JP2013246391A - Coated film removal device, method of manufacturing photosensitive drum, photosensitive drum, and image forming device equipped with photosensitive drum - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently remove unnecessary coated film from a base body.SOLUTION: A coated film removal device includes: a lift mechanism which lifts or lowers a cylindrical base body, having a coated film formed thereon by an immersion method, while supporting the same to keep the central axis thereof vertical; a solvent reservoir which is provided below the base body to store a solvent for removing the coated film; a cylindrical wiping member which is located in the solvent reservoir rotatably about the central axis of the base body and whose lower end is immersed in the solvent reservoir while the upper end can be fitted into the tip of the base body; and a rotation mechanism which rotates the wiping member relative to the base body. The cylindrical wiping member has grooves formed on an outer periphery surface. When the base body is lowered by the lift mechanism, the wiping member is fitted into the base body without having the base body immersed in the solvent reservoir. Rotating the wiping member relative to the base body then causes the solvent to be guided though the grooves up into the base body to remove the coated film.

Description

この発明は、塗膜除去装置、感光体ドラムの製造方法、感光体ドラム、および、その感光体ドラムを具備する画像形成装置に関する。   The present invention relates to a coating film removing apparatus, a method for producing a photosensitive drum, a photosensitive drum, and an image forming apparatus including the photosensitive drum.

電子写真方式を採用した複写機やレーザビームプリンタなどの画像形成装置には感光体ドラム(以下、感光体と略記する)が搭載される。この感光体は、少なくとも表面が導電性を有する円筒状の基体の表面に有機性の感光層を塗布法によって設けて構成される。基体は、たとえばアルミニウム、アルミニウム合金、銅、黄銅、オーステナイト系ステンレス鋼などの非磁性金属製である。画像の形成は、このような感光体の表面の帯電によって行われる。   Photosensitive drums (hereinafter abbreviated as “photosensitive members”) are mounted on image forming apparatuses such as copying machines and laser beam printers that employ an electrophotographic system. This photoreceptor is constituted by providing an organic photosensitive layer on the surface of a cylindrical substrate having at least a conductive surface by a coating method. The substrate is made of a nonmagnetic metal such as aluminum, aluminum alloy, copper, brass, austenitic stainless steel, or the like. The image is formed by charging the surface of the photoreceptor.

基体表面への感光層塗膜の形成方法としては、浸漬による塗布方法、スプレーによる塗布方法およびローラを用いた塗布方法が実用化されているが、特に、浸漬による塗布方法は、吊り下げた基体を感光層用の塗液中に浸漬した後、引き上げる方法であって、形成される感光層塗膜の厚さを塗液の粘度や基体の引上げ速度によって容易に調整できることから、他の方法に比べて多く用いられている。なお、感光層は、通常、負電荷をブロックするための中間層、電荷を発生するための電荷発生層および電荷を輸送するための電荷輸送層を積層した3層構造を成し、これらの各層の塗膜が順次、上記浸漬法によって基体上に形成される。   As a method for forming a photosensitive layer coating film on the surface of a substrate, a coating method by dipping, a coating method by spraying, and a coating method using a roller have been put to practical use. In this method, the thickness of the photosensitive layer coating film to be formed can be easily adjusted by the viscosity of the coating solution and the pulling speed of the substrate. Compared to more used. The photosensitive layer usually has a three-layer structure in which an intermediate layer for blocking negative charges, a charge generation layer for generating charges, and a charge transport layer for transporting charges are stacked. Are sequentially formed on the substrate by the dipping method.

浸漬法で得られる前記感光体は、基体の下端部内面に塗布液が付着するので、この付着した塗布液により種々問題が生じる。具体的には、基体下端部内面に塗膜が形成されると、搬送ラインのパレットに付着し、パレットを汚すことがある。パレットに付着した塗膜が感光層膜中に混入し、不良品を生産する恐れがある。
また、感光体を搭載する画像形成装置では、複写時に感光体端部内面を電荷零のアースとして用いるので、基体下端部内面に塗布液が付着しているとアース不良を引き起こす原因になる。
Since the coating liquid adheres to the inner surface of the lower end portion of the substrate, various problems arise due to the applied coating liquid. Specifically, when a coating film is formed on the inner surface of the lower end portion of the substrate, it may adhere to the pallet of the transport line and stain the pallet. There is a risk that the coating film adhering to the pallet may be mixed into the photosensitive layer film to produce defective products.
Further, in an image forming apparatus equipped with a photoconductor, the inner surface of the end portion of the photoconductor is used as a ground with zero charge during copying. If the coating liquid adheres to the inner surface of the lower end portion of the substrate, it causes a ground failure.

さらに、基体下端部内面に不要な塗膜が残っていると、フランジを精度よく挿入、装着できず、基体の変形、寸法、精度、接着強度に問題が生じ、画像欠陥を引き起こす恐れがある。
しかし、上述の浸漬法では基体下端部内面に感光層塗膜が必然的に形成されるため、不要な塗膜を積極的に除去する必要がある。
Furthermore, if an unnecessary coating film remains on the inner surface of the lower end portion of the base body, the flange cannot be inserted and mounted with high accuracy, and problems may arise in the base body deformation, dimensions, accuracy, and adhesive strength, and image defects may occur.
However, in the above dipping method, a photosensitive layer coating film is inevitably formed on the inner surface of the lower end of the substrate, and therefore it is necessary to positively remove unnecessary coating layers.

このような問題解決のため、種々の端部塗膜除去方法、装置がこれまで開発されてきている。例えば、溶剤浸漬法として、塗膜を溶解する溶剤中に塗膜を特定の条件で浸漬し、塗膜を除去する方法が特許文献1,2に記載されており、位置決め機構を持つ除去装置を用いて溶剤に浸漬し、塗膜を除去する方法が特許文献3に提案されている。
しかしながら、溶剤浸漬法では、完全に除去することはできず、また除去するのに時間がかかり、液面のゆれにより塗膜にムラが生じ、溶剤蒸気によるタレも発生して必要な塗膜まで除去、又はムラになるおそれがある。
In order to solve such a problem, various end coating film removing methods and apparatuses have been developed so far. For example, as a solvent immersion method, Patent Documents 1 and 2 describe a method of immersing a coating film in a solvent that dissolves the coating film under specific conditions and removing the coating film. Patent Document 3 proposes a method for removing the coating film by immersing in a solvent.
However, the solvent immersion method cannot be completely removed, and it takes time to remove, and the coating film becomes uneven due to fluctuations in the liquid level, and sagging due to solvent vapor occurs, leading to the required coating film. There is a risk of removal or unevenness.

一方、特許文献4,5には、ノズルにて溶剤を散布しブラシやスポンジなどの除去部材によって塗膜を溶解除去する方法が記載されており、特許文献6には、ブラシやスポンジなどの除去部材に溶剤をかけ流しながら塗膜が形成された感光体の端部を拭き取るように構成された塗膜除去装置やその方法が提案されている。
また、特許文献7には、塗膜が形成された基体の浸漬方向下端部と基体よりも大きい直径を有する溶剤を染み込ませた多孔質弾性体(スポンジ状構造体)とを接触させ、多孔質弾性体および基体のうちのいずれか一方、またはその両方を回転させることによって、基体の下端部に形成された塗膜を除去することが記載されている。また、塗膜除去後に、多孔質弾性体に向けて溶剤を噴出することによって、多孔質弾性体を洗浄することが記載されている。
このため、特許文献4〜7に記載の技術を利用すれば、特許文献1〜3において生じていた問題を解決することができる。
On the other hand, Patent Documents 4 and 5 describe a method of spraying a solvent with a nozzle and dissolving and removing a coating film with a removing member such as a brush or a sponge. Patent Document 6 describes removal of a brush or a sponge or the like. There has been proposed a coating film removing apparatus and a method for wiping off an end portion of a photoreceptor on which a coating film is formed while pouring a solvent over a member.
Patent Document 7 discloses that a porous elastic body (sponge-like structure) impregnated with a solvent having a diameter larger than that of the base in the immersion direction of the base on which the coating film is formed is brought into contact with the base. It is described that the coating film formed on the lower end portion of the substrate is removed by rotating either one or both of the elastic body and the substrate. Moreover, it describes that a porous elastic body is wash | cleaned by ejecting a solvent toward a porous elastic body after coating film removal.
For this reason, if the technique of patent documents 4-7 is utilized, the problem which has arisen in patent documents 1-3 can be solved.

特開平06−202352号公報(1994年7月22日公開)Japanese Patent Laid-Open No. 06-202352 (published July 22, 1994) 特開平05−173339号公報(1993年7月13日公開)JP 05-173339 A (published July 13, 1993) 実開平07−42533号公報(1995年8月4日)Japanese Utility Model Publication No. 07-42533 (August 4, 1995) 特開平10−207084号公報(1998年8月7日公開)Japanese Patent Laid-Open No. 10-207084 (published August 7, 1998) 特開2000−275870号公報(2000年10月16日公開)JP 2000-275870 A (released on October 16, 2000) 特開2002−278104号公報(2002年9月27日公開)JP 2002-278104 A (published on September 27, 2002) 特開2001−157864号公報(2001年6月12日公開)JP 2001-157864 A (published on June 12, 2001)

しかしながら、特許文献4〜7に記載の従来技術は、ノズルにて溶剤を多孔質弾性体に供給するため、ノズルに溶剤を供給するための溶剤供給管などを設ける必要がある。溶剤供給管は、比較的複雑な構造の装置であるため、製造コストの上昇をもたらす。また、ノズルから溶剤を供給するだけでは、多孔質弾性体に均一に溶剤を供給することができず、拭き取り幅の均一性を損ない、塗膜を効率的に除去することができない。   However, since the conventional techniques described in Patent Documents 4 to 7 supply the solvent to the porous elastic body with the nozzle, it is necessary to provide a solvent supply pipe for supplying the solvent to the nozzle. Since the solvent supply pipe is an apparatus having a relatively complicated structure, the manufacturing cost increases. Further, simply supplying the solvent from the nozzle cannot uniformly supply the solvent to the porous elastic body, impairing the uniformity of the wiping width, and cannot effectively remove the coating film.

