JPH0829284B2 - Film forming equipment - Google Patents

Film forming equipment

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JPH0829284B2
JPH0829284B2 JP6762988A JP6762988A JPH0829284B2 JP H0829284 B2 JPH0829284 B2 JP H0829284B2 JP 6762988 A JP6762988 A JP 6762988A JP 6762988 A JP6762988 A JP 6762988A JP H0829284 B2 JPH0829284 B2 JP H0829284B2
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JP
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coating
drum
spacer
hand
coating liquid
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JP6762988A
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中也 中野
均 三竹
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Konica Minolta Inc
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0525Coating methods

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 イ.産業上の利用分野 本発明は、被膜形成装置に関し、例えば電子写真感光
体の感光層の塗布装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film forming apparatus, for example, an apparatus for coating a photosensitive layer of an electrophotographic photosensitive member.

ロ.従来技術 カールソン法の電子写真複写機においては、感光体表
面を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を
消去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによ
って現像し、次いでそのトナー像を紙等に転写、定着さ
せる。
B. Prior art In the electrophotographic copying machine of the Carlson method, after uniformly charging the surface of the photoconductor, the charge is erased imagewise by exposure to form an electrostatic latent image, and the electrostatic latent image is formed by toner. After development, the toner image is transferred and fixed on paper or the like.

一方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清
浄化が施され、長期に亘って反復使用される。
On the other hand, the photoreceptor is subjected to removal of adhered toner, charge removal, and surface cleaning, and is repeatedly used for a long period of time.

従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感
度が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿
論、加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等
の物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光
時の紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であ
ることが要求される。
Therefore, as an electrophotographic photosensitive member, of course, the electrophotographic characteristics such as good charging characteristics and sensitivity and small dark decay, as well as physical properties such as printing durability, abrasion resistance, and moisture resistance upon repeated use. Also, it is required to have good resistance (environmental resistance) to ozone generated during corona discharge and ultraviolet rays during exposure.

かかる感光体の層形成に際しては、各層を薄膜でかつ
均一に層形成しなければならない。こうした塗布方法と
しては、例えばスプレー塗布、ディップ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布方法等が検討されている。なかでも、
円筒状の導電性基体等に均一な塗膜を塗布形成するに
は、ディップ塗布が多用される。
In forming the layers of such a photoreceptor, each layer must be formed as a thin film and uniformly. As such a coating method, for example, spray coating, dip coating, blade coating, roll coating and the like have been studied. Above all,
Dip coating is often used to form a uniform coating film on a cylindrical conductive substrate or the like.

しかし、かかるディップ塗布方法には以下のような問
題点がある。
However, such a dip coating method has the following problems.

(1).塗布槽内に塗布液を収容し、これに導電性基体
を浸漬し、引き上げることにより導電性基体上に塗膜を
形成するものであるから、必要液量が非常に多く、かつ
塗布液のうち塗膜形成に有効に使用される率が低いため
塗布液の無駄が多い。
(1). The coating solution is contained in the coating tank, the conductive substrate is dipped in the coating solution and pulled up to form a coating film on the conductive substrate. Since the rate of effective use for forming a coating film is low, the coating liquid is wasted a lot.

(2).導電性基体を塗布槽内へと浸漬したときには塗
布液の液面が上昇し、導電性基体を塗布槽から引き上げ
たときには塗布液の液面が下降するため、塗布槽の壁面
に塗布液が付着し、付着した塗布液が乾燥して乾固物が
生成する。このため、塗布欠陥等の不都合が生じてい
る。
(2). When the conductive substrate is immersed in the coating tank, the liquid level of the coating liquid rises, and when the conductive substrate is pulled out of the coating tank, the liquid level of the coating liquid drops, so that the coating liquid adheres to the wall surface of the coating tank. Then, the applied coating liquid is dried to form a dry solid. Therefore, inconveniences such as coating defects occur.

(3).いわるゆオーバーフロー方式のディップ塗布装
置においては、ポンプの動力によって塗布槽とタンクと
の間で塗布液を循環させているので、ポンプを塗布液が
通過する際に塗布液に加わる剪断力により塗布液が劣化
する。
(3). In the Iwayu overflow dip coating device, the coating liquid is circulated between the coating tank and the tank by the power of the pump, so the coating force is applied by the shearing force applied to the coating liquid when passing through the pump. The liquid deteriorates.

他の方法としては、例えば、導電性基体ドラムを載置
する載置枠部材と、導電性基体ドラムに速乾性の感光液
を塗布する塗布手段とを備えた昇降枠部材とからなるド
ラム塗布機を使用し、この昇降枠部材を下降させること
でドラムの外周面に感光液を塗布する方法がある。しか
し、この塗布手段は、ドラムの外周面に可撓性を有する
円環板状のブレードの内周縁を密着させてドラムの軸心
方向に摺動させ、このブレードを底面として収納した感
光液をドラムの外周面で塗布するものであるから、ドラ
ムを1本塗布するごとに作業を中断し、新たなドラムの
載置、ブレードの洗浄が必要であって、連続的なドラム
の塗布が不可能であった。このため、作業能率が低下
し、また作業を中断している間に塗布液の物性が変化し
たり乾固物の生成を招き、このため塗膜の不均一や塗布
欠陥の原因となっていた。更に、塗布作業の始端である
ドラムの上端外周縁部の膜厚が作業条件即ちブレードの
立ち上がりスピードに起因して薄くなり、膜厚むらが発
生して全体として均一に感光液を塗布することができ
ず、膜厚の安定したドラムを提供することができないと
いう問題がある。
As another method, for example, a drum applicator including a mounting frame member on which a conductive base drum is mounted and an elevating frame member including a coating means for applying a quick-drying photosensitive liquid to the conductive base drum. There is a method of applying the photosensitive liquid to the outer peripheral surface of the drum by lowering this elevating frame member. However, this coating means causes the inner peripheral edge of a flexible annular plate-shaped blade to be brought into close contact with the outer peripheral surface of the drum and slid in the axial direction of the drum, and the photosensitive solution stored with this blade as the bottom surface Since it is applied on the outer peripheral surface of the drum, the work must be interrupted every time one drum is applied, a new drum must be placed and the blade must be cleaned, and continuous drum application is impossible. Met. For this reason, the work efficiency is lowered, and the physical properties of the coating liquid are changed or dry solids are generated during the interruption of the work, which causes unevenness of the coating film and coating defects. . Furthermore, the film thickness of the outer peripheral edge of the upper end of the drum, which is the starting point of the coating operation, becomes thin due to the working condition, that is, the rising speed of the blade, and unevenness in the film thickness occurs, so that the photosensitive solution can be applied uniformly as a whole. However, there is a problem that a drum having a stable film thickness cannot be provided.

ハ.発明の目的 発明の目的は、被膜形成材料の無駄を防止して被膜形
成の効率を高めることができ、また複数の被処理体の被
膜形成処理を連続して行うことができ、従って被膜形成
材料の劣化等を防止して均一かつ欠陥の防止された被膜
を形成でき、品質の安定した製品を供給でき、しかも生
産性の極めて良好な被膜形成装置を提供することであ
る。
C. OBJECT OF THE INVENTION The object of the invention is to prevent the film forming material from being wasted and to increase the film forming efficiency, and to continuously perform the film forming treatment of a plurality of objects to be processed. It is an object of the present invention to provide a film forming apparatus capable of forming a film which is uniform and prevented from defects by preventing the deterioration and the like, can supply a product of stable quality, and has extremely excellent productivity.

ニ.発明の構成 本発明は、被膜形成手段に対して被処理体を相対的に
移動させることによりこの被処理体を被膜形成処理する
被膜形成装置において、 (a).第1の被処理体に第1のスペーシング部材と第
2のスペーシング部材とが装着され、前記第1のスペー
シング部材が第1の保持手段により保持されかつ前記第
2のスペーシング部材が第2の保持手段により保持され
ている状態で、前記第1の保持手段と前記第2の保持手
段とを同速度で移動させることにより前記被膜形成手段
に対して前記第1の被処理体を相対的に移動させ、この
被処理体を被膜形成処理することと (b).しかる後に、前記第2のスペーシング部材が保
持されている状態で第2の被処理体に前記第2のスペー
シング部材を装着することと、 (c).前記第1のスペーシング部材及び被膜形成処理
の終了した前記第1の被処理体を排出することと を構成として夫々具備することを特徴とする被膜形成装
置に係るものである。
D. Configuration of the Invention The present invention relates to a coating film forming apparatus for performing a coating film forming treatment on an object to be processed by moving the object to be processed relative to a film forming means, (a). A first spacing member and a second spacing member are attached to the first object to be processed, the first spacing member is held by a first holding means, and the second spacing member is While being held by the second holding means, the first holding means and the second holding means are moved at the same speed to move the first object to the film forming means. Relatively moving and subjecting the object to film-forming treatment to (b). Thereafter, mounting the second spacing member on the second object while the second spacing member is held, (c). And discharging the first spacing member and the first object to be processed after the film forming process.

ホ.実施例 以下、本発明の実施例を説明する。E. Examples Hereinafter, examples of the present invention will be described.

第1図は塗布装置を示す概略正面図である。 FIG. 1 is a schematic front view showing a coating device.

