ
ム外周面に塗布するものがある。しかし、この方法では
基体ドラムを塗布手段へと一本ずつ送り込んでいるた
め、ドラムを一本塗布するごとに作業を中断し、新たな
ドラムの載置、ブレードの洗浄が必要であって、連続的
なドラムの塗布が不可能であった。このため作業能率が
低下し、また作業を中断している間に塗布液の物性が変
化したり乾固物の生成を招き、このため塗膜の不均一や
塗布欠陥の原因となっていた。
As another method, there is a method in which a conductive substrate drum is passed through a coating device such as a slide hopper and the photosensitive liquid is coated on the outer peripheral surface of the drum during the passage. However, in this method, since the substrate drums are fed to the coating means one by one, the work is interrupted every time one drum is coated, and it is necessary to mount a new drum and clean the blades. It was impossible to apply a typical drum. For this reason, the work efficiency is lowered, and the physical properties of the coating solution are changed or the dried product is generated during the interruption of the work, which causes nonuniformity of the coating film and coating defects.

また、特開昭60−95546号公報には複数のドラムを同
軸上に多数配置し、このドラム列の外周面に圧接ローラ
を当てがい、この圧接ローラを回転させてドラムを次々
と塗布手段へと送り込む方法が開示されている。しか
し、これでは圧接ローラがドラム外周へと押しつけられ
るため、ドラム外周に傷が発生し、また塵が付着し易
く、塗布欠陥の原因となる。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 60-95546, a plurality of drums are arranged coaxially, a pressure roller is applied to the outer peripheral surface of the drum row, and the pressure roller is rotated to successively apply the drums to the coating means. Is disclosed. However, in this case, since the pressure contact roller is pressed against the outer circumference of the drum, scratches are generated on the outer circumference of the drum, and dust is apt to adhere, which causes a coating defect.

ハ.発明の目的 本発明の目的は、複数の被処理体の被膜形成処理を連
続して行うことができ、かつ被膜欠陥も防止できるよう
な被膜形成方法を提供することである。
C. OBJECT OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a film forming method capable of continuously performing a film forming process on a plurality of objects to be processed and preventing film defects.

ニ.発明の構成 本発明は、被膜形成手段と連続して積み重ねたドラム
状基体とを相対的に移動させることにより、このドラム
状基体に被膜形成処理する感光体の被膜形成方法におい
て、 (a)被膜形成処理前の積み重ねた第1のドラム状基体
の非画像部を保持し、前記被膜形成手段に対して前記第
1のドラム状基体を相対的に移動させることにより、こ
のドラム状基体を被膜形成処理する工程と、 (b)被膜形成処理前の積み重ねた第2のドラム状基体
の非画像部を保持し、前記第2のドラム状基体を前記被
膜形成手段に対して相対的に移動させ、前記第1のドラ
ム状基体の被膜形成処理に引き続いて被膜形成を停止さ
せることなく前記第2のドラム状基体を被膜形成処理す
る工程と を有することを特徴とする感光体の被膜形成方法に係る
ものである。
D. The present invention is directed to a method for forming a film on a photoreceptor in which a drum-shaped substrate that is continuously stacked is moved relatively to the drum-shaped substrate so that the drum-shaped substrate is subjected to film-forming treatment. By holding the non-image portion of the stacked first drum-shaped substrates before the forming process and moving the first drum-shaped substrates relative to the film-forming means, the drum-shaped substrates are film-formed. And (b) holding the non-image part of the stacked second drum-shaped substrate before the film-forming treatment, moving the second drum-shaped substrate relative to the film-forming means, And a step of forming a film on the second drum-shaped substrate without stopping the film formation subsequent to the film-forming treatment on the first drum-shaped substrate. thing Is.

「被膜形成処理を停止させることなく」とは、塗布手
段へと積み重ねてドラム状基体を連続して供給し、被膜
形成処理中の各ドラム状基体をその塗布終了まで停止さ
せないことをいう。ドラム状基体の移動速度の変化等は
許容される。
The phrase “without stopping the film forming process” means that the drum-shaped substrates are stacked and continuously supplied to the coating means, and each drum-shaped substrate during the film forming process is not stopped until the coating is completed. Changes in the moving speed of the drum-shaped substrate are allowed.

「ドラム状基体の非画像部」には、ドラム状基体の被
膜形成部位中の非画像部のほか、搬送を容易にするため
に挿入したスペーサーの如き部材をも含む。
The "non-image portion of the drum-shaped substrate" includes not only the non-image portion in the film forming portion of the drum-shaped substrate, but also a member such as a spacer inserted to facilitate transportation.

ホ.実施例 以下、本発明の実施例を説明する。E. Examples Hereinafter, examples of the present invention will be described.

第1図は塗布装置を示す概略正面図である。 FIG. 1 is a schematic front view showing a coating device.

互いに相対向する一組の塗布装置本体20の内側にはそ
れぞれ上下方向に向うボールネジ22が設けられており、
各ボールネジ22にはそれぞれ昇降部材23が取り付けられ
ている。ボールネジ22にはスペーサー把持具28A、28Bが
それぞれ固定され、駆動用モータ21を駆動させることに
より昇降部材23、スペーサー把持具28A、28Bを上昇、下
降させられるようになっている。スペーサー把持具28
A、28Bは共に把持具本体34A、34Bの端部にハンド把持部
30A、30Bが設けられた構成となっており、かつ各ハンド
把持部30A、30Bには共にスペーサー把持用ハンド29A、2
9Bが固定されている。
Ball screws 22 facing up and down are provided inside the pair of coating device main bodies 20 facing each other.
A lifting member 23 is attached to each ball screw 22. Spacer gripping tools 28A and 28B are respectively fixed to the ball screw 22, and the elevating member 23 and the spacer gripping tools 28A and 28B can be raised and lowered by driving the drive motor 21. Spacer gripping tool 28
A and 28B are both hand grips at the ends of the gripper bodies 34A and 34B.
30A and 30B are provided, and the spacer gripping hands 29A and 2 are provided in the respective hand gripping portions 30A and 30B.
9B is fixed.

各塗布装置本体20の間には昇降装置24が設置され、昇
降装置24にドラム供給用ハンド33が取り付けられてい
る。ハンド33の上側には順にスペーサー26C、導電性基
体ドラム(ドラム)27C、スペーサー26B、ドラム27B、
スペーサー26A、ドラム27Aが接続されており、ドラム27
Aの上側にはドラム排出用ハンド25が配置されている。
スペーサー26Aには突起40が設けられ、この突起40がド
ラム27Aの中空部27a内に嵌合せしめられている。同様
に、ドラム27Bとスペーサー26B、ドラム27Cとスペーサ
ー26Cの間もそれぞれ嵌合固定されている。
An elevating device 24 is installed between each coating device body 20, and a drum supply hand 33 is attached to the elevating device 24. On the upper side of the hand 33, a spacer 26C, a conductive substrate drum (drum) 27C, a spacer 26B, a drum 27B, in that order.
Spacer 26A and drum 27A are connected.
A drum discharge hand 25 is arranged above A.
A protrusion 40 is provided on the spacer 26A, and the protrusion 40 is fitted in the hollow portion 27a of the drum 27A. Similarly, the drum 27B and the spacer 26B, and the drum 27C and the spacer 26C are also fitted and fixed, respectively.

塗布手段31は塗布手段載置台32の上に載置されてお
り、塗布手段載置台32は図示省略した保持手段により保
持されている。塗布手段31及び塗布手段載置台32は例え
ば後述する塗布装置(第8図〜第10図参照)のようにド
ラム27A、27B、27C上に塗布液を塗布するものであり、
第1図の例においてはドラム27A、27B、27Cが上昇する
に従ってドラム27A、27B、27C上に順次塗膜が形成され
る。
The coating means 31 is mounted on a coating means mounting base 32, and the coating means mounting base 32 is held by holding means (not shown). The coating means 31 and the coating means mounting table 32 are for coating the coating liquid onto the drums 27A, 27B and 27C as in a coating device (see FIGS. 8 to 10) described later,
In the example of FIG. 1, as the drums 27A, 27B and 27C rise, coating films are sequentially formed on the drums 27A, 27B and 27C.

第2図(a)は把持用ハンド及びハンド把持部を拡大
して示す平面図、同図(b)は同図(a)の右側面図で
ある。
2A is an enlarged plan view showing the gripping hand and the hand gripping portion, and FIG. 2B is a right side view of FIG. 2A.