この発明は、このような事情を考慮してなされたものであり、装置構成が複雑となることなく基体の塗膜を効率的に除去することが可能な塗膜除去装置、感光体ドラムの製造方法、感光体ドラムおよび、その感光体ドラムを具備する画像形成装置を提供するものである。   The present invention has been made in consideration of such circumstances, and is a method for manufacturing a coating film removing apparatus and a photosensitive drum capable of efficiently removing a coating film on a substrate without complicating the apparatus configuration. The present invention provides a method, a photosensitive drum, and an image forming apparatus including the photosensitive drum.

この発明は、浸漬法により塗膜を形成した円筒状の基体を軸心が鉛直になるように支持して昇降させる昇降機構と、前記基体の下方に設置され塗膜を除去するための溶剤を貯留する溶剤槽と、溶剤槽に基体と同軸に回転可能に設けられ下端が溶剤槽に浸漬し上端が基体の先端に嵌入可能な円柱状の拭取り部材と、前記基体と前記拭取り部材とを相対的に回転させる回転機構とを備え、前記円柱状の拭取り部材は円周面に形成された溝を有し、前記昇降機構により前記基体が下降したときに前記基体が溶剤槽に浸漬することなく基体内部に拭取り部材が嵌入され、基体と拭取り部材とが相対回転することにより、前記溶剤が前記溝に誘導されて基体内部まで上昇し、塗膜を除去することを特徴とする塗膜除去装置を提供するものである。   The present invention includes an elevating mechanism for supporting a cylindrical substrate on which a coating film is formed by an immersion method so that the axis is vertical and moving it up and down, and a solvent installed under the substrate to remove the coating film. A solvent tank to be stored; a columnar wiping member provided in the solvent tank so as to be rotatable coaxially with the substrate; and a lower end immersed in the solvent bath and having an upper end fitted into a tip of the substrate; the substrate and the wiping member; A rotating mechanism that relatively rotates the cylindrical wiping member, and the cylindrical wiping member has a groove formed on a circumferential surface, and the substrate is immersed in the solvent tank when the substrate is lowered by the lifting mechanism. The wiping member is inserted inside the base without the rotation, and the base and the wiping member rotate relative to each other, so that the solvent is guided into the groove and rises to the inside of the base, thereby removing the coating film. An apparatus for removing a coating film is provided.

上記の構成によれば、昇降機構によって、基体を溶剤槽に浸漬することなく降下させ、塗膜除去溶剤に下端が浸漬している拭取り部材を基体の下端部内面と接触させた後、溝が形成されている拭取り部材を用いることによって、溶剤供給ポンプなしで、回転の際に塗膜除去溶剤が溝に誘導されて拭取り部材に均一に供給され、効果的に塗膜を除去することができる。
そして、上記構成による塗膜の除去は、基体下端部内面を、塗膜を除去するための溶剤に浸漬して除去するものではないので、塗膜を除去するための溶剤に下端部を浸漬させる浸漬法での不具合である塗膜ムラや塗膜ダレを抑制できる。
したがって、装置構成が複雑となることなく基体を拭取る際に拭取り部材に拭き取り溶剤を供給することができ、塗膜を効率的に除去することが可能な塗膜除去装置を提供することができる。
According to the above configuration, the lifting mechanism lowers the substrate without immersing it in the solvent tank, and after contacting the wiping member whose lower end is immersed in the coating film removing solvent with the inner surface of the lower end of the substrate, the groove By using the wiping member on which the film is formed, the coating film removal solvent is guided to the groove during rotation without the solvent supply pump, and is uniformly supplied to the wiping member, effectively removing the coating film. be able to.
And since the removal of the coating film by the said structure is not what removes the base | substrate lower end part inner surface by immersing in the solvent for removing a coating film, a lower end part is immersed in the solvent for removing a coating film. It is possible to suppress coating unevenness and sagging, which are defects in the dipping method.
Therefore, it is possible to supply a wiping solvent to the wiping member when wiping the substrate without complicating the apparatus configuration, and to provide a coating film removing apparatus capable of efficiently removing a coating film. it can.

また、この発明の感光体ドラムの製造方法は、円筒状の基体に中間層を、中間層の上に電荷発生層を、電荷発生層の上に電荷輸送層をそれぞれ浸漬法により成膜する成膜工程と、前記基体の端部内面に成膜された中間層、電荷発生層、電荷輸送層を除去する除去工程とを備え、前記除去工程において、上記塗膜除去装置を用いる。
なお、感光体ドラムの製造方法を用いて製造された感光体ドラム、およびそれを具備した画像形成装置も、この発明の範疇に含まれる。
In the method for producing a photosensitive drum of the present invention, an intermediate layer is formed on a cylindrical substrate, a charge generation layer is formed on the intermediate layer, and a charge transport layer is formed on the charge generation layer by an immersion method. And a removal step of removing the intermediate layer, charge generation layer, and charge transport layer formed on the inner surface of the end portion of the substrate, and the coating film removing apparatus is used in the removal step.
Note that a photosensitive drum manufactured using a method for manufacturing a photosensitive drum and an image forming apparatus including the photosensitive drum are also included in the scope of the present invention.

この発明によれば、基体を拭取る際に拭取り部材に拭き取り溶剤を供給することができるので、塗膜を効率的に除去することができる。   According to this invention, since the wiping solvent can be supplied to the wiping member when the substrate is wiped, the coating film can be efficiently removed.

この発明に係る感光体ドラムを示す部分切欠き側面図である。It is a partially cutaway side view showing a photosensitive drum according to the present invention. 図1のA部拡大図である。It is the A section enlarged view of FIG. この発明の実施形態における塗膜除去装置の構成と動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure and operation | movement of the coating-film removal apparatus in embodiment of this invention. 図3の要部拡大図である。It is a principal part enlarged view of FIG. 拭取り部材の種類を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the kind of wiping member. この発明の塗膜除去装置の変形例の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the modification of the coating-film removal apparatus of this invention. この発明に係る感光体ドラムを備える画像形成装置を示す構成説明図である。1 is an explanatory diagram illustrating a configuration of an image forming apparatus including a photosensitive drum according to the present invention.

図面を参照しつつ、この発明の実施形態について説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明は繰り返さない。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the same parts are denoted by the same reference numerals. Their names and functions are also the same. Therefore, detailed description thereof will not be repeated.

図1は、この発明の感光体ドラムをフランジとともに示す部分切欠き側面図である。図2は、図1のA部拡大図である。図1,2に示されるように、感光体ドラム103は、円筒状の基体25を有している。基体25の両端の開口部には、フランジ200が取り付けられる。また、基体25の周囲には、中間層52、感光層53が順に積層されている。   FIG. 1 is a partially cutaway side view showing the photosensitive drum of the present invention together with a flange. FIG. 2 is an enlarged view of part A in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the photosensitive drum 103 has a cylindrical base 25. The flanges 200 are attached to the openings at both ends of the base body 25. Further, an intermediate layer 52 and a photosensitive layer 53 are sequentially laminated around the substrate 25.

感光層53は、電荷発生層54と、電荷輸送層55とを有している。基体25は、感光体ドラム103の電極としての役割を果たすとともに、中間層52、電荷発生層54および電荷輸送層55の支持部材としても機能する。   The photosensitive layer 53 has a charge generation layer 54 and a charge transport layer 55. The substrate 25 serves as an electrode of the photosensitive drum 103 and also functions as a support member for the intermediate layer 52, the charge generation layer 54, and the charge transport layer 55.

図3は、この実施形態における塗膜除去装置の一例を示す説明図である。塗膜除去装置1は、感光体ドラム103の基体25を塗液中に浸漬した後に引き上げる浸漬法によって基体25の表面に形成された塗膜を、基体25において塗膜の必要のない部分を除去する装置である。なお、塗膜除去装置1により塗膜が拭取られる層としては、中間層52、電荷発生層54、電荷輸送層55がある。   FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a coating film removing apparatus in this embodiment. The coating film removing apparatus 1 removes a portion of the substrate 25 that does not require a coating film from the coating film formed on the surface of the substrate 25 by a dipping method in which the substrate 25 of the photosensitive drum 103 is dipped in the coating liquid and then pulled up. It is a device to do. The layers from which the coating film is wiped off by the coating film removing apparatus 1 include an intermediate layer 52, a charge generation layer 54, and a charge transport layer 55.

塗膜除去装置1は、塗膜を除去しないときには、基体25と拭取り部材27とを離反させる。塗膜を除去するときには、基体25における塗膜の不要な部分と拭取り部材27とを接触させた後、拭取り部材27が基体25の端部内面で回転摺動することにより、不要な塗膜が拭き取られる。   The coating film removing apparatus 1 separates the base 25 and the wiping member 27 when the coating film is not removed. When the coating film is removed, the unnecessary portion of the coating film on the base 25 is brought into contact with the wiping member 27, and then the wiping member 27 rotates and slides on the inner surface of the end portion of the base body 25. The membrane is wiped off.