互いに相対向する一組の塗布装置本体20の内側にはそ
れぞれ上下方向に向うボールネジ22が設けられており、
各ボールネジ22にはそれぞれ昇降部材23が取り付けられ
ている。ボールネジ22にはスペーサー把持具28A、28Bが
それぞれ固定され、駆動用モータ21を駆動させることに
より、昇降部材23、スペーサー把持具28A、28Bを上昇、
下降させられるようになっている。スペーサ把持具28
A、28Bは、共にコの字型の把持具本体34の両端部にハン
ドル把持部30が設けられた構成となっており、かつ上下
側の各ハンド把持部30には共にスペーサー把持用ハンド
29が固定されている。
Ball screws 22 facing up and down are provided inside the pair of coating device main bodies 20 facing each other.
A lifting member 23 is attached to each ball screw 22. Spacer grippers 28A and 28B are respectively fixed to the ball screw 22, and by driving the drive motor 21, the elevating member 23 and the spacer grippers 28A and 28B are raised.
It can be lowered. Spacer grip 28
A and 28B each have a configuration in which handle grips 30 are provided at both ends of a U-shaped gripper body 34, and the upper and lower hand grips 30 are both spacer gripping hands.
29 is fixed.

各塗布装置本体20の間には昇降装置24が設置され、昇
降装置24にドラム昇降用ハンド33が取り付けられてい
る。ハンド33の上側には順にスペーサー26C、導電性基
体ドラム(ドラム)27B、スペーサー26B、ドラム27A、
スペーサー26Aが接続されており、スペーサー26Aの上側
にはドラム排出用ハンド25が配置されている。スペーサ
ー26Aには突起40が設けられ、この突起40がドラム27Aの
中空部27a内に嵌合せしめられている。同様に、ドラム2
7Aとスペーサー26B、スペーサー26Bとドラム27B、ドラ
ム27Bとスペーサー26Cの間もそれぞれ嵌合固定されてい
る。
An elevating device 24 is installed between each coating device body 20, and a drum elevating hand 33 is attached to the elevating device 24. On the upper side of the hand 33, a spacer 26C, a conductive substrate drum (drum) 27B, a spacer 26B, a drum 27A, in order.
The spacer 26A is connected, and the drum discharge hand 25 is arranged above the spacer 26A. A protrusion 40 is provided on the spacer 26A, and the protrusion 40 is fitted in the hollow portion 27a of the drum 27A. Similarly, drum 2
7A and the spacer 26B, the spacer 26B and the drum 27B, and the drum 27B and the spacer 26C are also fitted and fixed, respectively.

塗布手段31は塗布手段載置台32の上に載置されてお
り、塗布手段載置台32は図示省略した保持手段により保
持されている。塗布手段31及び塗布手段載置台32は例え
ば後述する塗布装置(第7図、第8図参照)のようにド
ラム27A、27B上に塗布液を塗布するものであり、第1図
の例においてはドラム27A、27Bが上昇するに従ってドラ
ム27A、27B上に順次塗膜が形成される。
The coating means 31 is mounted on a coating means mounting base 32, and the coating means mounting base 32 is held by holding means (not shown). The coating means 31 and the coating means mounting table 32 are for coating the coating liquid on the drums 27A and 27B like a coating device (see FIGS. 7 and 8) described later, and in the example of FIG. As the drums 27A and 27B rise, coating films are sequentially formed on the drums 27A and 27B.

第2図(a)はスペーサー把持用ハンド及びハンド把
持部を拡大して示す平面図、同図(b)は同図(a)の
右側面図である。
2A is an enlarged plan view showing the spacer gripping hand and the hand gripping portion, and FIG. 2B is a right side view of FIG. 2A.

ハンド把持部30にはピストン30a及びシリンダ30bが設
けられ、スペーサー把持用ハンド本体29cはネジ30eによ
りピストン30a又はシリンダ30bに取り付けられ、またネ
ジ30dによりハンド把持部30の本体に取り付けられてい
る。各本体29cにはそれぞれ2個の調整ユニット29bが固
定され、スペーサー26が相対向する4個の調整ユニット
29b間に挾持されるようになっている。各調整ユニット2
9bはドラム27A27B6中心位置が径方向へとずれないよう
位置調整するものである。各調整ユニット29bの先端部
分にはベアリング29aが設けられ、スペーサ26は4個の
ベアリング29aにより押圧され、挾持されることとな
る。
The hand grip 30 is provided with a piston 30a and a cylinder 30b, the spacer gripping hand main body 29c is attached to the piston 30a or the cylinder 30b with a screw 30e, and is attached to the main body of the hand grip 30 with a screw 30d. Two adjustment units 29b are fixed to each body 29c, and four adjustment units have spacers 26 facing each other.
It is supposed to be held between 29b. Each adjustment unit 2
9b is a position adjustment so that the center position of the drum 27A27B6 does not shift in the radial direction. A bearing 29a is provided at the tip of each adjustment unit 29b, and the spacer 26 is pressed and held by the four bearings 29a.

第2図(a)において、実線で示すようにシリンダ30
bを動作させることにより(この動作は空気圧等公知の
手段により行われる。)、スペーサー26が把持されるこ
ととなる。なお、30cは調整用ネジである。
In FIG. 2 (a), the cylinder 30 is indicated by the solid line.
By operating b (this operation is performed by a known means such as air pressure), the spacer 26 is gripped. Note that 30c is an adjusting screw.

次に、シリンダ30bを一点鎖線で示すように動作させ
ると、本体29cはネジ30bを支点として一点鎖線で示すよ
うに回動し、ベアリング29aとスペーサー26とは引き離
され、スペーサー26の把持は解除される。
Next, when the cylinder 30b is operated as indicated by the alternate long and short dash line, the main body 29c rotates about the screw 30b as the fulcrum as indicated by the alternate long and short dash line, the bearing 29a and the spacer 26 are separated, and the gripping of the spacer 26 is released. To be done.

第3図(a)〜(h)は、上記のような塗布装置を用
いた場合にドラム外周面に塗膜が形成さるるプロセスを
示す要部概略正面図である。
FIGS. 3 (a) to 3 (h) are schematic front views of main parts showing a process of forming a coating film on the outer peripheral surface of the drum when the coating device as described above is used.

第3図(a)に示す状態では、スペーサー26A、26Bが
スペーサー把持具28Aに設けられたスペーサー把持用ハ
ンド(以下、ハンドと呼ぶことがある。)29により把持
されており、スペーサー26Aと26Bとの間に塗布の終了し
たドラム27Aが嵌合保持されている。なお、第3図〜第
6図において、矢印Gはスペーサー把持用ハンドにより
スペーサーが保持されている状態(以下、保持状態とい
う。)を表す。スペーサー把持具28B側のハンド29はス
ペーサーの保持から解除された状態(以下、解除状態と
いう。)となっている。ドラム27Bはスペーサー26Cを介
してドラム昇降用ハンド33により保持されている。
In the state shown in FIG. 3 (a), the spacers 26A and 26B are gripped by the spacer gripping hand (hereinafter also referred to as a hand) 29 provided on the spacer gripping tool 28A, and the spacers 26A and 26B. The drum 27A for which application has been completed is fitted and held between and. In FIGS. 3 to 6, an arrow G indicates a state in which the spacer is held by the spacer gripping hand (hereinafter referred to as a holding state). The hand 29 on the side of the spacer gripping tool 28B is in a state of being released from the holding of the spacer (hereinafter, referred to as a released state). The drum 27B is held by the drum lifting hand 33 via the spacer 26C.

次いで、第3図(b)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25がスペーサー26Aに嵌合され、かつドラム昇降用
ハンド33が上昇してドラム27Bがスペーサー26Bの下端面
に装着される。
Next, as shown in FIG. 3 (b), the drum discharging hand 25 is fitted to the spacer 26A, and the drum lifting hand 33 is raised to mount the drum 27B on the lower end surface of the spacer 26B.

次いで、第3図(c)に示すように、スペーサー把持
具28A側のハンド29を解除状態とし、スペーサー把持具2
8B側のハンド29を保持状態とする。そして、ドラム排出
用ハンド25を上昇させてスペーサー26A及び塗布の終了
したドラム27Aを引き上げ、ドラム27Aを塗布装置から排
出する。この後、排出されたドラム27Aには必要に応じ
て他の処理が施される。また、スペーサー26Cのドラム
昇降用ハンド33による把持は解除され、ドラム昇降用ハ
ンド33は下降する。
Next, as shown in FIG. 3C, the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 28A is set to the released state, and the spacer gripping tool 2
The hand 29 on the 8B side is held. Then, the drum discharge hand 25 is raised to pull up the spacer 26A and the drum 27A for which coating has been completed, and the drum 27A is discharged from the coating device. After that, the discharged drum 27A is subjected to other processing as necessary. Further, the gripping of the spacer 26C by the drum lifting hand 33 is released, and the drum lifting hand 33 is lowered.