ハンド把持部30にはピストン30a及びシリンダ30bが設
けられ、スペーサー把持用ハンド本体29cはネジ30eによ
りピストン30a又はシリンダ30bに取り付けられ、またネ
ジ30dによりハンド把持部30の本体に取り付けられてい
る。各本体29cにはそれぞれ2個の調整ユニット29bが固
定され、スペーサー26が相対向する4個の調整ユニット
29b間に挟持されるようになっている。各調整ユニット2
9bはドラム27A、27Bの中心位置が径方向へとずれないよ
う位置調整するものである。各調整ユニット29bの先端
部分にはベアリング29aが設けられ、スペーサー26は4
個のベアリング29aにより押圧され、挟持されることと
なる。
The hand grip 30 is provided with a piston 30a and a cylinder 30b, the spacer gripping hand main body 29c is attached to the piston 30a or the cylinder 30b with a screw 30e, and is attached to the main body of the hand grip 30 with a screw 30d. Two adjustment units 29b are fixed to each body 29c, and four adjustment units have spacers 26 facing each other.
It is sandwiched between 29b. Each adjustment unit 2
The position 9b is for position adjustment so that the center positions of the drums 27A and 27B are not displaced in the radial direction. A bearing 29a is provided at the tip of each adjusting unit 29b, and the spacer 26 has four
It is pressed and pinched by the individual bearings 29a.

第2図(a)において、実線で示すようにシリンダ30
bを動作させることにより(この動作は空気圧等公知の
手段により行われる。)、スペーサー26が把持されるこ
ととなる。なお、30cは調整用ネジである。
In FIG. 2 (a), the cylinder 30 is indicated by the solid line.
By operating b (this operation is performed by a known means such as air pressure), the spacer 26 is gripped. Note that 30c is an adjusting screw.

次に、シリンダ30bを一点鎖線で示すように動作させ
ると、本体29cはネジ30dを支点として一点鎖線で示すよ
うに回動し、ベアリング29aとスペーサー26とは引き離
され、スペーサー26の把持は解除される。
Next, when the cylinder 30b is operated as indicated by the alternate long and short dash line, the main body 29c rotates about the screw 30d as the fulcrum as indicated by the alternate long and short dash line, the bearing 29a and the spacer 26 are separated, and the gripping of the spacer 26 is released. To be done.

第3図(a)〜(e)は、上記のような塗布装置を用
いた場合にドラム外周面に塗膜が形成されるプロセスを
示す要部概略正面図である。
FIGS. 3 (a) to 3 (e) are schematic front views of a main part showing a process of forming a coating film on the outer peripheral surface of the drum when the coating device as described above is used.

第3図(a)に示す状態では、スペーサー26Cがスペ
ーサー把持具(以下、把持具と呼ぶことがある。)28A
に設けられたスペーサー把持用ハンド(以下、ハンドと
呼ぶことがある。)29Aにより保持されており、スペー
サー26Cの上にドラム27Cが嵌合固定され、更にスペーサ
ー26B、ドラム27B、スペーサー26A、ドラム26Aが載せら
れた状態となっている。
In the state shown in FIG. 3 (a), the spacer 26C is a spacer gripping tool (hereinafter sometimes referred to as a gripping tool) 28A.
It is held by a spacer gripping hand (hereinafter, also referred to as a hand) 29A provided in the. The drum 27C is fitted and fixed on the spacer 26C, and further, the spacer 26B, the drum 27B, the spacer 26A, and the drum. 26A is in a loaded state.

なお、第3図、第4図において、矢印Gはスペーサー
把持用ハンドによりスペーサーが保持されている状態
(以下、保持状態という。)を表す。スペーサー把持具
28B側のハンド29Bはスペーサーの保持から解除された状
態(以下、解除状態という。)となっている。このと
き、ドラム供給用ハンドはスペーサー26Dを嵌合保持し
つつ待機しており、ドラム排出用ハンド25はドラム27A
の内周面を嵌合保持して上昇を開始しつつある。
In FIGS. 3 and 4, an arrow G represents a state in which the spacer is held by the spacer gripping hand (hereinafter, referred to as a holding state). Spacer grip
The hand 29B on the 28B side is in a state of being released from the holding of the spacer (hereinafter, referred to as a released state). At this time, the drum supply hand is waiting while the spacer 26D is fitted and held, and the drum discharge hand 25 is the drum 27A.
The inner peripheral surface of is being fitted and held, and is starting to rise.

次いで、第3図(b)に示すように、把持具28Aはス
ペーサー26Cを把持しつつ上昇を続け、ドラム27Cの外周
面には塗布液が塗布されていく。ドラム排出用ハンド25
の上昇によって既塗布のドラム27A及びスペーサー26Aは
系外へと排出され、必要に応じ乾燥等の後処理が施され
る。この間に、把持具28Bは降下してスペーサー26Dを把
持しており、かつドラム供給用ハンド33はスペーサー26
Dに対する保持を解除して下降している。把持具28Bはス
ペーサー26Dを保持しつつ更に上昇を続けている。
Next, as shown in FIG. 3 (b), the gripping tool 28A continues to rise while gripping the spacer 26C, and the coating liquid is applied to the outer peripheral surface of the drum 27C. Drum discharging hand 25
As a result, the already-applied drum 27A and spacer 26A are discharged out of the system, and post-treatment such as drying is performed if necessary. In the meantime, the gripping tool 28B descends and grips the spacer 26D, and the drum supply hand 33 moves the spacer 26D.
It is holding down D and descending. The gripping tool 28B continues to move upward while holding the spacer 26D.

次いで、第3図(c)に示すように、把持具28A、28B
は共に上昇を続け、ドラム27Cの塗布が進行する。ま
た、ドラム供給用ハンド33には、図示しない供給手段に
より未塗布のドラム27E及びスペーサー26Eが新たに嵌合
され、ドラム供給用ハンド33は上昇を開始している。
Then, as shown in FIG. 3 (c), the grippers 28A, 28B
Both continue to rise and application of drum 27C progresses. Further, the drum supply hand 33 is newly fitted with the uncoated drum 27E and the spacer 26E by a supply means (not shown), and the drum supply hand 33 has started to rise.

次いで、第3図(d)に示すように、把持具28B、28A
は共に上昇を続け、ドラム27Cの塗布終了時にドラム27D
の上端面がスペーサー26Cの下端面に当接する。そし
て、第3図(d)の状態ではスペーサー26Dが把持具28B
により把持されており、この上にドラム27Dが嵌合固定
され、更にスペーサー26C、ドラム26C、スペーサー26
B、ドラム26Bが載せられた状態になっている。把持具28
Aは解除状態となる。このとき、ドラム排出用ハンド25
はドラム27Bの内周面を把持して上昇を開始しつつあ
る。ドラム供給用ハンド33は待機中である。この状態で
第3図(a)と全く同様の状態となる(即ち、第3図
(a)と第3図(d)とは鏡像の関係、左右を入れ換え
た関係となる。)。
Then, as shown in FIG. 3 (d), the grippers 28B, 28A
Both continue to rise, and at the end of application of drum 27C, drum 27D
The upper end surface of the spacer contacts the lower end surface of the spacer 26C. Then, in the state of FIG. 3D, the spacer 26D is held by the gripping tool 28B.
The drum 27D is fitted and fixed on the spacer 26C, the drum 26C, and the spacer 26.
B and the drum 26B are placed. Grasping tool 28
A is released. At this time, the drum discharge hand 25
Is gripping the inner peripheral surface of the drum 27B and is starting to rise. The drum supply hand 33 is on standby. In this state, the state becomes exactly the same as that in FIG. 3A (that is, the relationship between FIG. 3A and FIG. 3D is a mirror image relationship, and the left and right are interchanged).

次いで、第3図(e)に示すように、把持具28Bはス
ペーサー26Dを把持しつつ上昇を続け、ドラム27Dの外周
面には塗布液が塗布されていく。既塗布のドラム27B及
びスペーサー26Bは系外へと排出される。この間に把持
具28Aは降下してスペーサー26Eを把持しており、かつド
ラム供給用ハンド33はスペーサー26Eに対する把持を解
除して下降している。
Then, as shown in FIG. 3 (e), the gripping tool 28B continues to rise while gripping the spacer 26D, and the coating liquid is applied to the outer peripheral surface of the drum 27D. The already applied drum 27B and spacer 26B are discharged to the outside of the system. During this time, the gripping tool 28A is descending and gripping the spacer 26E, and the drum supply hand 33 is disengaging from the spacer 26E and descending.

この後、把持具28A、28B共に更に上昇を続け、ドラム
27Eの上端面とスペーサー26Dの下端面とが当接して把持
具28Bが解除状態となり、ドラム排出用ハンド25がドラ
ム27Cを把持し、かつドラム供給用ハンド33が新たに未
塗布のスペーサー、ドラムを保持して第3図(a)の状
態に戻る。
After this, the grippers 28A and 28B both continue to rise,
The upper end surface of 27E and the lower end surface of the spacer 26D come into contact with each other to release the gripping tool 28B, the drum discharging hand 25 grips the drum 27C, and the drum supplying hand 33 newly adds an uncoated spacer and drum. Is retained and the state returns to the state shown in FIG.

これにより、塗布プロセスの1サイクルが終了し、2
本のドラムの塗布が行われる。
This completes one cycle of the coating process,
The drum of the book is applied.

本例によれば、以下の顕著な効果を奏しうる。 According to this example, the following remarkable effects can be achieved.