図3(a)は、塗膜除去装置1による塗膜非除去時の状態を示す図である。図3(b)は、塗膜除去装置1による塗膜除去時の状態を示す図である。図3(a),(b)に示されるように、塗膜除去装置1は、円筒状の基体25を保持するチャック装置26と、チャック装置26を昇降させる昇降機構(基体昇降機構)29と、基体25内面における塗膜の不要な部分を拭取る拭取り装置36とを備える。   FIG. 3A is a diagram showing a state when the coating film removing apparatus 1 does not remove the coating film. FIG. 3B is a diagram illustrating a state when the coating film is removed by the coating film removing apparatus 1. As shown in FIGS. 3A and 3B, the coating film removing apparatus 1 includes a chuck device 26 that holds a cylindrical substrate 25, and a lifting mechanism (substrate lifting mechanism) 29 that lifts and lowers the chuck device 26. And a wiping device 36 for wiping off unnecessary portions of the coating film on the inner surface of the substrate 25.

昇降機構29は、アーム部材33を備え、アーム部材33にチャック装置26の支持軸31が接続される。また、昇降機構29は、昇降モータ34の駆動により、アーム部材33を昇降させる。これにより、アーム部材33に接続されたチャック装置26が昇降可能となる。昇降機構29は、塗膜非除去時にチャック装置26を上昇させ、塗膜除去時にチャック装置26を降下させる。   The elevating mechanism 29 includes an arm member 33, and the support shaft 31 of the chuck device 26 is connected to the arm member 33. The elevating mechanism 29 elevates and lowers the arm member 33 by driving the elevating motor 34. As a result, the chuck device 26 connected to the arm member 33 can be moved up and down. The elevating mechanism 29 raises the chuck device 26 when the coating film is not removed, and lowers the chuck device 26 when the coating film is removed.

チャック装置26は、基体25の軸心が鉛直方向となるように基体25を支持する。具体的には、チャック装置26は、円筒状の基体25内部に挿入され、支持軸31の所定の取付位置に取り付けられた風船体32a,32bが膨張することにより、基体25を内部から支持する。風船体32a,32bは、支持軸31の内部に形成された流路を通じて加圧空気などの流体が供給され、膨張する。   The chuck device 26 supports the base body 25 so that the axis of the base body 25 is in the vertical direction. Specifically, the chuck device 26 is inserted into the cylindrical base body 25, and the balloon bodies 32a and 32b attached to predetermined support positions of the support shaft 31 expand to support the base body 25 from the inside. . The balloon bodies 32a and 32b are supplied with a fluid such as pressurized air through a flow path formed inside the support shaft 31, and expand.

拭取り装置36は、チャック装置26の下方に配置される。拭取り装置36は、塗膜を基体25の表面より剥離するための溶剤40を溜める溶剤槽37と、回転機構30と、溝44(図4)を有する拭取り部材27とを備える。   The wiping device 36 is disposed below the chuck device 26. The wiping device 36 includes a solvent tank 37 that stores a solvent 40 for peeling the coating film from the surface of the substrate 25, a rotating mechanism 30, and a wiping member 27 having a groove 44 (FIG. 4).

拭取り部材27は、溶剤40の保持力が良好であること、溝44の加工がし易いこと、耐溶剤性が高いこと、および繊維屑などが生じ難いこと等の条件を満たす素材であることが好ましい。これら条件を満たす素材としては、合成素材であるポリエチレン、ポリセルロース等が好適である。   The wiping member 27 is a material that satisfies the conditions such as good holding power of the solvent 40, easy processing of the groove 44, high solvent resistance, and low occurrence of fiber waste. Is preferred. As materials satisfying these conditions, synthetic materials such as polyethylene and polycellulose are suitable.

また、拭取り部材27はその下端の一部が溶剤40に浸漬した状態となる位置に存在する。
なお、溶剤40は、塗膜を溶解しうるものであり、特に感光塗工液に使用されている溶剤であることが好ましい。
ここで、チャック装置26の動作に連動する拭取り装置36の動作について説明する。図4は、拭取り装置36を示す拡大図である。
Further, the wiping member 27 exists at a position where a part of its lower end is immersed in the solvent 40.
The solvent 40 is capable of dissolving the coating film, and is particularly preferably a solvent used in the photosensitive coating solution.
Here, the operation of the wiping device 36 in conjunction with the operation of the chuck device 26 will be described. FIG. 4 is an enlarged view showing the wiping device 36.

上述したように、塗膜を除去する際には、昇降機構29は、図3(b)のようにアーム部材33を降下させるので、それに伴ってチャック装置26が降下する。基体25は溶剤40に浸漬することのない位置まで降下し、基体25の先端内面は溝44を有する拭取り部材27と接触する。   As described above, when removing the coating film, the elevating mechanism 29 lowers the arm member 33 as shown in FIG. 3B, so that the chuck device 26 is lowered accordingly. The substrate 25 is lowered to a position where it is not immersed in the solvent 40, and the inner surface of the tip of the substrate 25 comes into contact with the wiping member 27 having the groove 44.

また、回転機構30は、図4に示すように、回転モータ41(図3参照)を有しており、回転モータ41が駆動することにより溝44を有する拭取り部材27は回転する。回転の際、拭取り部材27は溝44を有するため、溶剤40が溝44を伝って上昇し、溶剤40を含んだ状態となる。
したがって、塗膜除去時には、基体25の内面と拭取り部材27とが接触した状態において、拭取り部材27を回転させることにより、溶剤40が拭取り部材27の溝44を伝って上昇して、溶剤40を含んだ拭取り部材27で基体25の下端部内面が摺動されることにより、基体25の下端部内面に形成された不要な塗膜を拭き取ることができる。
As shown in FIG. 4, the rotation mechanism 30 includes a rotation motor 41 (see FIG. 3). When the rotation motor 41 is driven, the wiping member 27 having the groove 44 rotates. At the time of rotation, the wiping member 27 has the groove 44, so that the solvent 40 rises along the groove 44 and the solvent 40 is contained.
Therefore, when the coating film is removed, the solvent 40 rises along the groove 44 of the wiping member 27 by rotating the wiping member 27 in a state where the inner surface of the base 25 and the wiping member 27 are in contact with each other. By sliding the inner surface of the lower end portion of the base body 25 with the wiping member 27 containing the solvent 40, an unnecessary coating film formed on the inner surface of the lower end portion of the base body 25 can be wiped off.

図5(a)〜(c)は、この実施形態における塗膜除去装置1の拭取り部材27の種類を示す図である。
この実施形態では、拭取り部材27は、溝44を有している。溝44は、図5(a)〜(c)に示すように、拭取り部材27の外周面に形成されている。
溝44は、溶剤40が染み上がりやすいように、図5(a)、(b)のように、拭取り部材27の回転軸に対して斜め(らせん状)に形成することが好ましい。これにより、拭取り部材の回転と共に溶剤40が溝44を伝って染みあがり易くなり、拭取り部材は溶剤を含んだ状態となる。
Fig.5 (a)-(c) is a figure which shows the kind of wiping member 27 of the coating-film removal apparatus 1 in this embodiment.
In this embodiment, the wiping member 27 has a groove 44. The groove 44 is formed on the outer peripheral surface of the wiping member 27 as shown in FIGS.
The groove 44 is preferably formed obliquely (spiral) with respect to the rotational axis of the wiping member 27 as shown in FIGS. 5A and 5B so that the solvent 40 can easily permeate. As a result, the solvent 40 is easily transmitted through the groove 44 along with the rotation of the wiping member, so that the wiping member contains the solvent.

さらに、この実施形態では、拭取り部材27の上部は図5(a)、(c)のように面取りしてあることが好ましい。これにより、基体25の下端部に拭取り部材27をスムーズに挿入することができる他、挿入の際に基体25の端部により拭取り部材27を弾いて、拭取り部材27に含まれる溶剤40が飛び散り、基体25への溶剤の再付着を防ぐことができる。   Furthermore, in this embodiment, the upper part of the wiping member 27 is preferably chamfered as shown in FIGS. Accordingly, the wiping member 27 can be smoothly inserted into the lower end portion of the base 25, and the solvent 40 contained in the wiping member 27 is repelled by the end of the base 25 during insertion. Can scatter and prevent the solvent 25 from reattaching to the substrate 25.

さらに、この実施形態では拭取り部材27の外径は基体25の内径よりも若干(3mm以下)大きいことが好ましい。これにより、拭取り部材27は基体25の下端部内面によりよく密着することができるために拭き取り効果を上げることができる。
拭取り部材27の外径が基体25の内径より小さい場合は、拭取り部材27と基体25の内面とが接触せず、塗膜除去出来ないことは明らかである。内径よりも3mm以上大きい場合は、拭取り部材が基体内面にスムーズに入っていかず、基体が拭取り部材を弾いて、拭き取り溶剤が飛散する可能性がある。
なお、図5(b)は拭取り部材27の上部が面取りされていない例を示し、図5(c)は溝44が回転軸に平行に入れられた例を示している。
Further, in this embodiment, the outer diameter of the wiping member 27 is preferably slightly larger (3 mm or less) than the inner diameter of the base body 25. Thereby, since the wiping member 27 can adhere more closely to the inner surface of the lower end portion of the base body 25, the wiping effect can be improved.
When the outer diameter of the wiping member 27 is smaller than the inner diameter of the base body 25, it is clear that the wiping member 27 and the inner surface of the base body 25 are not in contact with each other and the coating film cannot be removed. When it is 3 mm or more larger than the inner diameter, the wiping member does not smoothly enter the inner surface of the substrate, and the substrate may repel the wiping member and the wiping solvent may be scattered.
5B shows an example in which the upper portion of the wiping member 27 is not chamfered, and FIG. 5C shows an example in which the groove 44 is put in parallel to the rotation axis.