次いで、第3図(d)に示すように、スペーサー把持
具28Bはスペーサー26B、26Cを把持した状態で上昇し、
結果としてドラム27Bは塗布手段31内を通過し、ドラム2
7Bの外周面に塗布液が塗布されることとなる。一方、ス
ペーサー把持具28Aは、第3図(c)においてスペーサ
ー把持具28Bが配置されていた高さにまで下降する。
Next, as shown in FIG. 3 (d), the spacer gripping tool 28B moves upward while gripping the spacers 26B and 26C,
As a result, the drum 27B passes through the inside of the coating means 31, and the drum 2
The coating liquid will be applied to the outer peripheral surface of 7B. On the other hand, the spacer gripping tool 28A descends to the height at which the spacer gripping tool 28B was disposed in FIG. 3 (c).

次いで、第3図(e)に示すように、スペーサー把持
具28Bが所定の高さ(第3図(a)におけるスペーサー
把持具28Aの高さと同じである。)まで上昇し、またド
ラム昇降用ハンド33上に公知の手段によってスペーサー
26D及びドラム27Cが嵌合装着される。この状態で、ドラ
ム27Bの外周面の塗布は終了し、第3図(a)と全く同
様の状態となる(即ち、第3図(a)と第3図(b)と
は鏡像の関係、即ち左右を入れ換えた状態となる。)。
Then, as shown in FIG. 3 (e), the spacer gripping tool 28B is raised to a predetermined height (the same height as the spacer gripping tool 28A in FIG. 3 (a)), and also for raising and lowering the drum. Spacer on the hand 33 by known means
26D and drum 27C are fitted and mounted. In this state, the coating on the outer peripheral surface of the drum 27B is completed, and the state becomes exactly the same as that in FIG. 3 (a) (that is, the relationship between FIG. 3 (a) and FIG. 3 (b) is a mirror image, That is, the left and right are swapped.)

次いで、第3図(f)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25がスペーサー26Bに嵌合され、かつドラム昇降用
ハンド33が上昇してドラム27Cがスペーサー26Cの下端面
に装着される。
Next, as shown in FIG. 3 (f), the drum discharge hand 25 is fitted to the spacer 26B, and the drum lifting hand 33 is raised to mount the drum 27C on the lower end surface of the spacer 26C.

次いで、第3図(g)に示すように、スペーサー把持
具28B側のハンド29を解除状態とし、スペーサー把持具2
8A側のハンド29を保持状態とする。そして、ドラム排出
用ハンド25を上昇させてスペーサー26B及び塗布の終了
したドラム27Bを引き上げ、ドラム27Bを塗布装置から排
出する。また、スペーサー26Dのドラム昇降用ハンド33
による把持は解除され、ドラム昇降用ハンド33は下降す
る。
Next, as shown in FIG. 3 (g), the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 28B is released, and the spacer gripping tool 2
The hand 29 on the 8A side is held. Then, the drum discharge hand 25 is raised to pull up the spacer 26B and the drum 27B for which coating has been completed, and the drum 27B is discharged from the coating device. In addition, the spacer 26D drum lifting hand 33
The grip by is released, and the drum lifting hand 33 is lowered.

次いで、第3図(h)に示すように、スペーサー把持
具28Aはスペーサー26C、26Dを把持した状態で上昇し、
結果としてドラム27Cは塗布手段31内を通過し、ドラム2
7Cの外周面に塗布液が塗布されることとなる。一方、ス
ペーサー把持具28Bは、所定の高さにまで下降する。
Next, as shown in FIG. 3 (h), the spacer gripper 28A moves upward while gripping the spacers 26C and 26D,
As a result, the drum 27C passes through the inside of the coating means 31, and the drum 2C
The coating liquid will be applied to the outer peripheral surface of 7C. On the other hand, the spacer gripping tool 28B descends to a predetermined height.

この後、スペーサー把持具28Aが所定の高さにまで上
昇し、またドラム昇降用ハンド33上にスペーサー及びド
ラムが嵌合装着され、第3図(a)の状態に戻ることと
なる。これにより、塗布プロセスの1サイクルが終了
し、2本のドラムの塗布が行われる。
After that, the spacer gripping tool 28A is raised to a predetermined height, the spacer and the drum are fitted and mounted on the drum lifting hand 33, and the state shown in FIG. 3 (a) is restored. As a result, one cycle of the coating process is completed and the two drums are coated.

かかる塗布装置によれば、ドラムの上下端に嵌合固定
したスペーサーを共に把持し、これらのスペーサーを同
速度で上昇させることによりドラムを上昇させ、ドラム
外周面の塗布を行っているので、ドラム塗布時にドラム
が上下方向から固定され、特に第3図において左右方向
への横揺れを生ずることはなく、位置精度を充分に高め
うる。従って、塗布を安定して行うことができ、均一な
塗布層形成が可能となる。
According to such a coating device, the spacers fitted and fixed to the upper and lower ends of the drum are gripped together, and the drum is raised by raising these spacers at the same speed to coat the outer peripheral surface of the drum. The drum is fixed in the vertical direction during coating, and in particular, there is no horizontal swaying in FIG. 3, and the positional accuracy can be sufficiently improved. Therefore, the coating can be stably performed, and the uniform coating layer can be formed.

また、スペーサーを把持しているので、ドラム表面に
把持具が接触せず、特に塗布層への影響を防止できる。
しかも、第3図(b)に示すように、ドラム昇降用ハン
ド33が上昇してドラム27Bがスペーサー26Bの下端面に装
着される際、ドラム27Aと上昇してきたドラム27Bとはス
ペーサー26Bによって距てられ、かつスペーサー26Bはハ
ンド29により保持されているので、ドラム27bがスペー
サー26Bに接触する際の衝撃が吸収され、ドラム27Aの外
周面に設けられた塗膜への悪影響を防止できる。
Further, since the spacer is gripped, the gripping tool does not come into contact with the drum surface, and it is possible to prevent the coating layer from being affected in particular.
Moreover, as shown in FIG. 3 (b), when the drum lifting hand 33 is raised and the drum 27B is mounted on the lower end surface of the spacer 26B, the distance between the drum 27A and the raised drum 27B is increased by the spacer 26B. Since the spacer 26B is held by the hand 29, the impact when the drum 27b comes into contact with the spacer 26B is absorbed, and the adverse effect on the coating film provided on the outer peripheral surface of the drum 27A can be prevented.

更に重要なことは、本例の塗布装置によれば、2本の
スペーサー把持具を交互に動作させることにより、塗布
装置に連続的にドラムを供給でき、かつドラム外周面に
連続的に塗布層を形成できることである。これにより塗
布装置を連続して稼動させられるので生産性が著しく向
上すると共に、作業の中断に伴う塗布液の物性の劣化や
乾固物の生成を防止でき、均一かつ塗布欠陥の防止され
た良質の塗膜を安定して供給できる。
More importantly, according to the coating apparatus of this example, the drum can be continuously supplied to the coating apparatus and the coating layer can be continuously coated on the outer peripheral surface of the drum by alternately operating the two spacer gripping tools. Can be formed. As a result, the coating device can be operated continuously, so that productivity is significantly improved, and the deterioration of physical properties of the coating liquid and the production of dry solids due to the interruption of work can be prevented, resulting in a uniform and high-quality coating. Can be stably supplied.

第4図(a)〜(e)は他の塗布装置を用いて導電性
基体ドラム上に塗布液を塗布するプロセスを示す概略正
面図である。
FIGS. 4 (a) to 4 (e) are schematic front views showing a process of applying the coating liquid onto the conductive substrate drum by using another coating device.

装置全体の構成及びスペーサー把持具用ハンドの構成
は第1図、第2図のものと同様である。
The structure of the entire apparatus and the structure of the spacer gripping tool hand are the same as those in FIGS. 1 and 2.

第4図(a)に示す状態では、ドラム27Aがスペーサ
ー把持具38Aによりスペーサー26A、26Bを介して保持さ
れており、第3図(a)に示した状態とほぼ同様であ
る。
In the state shown in FIG. 4 (a), the drum 27A is held by the spacer gripping tool 38A via the spacers 26A and 26B, which is almost the same as the state shown in FIG. 3 (a).

次いで、第4図(b)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25がスペーサー26Aに嵌合され、かつドラム昇降用
ハンド33が上昇してドラム27Bがスペーサー26Bの下端面
に装着される。
Next, as shown in FIG. 4 (b), the drum discharging hand 25 is fitted to the spacer 26A, and the drum lifting hand 33 is raised to mount the drum 27B on the lower end surface of the spacer 26B.

次いで、第4図(c)に示すように、スペーサー把持
具38A側のハンド29を解除状態とし、スペーサー把持具3
8B側のハンド29を保持状態とする。そして、ドラム排出
用ハンド25を上昇させてスペーサー26A及び塗布の終了
したドラム27Aを引き上げ、ドラム27Aを塗布装置から排
出する。また、スペーサー26Cの昇降用ハンド33による
把持は解除され、ドラム昇降用ハンド33は下降する。
Then, as shown in FIG. 4 (c), the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 38A is released, and the spacer gripping tool 3 is released.
The hand 29 on the 8B side is held. Then, the drum discharge hand 25 is raised to pull up the spacer 26A and the drum 27A for which coating has been completed, and the drum 27A is discharged from the coating device. Further, the gripping of the spacer 26C by the lifting hand 33 is released, and the drum lifting hand 33 is lowered.