(a).2本の把持具を交互に動作させることにより、塗
布手段に連続的にドラムを供給でき、かつドラム外周面
に連続的に塗布層を形成できる。これにより塗布手段を
連続して稼動させられるので生産性が著しく向上すると
共に、作業の中断に伴う塗布液の物性の劣化や乾固物の
生成を防止でき、均一かつ塗布欠陥の防止された良質の
塗膜を安定して供給できる。
(A). By alternately operating the two grippers, the drum can be continuously supplied to the coating means, and the coating layer can be continuously formed on the outer peripheral surface of the drum. As a result, since the coating means can be operated continuously, the productivity is significantly improved, and it is possible to prevent the deterioration of the physical properties of the coating liquid and the production of dry solids due to the interruption of the work, and to provide a uniform and high-quality coating. Can be stably supplied.

(b).塗布後において、ドラム内周面をドラム排出用
ハンドにより保持し、ドラムの排出を行っているので、
既塗布、未乾燥のドラム塗膜面に悪影響を生じず、かつ
ドラム排出用ハンドが汚れることもない。仮にドラム排
出用ハンドが汚れると、ハンドの清掃のために製造ライ
ンを静止させる必要が生じるのであるが、本例の塗布装
置ではかかる問題はなく、ドラムの連続塗布を滞りなく
続行できる。また、ハンドの汚れに起因する塵の発生も
防止でき、塵による塗布欠陥も生じない。
(B). After coating, the drum inner peripheral surface is held by the drum discharge hand, and the drum is discharged.
There is no adverse effect on the surface of the already coated or undried drum coating, and the drum discharge hand is not contaminated. If the drum discharging hand becomes dirty, it is necessary to stop the production line for cleaning the hand, but the coating apparatus of this example does not have such a problem and continuous coating of the drum can be continued without delay. In addition, it is possible to prevent dust from being generated due to dirt on the hand, and no coating defect due to dust occurs.

(c).従来技術の項で述べたように、仮にドラム外周
面にローラー等を圧接すると、ドラム外周面に傷が生
じ、また塵が付着するおそれがあった。
(C). As described in the section of the prior art, if a roller or the like is pressed against the outer peripheral surface of the drum, the outer peripheral surface of the drum may be scratched and dust may be attached.

これに対し、本例の塗布装置では塗布前にスペーサー
外周面のみを直接把持し、ドラム外周面を把持しないの
で傷の発生はありえず、塵が付着するおそれもない。よ
って、これらに起因する塗布欠陥も防止できる。
On the other hand, in the coating apparatus of this example, only the outer peripheral surface of the spacer is directly gripped and the outer peripheral surface of the drum is not gripped before coating, so that no scratch can occur and dust is not attached. Therefore, coating defects caused by these can also be prevented.

(d).第3図(d)に示すように、ドラム27Dの上端
面がスペーサー26Cの下端面に当接する際、塗布中のド
ラム27Cと上昇してきたドラム27Dとはスペーサー26Cに
よって距てられ、かつこのときスペーサー26Cはハンド2
9Aにより把持されているので、ドラム27Dがスペーサー2
6Cに接触する際の衝撃が吸収され、ドラム27Cの外周面
に設けられた塗膜への悪影響を防止できる。
(D). As shown in FIG. 3 (d), when the upper end surface of the drum 27D abuts on the lower end surface of the spacer 26C, the drum 27C being coated and the rising drum 27D are separated by the spacer 26C, and at this time Spacer 26C is hand 2
It is gripped by 9A, so drum 27D is spacer 2
The impact at the time of contacting 6C is absorbed, and the adverse effect on the coating film provided on the outer peripheral surface of the drum 27C can be prevented.

(e).ドラムに傷や塵の付着が生じると、これによる
塗布欠陥に起因する画像傷、画像欠陥が画像上に現れ
る。
(E). When scratches and dust adhere to the drum, image scratches and image defects caused by coating defects appear on the image.

この点、本例によれば、かかる画像欠陥を防止でき、
高品質の画像を提供できる。
In this respect, according to this example, it is possible to prevent such an image defect,
A high quality image can be provided.

第4図(a)〜(e)は他の塗布装置を用いて導電性
基体ドラム上に塗布液を塗布するプロセスを示す概略正
面図である。
FIGS. 4 (a) to 4 (e) are schematic front views showing a process of applying the coating liquid onto the conductive substrate drum by using another coating device.

本例の塗布装置においては、ドラム外周を把持するハ
ンドを設けず、ドラム又はスペーサー内周面のみを把持
している。
In the coating apparatus of this example, a hand for gripping the outer circumference of the drum is not provided, but only the inner peripheral surface of the drum or the spacer is gripped.

第4図(a)に示すように、図示しない駆動手段に連
結され、固定された2本のボールネジ22には昇降部材23
が取り付けられ、昇降部材23にはそれぞれドラム供給用
ハンド33又はドラム排出用ハンド25がL字状の腕を介し
て固定されている。なお、第4図(b)〜(e)におい
ては、昇降部材、ボールネジを図示省略してある。
As shown in FIG. 4 (a), the lifting member 23 is attached to the two ball screws 22 fixed and connected to the driving means (not shown).
And a drum supply hand 33 or a drum discharge hand 25 are fixed to the elevating member 23 via L-shaped arms. 4 (b) to (e), the lifting member and the ball screw are not shown.

まず、第4図(a)の状態では、ドラム供給用ハンド
33がスペーサー26Bの内周面に嵌合固定され、スペーサ
ー26B上にドラム27Bが嵌合固定され、更にドラム27B上
にスペーサー26A、ドラム27Aが載せられている。ドラム
27A内周面にはドラム排出用ハンド25が嵌合固定されて
いる。ドラム供給用ハンド33とドラム排出用ハンド25と
は同速度で上昇している。
First, in the state of FIG. 4 (a), the drum supply hand is
33 is fitted and fixed to the inner peripheral surface of the spacer 26B, the drum 27B is fitted and fixed on the spacer 26B, and the spacer 26A and the drum 27A are further placed on the drum 27B. drum
The drum discharge hand 25 is fitted and fixed to the inner peripheral surface of 27A. The drum supply hand 33 and the drum discharge hand 25 are rising at the same speed.

次いで、ドラム排出用ハンド25がより早く上昇してス
ペーサー26Aとドラム27Bとの間は離間される。このとき
もドラム供給用ハンド33は上昇を続けており、ドラム27
Bの外周面に塗布液が塗布され続ける。
Next, the drum discharge hand 25 moves up faster and the spacer 26A and the drum 27B are separated from each other. At this time, the drum supply hand 33 continues to rise, and the drum 27
The coating liquid is continuously applied to the outer peripheral surface of B.

次いで、第4図(c)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25が下降してドラム27Bの塗布終了してから保持
し、次にドラム供給用ハンド33のスペーサー26Bに対す
る保持が解除され、ドラム27Bが受け渡される。ドラム
排出用ハンド25は更に上昇を続ける。
Next, as shown in FIG. 4 (c), the drum discharging hand 25 descends and holds the drum 27B after the application is completed, and then the holding of the drum supplying hand 33 with respect to the spacer 26B is released. 27B is delivered. The drum discharge hand 25 continues to rise further.

次いで、第4図(d)に示すように、ドラム供給用ハ
ンド33が新たに未塗布のスペーサー26C、ドラム27Cを保
持しつつ上昇する。
Next, as shown in FIG. 4 (d), the drum supply hand 33 moves up while newly holding the uncoated spacer 26C and drum 27C.

次いで、第4図(e)に示すように、ドラム27Cの上
端面がスペーサー26Bの下端面に当接する。この状態で
ドラム供給用ハンド33は減速してドラム排出用ハンド25
と同速度で上昇し、第4図(a)と全く同じ状態とな
り、ドラムが1本塗布され、ドラム塗布のプロセスの一
サイクルを終了する。
Next, as shown in FIG. 4 (e), the upper end surface of the drum 27C contacts the lower end surface of the spacer 26B. In this state, the drum supply hand 33 decelerates and the drum discharge hand 25
Ascending at the same speed, the state becomes exactly the same as in FIG. 4 (a), one drum is coated, and one cycle of the drum coating process is completed.

本例においては、上記(a)〜(e)の効果を奏しう
る他、装置をより一層簡略化でき、かつスペーサー外周
面にも傷がつくおそれがない。
In this example, in addition to the effects (a) to (e) described above, the device can be further simplified, and the outer peripheral surface of the spacer is not likely to be damaged.

第5図は更に他の塗布装置を示す概略正面図であり、
第1図の塗布装置と同様のものを表している。
FIG. 5 is a schematic front view showing still another coating device,
The same device as the coating device of FIG. 1 is shown.