<変形例>
図6は、前記実施形態の変形例における塗膜除去装置1Aを示す図3(b)対応図である。ここでは、塗膜除去時における塗膜除去装置1Aの状態を示している。図6に示されるように、塗膜除去装置1Aは、チャック装置26の支持軸31を回転させる回転モータ42を備えた回転機構50を備える。これにより、チャック装置26に保持された基体25は、支持軸31の回転に連動して、支持軸31と同じ回転方向に回転する。なお、チャック装置26の支持軸31の回転方向は、回転機構30が回転する方向と逆方向としている。その他の構成は、図3に示すものと同等である。
<Modification>
FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 3B showing a coating film removing apparatus 1A according to a modification of the embodiment. Here, the state of the coating film removing apparatus 1A at the time of coating film removal is shown. As shown in FIG. 6, the coating film removing apparatus 1 </ b> A includes a rotation mechanism 50 including a rotation motor 42 that rotates the support shaft 31 of the chuck device 26. As a result, the base body 25 held by the chuck device 26 rotates in the same rotational direction as the support shaft 31 in conjunction with the rotation of the support shaft 31. Note that the rotation direction of the support shaft 31 of the chuck device 26 is opposite to the direction in which the rotation mechanism 30 rotates. Other configurations are the same as those shown in FIG.

塗膜除去時には、塗膜除去装置1Aは、基体25の下端部内面と、拭取り部材27とが接触した状態において、拭取り部材27およびチャック装置26の回転方向を互いに逆方向に回転させるので、チャック装置26に保持された基体25を拭取り部材27が摺動する際の相対速度を上げることができる。これにより、溝44を伝う溶剤40の量も増加し、拭取り部材27はより溶剤40を多く含んだ状態となるため、拭取り部材27またはチャック装置26のいずれか一方を回転させる構成よりも、塗膜の除去効果を高めることができる。   At the time of removing the coating film, the coating film removing apparatus 1A rotates the wiping member 27 and the chuck device 26 in the opposite directions in a state where the inner surface of the lower end portion of the base 25 and the wiping member 27 are in contact with each other. The relative speed when the wiping member 27 slides on the base body 25 held by the chuck device 26 can be increased. As a result, the amount of the solvent 40 transmitted through the groove 44 also increases, and the wiping member 27 is in a state containing more solvent 40, so that either the wiping member 27 or the chuck device 26 is rotated. The effect of removing the coating film can be enhanced.

なお、チャック装置26のみを高速回転させて、同様の効果を得ようとすると、チャック装置26により保持された基体25の遠心力が大きくなる。塗膜は、未乾燥のときに除去されるので、チャック装置26の高速回転により生じる基体25の遠心力が大きくなると、感光層の均一性が低下する。   Note that if the same effect is obtained by rotating only the chuck device 26 at a high speed, the centrifugal force of the base 25 held by the chuck device 26 increases. Since the coating film is removed when it is not dried, the uniformity of the photosensitive layer decreases when the centrifugal force of the substrate 25 generated by the high speed rotation of the chuck device 26 increases.

また、チャック装置26は、風船体32a,32bを膨張させることにより、円筒内部から基体25を保持するので、基体25を高速回転させると、支持軸31の回転中心と基体25の軸心とが偏心する場合がある。この場合、塗膜除去時に、基体25の下端部内面が拭取り部材27に均一に接触しないため、塗膜を確実に除去することができない危険性がある。   Further, since the chuck device 26 holds the base body 25 from the inside of the cylinder by expanding the balloon bodies 32a and 32b, when the base body 25 is rotated at a high speed, the rotation center of the support shaft 31 and the axis of the base body 25 are aligned. There may be eccentricity. In this case, when removing the coating film, the inner surface of the lower end portion of the base body 25 does not uniformly contact the wiping member 27, so that there is a risk that the coating film cannot be reliably removed.

一方、拭取り部材27を回転させ、チャック装置26を回転させない場合においては、回転機構30の回転速度を大きくすると、回転機構30の回転に連動して回転する拭取り部材27の遠心力が大きくなる。これにより、拭取り部材27に保持される溶剤40が遠心力によって飛散する可能性がある。飛散した溶剤40が基体25の塗膜の必要な部分に付着すると、感光層53に対して悪影響を及ぼす。   On the other hand, when the wiping member 27 is rotated and the chuck device 26 is not rotated, if the rotation speed of the rotation mechanism 30 is increased, the centrifugal force of the wiping member 27 rotating in conjunction with the rotation of the rotation mechanism 30 is increased. Become. Thereby, the solvent 40 held by the wiping member 27 may be scattered by centrifugal force. When the scattered solvent 40 adheres to a necessary portion of the coating film of the substrate 25, it adversely affects the photosensitive layer 53.

これに対して、この変形例における塗膜除去装置1Aにおいては、チャック装置26と拭取り部材27とを互いに逆方向に回転させることにより、チャック装置26に保持された基体25と拭取り部材27との相対的な回転速度を大きくすることができる。このため、チャック装置26および拭取り部材27それぞれの回転速度を小さく抑えることができる。これにより、感光層53の均一性の低下、溶剤40の飛散を防ぐことができる。   In contrast, in the coating film removing apparatus 1A according to this modification, the base member 25 and the wiping member 27 held by the chuck device 26 are rotated by rotating the chuck device 26 and the wiping member 27 in opposite directions. And the relative rotational speed can be increased. For this reason, each rotation speed of the chuck device 26 and the wiping member 27 can be kept small. Thereby, the uniformity of the photosensitive layer 53 can be prevented from being lowered and the solvent 40 can be prevented from being scattered.

なお、この実施形態および変形例においては、浸漬法によって基体25の表面に、塗膜を形成し、塗膜除去装置1,1Aによって不要な塗膜を除去し、乾燥して、画像形成装置に搭載される像担持体である感光体ドラム103を作製する場合を例に説明した。そのため、塗膜除去装置1,1Aによって除去される塗膜は、中間層52、電荷発生層54、あるいは電荷輸送層55といった、感光体ドラム103の作製工程で成膜される塗膜であったが、感光体ドラム103以外のドラム状の基台の表面に塗膜を浸漬法にて形成する他の部材の製造に用いることができることは言うまでもない。   In this embodiment and the modified example, a coating film is formed on the surface of the substrate 25 by the dipping method, an unnecessary coating film is removed by the coating film removing apparatuses 1 and 1A, and dried to form an image forming apparatus. The case where the photosensitive drum 103 which is the mounted image carrier is manufactured has been described as an example. Therefore, the coating film removed by the coating film removing apparatus 1 or 1A is a coating film formed in the manufacturing process of the photosensitive drum 103, such as the intermediate layer 52, the charge generation layer 54, or the charge transport layer 55. However, it goes without saying that it can be used to manufacture other members that form a coating film on the surface of a drum-shaped base other than the photosensitive drum 103 by a dipping method.

また、塗膜除去装置1,1Aは、基体25の下端部と拭取り部材27とを接触させるために、昇降機構29によってアーム部材33を昇降させるように構成しているが、これに限定するものではない。アーム部材33の位置を固定し、拭取り装置36を昇降させるように構成するようにしてもよい。この場合においても、この実施形態および変形例と同様に動作させて同様の効果を得ることができる。
また、図3に示す塗膜除去装置1は、拭取り部材27を回転させる代わりに、支持軸31を回転させる構成を有していてもよい。
Moreover, although the coating-film removal apparatus 1 and 1A are comprised so that the arm member 33 may be raised / lowered by the raising / lowering mechanism 29, in order to contact the lower end part of the base | substrate 25 and the wiping member 27, it is limited to this. It is not a thing. You may make it comprise so that the position of the arm member 33 may be fixed and the wiping apparatus 36 may be raised / lowered. Even in this case, the same effect can be obtained by operating in the same manner as in this embodiment and the modification.
Further, the coating film removing apparatus 1 shown in FIG. 3 may have a configuration that rotates the support shaft 31 instead of rotating the wiping member 27.

(感光体ドラムの説明)
ここで、上述した塗膜除去装置1を用いて製造される感光体ドラム103(図1)を構成する材料について説明する。
(Description of photosensitive drum)
Here, the material which comprises the photoreceptor drum 103 (FIG. 1) manufactured using the coating-film removal apparatus 1 mentioned above is demonstrated.

この発明において円筒状の基体25は従来公知の各種のものを使用することができる。例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、チタンなどの金属単体、アルミニウム合金、ステンレス鋼などの合金を用いることができる。また、これらの金属材料に限定されることなく、ポリエチレンテレフタレート、ナイロンもしくはポリスチレンなどの高分子材料、硬質紙またはガラスなどの表面に、金属箔をラミネートしたもの、金属材料を蒸着したもの、または導電性高分子、酸化スズ、酸化インジウムなどの導電性化合物の層を蒸着もしくは塗布したものなどを用いることもできる。   In the present invention, various conventionally known substrates can be used as the cylindrical substrate 25. For example, a simple metal such as aluminum, copper, zinc, or titanium, an alloy such as an aluminum alloy, or stainless steel can be used. Also, not limited to these metal materials, polymer materials such as polyethylene terephthalate, nylon or polystyrene, those obtained by laminating metal foil on the surface of hard paper or glass, those obtained by vapor deposition of metal materials, or conductive materials A layer obtained by depositing or coating a conductive compound layer such as a conductive polymer, tin oxide, or indium oxide can also be used.