次いで、第4図(d)に示すように、スペーサー把持
具38Bはスペーサー26B、26Cを把持した状態で上昇し、
結果としてドラム27Bは塗布手段31内を通過し、ドラム2
7Bの外周面に塗布液が塗布されることとなる。
Next, as shown in FIG. 4 (d), the spacer gripper 38B moves upward while gripping the spacers 26B and 26C,
As a result, the drum 27B passes through the inside of the coating means 31, and the drum 2
The coating liquid will be applied to the outer peripheral surface of 7B.

次いで、第4図(e)に示すように、スペーサー把持
具38Bが所定の高さまで上昇し、またドラム昇降用ハン
ド33上にスペーサー26D及びドラム27Cが嵌合装着され
る。この時点において、ドラム27B外周面の塗布は終了
する。
Next, as shown in FIG. 4 (e), the spacer gripper 38B is raised to a predetermined height, and the spacer 26D and the drum 27C are fitted and mounted on the drum lifting hand 33. At this point, the coating of the outer peripheral surface of the drum 27B is completed.

この後、スペーサー把持具38A側のハンド29は保持状
態となり、スペーサー26B、26Cを保持する。一方スペー
サー把持具38B側のハンド29は解除状態となり、スペー
サー把持具38Bは所定位置まで下降して、第4図(a)
に示す状態に戻る。これにより、ドラム塗布のプロセス
の一サイクルが終了することになる。
After that, the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 38A is in the holding state, and holds the spacers 26B and 26C. On the other hand, the hand 29 on the side of the spacer grip 38B is released, and the spacer grip 38B descends to a predetermined position, as shown in FIG. 4 (a).
Return to the state shown in. This completes one cycle of the drum coating process.

本例によれば、スペーサー把持具38Aを第4図におい
て上下方向に駆動する必要がないので、例えばボールネ
ジ(第1図参照)のような駆動手段は必ずしも必要な
く、その分だけ装置を簡略化できる。
According to this example, since it is not necessary to drive the spacer gripping tool 38A in the vertical direction in FIG. 4, a driving means such as a ball screw (see FIG. 1) is not necessarily required, and the device is simplified accordingly. it can.

第5図(a)〜(e)は他の塗布装置を用いて導電性
基体ドラム上に塗布液を塗布するプロセスを示す概略正
面図である。
FIGS. 5 (a) to 5 (e) are schematic front views showing a process of applying the coating liquid onto the conductive substrate drum using another coating device.

装置全体の構成及びスペーサー把持用ハンドの構成は
第1図、第2図のものと同様である。
The structure of the entire apparatus and the structure of the spacer gripping hand are the same as those in FIGS. 1 and 2.

ただし、本例においては、スペーサー把持具48にはハ
ンド29が一個しか設けられていない。
However, in this example, the spacer gripping tool 48 is provided with only one hand 29.

第5図(a)に示す状態では、ドラム27Aがスペーサ
ー把持具38Aによりスペーサー26A、26Bを介して保持さ
れており、かつスペーサー把持具48は解除状態とされて
いる。
In the state shown in FIG. 5 (a), the drum 27A is held by the spacer gripping tool 38A via the spacers 26A and 26B, and the spacer gripping tool 48 is in the released state.

次いで、第5図(b)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25がスペーサー26Aに嵌合され、かつドラム昇降用
ハンド33が上昇してドラム27Bがスペーサー26Bの下端面
に装着される。
Next, as shown in FIG. 5 (b), the drum discharging hand 25 is fitted to the spacer 26A, and the drum lifting hand 33 is raised to mount the drum 27B on the lower end surface of the spacer 26B.

次いで、第5図(c)に示すように、スペーサー把持
具38A側のハンド29を解除状態とし、スペーサー把持具4
8側のハンド29を保持状態とする。そして、スペーサー
把持具38Aを所定位置にまで下降させる。
Next, as shown in FIG. 5 (c), the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 38A is released, and the spacer gripping tool 4 is released.
The hand 29 on the 8 side is held. Then, the spacer gripping tool 38A is lowered to a predetermined position.

次いで、第5図(d)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25を上昇させてスペーサー26A及び塗布の終了した
ドラム27Aを引き上げ、ドラム27Aを塗布装置から排出す
る。また、スペーサー把持具38A側のハンド29は保持状
態となる一方、スペーサー把持具48側のハンド29は解除
状態となる。更に、スペーサー26Cの昇降用ハンド33に
よる把持は解除され、ドラム昇降用ハンド33は下降す
る。
Next, as shown in FIG. 5 (d), the drum discharge hand 25 is raised to pull up the spacer 26A and the drum 27A after coating, and the drum 27A is discharged from the coating device. Further, the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 38A is in the held state, while the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 48 is in the released state. Further, the gripping of the spacer 26C by the lifting hand 33 is released, and the drum lifting hand 33 is lowered.

次いで、第5図(e)に示すように、スペーサー把持
具38Aはスペーサー26B、26Cを把持した状態で上昇し、
結果としてドラム27Bは塗布手段31内を通過し、ドラム2
7Bの外周面に塗布液が塗布されることとなる。一方、ド
ラム昇降用ハンド33上にはスペーサー26D及びドラム27C
が嵌合装着される。
Next, as shown in FIG. 5 (e), the spacer gripper 38A moves upward while gripping the spacers 26B and 26C,
As a result, the drum 27B passes through the inside of the coating means 31, and the drum 2
The coating liquid will be applied to the outer peripheral surface of 7B. On the other hand, a spacer 26D and a drum 27C are placed on the drum lifting hand 33.
Are fitted and mounted.

この後、スペーサー把持具38Aは所定位置にまで上昇
し、第5図(a)に示す状態に戻る。これにより、ドラ
ム塗布のプロセスの一サイクルが終了することになる。
After this, the spacer gripping tool 38A rises to a predetermined position and returns to the state shown in FIG. 5 (a). This completes one cycle of the drum coating process.

本例においても、スペーサー把持具48を第5図におい
て上下方向に駆動する必要はなく、またスペーサー把持
具自体の構造も簡略化できる。
Also in this example, it is not necessary to drive the spacer gripping tool 48 in the vertical direction in FIG. 5, and the structure of the spacer gripping tool itself can be simplified.

第6図(a)〜(d)は第5図のものと同じ塗布装置
を用いて導電性基体ドラム上に塗布液を塗布するプロセ
スを示す概略正面図である。
FIGS. 6 (a) to 6 (d) are schematic front views showing the process of applying the coating liquid onto the conductive substrate drum by using the same coating device as that shown in FIG.

最初に、第5図(a)に示す状態から、第6図(a)
に示すように、スペーサー把持具38A側のハンド29を解
除状態とし、かつスペーサー把持具48側のハンド29を保
持状態とする。また、ドラム排出用ハンド25を下降させ
てスペーサー26Aに嵌合固定する。
First, from the state shown in FIG. 5 (a), FIG. 6 (a)
As shown in, the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 38A is set to the released state, and the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 48 is set to the holding state. Further, the drum discharge hand 25 is lowered and fitted and fixed to the spacer 26A.

次いで、第6図(b)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25を上昇させてスペーサー26A及び塗布の終了した
ドラム27Aを引き上げ、ドラム27Aを塗布装置から排出す
る。
Next, as shown in FIG. 6 (b), the drum discharge hand 25 is raised to pull up the spacer 26A and the drum 27A after coating, and the drum 27A is discharged from the coating device.

次いで、第6図(c)に示すように、ドラム昇降用ハ
ンド33が上昇してドラム27Bがスペーサー26Bの下端面に
装着される。また、スペーサー把持具37Aは所定位置に
まで下降する。
Next, as shown in FIG. 6 (c), the drum lifting hand 33 rises and the drum 27B is mounted on the lower end surface of the spacer 26B. Further, the spacer gripper 37A is lowered to a predetermined position.

次いで、第6図(d)に示すように、スペーサー把持
具48側のハンド29を解除状態とし、スペーサー把持具38
A側のハンド29を保持状態とする。また、スペーサー26C
の昇降用ハンド33による把持は解除され、ドラム昇降用
ハンド33は下降する。
Next, as shown in FIG. 6 (d), the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 48 is released, and the spacer gripping tool 38 is released.
The hand 29 on the A side is held. Also, spacer 26C
The gripping by the lifting / lowering hand 33 is released, and the drum lifting / lowering hand 33 descends.

この後、スペーサー把持具38Aがスペーサー26B、26C
を把持した状態で上昇し、結果としてドラム27Bは塗布
手段31内を通過し、ドラム27Bの外周面に塗布液が塗布
されることとなる。そして、スペーサー把持具38Aが所
定位置にまで上昇し、第5図(a)に示す状態に戻る。
これにより、ドラム塗布のプロセスの一サイクルが終了
することになる。
After this, the spacer gripping tool 38A is replaced by the spacers 26B and 26C.
As a result, the drum 27B passes through the inside of the coating means 31, and the outer peripheral surface of the drum 27B is coated with the coating liquid. Then, the spacer gripping tool 38A rises to a predetermined position and returns to the state shown in FIG. 5 (a).
This completes one cycle of the drum coating process.