但し、本例においてはスペーサー把持具51A、51Bの腕
51A、51BがZ字状の形状とされており、各腕51A、51Bの
端部にはそれぞれコイルスプリング50A、50Bが固着さ
れ、各コイルスプリング50A、50Bの他端は昇降部材23に
固着されている。昇降装置24にはコイルスプリング50C
が固着され、これを介してドラム供給用ハンド33が取り
付けられている。ドラム排出用ハンド25の上側にはコイ
ルスプリング50Dを介して図示しない昇降装置が設けら
れている。
However, in this example, the arms of the spacer grippers 51A and 51B are
51A and 51B have a Z shape, coil springs 50A and 50B are fixed to the ends of the arms 51A and 51B, respectively, and the other ends of the coil springs 50A and 50B are fixed to the elevating member 23. ing. Coil spring 50C for lifting device 24
Are fixed, and the drum supply hand 33 is attached through this. A lifting device (not shown) is provided above the drum discharging hand 25 via a coil spring 50D.

本例の塗布装置によれば、上記(a)〜(e)の他、
下記の効果も奏しうる。
According to the coating apparatus of this example, in addition to the above (a) to (e),
The following effects can also be achieved.

(f).昇降部材23、ドラム供給用ハンド33、ドラム排
出用ハンド25の駆動時には、駆動源(モータ等)からく
る振動が不可避的にスペーサー、基体ドラムへと伝わる
おそれがある。しかし、本例ではハンド25、33、基体ド
ラム把持具52A、52Bのいずれも駆動源とコイルスプリン
グ50A、50B、50C、50Dを介して連結保持されているため
に、上記の振動はコイルスプリング50A、50B、50C、50D
の微小振動として吸収され、減衰する。従って、特に未
乾燥の塗膜を有する基体ドラム27A、27Bへは振動が伝わ
らない。よって塗膜に乱れが生じず、均一な塗膜を形成
できる。
(F). When the elevating member 23, the drum supply hand 33, and the drum discharge hand 25 are driven, there is a risk that vibrations coming from a drive source (motor or the like) will inevitably be transmitted to the spacer and the base drum. However, in this example, since the hands 25 and 33 and the base drum grippers 52A and 52B are connected and held to the drive source through the coil springs 50A, 50B, 50C, and 50D, the above-mentioned vibration is generated by the coil spring 50A. , 50B, 50C, 50D
Is absorbed and attenuated as a minute vibration of. Therefore, the vibration is not transmitted to the base drums 27A and 27B having the undried coating film. Therefore, the coating film is not disturbed and a uniform coating film can be formed.

(g).第3図(c)〜同図(d)に示すように、ドラ
ム27Dがスペーサー26Cの下端面に当接する際、把持具28
Aの上昇速度よりも把持具28Bの上昇速度の方が大きいた
め、当接時の衝撃が不可避的に既塗布の基体ドラム27
B、27Cに伝わる。しかし、本例ではこの衝撃は把持具52
A、52B側のコイルスプリング50A、50Bにより吸収、緩和
される。同様に、ドラム排出用ハンド25をドラムに装着
するときの衝撃(第3図(d)参照)も、ドラム排出用
ハンド25、把持具52A(52B)にそれぞれ固着されたコイ
ルスプリング50D、50A(50B)により吸収、緩和され
る。
(G). As shown in FIGS. 3 (c) to 3 (d), when the drum 27D contacts the lower end surface of the spacer 26C, the gripping tool 28 is used.
Since the ascending speed of the gripping tool 28B is higher than the ascending speed of A, the impact at the time of contact is unavoidable and the already applied substrate drum 27
It is transmitted to B and 27C. However, in this example, this impact is
It is absorbed and relaxed by the coil springs 50A and 50B on the A and 52B sides. Similarly, even when the drum discharge hand 25 is mounted on the drum (see FIG. 3 (d)), the coil springs 50D and 50A (fixed to the drum discharge hand 25 and the gripping tool 52A (52B), respectively ( 50B) absorbs and relaxes.

従って、把持具28Aと28Bとの速度の同調制御も精密に
行う必要がない。
Therefore, it is not necessary to precisely control the speeds of the grippers 28A and 28B.

しかも、本例では上記の効果をコイルスプリングとい
う極めて簡便な機構により達成できる。
Moreover, in the present example, the above effects can be achieved by an extremely simple mechanism called a coil spring.

なお、本例で用いたコイルスプリングは第4図の塗布
装置において、ドラム排出用ハンド25の上部に設けてよ
く、ドラム供給用ハンド33の下部に設けてもよい。これ
により上記(f)、(g)の効果を奏しうる。しかも、
第4図(a)、同図(e)の状態では、ドラム排出用ハ
ンド25とドラム供給用ハンド33との間で上昇速度に差が
あると、この差に基づく振動が発生する。これを除くた
めには、例えば電気的制御手段を用いて精密に同期を行
うことも考えられるが、これでは機構が複雑となり、コ
ストアップも招く。しかし、ハンド25、33に上記のよう
にコイルスプリングを固着させると、上記振動をコイル
スプリングに吸収させうる。従って、ハンド25と33との
上昇速度を同調させるための高度な制御も必要としな
い。
The coil spring used in this example may be provided above the drum discharge hand 25 or below the drum supply hand 33 in the coating apparatus of FIG. Thereby, the effects of the above (f) and (g) can be obtained. Moreover,
In the state shown in FIGS. 4A and 4E, if there is a difference in the rising speed between the drum discharge hand 25 and the drum supply hand 33, vibration based on this difference occurs. In order to eliminate this, it is conceivable to perform precise synchronization by using, for example, an electric control means, but this makes the mechanism complicated and raises the cost. However, when the coil spring is fixed to the hands 25 and 33 as described above, the vibration can be absorbed by the coil spring. Therefore, there is no need for sophisticated control for synchronizing the rising speeds of the hands 25 and 33.

上記において、コイルスプリングの代りに、他の緩衝
機構を用いてもよい。ここに、「緩衝機構」とは、衝
撃、振動、機構両端の速度差等のエネルギーを緩和、吸
収する機構(機素の組み合わせ)を意味し、コイルバ
ネ、シリンダー(空気圧、油圧等)、スライドレール、
緩衝ゴム等の任意の緩衝機構を含み、これらの任意の緩
衝機構の組み合わせをも含む。
In the above, other cushioning mechanism may be used instead of the coil spring. Here, "buffer mechanism" means a mechanism (combination of elements) that absorbs and absorbs energy such as impact, vibration, speed difference between both ends of the mechanism, and includes coil springs, cylinders (pneumatic pressure, hydraulic pressure, etc.), slide rails. ,
It includes any cushioning mechanism such as a cushioning rubber, and also a combination of any of these cushioning mechanisms.

第6図は、基体ドラム27及びスペーサー26が嵌合され
た状態を示す正面図である。
FIG. 6 is a front view showing a state in which the base drum 27 and the spacer 26 are fitted together.

ここで、基体ドラム27の両端部27a(一点鎖線で示す
領域)は基体ドラム27の塗布後にも感光体として使用し
ない部分であり、塗膜形成前において、前記したような
把持具により不使用部分27aを把持してよく、また、基
体ドラム不使用部分27aとスペーサー26とにまたがって
把持してもよい。このようにしても基体ドラムの使用部
分27bには傷がつかず、塵が付着するおそれもない。
Here, both end portions 27a of the base drum 27 (areas indicated by alternate long and short dash lines) are portions that are not used as a photoconductor even after coating the base drum 27, and are not used by the gripping tool as described above before forming a coating film. 27a may be gripped, or may be gripped over the base drum unused portion 27a and the spacer 26. Even in this case, the used portion 27b of the base drum is not scratched and dust is not likely to adhere.

第7図は他のスペーサー把持用ハンドを示す概略平面
図である。
FIG. 7 is a schematic plan view showing another spacer holding hand.

スペーサー26を挟んで互いに相対向して設けられた一
組のスペーサー把持用ハンド39A、39Bによりスペーサー
26が保持されている。ここで、39aはベアリング、39bは
調整ユニット、39cはハンド本体である。そして同じく
スペーサー26を挟んで設けられたもう一組のハンド39
C、39Dはスペーサー26から離隔され、保持が解除された
状態にある。
A spacer is formed by a pair of spacer gripping hands 39A and 39B provided facing each other with the spacer 26 in between.
26 are held. Here, 39a is a bearing, 39b is an adjusting unit, and 39c is a hand main body. And another set of hands 39, which is also provided with the spacer 26 in between.
C and 39D are separated from the spacer 26, and the holding is released.

スペーサー把持用ハンド39A、39B、39C、39Dはいずれ
にも矢印で示す方向へと空気圧で動作するシリンダー、
スプリング等の公知のアクチュエーターによって作動可
能とされており、第2図のスペーサー把持用ハンド29と
同様、スペーサーを保持している保持状態と保持の解除
された解除状態とを選択できるようになっている。
Spacer gripping hands 39A, 39B, 39C, 39D are all cylinders that operate pneumatically in the direction indicated by the arrow,
It can be operated by a known actuator such as a spring, and like the spacer gripping hand 29 in FIG. 2, it is possible to select a holding state in which the spacer is held or a released state in which the spacer is released. There is.