中間層52は、基体25からの感光層53への電荷の注入を防止する機能を有する。したがって、感光層53の帯電性の低下を防ぐことができ、露光によって消去されるべき部分以外の表面電荷の減少を抑え、画像にかぶりなどの欠陥が発生することを防止することができる。
また、中間層52を設けることによって、基体25表面の欠陥を被覆して均一な表面を得ることができるので、感光層53の成膜性を高めることができる。また、感光層53の基体25からの剥離を抑え、基体25と感光層53との接着性を向上させることができる。
The intermediate layer 52 has a function of preventing charge injection from the substrate 25 to the photosensitive layer 53. Accordingly, it is possible to prevent the chargeability of the photosensitive layer 53 from being lowered, to suppress a decrease in surface charge other than the portion to be erased by exposure, and to prevent occurrence of defects such as fogging on the image.
Further, by providing the intermediate layer 52, defects on the surface of the substrate 25 can be covered to obtain a uniform surface, so that the film formability of the photosensitive layer 53 can be improved. Further, peeling of the photosensitive layer 53 from the substrate 25 can be suppressed, and adhesion between the substrate 25 and the photosensitive layer 53 can be improved.

中間層52には、各種樹脂材料から成る樹脂層またはアルマイト層などが用いられる。樹脂層を構成する樹脂材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂およびポリアミド樹脂などの樹脂、ならびにこれらの樹脂を構成する繰返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂などを挙げることができる。   For the intermediate layer 52, a resin layer or an alumite layer made of various resin materials is used. The resin material constituting the resin layer includes polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyurethane resin, epoxy resin, polyester resin, melamine resin, silicone resin, polyvinyl butyral resin, and polyamide. Examples thereof include resins such as resins, and copolymer resins including two or more of repeating units constituting these resins.

中間層52は、たとえば前記の樹脂を適当な溶剤中に溶解または分散させて中間層用塗布液を調製し、この塗布液を基体25の表面に塗布することによって形成される。中間層52に前記の金属酸化物粒子などの粒子を含有させる場合には、たとえば前記の樹脂を適当な溶剤に溶解させて得られる樹脂溶液中に、これらの粒子を分散させて中間層用塗布液を調製し、この塗布液を基体25の表面に塗布することによって中間層52を形成することができる。   The intermediate layer 52 is formed, for example, by dissolving or dispersing the resin in an appropriate solvent to prepare an intermediate layer coating solution and applying the coating solution to the surface of the substrate 25. When the intermediate layer 52 contains particles such as the metal oxide particles, for example, these particles are dispersed in a resin solution obtained by dissolving the resin in an appropriate solvent, and the intermediate layer coating is performed. The intermediate layer 52 can be formed by preparing a liquid and applying this coating liquid to the surface of the substrate 25.

中間層用塗布液の溶剤には、水もしくは各種有機溶剤、またはこれらの混合溶剤が用いられる。たとえば、水、メタノール、エタノールもしくはブタノールなどの単独溶剤、または水とアルコール類、2種類以上のアルコール類、アセトンもしくはジオキソランなどとアルコール類、ジクロロエタン、クロロホルムもしくはトリクロロエタンなどの塩素系溶剤とアルコール類などの混合溶剤が用いられる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、非ハロゲン系有機溶剤が好適に用いられる。   Water, various organic solvents, or a mixed solvent thereof is used as the solvent for the intermediate layer coating solution. For example, water, alcohol, single solvents such as methanol, ethanol or butanol, water and alcohols, two or more alcohols, acetone or dioxolane and alcohols, chlorinated solvents such as dichloroethane, chloroform or trichloroethane and alcohols, etc. A mixed solvent is used. Among these solvents, non-halogen organic solvents are preferably used in consideration of the global environment.

中間層用塗布液の塗布方法としては、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、ブレード法、リング法および浸漬塗布法などを挙げることができる。これらの中でも、特に浸漬塗布法は、前記のように、比較的簡単で、生産性および原価の点で優れているので、中間層52を形成する場合にも多く利用されている。   Examples of the coating method of the intermediate layer coating solution include a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a blade method, a ring method, and a dip coating method. Among these, the dip coating method is relatively simple as described above, and is excellent in productivity and cost. Therefore, the dip coating method is often used for forming the intermediate layer 52.

中間層52の膜厚は、0.01μm以上20μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.05μm以上10μm以下である。   The thickness of the intermediate layer 52 is preferably 0.01 μm or more and 20 μm or less, more preferably 0.05 μm or more and 10 μm or less.

電荷発生層54は、光を吸収することによって電荷を発生する電荷発生物質を主成分として含有する。電荷発生物質として有効な物質としては、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系顔料およびトリスアゾ系顔料などのアゾ系顔料、インジゴおよびチオインジゴなどのインジゴ系顔料、ペリレンイミドおよびペリレン酸無水物などのペリレン系顔料、アントラキノンおよびピレンキノンなどの多環キノン系顔料、金属フタロシアニンおよび無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩類およびチオピリリウム塩類、トリフェニルメタン系色素などの有機光導電性材料、ならびにセレンおよび非晶質シリコンなどの無機光導電性材料などを挙げることができる。これらの電荷発生物質は、1種が単独で使用されてもよく、または2種以上が組合わされて使用されてもよい。   The charge generation layer 54 contains, as a main component, a charge generation material that generates charges by absorbing light. Substances effective as charge generating substances include azo pigments such as monoazo pigments, bisazo pigments and trisazo pigments, indigo pigments such as indigo and thioindigo, perylene pigments such as peryleneimide and perylene anhydride, anthraquinone and Organic photoconductive materials such as polycyclic quinone pigments such as pyrenequinone, phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and metal-free phthalocyanine, squarylium dyes, pyrylium salts and thiopyrylium salts, triphenylmethane dyes, and selenium and amorphous silicon And inorganic photoconductive materials. One of these charge generation materials may be used alone, or two or more of these charge generation materials may be used in combination.

電荷発生層54の形成方法としては、前記の電荷発生物質を基体25の表面に真空蒸着する方法、または前記の電荷発生物質を適当な溶剤中に分散して得られる電荷発生層用塗布液を基体25の表面に塗布する方法などが用いられる。
これらの中でも、結着剤である結着樹脂を溶剤中に混合して得られる結着樹脂溶液中に、電荷発生物質を従来公知の方法によって分散して電荷発生層用塗布液を調製し、得られた塗布液を基体25の表面に塗布する方法が好適に用いられる。
電荷発生層用塗布液の塗布方法としては、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、ブレード法、リング法および浸漬塗布法などを挙げることができる。これらの塗布方法のうちから、塗布の物性および生産性などを考慮に入れて最適な方法を選択することができる。
As a method of forming the charge generation layer 54, a method of vacuum-depositing the charge generation material on the surface of the substrate 25, or a charge generation layer coating solution obtained by dispersing the charge generation material in an appropriate solvent is used. A method of applying to the surface of the substrate 25 is used.
Among these, in a binder resin solution obtained by mixing a binder resin as a binder in a solvent, a charge generating material is dispersed by a conventionally known method to prepare a coating solution for a charge generating layer, A method of applying the obtained coating solution to the surface of the substrate 25 is preferably used.
Examples of the method for applying the charge generation layer coating solution include a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a blade method, a ring method, and a dip coating method. Among these application methods, an optimum method can be selected in consideration of the physical properties and productivity of the application.

これらの塗布方法の中でも、特に浸漬塗布法は、塗布液を満たした塗工槽に基体を浸漬した後、一定速度または逐次変化する速度で引上げることによって基体の表面上に層を形成する方法であり、比較的簡単で、生産性および原価の点で優れているので、感光体ドラムを製造する場合に多く利用されている。   Among these coating methods, in particular, the dip coating method is a method of forming a layer on the surface of the substrate by immersing the substrate in a coating tank filled with a coating solution and then pulling it up at a constant speed or a speed that changes sequentially. Since it is relatively simple and excellent in terms of productivity and cost, it is widely used in the production of photosensitive drums.

電荷輸送層55に含有されるバインダ樹脂には、例えばポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂およびフェノール樹脂などの樹脂などを挙げることができる。   Examples of the binder resin contained in the charge transport layer 55 include polycarbonate resin, polyarylate resin, polyester resin, polyester carbonate resin, polysulfone resin, phenoxy resin, epoxy resin, silicone resin, polyamide resin, polyether resin, polyurethane resin, Examples thereof include resins such as polyacrylamide resin and phenol resin.

さらに、電荷輸送物質としては、エナミン誘導体、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、多環芳香族化合物、インドール誘導体、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、トリアリールメタン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体およびベンジジン誘導体などを挙げることができる。
また、これらの化合物から生じる基を主鎖または側鎖に有するポリマー、例えばポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレンおよびポリ−9−ビニルアントラセンなども挙げられる。
Further, the charge transport materials include enamine derivatives, carbazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidine derivatives, styryl compounds, hydrazones. Compound, polycyclic aromatic compound, indole derivative, pyrazoline derivative, oxazolone derivative, benzimidazole derivative, quinazoline derivative, benzofuran derivative, acridine derivative, phenazine derivative, aminostilbene derivative, triarylamine derivative, triarylmethane derivative, phenylenediamine derivative And stilbene derivatives and benzidine derivatives.
Also included are polymers having groups derived from these compounds in the main chain or side chain, such as poly-N-vinylcarbazole, poly-1-vinylpyrene and poly-9-vinylanthracene.