本例においては、第6図(b)、(c)に示すよう
に、塗布の終了したドラムを上昇させた後に未塗布のド
ラム27Bをスペーサー26Bに装着している点が特徴的であ
る。
In this example, as shown in FIGS. 6 (b) and 6 (c), it is characteristic that the uncoated drum 27B is mounted on the spacer 26B after the drum on which the coating is completed is raised.

第7図は他のスペーサー把持用ハンドを示す概略平面
図である。
FIG. 7 is a schematic plan view showing another spacer holding hand.

スペーサー26を挾んで互いに相対向して設けられた一
組のスペーサー把持用ハンド39A、39Bによりスペーサー
26が保持されている。ここで、39aはベアリング、39bは
調整ユニット、39cはハンド本体である。そして、同じ
くスペーサー26を挾んで設けられたもう一組のハンド39
C、39Dはスペーサー26から離隔され、保持が解除された
状態にある。
The spacer 26 is sandwiched by a pair of spacer holding hands 39A and 39B that are provided to face each other.
26 are held. Here, 39a is a bearing, 39b is an adjusting unit, and 39c is a hand main body. And another set of hands 39, which is also provided with the spacer 26 in between.
C and 39D are separated from the spacer 26, and the holding is released.

スペーサー把持用ハンド39A、39B、39C、39Dはいずれ
にも矢印で示す方向へと空気圧で動作するシリンダー、
スプリング等の公知のアクチュエーターによって作動可
能とされており、第2図のスペーサー把持用ハンド29と
同様、スペーサーを保持している保持状態と保持の解除
された解除状態とを選択できるようになっている。
Spacer gripping hands 39A, 39B, 39C, 39D are all cylinders that operate pneumatically in the direction indicated by the arrow,
It can be operated by a known actuator such as a spring, and like the spacer gripping hand 29 in FIG. 2, it is possible to select a holding state in which the spacer is held or a released state in which the spacer is released. There is.

本例においては、第2図のハンド29と異なり、互いに
対向する一組の別体に設けられたハンド39B、39A又は39
C、39Dによりスペーサー26が保持されるようになってお
り、一組のハンド39A及び39B、或いは39C及び39Dにより
第2図のハンド29と同様の機能を営むものである。
In this example, unlike the hand 29 of FIG. 2, a pair of separate hands 39B, 39A or 39 facing each other are provided.
The spacer 26 is held by C and 39D, and the pair of hands 39A and 39B or 39C and 39D perform the same function as the hand 29 of FIG.

本例のハンド39A、39B等を用いた場合には、第1図に
示すような塗布装置において、ハンド39A、39B、39C、3
9Dをそれぞれ上昇、下降させる必要がある。従って、第
7図に示すように、ハンド39A、39B、39C、39Dの背面に
それぞれボールネジ22を設置し、ハンドルの上昇、下降
を行わせるようにしている。
When the hands 39A, 39B and the like of this example are used, the hands 39A, 39B, 39C, 3
It is necessary to raise and lower 9D respectively. Therefore, as shown in FIG. 7, ball screws 22 are installed on the back surfaces of the hands 39A, 39B, 39C and 39D, respectively, so that the handles can be raised and lowered.

第8図は本発明に使用可能な塗布手段を例示するもの
であり、同図(a)は導電性基体ドラム27上にスライド
ホッパー装置を用いて塗布液を塗布している状態を示す
断面図、同図(b)はスライドホッパー装置を示す斜視
図である。
FIG. 8 exemplifies a coating means that can be used in the present invention. FIG. 8A is a sectional view showing a state in which the coating liquid is coated on the conductive substrate drum 27 using a slide hopper device. FIG. 1B is a perspective view showing the slide hopper device.

塗布液供給パイプ14へと図示しないポンプにより塗布
に必要な量だけ供給された塗布液Sは、塗布液分配室12
によって円周方向へと均一に分配され、分配スリット13
を通過し、スライド面17を円周方向に均一に流下する。
しかる後、塗布液Sはホッパーエッジ16とドラム27外周
面との間にビードを形成する。このビードとドラム27外
周面とを接触せしめた状態で、導電性基体27を矢印Aの
方向へと駆動すると、ドラム27外周面上に塗布層3が塗
布される。なお、第8図中、15は液受けである。
The coating liquid S supplied to the coating liquid supply pipe 14 by a pump (not shown) in an amount necessary for coating is supplied to the coating liquid distribution chamber 12
Are evenly distributed in the circumferential direction by the distribution slit 13
And flows down the slide surface 17 uniformly in the circumferential direction.
Thereafter, the coating liquid S forms a bead between the hopper edge 16 and the outer peripheral surface of the drum 27. When the conductive substrate 27 is driven in the direction of arrow A with the bead and the outer peripheral surface of the drum 27 in contact with each other, the coating layer 3 is applied onto the outer peripheral surface of the drum 27. In FIG. 8, 15 is a liquid receiver.

かかる塗布装置によれば、導電性基体ドラム上に塗布
液Sを塗布した場合に、一旦塗布された塗布層3から速
やかに溶媒が蒸発する。また、塗布液Sは塗布に必要な
量だけ供給されるので、塗布液の無駄が少なく、材料の
コストダウンを図ることもできる。
According to such a coating device, when the coating liquid S is coated on the conductive substrate drum, the solvent is quickly evaporated from the coating layer 3 which has been once coated. Further, since the coating liquid S is supplied in an amount necessary for coating, waste of the coating liquid is small and the cost of the material can be reduced.

また、本例の装置においては、被塗布体の円周方向に
継ぎ目なく分配スリットが配置されているため、継ぎ目
のない均一な塗膜が得られ、また膜厚は塗布液供給量、
粘度、導電性基体の移動速度により決定されるため、制
御可能であり、迅速塗布が可能で生産性が高い。
Further, in the apparatus of this example, since the distribution slits are arranged seamlessly in the circumferential direction of the object to be coated, a uniform coating film having no seam is obtained, and the film thickness is the coating liquid supply amount,
Since it is determined by the viscosity and the moving speed of the conductive substrate, it is controllable, rapid coating is possible, and productivity is high.

また、塗布に必要な量の塗布液を供給しているので、
特にキャリア発生層形成用塗布液のように液物性の変化
し易い塗布液を用いた場合にも、塗布液の物性変化を抑
えることができ、有利である。
Also, since the amount of coating liquid required for coating is supplied,
In particular, even when a coating liquid whose liquid properties are easily changed, such as a coating liquid for forming a carrier generating layer, is used, it is possible to suppress the change in physical properties of the coating liquid, which is advantageous.

第9図は押し出しホッパー装置により導電性基体ドラ
ム上に塗布液を塗布している状態を示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which the coating liquid is applied on the conductive substrate drum by the extrusion hopper device.

塗布液供給パイプ14へと図示しないポンプより塗布に
必要な量だけ供給された塗布液Sは、塗布液分配室12に
よって円周方向へと均一に分配され、分配スリット13内
を押し出され、ホッパーエッジ16より均一かつ連続的に
流出してドラム27外周面との間に塗布液ビードを形成
し、これにより塗布層3が塗布される。
The coating liquid S, which is supplied to the coating liquid supply pipe 14 by a pump (not shown) in an amount necessary for coating, is evenly distributed in the circumferential direction by the coating liquid distribution chamber 12, and is pushed out through the distribution slit 13 to form a hopper. It uniformly and continuously flows out from the edge 16 to form a coating liquid bead with the outer peripheral surface of the drum 27, whereby the coating layer 3 is coated.

ホッパーエッジ16の長さは0.1〜10mm、好ましくは0.5
〜4mmが良い。ホッパーエッジの傾斜角は鉛直下方から3
0度迄の範囲内がよく、鉛直下方から20度迄の範囲内と
するのが更によい。ホッパーエッジの傾斜角が30度を超
えると塗布液の架橋が短くなり、良好な塗膜を得にくく
なる。
Hopper edge 16 length is 0.1-10mm, preferably 0.5
~ 4mm is good. Inclination angle of hopper edge is 3 from below vertically
The range is preferably up to 0 °, more preferably up to 20 ° from below. When the inclination angle of the hopper edge exceeds 30 degrees, the cross-linking of the coating solution becomes short and it becomes difficult to obtain a good coating film.

エンドレスに形成された連続面を有する被塗布体が円
筒形である場合塗布液分配スリットが円形であり、この
円筒形基材直径よりやや大なる直径(0.05〜1mm大なる
直径)の円周状終端部をもち、かつ円錐状斜面をもつ塗
布装置を用いることによって好適に塗布できる。
If the object to be coated having an endless continuous surface is cylindrical, the coating liquid distribution slit is circular, and the diameter is slightly larger than this cylindrical substrate diameter (0.05 to 1 mm larger diameter). The coating can be suitably performed by using a coating device having a conical surface having a terminal end portion.

塗布液分配室に塗布液を供給する塗布液供給手段とし
てパイプを用いることが好ましく、2つ以上のパイプを
用いてもよい。塗布液の安全性、均一性等のためには2
つ以上のパイプを用いてもよい。
A pipe is preferably used as the coating liquid supply means for supplying the coating liquid to the coating liquid distribution chamber, and two or more pipes may be used. 2 for safety and uniformity of coating liquid
One or more pipes may be used.