本例においては、第2図のハンド29と異なり、互いに
対向する一組の別体に設けられたハンド39B、39A又は39
C、39Dによりスペーサー26が保持されるようになってお
り、一組のハンド39A及び39B、或いは39C及び39Dにより
第2図のハンド29と同様の機能を営むものである。
In this example, unlike the hand 29 of FIG. 2, a pair of separate hands 39B, 39A or 39 facing each other are provided.
The spacer 26 is held by C and 39D, and the pair of hands 39A and 39B or 39C and 39D perform the same function as the hand 29 of FIG.

本例のハンド39A、39B等を用いた場合には、第1図に
示すような塗布装置において、ハンド39A、39B、39C、3
9Dをそれぞれ上昇、下降させる必要がある。従って、第
7図に示すようにハンド39A、39B、39C、39Dの背面にそ
れぞれボールネジ22を設置し、ハンドの上昇、下降を行
わせるようにしている。
When the hands 39A, 39B and the like of this example are used, the hands 39A, 39B, 39C, 3
It is necessary to raise and lower 9D respectively. Therefore, as shown in FIG. 7, ball screws 22 are installed on the back surfaces of the hands 39A, 39B, 39C, and 39D, respectively, to raise and lower the hands.

第8図は本発明に使用可能な塗布手段を例示するもの
であり、同図(a)は導電性基体ドラム27上にスライド
ホッパー装置を用いて塗布液を塗布している状態を示す
断面図、同図(b)はスライドホッパー装置を示す斜視
図である。
FIG. 8 exemplifies a coating means that can be used in the present invention. FIG. 8A is a sectional view showing a state in which the coating liquid is coated on the conductive substrate drum 27 using a slide hopper device. FIG. 1B is a perspective view showing the slide hopper device.

塗布液供給パイプ14へと図示しないポンプにより塗布
に必要な量だけ供給された塗布液Sは、塗布液分配室12
によって円周方向へと均一に分配され、分配スリット13
を通過し、スライド面17を円周方向に均一に流下する。
しかる後、塗布液Sはホッパーエッジ16とドラム27外周
面との間にビードを形成する。このビードとドラム27外
周面とを接触せしめた状態で導電性基体27を矢印Aの方
向へと駆動すると、ドラム27外周面上に塗布層3が塗布
される。なお、第8図中15は液受けである。
The coating liquid S supplied to the coating liquid supply pipe 14 by a pump (not shown) in an amount necessary for coating is supplied to the coating liquid distribution chamber 12
Are evenly distributed in the circumferential direction by the distribution slit 13
And flows down the slide surface 17 uniformly in the circumferential direction.
Thereafter, the coating liquid S forms a bead between the hopper edge 16 and the outer peripheral surface of the drum 27. When the conductive substrate 27 is driven in the direction of arrow A while the bead is in contact with the outer peripheral surface of the drum 27, the coating layer 3 is applied onto the outer peripheral surface of the drum 27. Incidentally, reference numeral 15 in FIG. 8 is a liquid receiver.

かかる塗布装置によれば、導電性基体ドラム上に塗布
液Sを塗布した場合に、一旦塗布された塗布層3から速
やかに溶媒が蒸発する。また、塗布液Sは塗布に必要な
量だけ供給されるので、塗布液の無駄が少なく、材料の
コストダウンを図ることもできる。
According to such a coating device, when the coating liquid S is coated on the conductive substrate drum, the solvent is quickly evaporated from the coating layer 3 which has been once coated. Further, since the coating liquid S is supplied in an amount necessary for coating, waste of the coating liquid is small and the cost of the material can be reduced.

また、本例の装置においては、被塗布体の円周方向に
継ぎ目なく分配スリットが配置されているため、継ぎ目
のない均一な塗膜が得られ、また膜厚は塗布液供給量、
粘度、導電性基体の移動速度により決定されるため制御
可能であり、迅速塗布が可能で生産性が高い。
Further, in the apparatus of this example, since the distribution slits are arranged seamlessly in the circumferential direction of the object to be coated, a uniform coating film having no seam is obtained, and the film thickness is the coating liquid supply amount,
It is controllable because it is determined by the viscosity and the moving speed of the conductive substrate, and rapid application is possible and the productivity is high.

また、塗布に必要な量の塗布液を供給しているので、
特にキャリア発生層形成用塗布液のように液物性の変化
し易い塗布液を用いた場合にも、塗布液の物性変化を抑
えることができ有利である。
Also, since the amount of coating liquid required for coating is supplied,
In particular, even when a coating liquid whose liquid physical properties are likely to change, such as a coating liquid for forming a carrier generating layer, is used, it is advantageous because the change in physical properties of the coating liquid can be suppressed.

第9図は押し出しホッパー装置により導電性基体ドラ
ム上に塗布液を塗布している状態を示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which the coating liquid is applied on the conductive substrate drum by the extrusion hopper device.

塗布液供給パイプ14へと図示しないポンプより塗布に
必要な量だけ供給された塗布液Sは、塗布液分配室12に
よって円周方向へと均一に分配され、分配スリット13内
を押し出され、ホッパーエッジ16より均一かつ連続的に
流出してドラム27外周面との間に塗布液ビードを形成
し、これにより塗布層3が塗布される。
The coating liquid S, which is supplied to the coating liquid supply pipe 14 by a pump (not shown) in an amount necessary for coating, is evenly distributed in the circumferential direction by the coating liquid distribution chamber 12, and is pushed out through the distribution slit 13 to form a hopper. It uniformly and continuously flows out from the edge 16 to form a coating liquid bead with the outer peripheral surface of the drum 27, whereby the coating layer 3 is coated.

ホッパーエッジ16の長さは、0.1〜10mm、好ましくは
0.5〜4mmが良い。ホッパーエッジの傾斜角は鉛直下方か
ら30度迄の範囲内がよく、鉛直下方から20度迄の範囲内
とするのが更によい。ホッパーエッジの傾斜角が30度を
超えると塗布液の架橋が短くなり、良好な塗膜を得にく
くなる。
The length of the hopper edge 16 is 0.1-10 mm, preferably
0.5-4 mm is good. The angle of inclination of the hopper edge is preferably within the range of 30 degrees below the vertical, and more preferably within the range of 20 degrees below the vertical. When the inclination angle of the hopper edge exceeds 30 degrees, the cross-linking of the coating solution becomes short and it becomes difficult to obtain a good coating film.

エンドレスに形成された連続面を有する被塗布体が円
筒形である場合、塗布液分配スリットが円形であり、こ
の円筒形基材直径よりやや大なる直径(0.05〜1mm大な
る直径)の円周状終端部をもち、かつ円錐状斜面をもつ
塗布装置を用いることによって好適に塗布できる。
When the object to be coated having an endless continuous surface is cylindrical, the coating liquid distribution slit is circular, and the circumference of the diameter is slightly larger than this cylindrical substrate diameter (0.05 to 1 mm larger diameter). The coating can be preferably carried out by using a coating device having a conical inclined surface with a curved end portion.

塗布液分配室に塗布液を供給する塗布液供給手段とし
てパイプを用いることが好ましく、2つ以上のパイプを
用いてもよい。塗布液の安全性、均一性等のためには2
つ以上のパイプを用いてもよい。
A pipe is preferably used as the coating liquid supply means for supplying the coating liquid to the coating liquid distribution chamber, and two or more pipes may be used. 2 for safety and uniformity of coating liquid
One or more pipes may be used.

スライド面終端部の径と被塗布体(円筒状)の外径と
の間隙は0.05〜1mmが好ましく、0.1〜0.6mmがより好ま
しい。スライド面の傾斜角は水平に対して10°〜70°が
好ましく、20°〜45°が更に好ましい。
The gap between the diameter of the end of the slide surface and the outer diameter of the body to be coated (cylindrical) is preferably 0.05 to 1 mm, more preferably 0.1 to 0.6 mm. The inclination angle of the slide surface is preferably 10 ° to 70 ° with respect to the horizontal, and more preferably 20 ° to 45 °.

塗布液の粘度は0.5〜700Cpの範囲内が良く、1〜500C
pが更に良い。
The viscosity of the coating solution should be in the range of 0.5 to 700 Cp, 1 to 500 C
p is even better.

なお、塗布液が塗布液分配スリットから円周方向に均
一に流出するようにするためには、スライドホッパー装
置にあっては、分配室抵抗(Pc)と塗布液分配スリット
を流れるときのスリット抵抗(Ps)とがPs/Pc≧80で、
より好ましくは100〜100,000の範囲であり、押し出しホ
ッパー装置にあっては、分配室抵抗(Pc)と塗布液分配
スリットを流れる際のスリット抵抗(Ps)とがPs/Pc≧4
0、より好ましくは40〜100,000の範囲内の関係に保たれ
る事により、塗布液を安定且つ均一に塗布することが可
能である。
In order to make the coating liquid flow out uniformly from the coating liquid distribution slit in the circumferential direction, in the slide hopper device, the distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance when flowing through the coating liquid distribution slit. (Ps) is Ps / Pc ≧ 80,
It is more preferably in the range of 100 to 100,000, and in the extrusion hopper device, the distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance (Ps) when flowing through the coating liquid distribution slit are Ps / Pc ≧ 4.
By maintaining the relationship within the range of 0, more preferably 40 to 100,000, the coating solution can be applied stably and uniformly.