電荷輸送層55は、前記の電荷発生層54を塗布によって形成する場合と同様に、例えば適当な溶媒中に、電荷輸送物質、ポリアリレート樹脂、シリカ微粒子、ならびに必要な場合には前記の添加剤を溶解または分散させて電荷輸送層用塗布液を調製し、得られた塗布液を電荷発生層54上に塗布することによって形成される。   The charge transport layer 55 is formed in the same manner as when the charge generation layer 54 is formed by coating, for example, in a suitable solvent, a charge transport material, a polyarylate resin, silica fine particles, and, if necessary, the additives described above. Is dissolved or dispersed to prepare a coating solution for a charge transport layer, and the resulting coating solution is applied onto the charge generation layer 54.

電荷輸送層用塗布液の溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンおよびモノクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメタンおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびジメトキシメチルエーテルなどのエーテル類、ならびにN,N−ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒などを挙げることができる。   Examples of the solvent for the charge transport layer coating solution include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and monochlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and dichloroethane, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxymethyl ether, and Examples include aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide.

電荷輸送層用塗布液の塗布方法としては、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、ブレード法、リング法および浸漬塗布法などを挙げることができる。
これらの塗布方法の中でも、特に浸漬塗布法は、前記のように種々の点で優れているので、電荷輸送層55を形成する場合にも多く利用されている。
Examples of the coating method for the charge transport layer coating solution include a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a blade method, a ring method, and a dip coating method.
Among these coating methods, the dip coating method is particularly excellent in various respects as described above, and is often used when the charge transport layer 55 is formed.

本発明の感光体ドラム103の製造方法には、好ましくは中間層52、電荷発生層54、電荷輸送層55等、各層の乾燥硬化工程が含まれる。感光体ドラム103の乾燥温度としては、約50℃〜約140℃が適当であり、特に約80℃〜約130℃の範囲が好ましい。
感光体ドラム103の乾燥温度が約50℃未満では乾燥時間が長くなり、また、乾燥温度が約140℃を越えると、繰返し使用時の電気的特性が悪くなり感光体ドラム103を使用して得られる画像も劣化する。
The method for producing the photosensitive drum 103 of the present invention preferably includes a drying and curing step of each layer such as the intermediate layer 52, the charge generation layer 54, the charge transport layer 55, and the like. The drying temperature of the photosensitive drum 103 is suitably about 50 ° C. to about 140 ° C., and particularly preferably about 80 ° C. to about 130 ° C.
When the drying temperature of the photosensitive drum 103 is less than about 50 ° C., the drying time becomes longer, and when the drying temperature exceeds about 140 ° C., the electrical characteristics during repeated use deteriorate and the photosensitive drum 103 is obtained. The resulting image is also degraded.

(画像形成装置の説明)
ここで、この発明に係る感光体ドラム103を備えた画像形成装置について説明する。図7は、画像形成装置の構成説明図である。図7に示すように、画像形成装置100は、画像形成ユニット60と原稿読取ユニット70とを備える。
原稿読取ユニット70は、主として自動原稿給紙装置80および走査部90を有している。自動原稿給紙装置80の載置台に載置された複数の原稿用紙は、順次、走査部90の上部へ供給され、原稿の読み取りが行われる。
(Description of image forming apparatus)
Here, an image forming apparatus including the photosensitive drum 103 according to the present invention will be described. FIG. 7 is a diagram illustrating the configuration of the image forming apparatus. As shown in FIG. 7, the image forming apparatus 100 includes an image forming unit 60 and a document reading unit 70.
The document reading unit 70 mainly includes an automatic document feeder 80 and a scanning unit 90. The plurality of document sheets placed on the placement table of the automatic document feeder 80 are sequentially supplied to the upper part of the scanning unit 90, and the document is read.

画像形成ユニット60は、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(B)に対応した4つの画像形成ステーションP1〜P4を備えている。4つの画像形成ステーションP1〜P4は基本的に同一の構成を有しており、感光体ドラム103と、その周囲に配設された、帯電器5、現像装置2、転写ローラ64、クリーナユニット4等を備えている。なお、各画像形成ステーションP1〜P4には、それぞれ個々に識別情報が付されており、制御部(図示しない)は、画像形成ステーションP1〜P4を個々に判別できるようになっている。   The image forming unit 60 includes four image forming stations P1 to P4 corresponding to yellow (Y), magenta (M), cyan (C), and black (B). The four image forming stations P1 to P4 have basically the same configuration, and the photosensitive drum 103 and the charger 5, the developing device 2, the transfer roller 64, and the cleaner unit 4 disposed around the photosensitive drum 103. Etc. Each of the image forming stations P1 to P4 is individually assigned identification information, and a control unit (not shown) can discriminate the image forming stations P1 to P4 individually.

画像形成ステーションP1〜P4の下方には、露光ユニット8が配置され、画像形成ステーションP1〜P4の上方には、中間転写ベルト機構6が配設されている。露光ユニット8が、帯電器5にて帯電された感光体ドラム103の表面を画像データに応じて露光することにより、感光体ドラム103の表面に静電潜像を形成し、該静電潜像を現像装置2がトナーを供給することでトナー像とする。感光体ドラム103の表面に形成されたトナー像は、中間転写ベルト機構6により、画像形成ステーションP1〜P4のそれぞれの転写ローラ64を内側に内設するように巻回された中間転写ベルト61上に重畳して転写される。   An exposure unit 8 is disposed below the image forming stations P1 to P4, and an intermediate transfer belt mechanism 6 is disposed above the image forming stations P1 to P4. The exposure unit 8 exposes the surface of the photosensitive drum 103 charged by the charger 5 according to the image data, thereby forming an electrostatic latent image on the surface of the photosensitive drum 103, and the electrostatic latent image. The developing device 2 supplies toner to form a toner image. The toner image formed on the surface of the photosensitive drum 103 is transferred onto the intermediate transfer belt 61 wound by the intermediate transfer belt mechanism 6 so that the transfer rollers 64 of the image forming stations P1 to P4 are provided inside. Is superimposed and transferred.

中間転写ベルト機構6における、中間転写ベルト61の進行方向前方には、転写装置10が配設されており、該転写装置10にて中間転写ベルト61上のトナー像は、給紙カセット81や手差し給紙カセット82より給紙された用紙(シート材)に転写される。さらに、用紙の搬送方向前方には、定着装置7が配設されており、該定着装置7を通過することで、トナー像が用紙上に固化され定着され、その後、排紙トレイ91上に排出される。   In the intermediate transfer belt mechanism 6, a transfer device 10 is disposed in front of the intermediate transfer belt 61 in the traveling direction, and the toner image on the intermediate transfer belt 61 is transferred to the paper feed cassette 81 or the manual feed by the transfer device 10. The image is transferred to a sheet (sheet material) fed from the sheet feeding cassette 82. Further, a fixing device 7 is disposed in front of the paper conveyance direction, and the toner image is solidified and fixed on the paper by passing through the fixing device 7, and then discharged onto the paper discharge tray 91. Is done.

また、画像形成ユニット60には、4つの画像形成ステーションP1〜P4の各現像装置2にトナーを補給するためのトナー補給装置700が備えられており、図7の構成では、ブラック(B)、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)の4つのトナー補給装置700が備えられている。   Further, the image forming unit 60 is provided with a toner replenishing device 700 for replenishing toner to each developing device 2 of the four image forming stations P1 to P4. In the configuration of FIG. Four toner supply devices 700 of cyan (C), magenta (M), and yellow (Y) are provided.

(実施例1)
以下実施例により本発明を具体的に説明する。但し、この発明はこの実施例に限定されるものではない。
酸化チタン(TTO−MI−1:石原産業製)3重量部、アルコール可溶性ナイロン樹脂CM-8000(商品名、東レ社製)3重量部、メタノール60重量部、1,3-ジオキソラン40重量部をペイントシェーカにて10時間分散処理し、中間層用塗布液を調製した。調製した中間層用塗布液を、直径30mm、長さ357mmのアルミニウム製の円筒状の基体25上に膜厚1μmとなるように浸漬塗布法によって塗布して中間層52を成膜し、塗布後2分後に、溝44が入っている拭取り部材27を有する拭取り装置36を用いて、基体25の下端内面に形成された中間層52を除去した。このときの回転機構30による拭取り部材27が基体25の下端内面を摺動する回転速度は40rpmとし、摺動時間は20秒とした。
Example 1
The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this embodiment.
3 parts by weight of titanium oxide (TTO-MI-1: manufactured by Ishihara Sangyo), 3 parts by weight of alcohol-soluble nylon resin CM-8000 (trade name, manufactured by Toray Industries, Inc.), 60 parts by weight of methanol, and 40 parts by weight of 1,3-dioxolane Dispersion treatment was carried out for 10 hours with a paint shaker to prepare an intermediate layer coating solution. The prepared intermediate layer coating solution is applied by dip coating on an aluminum cylindrical base 25 having a diameter of 30 mm and a length of 357 mm so as to have a film thickness of 1 μm. After 2 minutes, the intermediate layer 52 formed on the inner surface of the lower end of the base 25 was removed using the wiping device 36 having the wiping member 27 having the groove 44. At this time, the rotational speed at which the wiping member 27 by the rotation mechanism 30 slides on the inner surface of the lower end of the base 25 was 40 rpm, and the sliding time was 20 seconds.