スライド面終端部の径と被塗布体(円筒状)の外径と
の間隙は0.05〜1mmが好ましく、0.1〜0.6mmがより好ま
しい。スライド面の傾斜角は水平に対して10゜〜70゜が
好ましく、20゜〜45゜が更に好ましい。
The gap between the diameter of the end of the slide surface and the outer diameter of the body to be coated (cylindrical) is preferably 0.05 to 1 mm, more preferably 0.1 to 0.6 mm. The inclination angle of the slide surface is preferably 10 ° to 70 ° with respect to the horizontal, and more preferably 20 ° to 45 °.

塗布液の粘度は0.5〜700Cpの範囲内が良く、1〜500C
pが更に良い。
The viscosity of the coating solution should be in the range of 0.5 to 700 Cp, 1 to 500 C
p is even better.

なお、塗布液が塗布液分配スリットから円周方向に均
一に流出するようにするためには、スライドホッパー装
置にあっては、分配室抵抗(Pc)と塗布液分配スリット
を流れるときのスリット抵抗(Ps)とがPs/Pc≧80で、
より好ましくは100〜100,000の範囲であり、押し出しホ
ッパー装置にあっては、分配室抵抗(Pc)と、塗布液分
配スリットを流れる際のスリット抵抗(Ps)とがPs/Pc
≧40、より好ましくは40〜100,000の範囲内の関係に保
たれる事により、塗布液を安定且つ均一に塗布すること
が可能である。
In order to make the coating liquid flow out uniformly from the coating liquid distribution slit in the circumferential direction, in the slide hopper device, the distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance when flowing through the coating liquid distribution slit. (Ps) is Ps / Pc ≧ 80,
It is more preferably in the range of 100 to 100,000, and in the extrusion hopper device, the distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance (Ps) when flowing through the coating liquid distribution slit are Ps / Pc.
By maintaining the relationship of ≧ 40, more preferably within the range of 40 to 100,000, it is possible to apply the coating solution stably and uniformly.

これら分配室抵抗(Pc)、スリット抵抗(Ps)は、塗
布液供給速度、粘度、供給圧に応じて決定すればよい。
The distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance (Ps) may be determined according to the coating liquid supply speed, viscosity, and supply pressure.

押し出しホッパー装置においては、ホッパーエッジは
被塗布体外径より0.05〜1mm大きく、より好ましくは塗
布膜厚をho mmとすると2ho mmから4ho mmまでの範囲で
あり、塗布方向長さ0.1〜10mm、より好ましくは0.5〜4m
mを有するものであるのが望ましい。また該ホッパーエ
ッジはその上端より鉛直下方及びそれより30度までの範
囲内で前期基材の反対側に傾斜したものであり、より好
ましくは鉛直下方及びそれより20度までの範囲内で傾い
て延びるものがよい。またホッパーエッジの傾斜が30度
を越えると塗布液の架橋が短くなり、ビードが不安定と
なって良好な塗布膜が得にくくなる。
In the extrusion hopper device, the hopper edge is 0.05 to 1 mm larger than the outer diameter of the object to be coated, more preferably in the range of 2 ho mm to 4 ho mm when the coating film thickness is ho mm, and the coating direction length is 0.1 to 10 mm. Preferably 0.5-4m
It is desirable to have m. Further, the hopper edge is inclined vertically downward from the upper end and within a range of up to 30 degrees to the opposite side of the base material, more preferably vertically downward and within a range of up to 20 degrees. The one that extends is good. If the inclination of the hopper edge exceeds 30 degrees, the cross-linking of the coating solution becomes short, the bead becomes unstable, and it becomes difficult to obtain a good coating film.

塗布装置に供給された各塗布液は一旦各塗布液分配室
に溜められ、これに連結する各々の塗布液分配スリット
に塗布液を均一に分配するようにされるが、前記各塗布
液を前記各々スリットに均一に分配しかつ前記各々スリ
ットに分配された各塗布液を基材面に均一に塗布できる
ようにするには、前記各々塗布液分配スリットに対する
前記各塗布液分配室の圧力損失比はスライド型のもので
80以上であり、好ましくは80〜100,000の範囲内であ
り、また押し出し型のものでは、該圧力損失比は−40以
上であり、好ましくは40〜100,000の範囲内である。圧
力損失が80(スライド型)、および40(押し出し型)未
満の場合は、塗布液の均一な分配及び塗布ができにくく
なり、両者共100,000を超えると塗布液分配室を大きく
するとか、スリットを長くする必要が生じ装置構造上問
題を生ずる。
Each coating liquid supplied to the coating device is temporarily stored in each coating liquid distribution chamber, and the coating liquid is evenly distributed to each coating liquid distribution slit connected thereto. The pressure loss ratio of each coating liquid distribution chamber to each coating liquid distribution slit is set so that each coating liquid evenly distributed to each slit and each coating liquid distributed to each slit can be uniformly coated on the substrate surface. Is a slide type
It is 80 or more, preferably in the range of 80 to 100,000, and in the extrusion type, the pressure loss ratio is -40 or more and preferably in the range of 40 to 100,000. If the pressure loss is less than 80 (slide type) and 40 (extrusion type), it will be difficult to evenly distribute and apply the coating liquid. If both exceed 100,000, the coating liquid distribution chamber will be enlarged or slits will be created. It is necessary to increase the length, which causes a problem in the structure of the device.

塗布装置を用いて被塗布体に形成される塗布膜は、塗
布液ビードによる。即ち、塗布装置を離れる塗布液の層
は、その離れるときと同じ厚さの層で被塗布体に直接塗
布されるのではなくて、一度液溜り(塗布液ビード)を
形成し、このビードから被塗布体が塗布液を引きとって
いくのである。従ってこの塗布液ビードによって形成さ
れる塗布膜は、実際上、塗布装置から被塗布体に直接形
成されるのではなく、塗布装置は単に塗布液ビードを維
持し、被塗布体はそのビードから塗布される。該塗布液
ビードの維持は、塗布液分配スリットを押し出された塗
布液又は液スライド部上を流下してきた塗布液により、
被塗布体とホッパーエッジとの間に架橋して形成され
る。このビードによる塗布では、そのビードを横切って
これと交叉して移動する被塗布上に塗布される塗布膜の
厚みは、ビードの作用によって決定され且つ被塗布体が
移動する速度、塗布液の供給速度および供給圧、ホッパ
ー構造の効率等によって変化する。
The coating film formed on the object to be coated using the coating device is based on the coating liquid bead. That is, the layer of the coating liquid leaving the coating device is not directly applied to the object to be coated with a layer having the same thickness as when the coating device is leaving, but once a liquid pool (coating liquid bead) is formed, and from this bead The object to be coated draws off the coating liquid. Therefore, the coating film formed by this coating liquid bead is not actually formed directly from the coating device to the coating object, but the coating device simply maintains the coating liquid bead and the coating target is coated from the bead. To be done. The coating liquid bead is maintained by the coating liquid extruded from the coating liquid distribution slit or the coating liquid flowing down on the liquid slide portion.
It is formed by bridging between the object to be coated and the hopper edge. In coating with this bead, the thickness of the coating film that is applied across the bead and intersects with the bead is determined by the action of the bead, and the speed at which the subject moves and the supply of the coating liquid. It varies depending on the speed and supply pressure, the efficiency of the hopper structure, etc.

排出パイプより排出された塗布液は、例えば撹拌器に
よる撹拌等の処理を行った後、再び塗布液として供給パ
イプに供給されるように、塗布液を循環させるよう構成
してもよい。
The coating liquid discharged from the discharge pipe may be circulated so that the coating liquid is supplied to the supply pipe again as a coating liquid after being subjected to treatment such as stirring by a stirrer.

塗布液分配室内の塗布液を排出する塗布液排出口また
は排出パイプに、塗布液の排出液量を規制するバルブを
設け、供給側だけによらず、排出側においても液量調節
を行うようにしてもよい。
A valve for regulating the discharge amount of the coating liquid is provided at the coating liquid discharge port or the discharge pipe for discharging the coating liquid in the coating liquid distribution chamber, and the liquid amount is adjusted not only on the supply side but also on the discharge side. May be.

塗布液の供給は、供給パイプから供給され、一部は塗
布液分配スリットを通じて塗布面に流出し、他の一部は
排出パイプにより排出され、この液の流れは連続的に行
われるが、塗布液の凝集時間を考慮して塗布液を一定時
間毎に供給するなど、塗布液供給を間欠的に行ってもよ
い。
The supply of the coating liquid is supplied from the supply pipe, part of which flows out to the coating surface through the coating liquid distribution slit, and the other part of which is discharged by the discharge pipe. The coating liquid may be supplied intermittently, for example, by supplying the coating liquid at regular intervals in consideration of the aggregation time of the liquid.

第1図〜第9図の塗布装置は、有機電子写真感光体の
塗布液の塗布に適用することができる。
The coating apparatus of FIGS. 1 to 9 can be applied to the coating of the coating liquid for the organic electrophotographic photosensitive member.