これら分配室抵抗(Pc)、スリット抵抗(Ps)は塗布
液供給速度、粘度、供給圧に応じて決定すればよい。
The distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance (Ps) may be determined according to the coating liquid supply speed, viscosity and supply pressure.

押し出しホッパー装置においては、ホッパーエッジは
被塗布体外径より0.05〜1mm大きく、より好ましくは塗
布膜厚をhommとすると2hommから4hommまでの範囲であ
り、塗布方向長さ0.1〜10mm、より好ましくは0.5〜4mm
を有するものであるのが望ましい。また該ホッパーエッ
ジはその上端より鉛直下方及びそれより30度までの範囲
内で前記基材の反対側に傾斜したものであり、より好ま
しくは鉛直下方及びそれより20度までの範囲内で傾いて
延びるものがよい。またホッパーエッジの傾斜が30度を
越えると塗布液の架橋が短くなり、ビードが不安定とな
って良好な塗布膜が得にくくなる。
In the extrusion hopper device, the hopper edge is 0.05 to 1 mm larger than the outer diameter of the object to be coated, more preferably in the range of 2 homm to 4 homm when the coating film thickness is homm, and the coating direction length is 0.1 to 10 mm, more preferably 0.5. ~ 4 mm
It is desirable to have Further, the hopper edge is inclined vertically downward from the upper end and within 30 degrees from it, and is inclined toward the opposite side of the base material, more preferably vertically downward and inclined within 20 degrees from it. The one that extends is good. If the inclination of the hopper edge exceeds 30 degrees, the cross-linking of the coating solution becomes short, the bead becomes unstable, and it becomes difficult to obtain a good coating film.

塗布装置に供給された各塗布液は一旦各塗布液分配室
に溜められ、これに連結する各々の塗布液分配スリット
に塗布液を均一に分配するようにされるが、前記各塗布
液を前記各々スリットに均一に分配しかつ前記各々スリ
ットに分配された各塗布液を基材面に均一に塗布できる
ようにするには、前記各々塗布液分配スリットに対する
前記各塗布液分配室の圧力損失比はスライド型のもので
80以上であり、好ましくは80〜100,000の範囲内であ
り、また押し出し型のものでは該圧力損失比は40以上で
あり、好ましくは40〜100,000の範囲内である。圧力損
失が80(スライド型)、および40(押し出し型)未満の
場合は塗布液の均一な分配及び塗布ができにくくなり、
両者共100,000を超えると塗布液分配室を大きくすると
か、スリットを長くする必要が生じ装置構造上問題を生
ずる。
Each coating liquid supplied to the coating device is temporarily stored in each coating liquid distribution chamber, and the coating liquid is evenly distributed to each coating liquid distribution slit connected thereto. The pressure loss ratio of each coating liquid distribution chamber to each coating liquid distribution slit is set so that each coating liquid evenly distributed to each slit and each coating liquid distributed to each slit can be uniformly coated on the substrate surface. Is a slide type
It is 80 or more, preferably in the range of 80 to 100,000, and in the extrusion type, the pressure loss ratio is 40 or more, preferably in the range of 40 to 100,000. When the pressure loss is less than 80 (slide type) and 40 (extrusion type), it becomes difficult to evenly distribute and apply the coating liquid.
If both exceed 100,000, it is necessary to enlarge the coating liquid distribution chamber or to lengthen the slit, which causes a problem in the structure of the apparatus.

塗布装置を用いて被塗布体に形成される塗布膜は、塗
布液ビードによる。即ち、塗布装置を離れる塗布液の層
は、その離れるときと同じ厚さの層で被塗布体に直接塗
布されるのではなくて、一度液溜り(塗布液ビード)を
形成し、このビードから被塗布体が塗布液を引きとって
いくのである。従ってこの塗布液ビードによって形成さ
れる塗布膜は、実際上塗布装置から被塗布体に直接形成
されるのではなく、塗布装置は単に塗布液ビードを維持
し、被塗布体はそのビードから塗布される。該塗布液ビ
ードの維持は、塗布液分配スリットを押し出された塗布
液又は液スライド部上を流下してきた塗布液により、被
塗布体とホッパーエッジとの間に架橋して形成される。
このビードによる塗布では、そのビードを横切ってこれ
と交叉して移動する被塗布体上に塗布される塗布膜の厚
みは、ビードの作用によって決定され且つ被塗布体が移
動する速度、塗布液の供給速度及び供給圧、ホッパー構
造の効率等によって変化する。
The coating film formed on the object to be coated using the coating device is based on the coating liquid bead. That is, the layer of the coating liquid leaving the coating device is not directly applied to the object to be coated with a layer having the same thickness as when the coating device is leaving, but once a liquid pool (coating liquid bead) is formed, and from this bead The object to be coated draws off the coating liquid. Therefore, the coating film formed by this coating liquid bead is not actually directly formed on the object to be coated from the coating device, but the coating device simply maintains the bead of the coating liquid, and the object to be coated is coated from the bead. It The bead of the coating liquid is maintained by being cross-linked between the object to be coated and the hopper edge by the coating liquid extruded from the coating liquid distribution slit or the coating liquid flowing down on the liquid slide portion.
In coating with this bead, the thickness of the coating film applied on the object to be moved across the bead and intersecting with the bead is determined by the action of the bead, and the speed at which the object to be moved moves, It changes depending on the feed rate and feed pressure, the efficiency of the hopper structure, etc.

排出パイプより排出された塗布液は、例えば攪拌器に
よる攪拌等の処理を行った後、再び塗布液として供給パ
イプに供給されるように塗布液を循環させるよう構成し
てもよい。
The coating liquid discharged from the discharge pipe may be circulated so that the coating liquid is supplied to the supply pipe as the coating liquid again after being subjected to treatment such as stirring by a stirrer.

塗布液分配室内の塗布液を排出する塗布液排出口また
は排出パイプに塗布液の排出液量を規制するバルブを設
け、供給側だけによらず排出側においても液量調節を行
うようにしてもよい。
A valve for regulating the discharge amount of the coating liquid may be provided at the coating liquid discharge port or the discharge pipe for discharging the coating liquid in the coating liquid distribution chamber, and the liquid amount may be adjusted not only on the supply side but also on the discharge side. Good.

塗布液の供給は、供給パイプから供給され、一部は塗
布液分配スリットを通じて塗布面に流出し、他の一部は
排出パイプにより排出され、この液の流れは連続的に行
われるが、塗布液の凝集時間を考慮して塗布液を一定時
間毎に供給するなど、塗布液供給を間欠的に行ってもよ
い。
The supply of the coating liquid is supplied from the supply pipe, part of which flows out to the coating surface through the coating liquid distribution slit, and the other part of which is discharged by the discharge pipe. The coating liquid may be supplied intermittently, for example, by supplying the coating liquid at regular intervals in consideration of the aggregation time of the liquid.

第10図は他の塗布手段を示す部分断面図である。 FIG. 10 is a partial sectional view showing another coating means.

積載板60に底板62が固定され、底板62の上面と押圧板
63とによりブレード34が挟着されている。塗布液Sは液
槽66に収容され、液槽66に塗布液Sを補給するための液
補給板67が液槽66の上面に取り付けられ、この液補給板
67に一対の液供給口68が設けられている。装置全体は略
円筒状に形成されている。ブレード64は可とう性を有す
るゴム、合成樹脂等の材質にて形成され、ドラム27を挟
着保持できるよう構成されている。
The bottom plate 62 is fixed to the loading plate 60, and the upper surface of the bottom plate 62 and the pressing plate
The blade 34 is sandwiched by 63. The coating liquid S is contained in the liquid tank 66, and a liquid supply plate 67 for replenishing the liquid tank 66 with the coating liquid S is attached to the upper surface of the liquid tank 66.
A pair of liquid supply ports 68 is provided at 67. The entire device is formed in a substantially cylindrical shape. The blade 64 is made of a flexible material such as rubber or synthetic resin, and is configured to hold and hold the drum 27.

底板62、押圧板63、液槽66には略同一径の孔部69aが
貫設されると共に、前記液補給板67には孔部69aよりも
小径の孔部69bが貫設され、かつ前記ブレード64には孔
部69bよりもさらに小径の孔部69cが貫設される。そし
て、ドラム27又はスペーサーを嵌挿した状態において、
ブレード64の孔部69c周縁がドラム27及びスペーサーの
外周面に密着すると共に、前記液補給板67の孔部69bの
周縁とドラム27又はスペーサーの外周面とに僅かな間隙
が形成される。
The bottom plate 62, the pressing plate 63, the liquid tank 66 is provided with a hole portion 69a having substantially the same diameter, and the liquid supply plate 67 is provided with a hole portion 69b having a smaller diameter than the hole portion 69a. The blade 64 is provided with a hole portion 69c having a diameter smaller than that of the hole portion 69b. Then, with the drum 27 or the spacer fitted,
The peripheral edge of the hole portion 69c of the blade 64 is in close contact with the outer peripheral surface of the drum 27 and the spacer, and a slight gap is formed between the peripheral edge of the hole portion 69b of the liquid supply plate 67 and the outer peripheral surface of the drum 27 or the spacer.