拭取り部材27は、材質がポリエチレン(富士ゴム産業株式会社 発泡ポリエチレンフォーム、商品ID:P0015)を用い、拭取り部材の回転軸に対して斜め(らせん状)の溝44を入れた。またふき取り部材の直径は基体の内径29mmより0.3mm大きい29.3mm、拭取り部材上部は面取りされたものを用いた。
拭き取り溶剤40は、メタノールを用いた。
次に、ブチラール樹脂(エスレックBM−2:商標、積水化学社製)10重量部、1,3−ジオキソラン1400重量部、以下の式(化1)を有するチタニルフタロシアニン15重量部をボールミルにより72時間分散し電荷発生層用塗布液を作製した。
The wiping member 27 is made of polyethylene (Fuji Rubber Sangyo Co., Ltd., foamed polyethylene foam, product ID: P0015), and has a groove 44 that is inclined (spiral) with respect to the rotation axis of the wiping member. The diameter of the wiping member was 29.3 mm, 0.3 mm larger than the inner diameter of the substrate 29 mm, and the upper part of the wiping member was chamfered.
As the wiping solvent 40, methanol was used.
Next, 10 parts by weight of butyral resin (ESLEC BM-2: trademark, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), 1400 parts by weight of 1,3-dioxolane, and 15 parts by weight of titanyl phthalocyanine having the following formula (Chemical Formula 1) were used for 72 hours by a ball mill. Dispersed to produce a charge generation layer coating solution.

この塗布液を用いて、前記の中間層52を設けたアルミニウム製の円筒状の基体25上に浸漬塗工法により膜厚が0.2μmとなるように電荷発生層54を成膜し、塗布後2分後に、上記と同様の拭取り装置36を用いて、溝44が入っている拭取り部材27を用いて、基体25の下端内面に形成された電荷発生層54を除去した。このときの回転機構30による拭取り部材27が基体25の下端内面を摺動する速度は40rpmとし、摺動時間は20秒とした。   Using this coating solution, a charge generation layer 54 is formed on the cylindrical aluminum substrate 25 provided with the intermediate layer 52 by a dip coating method so as to have a film thickness of 0.2 μm. Two minutes later, the charge generation layer 54 formed on the inner surface of the lower end of the base 25 was removed using the wiping device 36 having the groove 44 using the wiping device 36 similar to the above. At this time, the speed at which the wiping member 27 by the rotating mechanism 30 slides on the inner surface of the lower end of the base 25 was 40 rpm, and the sliding time was 20 seconds.

拭取り部材27は、材質がポリエチレン(富士ゴム産業株式会社 発泡ポリエチレンフォーム、商品ID:P0015)を用い、拭取り部材の回転方向に対して斜め(らせん状)の溝44を入れた。またふき取り部材の直径は基体の内径29mmより0.3mm大きい29.3mm、拭取り部材上部は面取りされたものを用いた。
拭き取り溶剤40は、THFを用いた。
The wiping member 27 is made of polyethylene (Fuji Rubber Sangyo Co., Ltd., foamed polyethylene foam, product ID: P0015), and has an oblique (spiral) groove 44 with respect to the rotation direction of the wiping member. The diameter of the wiping member was 29.3 mm, 0.3 mm larger than the inner diameter of the substrate 29 mm, and the upper part of the wiping member was chamfered.
As the wiping solvent 40, THF was used.

電荷輸送物質として、以下の式(化2)で示される構造を有するトリフェニルアミン系化合物105重量部、ポリカーボネート樹脂(ユ−ピロンPCZ400:三菱ガス化学社製)115重量部、テトラヒドロフラン754重量部に混合して溶解した。   As a charge transport material, 105 parts by weight of a triphenylamine compound having a structure represented by the following formula (Chemical Formula 2), 115 parts by weight of a polycarbonate resin (Upilon PCZ400: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), 754 parts by weight of tetrahydrofuran Mix and dissolve.

電荷輸送層塗布液を、浸漬塗布法にて前記の電荷発生層54上に塗布して電荷輸送層55を成膜し、塗布後2分後に、上記と同様の塗膜除去装置1を用いて、上記と同様の拭取り装置36を用いて、溝44が入っている拭取り部材27を用いて、基体25の下端内面に形成された電荷輸送層55を除去した。このときの回転機構30による拭取り部材27が基体25の下端内面を摺動する速度は40rpmとし、摺動時間は20秒とした。
拭取り部材27は、材質がポリエチレン(富士ゴム産業株式会社 発泡ポリエチレンフォーム、商品ID:P0015)を用い、拭取り部材の回転方向に対して斜め(らせん状)の溝44を入れた。またふき取り部材の直径は基体25の内径29mmより0.3mm大きい29.3mm、拭取り部材上部は面取りされたものを用いた。
A charge transport layer coating solution is applied onto the charge generation layer 54 by a dip coating method to form a charge transport layer 55. Two minutes after the coating, the coating film removing apparatus 1 similar to the above is used. Using the same wiping device 36 as described above, the charge transport layer 55 formed on the inner surface of the lower end of the substrate 25 was removed using the wiping member 27 having the grooves 44. At this time, the speed at which the wiping member 27 by the rotating mechanism 30 slides on the inner surface of the lower end of the base 25 was 40 rpm, and the sliding time was 20 seconds.
The wiping member 27 is made of polyethylene (Fuji Rubber Sangyo Co., Ltd., foamed polyethylene foam, product ID: P0015), and has an oblique (spiral) groove 44 with respect to the rotation direction of the wiping member. The diameter of the wiping member was 29.3 mm, 0.3 mm larger than the inner diameter 29 mm of the substrate 25, and the upper part of the wiping member was chamfered.

(実施例2)
拭取り部材27の溝44の形状をらせん状から垂直に変える点以外は、実施例1と同様にして感光体ドラム103を作製した。
(Example 2)
A photosensitive drum 103 was produced in the same manner as in Example 1 except that the shape of the groove 44 of the wiping member 27 was changed from a spiral shape to a vertical shape.

(実施例3)
拭取り部材27の直径は基体25の内径29mmより4mm大きい33mmに変える点以外は、実施例1と同様にして感光体ドラム103を作製した。
(Example 3)
A photosensitive drum 103 was produced in the same manner as in Example 1 except that the diameter of the wiping member 27 was changed to 33 mm, which is 4 mm larger than the inner diameter 29 mm of the substrate 25.

(実施例4)
拭取り部材27上部を面取りしない点以外は、実施例1と同様にして感光体ドラム103を作製した。
Example 4
Except that the upper part of the wiping member 27 was not chamfered, the photosensitive drum 103 was produced in the same manner as in Example 1.

(比較例1)
拭取り部材27を設けない点以外は、実施例1と同様にして感光体ドラム103を作製した。
(Comparative Example 1)
A photosensitive drum 103 was produced in the same manner as in Example 1 except that the wiping member 27 was not provided.

(比較例2)
従来技術である浸漬法にて、基体25の下端部内面に形成された塗膜を除去する点以外は、実施例1と同様にして感光体ドラム103を作製した。
(Comparative Example 2)
A photoconductive drum 103 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating film formed on the inner surface of the lower end portion of the substrate 25 was removed by the dipping method as a conventional technique.

(比較例3)
従来技術である溝を有さないスポンジなどの除去部材によって塗膜を溶解除去する方法にて、基体25の下端部内面に形成された塗膜を除去する点以外は、実施例1と同様にして感光体ドラム103を作製した。
(Comparative Example 3)
Except that the coating film formed on the inner surface of the lower end of the substrate 25 is removed by the conventional method of dissolving and removing the coating film using a removal member such as a sponge having no groove, the same method as in Example 1 is used. Thus, a photosensitive drum 103 was produced.

「評価方法」
以上のようにして実施例1〜4、比較例1〜3で作製した感光体ドラム103に対して、中間層52作製後、電荷発生層54作製後、電荷輸送層55作製後、各々の「基体25の下端部内面の目視評価」と「基体25の下端部外面の液飛び評価」を行った。
また、50パレット連続塗工後の中間層52作製後、電荷発生層54作製後、電荷輸送層55作製後、各々の「基体25内面の目視評価」を実施し、「繰り返し使用性評価」を行った。
さらに、感光体ドラム103をデジタル複写機(シャープ社製:MX4110FN)に装着し、「初期ハーフトーン画像評価」を行った。各評価の判定基準は以下の通りである。
"Evaluation method"
With respect to the photosensitive drums 103 manufactured in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 as described above, after the intermediate layer 52 is manufactured, the charge generation layer 54 is manufactured, and the charge transport layer 55 is manufactured, each “ “Visual evaluation of the inner surface of the lower end portion of the substrate 25” and “Evaluation of liquid splashing of the outer surface of the lower end portion of the substrate 25” were performed.
In addition, after the intermediate layer 52 after 50 pallet continuous coating, the charge generation layer 54, and the charge transport layer 55 are prepared, each "visual evaluation of the inner surface of the substrate 25" is performed, and "repetitive usability evaluation" is performed. went.
Further, the photosensitive drum 103 was mounted on a digital copying machine (manufactured by Sharp Corporation: MX4110FN), and “initial halftone image evaluation” was performed. The criteria for each evaluation are as follows.

「基体下端内面の目視評価」
「繰り返し使用性」
VG(very good):拭き残しなし。
G(good) :拭き残しほぼなし。
B(bad) :拭き残しあり。
VB(very bad) :拭き残し多くあり。
「基体下端外面の液飛び評価」
VG(very good):液飛び無し。
G(good) :液飛びほぼ無し。
B(bad) :液飛び有り。
「初期ハーフトーン画像(HT画像)評価」
VG(very good):ムラ無し。
G(good) :ムラほぼ無し。
B(bad) :ムラ有り。
VB(very bad) :ひどいムラ有り。
得られた上記の評価結果を以下の表1に示す。
"Visual evaluation of inner surface of base"
"Repeatability"
VG (very good): No wiping left.
G (good): almost no wiping left.
B (bad): There is a leftover wipe.
VB (very bad): There is much wiping.
“Evaluation of liquid splash on the outer surface of the bottom of the substrate”
VG (very good): No liquid jumping.
G (good): Almost no liquid splash.
B (bad): Liquid jumping is present.
"Evaluation of initial halftone image (HT image)"
VG (very good): No unevenness.
G (good): There is almost no unevenness.
B (bad): There is unevenness.
VB (very bad): There is severe unevenness.
The obtained evaluation results are shown in Table 1 below.