この際、いわゆる機能分離型感光体におけるキャリア
発生層、キャリア輸送層等は、キャリア発生物質及び/
又はキャリア輸送物質を適当な溶媒もしくは適当なバイ
ンダ樹脂溶媒溶液に溶解もしくは分配懸濁せしめたもの
を塗布して乾燥させる方法により設けることができる。
At this time, the carrier generation layer, the carrier transport layer, and the like in the so-called function-separated type photoreceptor are
Alternatively, the carrier-transporting substance may be dissolved or distributed in a suitable solvent or solvent solution of a binder resin, and a suspension may be applied and dried.

前記溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミ
ド、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼ
ン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、1,1,2−ト
リクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケ
トン、酢酸エチル、酢酸ブチル等を挙げることができ
る。
Examples of the solvent include N, N-dimethylformamide, benzene, toluene, xylene, monochlorobenzene, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, 1,1,2-trichloroethane, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate and the like. be able to.

キャリア発生物質、キャリア輸送物質を溶媒もしくは
バインダ樹脂溶液に分散懸濁された塗料を塗布、乾燥し
てキャリア発生層、キャイア輸送層を形成する場合に
は、次の如き方法によって設けることが好ましい。即
ち、キャリア発生物質、キャリア輸送物質をボールミ
ル、ホモミキサ等によって分散媒中で微細粒子とし、バ
インダ樹脂を加えて混合分散して得られる分散液が用い
られる。この方法において超音波の作用下に粒子を均一
分散させることが好ましい。
In the case of forming a carrier generating layer and a carrier transporting layer by applying and drying a coating material in which a carrier generating substance and a carrier transporting substance are dispersed and suspended in a solvent or a binder resin solution, it is preferably provided by the following method. That is, a dispersion liquid obtained by making a carrier generating substance and a carrier transporting substance into fine particles in a dispersion medium by a ball mill, a homomixer or the like, adding a binder resin and mixing and dispersing the fine particles is used. In this method, it is preferable to uniformly disperse the particles under the action of ultrasonic waves.

キャリア発生物質は、電磁波を吸収してフリーキャリ
アを発生するものであれば、無機顔料及び有機顔料の何
れも用いることができる。
As the carrier generating substance, either an inorganic pigment or an organic pigment can be used as long as it absorbs an electromagnetic wave and generates a free carrier.

以下のものが例示される。 The following are exemplified.

(1) 無定型セレン、三方晶系セレン、セレン−砒素
合金、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、セレン化
カドミウム、硫セレン化カドミウム、硫化水銀、硫化
鉛、酸化亜鉛、酸化チタン、無定型シリコン等の無機顔
料 (2) モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔
料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾー
ルアゾ顔料等のアゾ系顔料 (3) アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導
体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導
体、ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導
体等のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4) インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイ
ンジゴイド系顔料 (5) チタニルフタロシアニン、バナジルフタロシア
ニン等の各種金属フタロシアニン、及びα型、β型、γ
型、τ型、τ′型、η型、η′型等の無金属フタロシア
ニン等のフタロシアニン系顔料 (6) ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 (7) アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料
等のキノンイミン系顔料 (8) シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 (9) キノリン系顔料 (10) ニトロ系顔料 (11) ニトロソ系顔料 (12) ベソゾキノン及びナフトキノン系顔料 (13) ナフタルイミド系顔料 (14) ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系
顔料 (15) フルオレノン系顔料 (16) スクアリリウム顔料 (17) アズレニウム化合物 (18) ペリレノ酸無水物及びペリレノ酸イミド等のペ
リレン系顔料 キャリア輸送物質は、カルバゾール誘導体、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導滝、イミ
ダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン
誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、
ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘
導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘
導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリ
ジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導
体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘
導体、スチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアント
ラセン等から選ばれた一種又は二種以上であってよい。
(1) Amorphous selenium, trigonal selenium, selenium-arsenic alloy, selenium-tellurium alloy, cadmium sulfide, cadmium selenide, cadmium sulfide selenide, mercury sulfide, lead sulfide, zinc oxide, titanium oxide, amorphous silicon, etc. (2) Monoazo pigments, polyazo pigments, metal complex salt azo pigments, pyrazolone azo pigments, azo pigments such as stilbene azo and thiazole azo pigments (3) Anthraquinone derivatives, anthanthrone derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives , Anthraquinone-based or polycyclic quinone-based pigments such as violanthrone derivatives and isoviolanthrone derivatives (4) Indigoid pigments such as indigo derivatives and thioindigo derivatives (5) Various metal phthalocyanines such as titanyl phthalocyanine and vanadyl phthalocyanine, and α-type β-type, γ
Type, τ type, τ ′ type, η type, η ′ type and other phthalocyanine pigments such as metal-free phthalocyanines (6) Carbonyl pigments such as diphenylmethane pigments, triphenylmethane pigments, xanthene pigments and acridine pigments (7) Quinoneimine pigments such as azine pigments, oxazine pigments and thiazine pigments (8) Methine pigments such as cyanine pigments and azomethine pigments (9) Quinoline pigments (10) Nitro pigments (11) Nitroso pigments (12) Besozoquinone and naphthoquinone Pigments (13) Naphthalimide pigments (14) Perinone pigments such as bisbenzimidazole derivatives (15) Fluorenone pigments (16) Squarylium pigments (17) Azulenium compounds (18) Perlenenoic acid anhydrides and perlenenoic acid imides Perylene pigments Carrier transport substances are carbazole derivatives, Kisazoru derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derived Falls, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bis imidazolidine derivatives, styryl compounds,
Hydrazone compounds, pyrazoline derivatives, oxazolone derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, triarylamine derivatives, phenylenediamine derivatives, stilbene derivatives, poly-N-vinyl It may be one or more selected from carbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene and the like.

キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層等のいずれ
か、若しくはそれらの複数層に感度の向上、残留電位な
いし反復使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも
1種の電子受容性物質を含有せしめることができる。
At least one electron-accepting substance is contained in any one of a carrier generation layer, a carrier transport layer, a protective layer, or a plurality of layers for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential or reducing fatigue during repeated use. be able to.

また更に表面改質剤としてシリコーンオイルを存在さ
せてもよい。また耐久性向上剤としてアンモニウム化合
物が含有されていてもよい。
Further, silicone oil may be present as a surface modifier. Further, an ammonium compound may be contained as a durability improver.

更に紫外線吸収剤、酸化防止剤等を用いてもよい。 Further, an ultraviolet absorber, an antioxidant or the like may be used.

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダ
ードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカ
ン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノ
ン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物
等が挙げられる。
Examples of the antioxidant include hindered phenols, hindered amines, paraphenylenediamines, arylalkanes, hydroquinones, spirochromans, spiroindanones and their derivatives, organic sulfur compounds, organic phosphorus compounds and the like.

感光体の製造に使用可能なバインダ樹脂としては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キチ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、
シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付
加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の繰り返し
単位のうち2つ以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、
ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が
挙げられる。
Examples of the binder resin that can be used to manufacture the photoconductor include polyethylene, polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin,
Addition polymerization resins such as silicone resins and melamine resins, polyaddition resins, polycondensation resins and copolymer resins containing two or more of the repeating units of these resins, for example vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins. Insulating resin such as vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin,
Examples include polymer organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole.

電子写真感光体の製造に用いられる導電性基体として
は、主として下記のものが用いられるが、これらにより
限定されるものではない。
As the conductive substrate used for manufacturing the electrophotographic photosensitive member, the following are mainly used, but not limited thereto.

1)アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。1) Metal plate such as aluminum plate and stainless plate.

2)紙あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上
に、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラ
ミネート若しくは蒸着によって設けたもの。
2) A thin metal layer of aluminum, palladium, gold or the like provided on a support such as paper or plastic film by laminating or vapor deposition.

3)紙あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上
に、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズ等の導
電性化合物を塗布又は蒸着によって設けたもの。
3) A support provided with a conductive compound such as a conductive polymer, indium oxide or tin oxide on a support such as paper or a plastic film by coating or vapor deposition.

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の
態様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能で
ある。
Although the present invention has been illustrated above, the embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.

例えば、塗布手段は第8図、第9図のものに限られな
い。
For example, the coating means is not limited to those shown in FIGS.

また、第1図〜第6図において、スペーサー把持用ハ
ンドの構造、個数、寸法、形状等は種々変更でき、スペ
ーサー把持具についても同様である。また、スペーサー
把持具を上昇、下降させる手段もボールネジに限定され
ない。また、第1図のスペーサー把持具28Aにみられる
ように、上側のハンド29と下側のハンド29とを把持具本
体34によって連絡する必要はなく、両者を別体に形成し
てもよい。
Further, in FIGS. 1 to 6, the structure, number, size, shape, etc. of the spacer gripping hand can be variously changed, and the same applies to the spacer gripping tool. Further, the means for raising and lowering the spacer gripping tool is not limited to the ball screw. Further, as seen in the spacer gripping tool 28A in FIG. 1, it is not necessary to connect the upper hand 29 and the lower hand 29 by the gripping tool main body 34, and both may be formed separately.