孔部69bがドラム27又はスペーサーに近接しているた
め、塗布時における溶剤の蒸発を抑制でき、また既塗布
のドラム表面の急激な乾燥を防止できる。
Since the hole portion 69b is close to the drum 27 or the spacer, it is possible to suppress the evaporation of the solvent at the time of coating and also to prevent the abrupt drying of the surface of the already coated drum.

液槽66においては、その下半部に感光液収容部70が設
けられ、上半部に液溜部71が設けられ、液溜部71中の塗
布液Sを流すための複数の連通孔72がそれぞれ周方向に
形成されている。収容部70の外周壁にはオーバーフロー
用の還流孔73が設けられ、常に液面を一定高さに保てる
ようになっている。収容部40の内周壁には周方向に亘っ
て複数の空気孔44が設けられ、孔部69bを介して外気と
連通せしめられている。これにより、液溜部71内の感光
液は徐々に連通孔72を通過し、空気孔44の大きさにより
徐々に下降するため、液面は静穏な状態で安定する。
In the liquid tank 66, a photosensitive liquid storage portion 70 is provided in a lower half portion thereof, a liquid reservoir portion 71 is provided in an upper half portion thereof, and a plurality of communication holes 72 for flowing the coating liquid S in the liquid reservoir portion 72 are provided. Are formed in the circumferential direction. A recirculation hole 73 for overflow is provided on the outer peripheral wall of the container 70 so that the liquid surface can always be kept at a constant height. A plurality of air holes 44 are provided in the inner peripheral wall of the housing portion 40 in the circumferential direction, and communicate with the outside air through the hole portions 69b. As a result, the photosensitive liquid in the liquid reservoir 71 gradually passes through the communication hole 72 and gradually descends depending on the size of the air hole 44, so that the liquid surface is stabilized in a calm state.

第1図〜第10図の塗布装置、方法は有機電子写真感光
体の塗布液の塗布に適用することができる。
The coating device and method shown in FIGS. 1 to 10 can be applied to the coating of the coating liquid for the organic electrophotographic photosensitive member.

この際、いわゆる機能分離型感光体におけるキャリア
発生層、キャリア輸送層等は、キャリア発生物質及び/
又はキャリア輸送物質を適当な溶媒もしくは適当なバイ
ンダ樹脂溶媒溶液に溶解もしくは分散懸濁せしめたもの
を塗布して乾燥させる方法により設けることができる。
At this time, the carrier generation layer, the carrier transport layer, and the like in the so-called function-separated type photoreceptor are
Alternatively, it can be provided by a method of applying a solution obtained by dissolving or dispersing and suspending a carrier transporting material in a suitable solvent or a solvent solution of a binder resin, and then drying.

前記溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミ
ド、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼ
ン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、1,1,2−ト
リクロロエタン、テロラヒドロフラン、メチルエチルケ
トン、酢酸エチル、酢酸ブチル等を挙げることができ
る。
Examples of the solvent include N, N-dimethylformamide, benzene, toluene, xylene, monochlorobenzene, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, 1,1,2-trichloroethane, terrahydrofuran, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, etc. Can be mentioned.

キャリア発生物質、キャリア輸送物質を溶媒もしくは
バインダ樹脂溶液に分散懸濁させた塗料を塗布、乾燥し
てキャリア発生層、キャリア輸送層を形成する場合に
は、次の如き方法によって設けることが好ましい。即
ち、キャリア発生物質、キャリア輸送物質をボールミ
ル、ホモミキサ等によって分散媒中で微細粒子とし、バ
インダ樹脂を加えて混合分散して得られる分散液が用い
られる。この方法において超音波の作用下に粒子を均一
分散させることが好ましい。
In the case of forming a carrier generating layer and a carrier transporting layer by coating and drying a coating material in which a carrier generating substance and a carrier transporting substance are dispersed and suspended in a solvent or a binder resin solution, it is preferably provided by the following method. That is, a dispersion liquid obtained by making a carrier generating substance and a carrier transporting substance into fine particles in a dispersion medium by a ball mill, a homomixer or the like, adding a binder resin and mixing and dispersing the fine particles is used. In this method, it is preferable to uniformly disperse the particles under the action of ultrasonic waves.

キャリア発生物質は電磁波を吸収してフリーキャリア
を発生するものであれば、無機顔料及び有機顔料の何れ
も用いることができる。
As the carrier generating substance, both inorganic pigments and organic pigments can be used as long as they absorb electromagnetic waves and generate free carriers.

以下のものが例示される。 The following are exemplified.

(1)無定型セレン、三方晶系セレン、セレン−砒素合
金、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、セレン化カ
ドミウム、硫セレン化カドミウム、硫化水銀、硫化鉛、
酸化亜鉛、酸化チタン、無定型シリコン等の無機顔料 (2)モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔
料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾー
ルアゾ顔料等のアゾ系顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導
体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導
体、ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導
体等のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4)インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイン
ジゴイド系顔料 (5)チタニルフタロシアニン、バナジルフタロシアニ
ン等の各種金属フタロシアニン、及びα型、β型、γ
型、τ型、τ′型、η型、η′型等の無金属フタロシア
ニン等のフタロシアニン系顔料 (6)ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン顔
料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニウ
ム系顔料 (7)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料 (8)シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系顔
料 (9)キノリン系顔料 (10)ニトロ系顔料 (11)ニトロソ系顔料 (12)ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料 (13)ナフタルイミド系顔料 (14)ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリレン系顔
料 (15)フルオレノン系顔料 (16)スクアリリウム顔料 (17)アズレニウム化合物 (18)ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリ
レン系顔料 キャリア輸送物質は、カルバゾール誘導体、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミ
ダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン
誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、
ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘
導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘
導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリ
ジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導
体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘
導体、スチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアント
ラセン等から選ばれた一種又は二種以上であってよい。
(1) amorphous selenium, trigonal selenium, selenium-arsenic alloy, selenium-tellurium alloy, cadmium sulfide, cadmium selenide, cadmium sulfate selenide, mercury sulfide, lead sulfide,
Inorganic pigments such as zinc oxide, titanium oxide, and amorphous silicon (2) Monoazo pigments, polyazo pigments, metal complex azo pigments, pyrazolone azo pigments, azo pigments such as stilbene azo and thiazole azo pigments (3) Anthraquinone derivatives, anthanthrone Derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives and isoviolanthrone derivatives, etc. Anthraquinone-based or polycyclic quinone pigments (4) Indigoide pigments such as indigo derivatives and thioindigo derivatives (5) Titanyl phthalocyanine, vanadyl phthalocyanine Various metal phthalocyanines such as α-type, β-type, γ
Type, τ type, τ ′ type, η type, η ′ type and other metal-free phthalocyanine-based pigments (6) Diphenylmethane-based pigments, triphenylmethane pigments, xanthene pigments, acridine pigments and other carbonium-based pigments (7) Quinone imine pigments such as azine pigments, oxazine pigments and thiazine pigments (8) Methine pigments such as cyanine pigments and azomethine pigments (9) Quinoline pigments (10) Nitro pigments (11) Nitroso pigments (12) Benzoquinone and naphthoquinone Pigments (13) Naphthalimide pigments (14) Perylene pigments such as bisbenzimidazole derivatives (15) Fluorenone pigments (16) Squarylium pigments (17) Azurenium compounds (18) Perylene anhydrides and perylene imides Perylene pigments Carrier transport materials include carbazole derivatives and oxazones. Derivative, oxadiazole derivative, thiazole derivative, thiadiazole derivative, triazole derivative, imidazole derivative, imidazolone derivative, imidazolidine derivative, bisimidazolidine derivative, styryl compound,
Hydrazone compounds, pyrazoline derivatives, oxazolone derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, triarylamine derivatives, phenylenediamine derivatives, stilbene derivatives, poly-N-vinyl It may be one or more selected from carbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene and the like.

キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層等のいずれ
か、若しくはそれらの複数層には電子受容性物質、表面
改質剤、耐久性向上剤、酸化防止剤(ヒンダードフェノ
ール、ヒンダードアミン等)、高分子有機半導体等を含
有させてよい。
Any one of the carrier generation layer, the carrier transport layer, the protective layer, or a plurality of layers thereof may have an electron-accepting substance, a surface modifier, a durability improver, an antioxidant (hindered phenol, hindered amine, etc.), high It may contain a molecular organic semiconductor or the like.