上記の結果から、この発明の塗膜除去装置1は、塗膜が形成された基体25の下端部25aを溶剤に浸漬させることなく、基体25の降下によって、溶剤槽37の溶剤に下端が浸漬しており、溝44を有する拭取り部材27が基体25の下端部内面に接触し、拭取り部材27を回転させると塗膜除去溶剤が溝44に誘導されて溶剤を十分含んだ状態となり、基体25の下端部内面に形成された塗膜を除去する。このため、下端部内面に形成された塗膜を拭き残しなく、下端部外面の塗膜ムラや塗膜ダレを抑制することができる。そのように作製された感光体ドラム103を具備した画像形成装置は、高解像度な画像を得ることができる。   From the above results, the coating film removing apparatus 1 according to the present invention immerses the lower end in the solvent in the solvent tank 37 by lowering the base body 25 without immersing the lower end portion 25a of the base body 25 on which the coating film is formed in the solvent. When the wiping member 27 having the groove 44 comes into contact with the inner surface of the lower end portion of the base 25 and the wiping member 27 is rotated, the coating film removing solvent is guided to the groove 44 and sufficiently contains the solvent, The coating film formed on the inner surface of the lower end portion of the substrate 25 is removed. For this reason, the coating film formed on the inner surface of the lower end part is not left unwiped, and the coating film unevenness and sagging of the outer surface of the lower end part can be suppressed. The image forming apparatus including the photosensitive drum 103 thus manufactured can obtain a high-resolution image.

また、基体25の昇降、拭取り部材27の回転といった簡単な動作のみで拭取り溶剤40を含む拭取り部材27が、基体25の下端部内面に効果的に接触し、回転するため、容易に精度よく再現性を持って、基体25の下端部内面に形成された塗膜を除去することができる。   Further, since the wiping member 27 containing the wiping solvent 40 is effectively in contact with the inner surface of the lower end portion of the base body 25 by only simple operations such as raising and lowering the base body 25 and rotating the wiping member 27, it is easy. The coating film formed on the inner surface of the lower end portion of the base body 25 can be removed with high accuracy and reproducibility.

また、拭取り装置の拭取り部材27の溝44の形状は、拭取り部材の回転方向に対して斜め(らせん状)に加工されている。このため、基体25の下端部内面と、拭取り部材27とが当接した状態で互いに摺動することによって、溶剤40が基体25の下端部内面に染み上がり、拭取り部材はより溶剤を含んだ状態となって、基体25の下端部内面に形成された不要な塗膜を確実に除去することができる。   Further, the shape of the groove 44 of the wiping member 27 of the wiping device is processed obliquely (spiral) with respect to the rotation direction of the wiping member. For this reason, when the inner surface of the lower end portion of the base body 25 and the wiping member 27 slide against each other, the solvent 40 soaks into the inner surface of the lower end portion of the base body 25, and the wiping member contains more solvent. In this state, the unnecessary coating film formed on the inner surface of the lower end portion of the base body 25 can be reliably removed.

また、拭取り部材27の外径は基体25の内径よりも0〜3mm大きく形成されている。このため、拭取り部材27は基体25の内面により密着することができるために拭き取り効果を上げることができる。
また、拭取り部材27の上部は面取りしてある。このため、基体25内部に拭取り部材27をスムーズに挿入することができる他、挿入の際に基体25の端部により拭取り部材27を弾いて、拭取り部材27に含まれる溶剤40が飛散し、基体25外面への溶剤の付着を防ぐことができる。
The outer diameter of the wiping member 27 is 0 to 3 mm larger than the inner diameter of the base body 25. For this reason, since the wiping member 27 can be brought into close contact with the inner surface of the base body 25, the wiping effect can be improved.
The upper part of the wiping member 27 is chamfered. Therefore, the wiping member 27 can be smoothly inserted into the base 25, and the solvent 40 contained in the wiping member 27 is scattered by repelling the wiping member 27 by the end of the base 25 during the insertion. In addition, adhesion of the solvent to the outer surface of the base body 25 can be prevented.

以上のように、この発明の塗膜除去装置1および感光体ドラムの製造方法により、精度よく基体25の下端部内面に形成された塗膜が除去され、塗膜ムラや塗膜ダレ、感度ムラの少ない感光体ドラム103を製造することができる。また、このような感光体ドラム103を具備した画像形成装置は高解像で良好な画像を得ることができる。   As described above, the coating film formed on the inner surface of the lower end portion of the substrate 25 is accurately removed by the coating film removing apparatus 1 and the photosensitive drum manufacturing method of the present invention. It is possible to manufacture the photosensitive drum 103 with a small amount. Further, the image forming apparatus provided with such a photosensitive drum 103 can obtain a high-resolution and good image.

この発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims. That is, embodiments obtained by combining technical means appropriately modified within the scope of the claims are also included in the technical scope of the present invention.

1,1A 塗膜除去装置
25 基体
26 チャック装置
27 拭取り部材
29 昇降機構
30 回転機構
31 支持軸
32a,32b 風船体
33 アーム部材
34 昇降モータ
36 拭取り装置
37 溶剤槽
40 溶剤
41 回転モータ
42 回転モータ
44 溝
50 回転機構
103 感光体ドラム
200 フランジ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A Coating film removal apparatus 25 Base body 26 Chuck apparatus 27 Wiping member 29 Elevating mechanism 30 Rotating mechanism 31 Support shaft 32a, 32b Balloon body 33 Arm member 34 Elevating motor 36 Wiping apparatus 37 Solvent tank 40 Solvent 41 Rotating motor 42 Rotation Motor 44 Groove 50 Rotating mechanism 103 Photosensitive drum 200 Flange

Claims (7)

浸漬法により塗膜を形成した円筒状の基体を軸心が鉛直になるように支持して昇降させる昇降機構と、前記基体の下方に設置され塗膜を除去するための溶剤を貯留する溶剤槽と、溶剤槽に基体と同軸に回転可能に設けられ下端が溶剤槽に浸漬し上端が基体の先端に嵌入可能な円柱状の拭取り部材と、前記基体と前記拭取り部材とを相対的に回転させる回転機構とを備え、前記円柱状の拭取り部材は円周面に形成された溝を有し、前記昇降機構により前記基体が下降したときに前記基体が溶剤槽に浸漬することなく基体内部に拭取り部材が嵌入され、基体と拭取り部材とが相対回転することにより、前記溶剤が前記溝に誘導されて基体内部まで上昇し、塗膜を除去することを特徴とする塗膜除去装置。   An elevating mechanism that lifts and lowers a cylindrical substrate on which a coating film is formed by an immersion method so that the axis is vertical, and a solvent tank that is installed below the substrate and stores a solvent for removing the coating film A cylindrical wiping member provided in the solvent tank so as to be rotatable coaxially with the base and having a lower end immersed in the solvent tank and an upper end fitted into the tip of the base, and the base and the wiping member relatively The cylindrical wiping member has a groove formed on a circumferential surface, and the substrate is not immersed in the solvent tank when the substrate is lowered by the lifting mechanism. A wiping member is inserted inside, and the base and the wiping member are rotated relative to each other, whereby the solvent is guided to the groove and rises to the inside of the base to remove the coating. apparatus. 前記溝は円柱状の拭取り部材の外周面に軸心を中心としてらせん状に形成される請求項1記載の塗膜除去装置。   The said groove | channel is a coating-film removal apparatus of Claim 1 formed in the outer peripheral surface of a column-shaped wiping member helically centering on an axial center. 前記拭取り部材は上端が面取りされている請求項1又は2記載の塗膜除去装置。   The coating film removing apparatus according to claim 1, wherein an upper end of the wiping member is chamfered. 前記回転機構は、前記基体と前記拭取り部材とを互いに逆方向に回転させる請求項1〜3のいずれか1項に記載の塗膜除去装置。   The coating film removing apparatus according to claim 1, wherein the rotating mechanism rotates the base and the wiping member in opposite directions. 円筒状の基体に中間層を、中間層の上に電荷発生層を、電荷発生層の上に電荷輸送層をそれぞれ浸漬法により成膜する成膜工程と、
前記基体の端部内面に成膜された中間層、電荷発生層、電荷輸送層の少なくとも1つを除去する除去工程とを備え、前記除去工程に請求項1〜4のいずれかに1項に記載の塗膜除去装置を用いることを特徴とする感光体ドラムの製造方法。
A film forming step in which an intermediate layer is formed on a cylindrical substrate, a charge generation layer is formed on the intermediate layer, and a charge transport layer is formed on the charge generation layer by an immersion method;
A removal step of removing at least one of the intermediate layer, the charge generation layer, and the charge transport layer formed on the inner surface of the end portion of the base body, and the removal step according to any one of claims 1 to 4. A method for producing a photosensitive drum, comprising using the coating film removing apparatus described above.
請求項5に記載の製造方法を用いて製造された感光体ドラム。   A photosensitive drum manufactured using the manufacturing method according to claim 5. 請求項5に記載の製造方法を用いて製造された感光体ドラムを備える画像形成装置。   An image forming apparatus comprising a photosensitive drum manufactured using the manufacturing method according to claim 5.
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