第3図、第4図、第5図、第6図の各プロセスにおい
て、塗布装置の動作手順を本発明の範囲から逸脱しない
範囲で変更することも可能である。
In each of the processes shown in FIGS. 3, 4, 5, and 6, it is possible to change the operating procedure of the coating apparatus within the scope of the present invention.

また、第7図に示すようなスペーサー把持用ハンドを
有する塗布装置を用い、第3図、第4図、第5図、第6
図の各プロセスを実行することもできる。
Further, by using a coating device having a spacer gripping hand as shown in FIG. 7, the coating device shown in FIG. 3, FIG. 4, FIG.
It is also possible to execute each process in the figure.

なお、本発明の被膜形成装置は、各種の塗布装置とし
て適用可能であり、また他の被膜形成手段、例えば真空
蒸着により導電性基体上に蒸着膜を形成する装置にも適
用可能である。
The coating film forming apparatus of the present invention can be applied as various coating apparatuses, and can also be applied to other coating film forming means, for example, an apparatus for forming a vapor deposition film on a conductive substrate by vacuum vapor deposition.

ヘ.発明の効果 本発明の被膜形成装置によれば、第1の被処理体に第
1のスペーシング部材と第2のスペーシング部材とが装
着され、前記第1のスペーシング部材が第1の保持手段
により保持されかつ前記第2のスペーシング部材が第2
の保持手段により保持されている状態で、前記第1の保
持手段と前記第2の保持手段とを同速度で移動させるこ
とにより前記被膜形成手段に対して前記第1の被処理体
を相対的に移動させ、この被処理体を被膜形成処理して
いるので、被膜形成処理時に被処理体が第1及び第2の
スペーシング部材を介して第1及び第2の保持手段によ
り保持され、従って位置精度を高め、被処理体の位置ず
れを防止することが可能であり、均一な被膜形成処理が
実現しうる。
F. Advantageous Effects of Invention According to the film forming apparatus of the present invention, the first spacing member and the second spacing member are mounted on the first object to be processed, and the first spacing member is held by the first holding member. Means for holding and said second spacing member is second
By moving the first holding means and the second holding means at the same speed in a state of being held by the holding means of FIG. Since the object to be processed is subjected to the film forming process, the object to be processed is held by the first and second holding means via the first and second spacing members during the film forming process, and It is possible to improve the positional accuracy, prevent the displacement of the object to be processed, and realize a uniform film forming process.

また、上記の被膜形成処理の後に、第2のスペーシン
グ部材が保持されている状態で第2の被処理体に第2の
スペーシング部材を装着しているので、この装置時の衝
撃が第2のスペーシング部材により吸収され、被膜形成
処理された第1の被処理体への悪影響を防止できる。
Further, after the above-mentioned film forming process, the second spacing member is attached to the second object while the second spacing member is held, so that the impact of this device is It is possible to prevent the adverse effect on the first processed object that has been absorbed by the spacing member 2 and has undergone the film formation process.

更に、第1の被処理体に第1のスペーシング部材と第
2のスペーシング部材とを装着した状態で第1の被処理
体を被膜形成処理し、しかる後に第2の被処理体に第2
のスペーシング部材を装着し、かつ、第1のスペーシン
グ部材及び被膜形成処理の終了した第1の被処理体を排
出しているので、複数の被処理体に連続して被膜形成処
理を施すことができる。従って、被膜形成装置を連続し
て稼動させられるので生産性が著しく向上すると共に、
被膜形成処理の中断に伴う処理条件の変化を防止でき、
被膜を均質とできる。
Further, the first object is coated with the first spacing member and the second spacing member attached to the first object, and then the second object is subjected to the film forming treatment. Two
Since the spacing member is attached and the first spacing member and the first object to be processed for which the film formation processing has been completed are discharged, a plurality of objects to be processed are successively subjected to the film formation processing. be able to. Therefore, since the film forming apparatus can be continuously operated, the productivity is remarkably improved, and
It is possible to prevent changes in processing conditions due to interruption of film formation processing,
The coating can be homogeneous.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第9図は実施例を示すものであって、 第1図は塗布装置を示す概略正面図、 第2図(a)はスペーサー把持用ハンド周辺を拡大して
示す平面図、同図(b)は同図(a)の右側面図、 第3図(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、
(f)、(g)、(h)はドラム外周面に塗膜が形成さ
れるプロセスを示す要部概略正面図、 第4図(a)、(b)、(c)、(d)、(e)は他の
塗布装置によりドラム外周面に塗布液を塗布する他のプ
ロセスを示す要部概略正面図、 第5図(a)、(b)、(c)、(d)、(e)はドラ
ム外周面に塗布液を塗布する更に他のプロセスを示す要
部概略正面図、 第6図(a)、(b)、(c)、(d)はドラム外周面
に塗布液を塗布する更に他のプロセスを示す要部概略正
面図、 第7図は他のスペーサー把持用ハンドを示す概略平面
図、 第8図(a)は基体ドラムにスライドホッパー装置を用
いて塗布液を塗布している状態を示す断面図、同図
(b)はスライドホッパー装置を一部切り欠いて示す斜
視図、 第9図は押し出しホッパー装置により基体ドラム上に塗
布液を塗布している状態を示す断面図である。 なお、図面に示す符号において、 16……ホッパーエッジ 17……スライド面 20……塗布装置本体 22……ボールネジ 23……昇降部材 25……ドラム排出用ハンド 26、26A、26B、26C、26D……スペーサー 27、27A、27B、27C……導電性基体ドラム 28A、28B、38A、38B、48……スペーサー把持具 29、39A、39B、39C、39D……スペーサー把持用ハンド 29a、39a……ベアリング 30……ハンド把持部 30a……ピストン 30b……シリンダ 33……ドラム昇降用ハンド 34……スペーサー把持具本体 G……保持状態 S……塗布液 である。
1 to 9 show an embodiment, in which FIG. 1 is a schematic front view showing a coating device, and FIG. 2 (a) is a plan view showing an enlarged periphery of a spacer gripping hand. FIG. 3 (b) is a right side view of FIG. 3 (a), and FIGS. 3 (a), (b), (c), (d), (e),
(F), (g), (h) are schematic front views of main parts showing a process for forming a coating film on the outer peripheral surface of the drum, and FIGS. 4 (a), (b), (c), (d), (E) is a schematic front view of essential parts showing another process of applying the coating liquid to the outer peripheral surface of the drum by another coating device, and FIGS. 5 (a), (b), (c), (d), (e). ) Is a schematic front view of a main part showing still another process of applying the coating liquid to the outer peripheral surface of the drum, and FIGS. 6A, 6B, 6C, and 6D show applying the coating liquid to the outer peripheral surface of the drum FIG. 7 is a schematic plan view showing another spacer gripping hand, and FIG. 8 (a) is a schematic diagram showing another process for applying a coating liquid to a substrate drum using a slide hopper device. FIG. 9 (b) is a perspective view showing the slide hopper device with a part thereof cut away, and FIG. 9 is an extrusion hopper device. The is a sectional view showing a state of applying a coating solution on the substrate drum. In the reference numerals shown in the drawings, 16 ... Hopper edge 17 ... Sliding surface 20 ... Coating device main body 22 ... Ball screw 23 ... Lifting member 25 ... Drum discharging hand 26, 26A, 26B, 26C, 26D ... ... Spacer 27, 27A, 27B, 27C ... Conductive substrate drum 28A, 28B, 38A, 38B, 48 ... Spacer gripping tool 29, 39A, 39B, 39C, 39D ... Spacer gripping hand 29a, 39a ... Bearing 30: Hand gripping part 30a: Piston 30b: Cylinder 33: Drum raising / lowering hand 34: Spacer gripping tool body G: Holding state S: Coating liquid.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被膜形成手段に対して被処理体を相対的に
移動させることによりこの被処理体を被膜形成処理する
被膜形成装置において、 (a).第1の被処理体に第1のスペーシング部材と第
2のスペーシング部材とが装着され、前記第1のスペー
シング部材が第1の保持手段により保持されかつ前記第
2のスペーシング部材が第2の保持手段により保持され
ている状態で、前記第1の保持手段と前記第2の保持手
段とを同速度で移動させることにより前記被膜形成手段
に対して前記第1の被処理体を相対的に移動させ、この
被処理体を被膜形成処理することと (b).しかる後に、前記第2のスペーシング部材が保
持されている状態で第2の被処理体に前記第2のスペー
シング部材を装着することと、 (c).前記第1のスペーシング部材及び被膜形成処理
の終了した前記第1の被処理体を排出することと を構成として夫々具備することを特徴とする被膜形成装
置。
1. A film forming apparatus for forming a film on an object to be processed by moving the object to be processed relative to the film forming means, comprising: (a). A first spacing member and a second spacing member are attached to the first object to be processed, the first spacing member is held by a first holding means, and the second spacing member is While being held by the second holding means, the first holding means and the second holding means are moved at the same speed to move the first object to the film forming means. Relatively moving and subjecting the object to film-forming treatment to (b). Thereafter, mounting the second spacing member on the second object while the second spacing member is held, (c). And discharging the first spacing member and the first object to be processed that has completed the film forming process, respectively.
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US5587266A (en) * 1994-09-06 1996-12-24 Konica Corporation Manufacturing method for an electrophotographic photoreceptor

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