感光体の製造に使用可能なバインダ樹脂としては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、
シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付
加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の繰り返し
単位のうち2つ以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、
ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が
挙げられる。
Examples of the binder resin that can be used for manufacturing the photoconductor include polyethylene, polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin,
Addition polymerization resins such as silicone resins and melamine resins, polyaddition resins, polycondensation resins and copolymer resins containing two or more of the repeating units of these resins, for example vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins. Insulating resin such as vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin,
Examples include polymer organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole.

ドラム状基体の材料としては、アルミニウム、パラジ
ウム等を例示でき、他に鉄、銅、ニッケル等の各種金属
が入っていてよい。スペーサーとしてはステンレス等が
例示できる。ドラム状基体とスペーサーは同径又は略同
形としてよい。
Examples of the material of the drum-shaped substrate include aluminum, palladium, and the like, and other various metals such as iron, copper, nickel may be contained. Examples of the spacer include stainless steel and the like. The drum-shaped substrate and the spacer may have the same diameter or substantially the same shape.

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の
態様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能で
ある。
Although the present invention has been illustrated above, the embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.

例えば、塗布手段は第8図〜第10図のものに限られな
い。
For example, the coating means is not limited to those shown in FIGS.

また、第1図〜第5図において、把持用ハンドの構
造、個数、寸法、形状等は種々変更でき、把持具につい
ても同様である。また、把持具を上昇、下降させる手段
もボールネジに限定されない。
Further, in FIGS. 1 to 5, the structure, number, size, shape, etc. of the gripping hand can be variously changed, and the same applies to the gripping tool. Further, the means for raising and lowering the gripping tool is not limited to the ball screw.

第3図、第4図の各プロセスにおいて、塗布装置の動
作手順を本発明の範囲から逸脱しない範囲で変更するこ
とも可能である。
In each of the processes shown in FIGS. 3 and 4, it is possible to change the operation procedure of the coating apparatus within the scope of the present invention.

また、第7図に示すような把持用ハンドを有する塗布
装置を用い、第3図の各プロセスを実行することもでき
る。
Further, each process shown in FIG. 3 can be carried out by using the coating apparatus having a gripping hand as shown in FIG.

なお、本発明の被膜形成方法は、各種の塗布方法とし
て適用可能であり、また他の被膜形成手段、例えば真空
蒸着により導電性基体上に蒸着膜を形成する方法にも適
用可能である。
The coating film forming method of the present invention can be applied as various coating methods, and can also be applied to other coating film forming means, for example, a method of forming a vapor deposition film on a conductive substrate by vacuum vapor deposition.

ヘ.発明の効果 本発明の感光体の被膜形成方法によれば、第1のドラ
ム状基体の被膜形成処理に引き続いて被膜形成処理を停
止させることなく第2のドラム状基体を被膜形成処理し
ているので、被膜形成装置を連続して稼動させられるの
で生産性が著しく向上すると共に、被膜形成処理の中断
に伴う処理条件の変化を防止でき、被膜を均質とでき
る。
F. EFFECTS OF THE INVENTION According to the method for forming a film on a photoreceptor of the present invention, the second drum-shaped substrate is subjected to the film-forming treatment without stopping the film-forming treatment subsequent to the film-forming treatment on the first drum-shaped substrate. Therefore, since the film forming apparatus can be continuously operated, the productivity is remarkably improved, and it is possible to prevent a change in the processing condition due to the interruption of the film forming process and to make the film uniform.

また、被膜形成処理前のドラム状基体の不使用部分と
被膜形成処理前のスペーシング部材との少なくとも一方
を保持し、被膜形成手段に対してドラム状基体を相対的
に移動させているので、被膜形成処理前のドラム状基体
の使用部分に傷がつかず、塵が付着するおそれもないた
め、被膜欠陥の発生を防止できる。これにより画像傷、
画像欠陥を防止できる。
Further, since at least one of the unused portion of the drum-shaped substrate before the film-forming treatment and the spacing member before the film-forming treatment is held and the drum-shaped substrate is moved relative to the film-forming means, Since the used portion of the drum-shaped substrate before the film forming treatment is not scratched and dust is not attached, it is possible to prevent the film defect from occurring. This causes image scratches,
Image defects can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図面は実施例を示すものであって、 第1図は塗布装置を示す概略正面図、 第2図(a)はスペーサー把持用ハンド周辺を拡大して
示す平面図、同図(b)は同図(a)の右側面図、 第3図(a)、(b)、(c)、(d)、(e)はドラ
ム外周面に塗膜が形成されるプロセスを示す要部概略正
面図、 第4図(a)、(b)、(c)、(d)、(e)は他の
塗布装置によりドラム外周面に塗布液を塗布する他のプ
ロセスを示す要部概略正面図、 第5図は他の塗布装置を示す概略正面図、 第6図はドラム及びスペーサーを示す正面図、 第7図は他のスペーサー把持用ハンドを示す概略平面
図、 第8図(a)は基体ドラムにスライドホッパー装置を用
いて塗布液を塗布している状態を示す断面図、同図
(b)はスライドホッパー装置を一部切り欠いて示す斜
視図、 第9図は押し出しホッパー装置により基体ドラム上に塗
布液を塗布している状態を示す断面図、 第10図は更に他の塗布手段により基体ドラム上に塗布液
を塗布している状態を示す部分断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 16……ホッパーエッジ 17……スライド面 20……塗布装置本体 22……ボールネジ 23……昇降部材 25……ドラム排出用ハンド 26、26A、26B、26C、26D、26E……スペーサー 27、27A、27B、27C、27D、27E……導電性基体ドラム 27a……ドラム外周不使用部分 27b……ドラム外周使用部分 28A、28B……スペーサー把持具 29A、29B、39A、39B、39C、39D……スペーサー把持用ハ
ンド 33……ドラム供給用ハンド 34A、34B……スペーサー把持具本体 50A、50B、50C、50D……コイルスプリング G……保持状態 S……塗布液 である。
The drawings show examples, wherein FIG. 1 is a schematic front view showing a coating device, FIG. 2 (a) is an enlarged plan view showing the periphery of a spacer gripping hand, and FIG. FIG. 3A is a right side view, and FIG. 3A, FIG. 3B, FIG. 3C, FIG. 3D, and FIG. 4 (a), (b), (c), (d), and (e) are schematic front views of main parts showing another process of applying the coating liquid to the outer peripheral surface of the drum by another coating device. 5 is a schematic front view showing another coating device, FIG. 6 is a front view showing a drum and a spacer, FIG. 7 is a schematic plan view showing another spacer holding hand, and FIG. 8 (a) is a base drum. A cross-sectional view showing a state in which the coating solution is being applied to the slide hopper device in FIG. FIG. 9 is a perspective view showing a cutaway view, FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which the coating liquid is applied on the substrate drum by the extrusion hopper device, and FIG. 10 is a sectional view showing the coating liquid applied on the substrate drum by another coating means. FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing a state where In the reference numerals shown in the drawings, 16 ... Hopper edge 17 ... Sliding surface 20 ... Coating device main body 22 ... Ball screw 23 ... Lifting member 25 ... Drum discharging hand 26, 26A, 26B, 26C, 26D, 26E …… Spacer 27, 27A, 27B, 27C, 27D, 27E …… Conductive base drum 27a …… Drum outer peripheral unused part 27b …… Drum outer peripheral used part 28A, 28B …… Spacer gripping tool 29A, 29B, 39A, 39B, 39C, 39D …… Spacer gripping hand 33 …… Drum supply hand 34A, 34B …… Spacer gripping tool body 50A, 50B, 50C, 50D …… Coil spring G …… Holding state S …… It is coating liquid. .

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】被膜形成手段と連続して積み重ねたドラム
状基体とを相対的に移動させることにより、このドラム
状基体に被膜形成処理する感光体の被膜形成方法におい
て、 (a)被膜形成処理前の積み重ねた第1のドラム状基体
の非画像部を保持し、前記被膜形成手段に対して前記第
1のドラム状基体を相対的に移動させることにより、こ
のドラム状基体を被膜形成処理する工程と、 (b)被膜形成処理前の積み重ねた第2のドラム状基体
の非画像部を保持し、前記第2のドラム状基体を前記被
膜形成手段に対して相対的に移動させ、前記第1のドラ
ム状基体の被膜形成処理に引き続いて被膜形成を停止さ
せることなく前記第2のドラム状基体を被膜形成処理す
る工程と を有することを特徴とする感光体の被膜形成方法。
1. A method of forming a film on a photosensitive member, wherein a drum-shaped substrate continuously stacked relative to a film-forming means is relatively moved to form a film on the drum-shaped substrate. By holding the non-image portion of the first stacked first drum-shaped substrates and moving the first drum-shaped substrates relative to the film-forming means, the drum-shaped substrates are subjected to the film-forming treatment. And (b) holding the non-image portion of the stacked second drum-shaped substrates before the film-forming treatment, moving the second drum-shaped substrates relative to the film-forming means, And a step of forming a coating film on the second drum-shaped substrate without stopping the film formation subsequent to the film-forming treatment on the drum-shaped substrate (1).
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